JP3806537B2 - 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、超音波振動子による超音波を洗浄液中の被洗浄物に照射する超音波洗浄機およびこれを具備したウエット処理ノズルに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、液晶パネルや半導体ウエハの枚葉洗浄には、例えば、図21に示すような超音波シャワー洗浄機450が用いられている。この超音波シャワー洗浄機450は、図に示すように、筐体451の内部に洗浄液Sを貯留する空洞部452が設けられており、該筐体451の側面上部には前記空洞部452に洗浄液Sを供給する給液口453が設けられている。また、筐体451の下部には洗浄液Sを放出するためのノズル454が設けられており、さらに筐体451の上面には超音波振動子455が取り付けられている。洗浄方法は、被洗浄物Pをこの超音波シャワー洗浄機450の下を通過させ、そのとき図示せぬ超音波発信装置により超音波振動子455を駆動して、洗浄液Sを被洗浄物Pの表面に放射させ、洗浄をおこなう。
【0003】
ところが、この洗浄方法では、洗浄液の使用量が多いので、節水型として図22に示す超音波洗浄機460が考えられる。この超音波洗浄機460は、中央部461aが凹み、周囲の端部461bが庇状に形成された筐体461を備えており、該筐体461の中央部表面には超音波振動子462が配置されていて、該超音波振動子462を振動させることにより、筐体461の下側の洗浄液S中を通過する被洗浄物Pに超音波を照射して洗浄するようにしたものである。
【0004】
また、この洗浄方法と類似しているが、図23に示す超音波洗浄機470も考えられる。この超音波洗浄機470は、中央部471aが凹み、周囲の端部471bが庇状に形成された第1の筐体471と、この第1の筐体471を囲んで、同じく中央部472aが凹み周囲の端部472bが庇状に形成された第2の筐体472とを有する。そして、これら筐体471,472の端部471b,472b間にパッキン473が挟まれていて、第1の筐体471と第2の筐体472間に空洞部474が形成されている。さらに、この空洞部474には空焚き防止のための液例えば水475が満されているとともに、第1の筐体471の中央部表面には超音波振動子476が配置されていて、該超音波振動子476を振動させることにより空洞部474中の水475を介して、第2の筐体472の下側の洗浄液S中を通過する被洗浄物Pに超音波を照射して洗浄するようにしたものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、図22に示す超音波洗浄機460の場合、節水型ではあるが、超音波振動子462の振動エネルギーは筐体461の底面を振動させ洗浄液Sを介して被洗浄物Pに放射される以外に、筐体461の壁面を振動させてしまいエネルギーの無駄が生じる。
【0006】
また、図23に示す超音波洗浄機470の場合、パッキンの厚さが締め付け力によって微妙に異なり、その結果空洞部474の厚さ、すなわち内部に満たした水の深さが変わる。この方式のように、水を介して被洗浄物に超音波を照射する方法では、水の深さが変わることで、超音波の波長と水の深さとの関係から、第2の筐体の中央部である底面の音波放射面からの放射音圧が大きく変わる。すなわち、パッキンの締め付け力により、放射音圧が左右され安定度に欠けることになる。このように、水の深さが適当でなく、超音波放射面からの放射音圧が小さいとき、超音波振動子から放射されたエネルギーのうち有効利用されない分は、第2の筐体の壁面を振動させるエネルギーとして使用され無駄になるのみでなく、筐体の振動による他の装置への影響も発生する恐れがある。
【0007】
本発明の課題は、超音波放射効率の調節が容易な超音波洗浄機およびそれを具備したウエット処理ノズルの提供にある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の超音波洗浄機は、断面凹状の筺体を具備し、該筺体の凹内面に超音波振動子を配設し、前記筺体に筺体壁面の振動を防止する重りを設けたことを特徴としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の超音波洗浄機は、断面凹状の筺体を具備し、該筺体の内底面に超音波振動子を配設するとともに、前記筺体の壁面下部に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴としている。
【0010】
前記重りは、筺体の剛性を高められればよく、内壁面、外壁面のどちらにあってもよいので、前記筐体の外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられているようにしてもよい(請求項2)。
