JP5428259B2 - 基準電圧発生回路および電源クランプ回路 - Google Patents

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本発明は、基準電圧発生回路および電源クランプ回路に関し、特にデプレッション型MOSFETを使用した高耐圧特性を有する基準電圧発生回路および電源クランプ回路に関するものである。
従来より、ゲートとソースを結合したデプレッション型MOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ:以下MOSトランジスタと称する)と、ゲートとドレインを結合したいわゆるダイオード接続のエンハンスメント型のMOSトランジスタとを、図3のように、電源電圧端子VDDと接地電位点GNDとの間に直列に接続した基準電圧発生回路が知られている。この基準電圧発生回路は、デプレッション型MOSトランジスタが定電流源として動作し、エンハンスメント型MOSトランジスタのソース・ドレイン間に発生する定電圧を基準電圧Vrefとして取り出すものであり、Vrefは2つのMOSトランジスタのしきい値電圧Vt(d)とVt(e)の差分Vt(e)−Vt(d)として表わされる。
上記デプレッション型MOSトランジスタを使用した基準電圧発生回路は、素子数が少ない上、デプレッション型MOSトランジスタとエンハンスメント型のMOSトランジスタの温度特性がほぼ同一であるため、温度依存性の小さな基準電圧Vrefを発生できるという利点がある。なお、デプレッション型MOSトランジスタを使用した基準電圧発生回路に関する発明としては、例えば特許文献1や特許文献2に記載されているものがある。
特開2002−091590号公報 特開2005−134939号公報
CCD(チャージカップルドデバイス)や液晶パネルの駆動電圧を発生する電源装置は10V以上の高電圧を発生するため、かかる電源装置を構成する電源制御用IC(半導体集積回路)に使用される基準電圧発生回路は、高耐圧である必要がある。そのため、従来の回路構成のまま基準電圧発生回路の耐圧を高めるには、デプレッション型MOSトランジスタとエンハンスメント型MOSトランジスタとして高耐圧プロセスで製造したMOSトランジスタを使用しなければならない。
しかしながら、従来の高耐圧プロセスでは、高耐圧のエンハンスメント型MOSトランジスタと同一の工程で高耐圧のデプレッション型MOSトランジスタを製造することができないため、従来の回路構成のまま基準電圧発生回路の耐圧を高めることができない。また、デプレッション型MOSトランジスタも高耐圧とするには別途オプションプロセスが必要であり、コストアップを招くという課題がある。
なお、特許文献1や特許文献2に記載されている発明は、プロセスばらつきや温度変化に対する依存性が低くばらつきの小さな基準電圧Vrefを発生できるようにすることを目的としており、本発明とは目的および解決手段が異なっている。
この発明の目的は、高耐圧のデプレッション型MOSトランジスタを用いることなく、つまりオプションプロセスの追加による大幅なコストアップを招くことなく耐圧を高めることができる基準電圧発生回路および電源クランプ回路を提供することにある。
上記目的を達成するため、この発明は、ダイオード接続されたエンハンスメント型のMOSトランジスタとデプレッション型のMOSトランジスタとを直列形態に接続してなる基準電圧発生回路であって、前記エンハンスメント型MOSトランジスタとデプレッション型MOSトランジスタとの間にエンハンスメント型の第3のMOSトランジスタを介在させ、前記デプレッション型MOSトランジスタとして通常の耐圧の素子を使用し、前記エンハンスメント型MOSトランジスタおよび前記第3のMOSトランジスタとして前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子を使用するようにしたものである。
より具体的には、第1の電源電圧端子と第2の電源電圧端子との間に、エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタと、デプレッション型のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記第1のMOSトランジスタはダイオード接続され、前記デプレッション型MOSトランジスタはゲートとソースが結合されているトランジスタ直列回路と
第1の電源電圧端子と第2の電源電圧端子との間に、抵抗もしくは定電流源とエンハンスメント型の第3のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記トランジスタ直列回路と並列に接続されてなるバイアス回路と、を備え