【0011】
また、前記重りは、超音波振動子からのエネルギーを筺体に逃げないようにするためのもので、超音波振動子が設けられている内底面にあれば、重り設置部分から外に超音波エネルギーが洩れなくなるため、前記筐体の内底面であって前記超音波振動子による振動を阻害しない領域の内底面に設けられていてもよい(請求項3)。
【0012】
前記重りは、筺体の剛性を高める手段として、所定の部分の肉厚を他より厚くしても同様な機能を達成できるため、前記筐体自体の肉厚を変えることで形成してもよい(請求項4)。
【0013】
なお、前記重りは、筺体の剛性を高め、壁面の固有振動数を振動入力の周波数よりずらすことにより、共振しないようにして壁面に超音波振動子からのエネルギーが伝搬することを防止するため、前記筐体の壁面全周にわたって設けられていることが望ましい(請求項5)。
【0014】
また、請求項6に記載のウエット処理ノズルは、一側に処理液を導入する導入通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出通路とを具備するとともに、前記導入通路と前記排出通路との間に、被処理物に対して前記導入通路から導入した処理液をガイドし、かつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を具備し、前記振動ガイド部材は上述の超音波洗浄機であることを特徴としている。
【0015】
かかるノズルによれば、被処理面に処理液が供給されると共に、使用済み処理液を排出通路を介して適宜排出することが可能となるため、常に新鮮な処理液で被処理面を処理することが可能となり、使用済みの処理液による被処理面の再汚染が防止できる。
また、処理液が被処理面と振動ガイド部材との間隙に界面張力等の圧力バランスで保持されうるため、必要最小限の処理液で被処理面をウエット処理することができると共に、確実に被処理面に超音波振動を付与することが可能となる。
また重りを設けた超音波洗浄機を振動ガイド部材に用いたので、ウエット処理に必要な超音波エネルギーが得られ、必要最小限の処理液で極めて良好な処理が可能となる。
【0016】
このウエット処理ノズルにおいては、被処理物に接触した処理液がウエット処理後に、排出通路外に流れないように被処理物と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御手段が設けられる。この圧力制御手段は、例えば排出通路側下流に設けられた吸引ポンプと、導入通路側上流に設けられた給液ポンプとから構成され、さらに被処理物と接触している処理液の圧力を探知するための圧力センサを備え、この圧力センサからの信号により吸引ポンプ及び給液ポンプの駆動を制御するための制御装置を備えている。
【0017】
請求項7に記載の超音波洗浄機は、断面凹状であって内部に空洞部を有する筺体を具備し、該筺体の凹内面の内底面に超音波振動子を配設し、前記空洞部に前記超音波振動子からの振動を前記筺体の凹外面の外底面に伝える空焚き防止液を入れ、前記筺体の壁面下部に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴とする。
【0018】
このように構成すれば、例えばパッキンの締め具合によって空洞部の厚さ、すなわち空焚き防止液例えば水の深さが超音波の波長とマッチせず、超音波振動子により発生したエネルギーが空焚き防止液を介して筐体の凹外面の底面を振動させようとしても、重りによって振動が抑止されるため、振動エネルギーは空焚き防止液を介して筐体の中央の底面方向に戻り、底面から超音波として効率よく放射される。
【0019】
空焚き防止液としては、脱気した液を用いることが好ましい。脱気することにより、空焚き防止液の流量(冷却のため循環)も大幅に低減できる。もしこの空焚き防止液中に気泡が多数存在するとやはり空焚きと同様な現象が生じることがあるためである。
【0020】
また前記重りは、筺体自体の剛性を高める手段であるため、外面の外壁面および内壁面のどちらにあってもよいために、筐体の前記凹外面を成す外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられていることが望ましい(請求項8)。
この場合重りはさらに、凹内面の壁面の剛性を高めることで、凹内面に設けた超音波振動子からの超音波振動エネルギーを壁面に逃がさないようにするために、筐体の前記凹内面を成す外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられているようにしてもよい(請求項9)。
【0021】
前記重りは、凹外面の内底面において、凹内面に設けられた超音波振動子に相当する面積の外側に設けることで、凹外面の内底面の周辺から壁面に超音波エネルギーが洩れるのを防止できることと、凹内面に設けられた超音波振動子の外側に設けることにより、凹内面の内底面から壁面への超音波エネルギーが洩れるのを防止するため、前記筐体の前記凹外面の内底面および前記凹内面の底面の少なくとも一方であって前記超音波振動子による振動を阻害しない領域の内底面または底面に設けられていてもよい(請求項10)。
【0022】
また、前記重りは、筺体自体の剛性を変えるためのもので、その達成手段としては、新たに重りを加える方式と必要な部分を適当な肉厚とする方式もあるので、筺体の前記外凹面または前記内凹面の肉厚を変えることで形成してもよい(請求項11)。
【0023】
前記重りは、筺体の剛性を高め、壁面の固有振動数を振動入力の周波数よりずらすことにより、共振しないようにして壁面に超音波振動子からのエネルギーが伝搬することを防止するため、前記筐体の壁面全周にわたって設けられていることが望ましい(請求項12)。
【0024】
前記筺体は、中央部が凹み周囲の端部が庇状に形成された第1の筐体を囲んで、同じく中央部が凹み周囲の端部が庇状に形成された第2の筐体を配置し、かつこれら筐体の端部間にパッキンを挟んで該第1の筐体と第2の筐体間に前記空洞部を形成してなることが望ましい(請求項13)。
【0025】
かかる筺体によれば、この空洞部に適当な液体を入れ、これにより筺体下側にウエット処理液がなくても、空焚きにならずに超音波振動子が壊れるのを防止できる。また、ウエット処理液が筺体下側にある場合には、ウエット処理液に十分な超音波エネルギーを伝搬することができる。
【0026】
請求項13の発明において、前記パッキンは中央部に貫通穴を有する弾性部材から成り、前記第1の筺体および第2の筺体は板状部材からなり、第1の筺体の前記庇状端部と第2の筺体の前記庇状端部とによる弾性部材の挟着を、これら端部を貫通するボルトにより行い、かつボルトの締め付け調節によりパッキンの厚さを変えられるように構成することは望ましい(請求項14)。
【0027】
このように構成すると、第1の筺体の庇状端部と第2の筺体の庇状端部との間に挟着されている弾性部材の厚みをボルトの締め付け具合の調節によつて調整することができ、超音波の放射強度の調整を容易にすることができる。
【0028】
また、請求項15に記載のウエット処理ノズルは、一側に処理液を導入する導入通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出通路とを具備するとともに、前記導入通路と前記排出通路との間に、被処理物に対して前記導入通路から導入した処理液をガイドし、かつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を具備し、前記振動ガイド部材は上述の本発明の超音波洗浄機をであることを特徴としている。
【0029】
かかるノズルによれば、被処理面に処理液が供給されると共に、使用済み処理液を排出通路を介して適宜排出することが可能となるため、常に新鮮な処理液で被処理面を処理することが可能となり、使用済みの処理液による被処理面の再汚染が防止できる。
また、処理液が被処理面と振動ガイド部材との間隙に界面張力等の圧力バランスで保持されうるため、必要最小限の処理液で被処理面をウエット処理することができると共に、確実に被処理面に超音波振動を付与することが可能となる。
しかもこの構成とすることにより、たとえ超音波振動ガイド部材と被処理面との間の処理液が不足したとしても、超音波振動子と超音波振動ガイド部材との間に空焚き防止液を有することとなり、超音波振動子の空焚きを確実に防止することができる。
【0030】
このウエット処理ノズルにも、上記のような被処理物に接触した処理液がウエット処理後に、排出通路外に流れないように被処理物と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御手段が設けられる。
【0031】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明に係る超音波洗浄機の実施の形態につき説明する。
図1は、本発明に係る超音波洗浄機の第1の実施形態を示したものである。
この超音波洗浄機10は、中央部11aが凹み、周囲の端部11bが庇状に形成された槽状の第1の筐体11と、この第1の筐体11を囲んで、同じく中央部12aが凹み周囲の端部12bが庇状に形成された槽状の第2の筐体12とを有する。これら筐体11,12の庇状の端部11b,12b間にパッキン13が挟まれていて、第1の筐体11と第2の筐体12間に空洞部14が形成されている。なお、パッキン13は、第1,2の筐体11,12の端部11b、12b間全周にわたって配置され、複数のボルト18とナット19によつて緊締されている。