前記バイアス回路により生成された電圧が前記第2のMOSトランジスタのゲート端子に印加され、前記第1のMOSトランジスタと第2のMOSトランジスタとの接続ノードが出力端子に接続され、前記第1の電源電圧端子の電位を基準とし前記第1のMOSトランジスタのしきい値電圧で決まる電圧を、基準電圧として前記出力端子より出力する基準電圧発生回路であって、
前記デプレッション型MOSトランジスタは通常の耐圧の素子であり、前記エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタは前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子であるようにした。
上記した構成によれば、ダイオード接続されたエンハンスメント型のMOSトランジスタとデプレッション型のMOSトランジスタとを直列形態に接続してなる基準電圧発生回路において、高耐圧のデプレッション型MOSトランジスタを用いることなく耐圧を高めることができる。
ここで、望ましくは、前記バイアス回路を構成する前記第3のMOSトランジスタは前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子で構成する
また、望ましくは、前記MOSトランジスタはすべてNチャネル型のMOSトランジスタで構成する。これにより、基準電圧発生回路が単独のICとして構成される場合には、プロセスを簡略化してコストアップを回避することができる。
さらに、望ましくは、前記第1の電源電圧端子に印加される電圧は接地電位であり、前記第2の電源電圧端子に印加される電圧は負の電圧とする。これにより、接地電位を基準とした安定した基準電圧を発生させることができる。
本出願の他の発明は、電源電圧端子と接地電位端子との間に、エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタと、デプレッション型のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記第1のMOSトランジスタはダイオード接続され、前記デプレッション型MOSトランジスタはゲートとソースが結合されているトランジスタ直列回路と、
電源電圧端子と接地電位端子との間に、抵抗もしくは定電流源とエンハンスメント型の第3のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記トランジスタ直列回路と並列に接続されてなるバイアス回路と、
を備え、該バイアス回路により生成された電圧が前記第2のMOSトランジスタのゲート端子に印加され、前記第1のMOSトランジスタと第2のMOSトランジスタとの接続ノードが出力端子に接続され、前記出力端子より出力する電圧を、前記電源電圧端子の電位を基準とし前記第1のMOSトランジスタのしきい値電圧で決まる電圧にクランプする電源クランプ回路であって、
前記デプレッション型MOSトランジスタは通常の耐圧の素子であり、前記エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタ、第2のMOSトランジスタおよび第3のMOSトランジスタは前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子で構成されているようにした。
上記構成によれば、ダイオード接続されたエンハンスメント型のMOSトランジスタとデプレッション型のMOSトランジスタとを直列形態に接続してなる電源クランプ回路において、高耐圧のデプレッション型MOSトランジスタを用いることなく耐圧を高めることができる。
本発明によれば、高耐圧のデプレッション型MOSトランジスタを用いることなく、つまりオプションプロセスの追加による大幅なコストアップを招くことなく耐圧を高めることができる基準電圧発生回路および電源クランプ回路を実現できるという効果がある。
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて説明する。
図1に、本発明に係る基準電圧発生回路の一実施形態が示されている。
本実施形態の基準電圧発生回路は、電源電圧端子VDDと接地電位点GNDとの間に直列に接続されたエンハンスメント型(ノーマリオフ型)MOSトランジスタQ1,Q2およびデプレッション型(ノーマリオン型)MOSトランジスタQ3と、電源電圧端子VDDと接地電位点との間に直列に接続された抵抗R1およびエンハンスメント型MOSトランジスタQ4とを備え、抵抗R1とトランジスタQ4との接続ノードN1にトランジスタQ2のゲート端子が接続されている。