【0032】
このパッキン13が挟まれることによって形成された第1の筐体11と第2の筐体12との間の空洞部14には、空焚き防止液として脱気した水15が入れられている。水15は、少なくとも第1の筐体11の中央部(底面)11aと第2の筐体12の中央部(底面)12a間は隙間無く満たされている。さらに、第1の筐体11の中央部11aの表面には超音波振動子16が配置されていて、超音波振動子16を振動させることにより空洞部14中の水15を介して、第2の筐体12の横幅Lからなる放射面の下方の洗浄液(図示略)中を通過する被洗浄物(図示略)に超音波を照射して洗浄する。
【0033】
また、第2の筐体12の壁面12cの下部外側には、壁面12cの周囲全体にわたって、リング状の重り17が設けられている。
この重り17を設けたことによる作用効果を説明すると、図2に示すように、超音波洗浄機10の第2の筐体12の中央部12aが洗浄液S中に浸漬するように配置して、超音波洗浄機10の下方を被洗浄物Pが通過するようにする。そして、図示を省略した超音波発信装置により超音波振動子16を振動させ、空洞部14中の水15を介して、第2の筐体12の横幅Lからなる放射面の下方を通過する被洗浄物Pに超音波を照射して洗浄する。
【0034】
ところで、第1の筐体11と第2の筐体12とは、その端部11b,12bのところにパッキン13を挟み、締め付け固定して空洞部14を形成しているが、パッキン13の締め具合によって空洞部14の厚さ、すなわち水15の深さが超音波の波長と合わない場合、第2の筐体12の中央部12aである底面の音波放射面からの放射音圧が減少する。超音波振動子16から放射された振動エネルギーの減少した部分は、第2の筐体12の壁面12cを振動させようとするが、重り17によって振動が抑止されるため、振動エネルギーは水15を介して第2の筐体12の底面12a方向に戻り、底面12aから超音波として放射される。このため、パッキン13の締め具合にかかわらず、超音波振動子16からの発生エネルギーを効率よく被洗浄物に照射できることになる。
このように、パッキン13の締め付け量により左右される水深の変化によって本来発生する放射音圧の変化を、重り17を設けることで、ほぼ一定に制御することができる。
【0035】
次に、本発明に係る超音波洗浄機の第2ないし第8の実施の形態を、それぞれ図3ないし図8に従って説明する。なお、これら実施の形態は、図1に示した第1の実施の形態において、重り17に加えてさらに他の重りを付加したものなので、図1にて示した構成部材と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
図3に示した第2の実施の形態は、リング状の第2の重り21を第2の筺体12の壁面12cの内面下部の周囲全面にわたって設けた超音波洗浄機20である。第2の重り21を設けたことによって、第2の実施の形態は、第1の実施の形態に比べ、重り17を小さくすることができ、これにより全体的に筺体12と重り17とからなる超音波洗浄機自体の幅を小さくすることができる。また重り17下部の面の研磨処理等がより良好にし易くなる。
【0036】
図4に示した第3の実施の形態は、リング状の第3の重り31を第1の筺体11の壁面11cの内面下部の周囲全面にわたって設けた超音波洗浄機30である。第3の重り31を設けたことによって、第3の実施の形態は、第1の実施の形態に比べさらに、第1の筺体11に設けられた超音波振動子16から放射される超音波エネルギーが壁面11cへ伝搬することを防止でき、結果として空焚き防止液側に伝搬する超音波エネルギーの割合が極めてよくなり、外底面12cからの超音波エネルギーの放射を大きくすることができる。
【0037】
図5に示した第4の実施の形態は、リング状の第4の重り41を第1の筺体11の壁面11cの外面下部の周囲全面にわたって設けた超音波洗浄機40である。第4の重り41を設けたことによって、第4の実施の形態は、第3の実施の形態の効果とほぼ同等の効果を持つ。
【0038】
図6に示した第5の実施の形態は、リング状の第5の重り51を第2の筺体12の底面12aの内面周縁部の全面にわたって設けた超音波洗浄機50である。第5の重り51を設けたことによって、第5の実施の形態は、第1の実施の形態に比べさらに、重り17を小さくすることができ、これにより全体的に筺体12と重り17とからなる超音波洗浄機の幅を小さくすることができることと、重り17下部の面の研磨処理がより良好にできるようになり、製作コストダウンが図れる。
【0039】
図7に示した第6の実施の形態は、リング状の第6の重り61を第1の筺体11の底面11aの内面周縁部の全面にわたって設けた超音波洗浄機60である。第6の重り61を設けたことによって、第6の実施の形態は、第3の実施の形態の効果とほぼ同様な効果を持つ。
【0040】
図8に示した第7の実施の形態は、リング状の第7の重り71を第2の筺体12の壁面12cの内面下部の周囲全面にわたって設け、かつリング状の第8の重り72を第2の筺体12の底面12aの内面周縁部の全面にわたって設けた超音波洗浄機70である。第7の重り71および第8の重り72を設けたことによって、第7の実施の形態は、第1の実施の形態に比べ、重り17を第5の実施の形態よりも小さくでき、これにより全体的な筺体の幅を小さくすることができることと、第5の実施の形態よりもさらに研磨処理が重り17と凹外面12の際の部分まで良好にでき、ウエット処理の安定性を増すことができる。
【0041】
図9に示した第8の実施の形態は、リング状の第9の重り81を第1の筺体11の壁面11cの内面下部の周囲全面にわたって設け、かつリング状の第10の重り82を第1の筺体11の壁面11cの内面下部の周囲全面にわたって設け、さらにリング状の第11の重り83を第1の筺体11の底面11aの内面周縁部の全面にわたって設けた超音波洗浄機80である。第9の重り81、第10の重り82および第11の重り83を設けたことによって、第8の実施の形態は、第3の実施の形態とほぼ同等で第2の筺体の底面12aから良好に超音波エネルギーを放射することができる。
【0042】
さらに本発明に係る超音波洗浄機の第9および第10の実施の形態を、それぞれ図10および図11に従って説明する。なお、これら実施の形態は、図1に示した第1の実施の形態において重り17を取り除き、代わりに他の重りを第1の筺体11または第2の筺体12に設けたものなので、図1にて示した構成部材と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
【0043】
図10に示した第9の実施の形態は、リング状の第12の重り91を第2の筺体12の壁面12cの内面下部の周囲全面にわたって設けた超音波洗浄機90である。第12の重り91を設けたことによって、第9の実施の形態は、第1の実施の形態に比べ、重り17がないために第2の筺体12の大きさによつて処理ノズルの幅が決まり、ノズル自体の幅が増加しないことと、第2の筺体12の外壁面及び外底面の研磨処理が極めて容易に実施することができ、ウエット処理ノズル製作を容易になさしめる効果を奏する。
【0044】
図11に示した第10の実施の形態は、リング状の第13の重り101を第2の筺体12の底面12aの内面周縁部全面にわたって設けた超音波洗浄機100である。第13の重り101を設けたことによって、第10の実施の形態は、第9の実施の形態とほぼ同様な効果を有する。
【0045】
次に、上述の超音波洗浄機を用いた本発明のウエット処理ノズルの一実施の形態を、図12に従って説明する。
このウエット処理ノズル110は、一側に処理液(図示略)を導入する導入通路111と他側にウエット処理後の処理液Lを排出する排出通路112とを備えるとともに、導入通路111と排出通路112との間に、被処理物(図示略)に対し導入通路111から導入した処理液をガイドしかつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材113を設けている。振動ガイド部材113は、図1に示した超音波洗浄機10を使用している。したがって、図12中、図1と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
【0046】
図12において、導入通路111を形成した導入通路型枠114は、断面L字型のステンレス・スチールからなる金属板からなり、その底面114aが振動ガイド部材の底面12aと面一かほぼ面一になるように形成されている。導入通路型枠114は、長手方向中央部に斜め上方に延びた導入管114bを形成しており、壁面114cを溶接法によつて、振動ガイド部材の外壁面12cに設けた重り17に結合されている。なお、この結合は、ボルト止め等の結合方法によって行ってもよい。
【0047】
同様に排出通路112を形成した排出通路型枠115は、断面L字型のステンレス・スチールからなる金属板からなり、その底面115aが振動ガイド部材の底面12aと面一かほぼ面一になるように形成されている。排出通路型枠115は長手方向中央部に斜め上方に延びた排出管115bを形成しており、壁面115cを溶接法によつて、振動ガイド部材の外壁面12cに設けた重り17に結合されている。なお、この結合は、ボルト止め等の結合方法によって行ってもよい。
【0048】