また、上記MOSトランジスタQ1〜Q4のうちQ1,Q4はそれぞれゲートとドレインが結合されたダイオード接続とされているとともに、トランジスタQ4と抵抗R1はトランジスタQ2のゲートバイアス回路として機能する。特に限定されるものではないが、前記トランジスタQ1〜Q4のバックゲート(基体)は例えば接地電位点に接続される。
なお、上記MOSトランジスタQ1〜Q4はすべてNチャネル型である。また、上記MOSトランジスタQ1〜Q4のうちエンハンスメント型のMOSトランジスタQ1,Q2,Q4には高耐圧構造のMOSトランジスタが使用され、デプレッション型MOSトランジスタQ3には標準耐圧のMOSトランジスタが使用されている。
このように、デプレッション型MOSトランジスタQ3として標準耐圧のトランジスタを使用しているため、デプレッション型MOSトランジスタを高耐圧にするためのオプションプロセスを使用する必要がなく、コストアップを回避することができる。本実施形態の基準電圧発生回路は、電源電圧と接地電位との電位差が10V以上ある場合に特に有効である。
この実施形態の基準電圧発生回路は、ノーマリオン素子であるデプレッション型MOSトランジスタQ3のゲートとソースが接続されていることにより、Q3は定電流源として動作する。また、抵抗R1の抵抗値を適切に設定することで、接続ノードN1の電位がトランジスタQ2のしきい値電圧よりも充分に高い電位となってQ2がオン状態にされるように構成することができ、それによってトランジスタQ1に定電流源としてのトランジスタQ3に流れる定電流をそのまま流すことができる。
その結果、MOSトランジスタQ1とQ2との接続ノードN2に、Q1のしきい値電圧で決まる、電源電圧基準の基準電圧Vrefを発生させることができる。従って、この基準電圧Vrefは電源電圧VDDの変化に依存しないとともに、トランジスタQ3に流れる定電流の温度依存性とQ1のしきい値電圧の温度依存性が逆であるため相殺し合って温度依存性のない基準電圧Vrefを発生させることができる。
さらに、この実施形態の基準電圧発生回路においては、MOSトランジスタQ2とQ3との接続ノードN3の電位V3は、Q2,Q4のゲート・ソース間電圧をVGS2,VGS4とおくと、V3=VGS4−VGS2で表わされるので、ノードN3は電源電圧VDDよりも充分に低い固定電位となる。そのため、MOSトランジスタQ3のドレイン・ソース間には高電圧がかからないので、Q3に標準耐圧のMOSトランジスタを使用しても何ら支障がない。
図2には、上記実施形態の基準電圧発生回路の変形例を示す。この変形例は、図1の回路におけるNチャネルMOSトランジスタQ1の代わりに、PチャネルMOSトランジスタQ1’を使用したものである。なお、トランジスタQ1’は、Q1と同様、高耐圧のエンハンスメント型MOSトランジスタである。
このような構成の基準電圧発生回路においても、図1の基準電圧発生回路と同様に、電源電圧依存性および温度依存性の低い基準電圧Vrefを発生することができるとともに、デプレッション型MOSトランジスタQ3に高電圧がかからないため、高耐圧の素子を使用する必要がない。
この変形例は、基準電圧発生回路が電源制御用ICなど別のICに内蔵される場合であって差動増幅回路など他の回路がCMOS回路で構成されるなどの理由から他にPチャネルMOSトランジスタを有する場合に有効であり、基準電圧発生回路が単独のICとして構成される場合には、すべてのトランジスタQ1〜Q4がNチャネルMOSFETである図1の実施形態の方が、プロセスが簡単になるためコスト上有利である。
なお、図1および図2の基準電圧発生回路は、レギュレータのような電源装置における基準電圧発生回路として使用することができる他、他の回路の電源電圧をクランプする電源クランプ回路としても使用することができる。
以上、本発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、前記実施例では、電源電圧として正電源を使用した場合を説明したが、図1および図2における電源電圧端子VDDに接地電位を供給し、接地電位GNDの代わりに負の電圧VSS(−)を供給した負電源用の基準電圧発生回路として構成することもできる。かかる負電源用の基準電圧発生回路は、例えばCCDや液晶パネルの電源電圧に使用される負電圧を発生する電源装置に使用すると良い結果が得られる。
また、前記実施例では、バイアス回路を構成するMOSトランジスタQ4と直列に接続される素子として抵抗を使用したものを示したが、抵抗R1の代わりに定電流源を使用するようにしても良い。さらに、図1および図2において、高耐圧のMOSトランジスタQ2,Q4を、複数の直列形態のMOSトランジスタに置き換えるようにしても良い。
本発明に係る基準電圧発生回路の一実施形態を示す回路図である。 図1の実施形態の基準電圧発生回路の変形例を示す回路図である。 デプレッション型MOSトランジスタを用いた従来の基準電圧発生回路の一例を示す回路図である。
符号の説明
Q1,Q2,Q4 Nチャネル・エンハンスメント型MOSトランジスタ(高耐圧NMOS)
Q3 Nチャネル・デプレッション型MOSトランジスタ(標準耐圧NMOS)
Q1’ Pチャネル・エンハンスメント型MOSトランジスタ(高耐圧PMOS)

Claims (5)

  1. 第1の電源電圧端子と第2の電源電圧端子との間に、エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタと、デプレッション型のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記第1のMOSトランジスタはダイオード接続され、前記デプレッション型MOSトランジスタはゲートとソースが結合されているトランジスタ直列回路と
    第1の電源電圧端子と第2の電源電圧端子との間に、抵抗もしくは定電流源とエンハンスメント型の第3のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記トランジスタ直列回路と並列に接続されてなるバイアス回路と、を備え
    前記バイアス回路により生成された電圧が前記第2のMOSトランジスタのゲート端子に印加され、前記第1のMOSトランジスタと第2のMOSトランジスタとの接続ノードが出力端子に接続され、前記第1の電源電圧端子の電位を基準とし前記第1のMOSトランジスタのしきい値電圧で決まる電圧を、基準電圧として前記出力端子より出力する基準電圧発生回路であって
    前記デプレッション型MOSトランジスタは通常の耐圧の素子であり、
    前記エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタは、前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子であることを特徴とする基準電圧発生回路。
  2. 記第3のMOSトランジスタは前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子で構成されていることを特徴とする請求項1に記載の基準電圧発生回路。
  3. 前記MOSトランジスタはすべてNチャネル型のMOSトランジスタであることを特徴とする請求項2に記載の基準電圧発生回路。
  4. 前記第1の電源電圧端子に印加される電圧は接地電位であり、前記第2の電源電圧端子に印加される電圧は負の電圧であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の基準電圧発生回路。
  5. 電源電圧端子と接地電位端子との間に、エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタおよび第2のMOSトランジスタと、デプレッション型のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記第1のMOSトランジスタはダイオード接続され、前記デプレッション型MOSトランジスタはゲートとソースが結合されているトランジスタ直列回路と、
    電源電圧端子と接地電位端子との間に、抵抗もしくは定電流源とエンハンスメント型の第3のMOSトランジスタとが直列形態に接続され、前記トランジスタ直列回路と並列に接続されてなるバイアス回路と、
    を備え、該バイアス回路により生成された電圧が前記第2のMOSトランジスタのゲート端子に印加され、前記第1のMOSトランジスタと第2のMOSトランジスタとの接続ノードが出力端子に接続され、前記出力端子より出力する電圧を、前記電源電圧端子の電位を基準とし前記第1のMOSトランジスタのしきい値電圧で決まる電圧にクランプする電源クランプ回路であって、
    前記デプレッション型MOSトランジスタは通常の耐圧の素子であり、前記エンハンスメント型の第1のMOSトランジスタ、第2のMOSトランジスタおよび第3のMOSトランジスタは前記デプレッション型MOSトランジスタよりも耐圧の高い素子で構成されていることを特徴とする電源クランプ回路。
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