このウエット処理ノズル110には、被処理物に接触した処理液がウエット処理後に、排出通路外に流れないように被処理物と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御装置(図示略)が取り付けられる。
またこのウエット処理ノズル110には、振動ガイド部材113と被処理物とを所定間隙に維持し、該間隙に処理液を保持させる位置決め装置(図示略)が取り付けられる。
【0049】
このウエット処理ノズルを用いたウエット処理方法を、図13に従って説明する。
被処理物Pとウエット処理ノズル110とをそれぞれ矢印A,B方向に相対的に移動させつつ処理液Lたとえば超純水、電解イオン水、オゾン水、水素水を、導入通路111を通して被処理物Pに順次供給し、この処理液Lを被処理物Pと接触している処理液Lの圧力と大気圧との差を圧力制御装置(図示略)により制御することにより供給した部分以外の部分に接触させることなく被処理物P上から排出する。
【0050】
なお、図12に示したウエット処理ノズルは、図1に示した超音波洗浄機を振動ガイド部材として用いたが、本発明のウエット処理ノズルは、これに限られるものではなく、例えば図3ないし図11に示した超音波洗浄機等を使用しても良い。
【0051】
次に、本発明に係る他の超音波洗浄機の実施の形態を説明する。
他の超音波洗浄機の第1の実施の形態である超音波洗浄機200は、図14に示すように、中央部201aが凹み、周囲の端部201bが庇状に形成された槽状の筐体201と、この筐体中央部201aの表面には配置された超音波振動子216と、筐体壁面201cの外面下部に壁面の周囲全体にわたって設けられたリング状の重り217から構成されている。
この超音波洗浄機200は、超音波振動子216を振動させることにより筐体201の横幅L2からなる放射面の下方の洗浄液(図示略)中を通過する被洗浄物(図示略)に超音波を照射して洗浄する。
【0052】
この重り217を設けたことによる作用効果を説明すると、図15に示すように、超音波洗浄機200の筐体201の中央部201aが洗浄液S中に浸漬するように配置して、超音波洗浄機216の下方を被洗浄物Pが通過するようにする。そして、図示を省略した超音波発信装置により超音波振動子216を振動させ、筐体201の横幅L2からなる放射面の下方を通過する被洗浄物Pに超音波を照射して洗浄する。この処理の際、重り217があるゆえに、超音波振子216より放射された超音波エネルギーが筺体201を伝搬して重り217の上方に伝搬することを極めて良好に防止することができ、このことによって良好に底面201aより超音波エネルギーが洗浄液Sに伝搬し良好に洗浄することができる。
【0053】
さらに本発明に係る他の超音波洗浄機の第2及び第3の実施の形態を、それぞれ図16及び図17に従って説明する。なお、これら実施の形態は、図14に示した他の超音波洗浄機の第1の実施の形態において重り217に加えてさらに他の重りを付加したものなので、図14にて示した構成部材と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
【0054】
図16に示した他の超音波洗浄機の第2の実施の形態は、リング状の第2の重り218を筺体201の壁面201cの内面下部の周囲全面にわたって設けた超音波洗浄機230である。この第2の実施の形態は、図14に示した第1の実施の形態に比べさらに、重り218を設けたことにより重り217を小さくでき、これによって重り217を含めた筺体201の外壁面、外底面の研磨処理が容易になり、ノズルの安定性が向上する。また超音波エネルギーを有効に洗浄液に伝搬させる効果も、図14に示した第1の実施の形態と同等とすることができる。
【0055】
図17に示した他の超音波洗浄機の第3の実施の形態は、図16に示した洗浄機にさらにリング状の第3の重り219を筺体201の底面201aの内面の周縁部全面にわたって設けた超音波洗浄機240である。この第3の実施の形態は、図14に示した第1の実施の形態に比べさらに、重り218、219を設けたことにより、重り217をさらに小さくすることができる。これによって第2の実施の形態よりも筺体の外壁面および外底面の研磨処理が極めて容易に良好に行え、ウエット処理ノズルの安定性を増すことができる。
【0056】
さらに本発明に係る他の超音波洗浄機の第4の実施の形態を、図18に従って説明する。なお、この実施の形態は、図14に示した第1の実施の形態において重り217を取り除き、代わりに他の重りを筺体201に設けたものなので、図14にて示した構成部材と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
図18に示した第4の実施の形態は、リング状の第4の重り220を筺体201の底面201aの内面の周縁部全面にわたって設けた超音波洗浄機250である。この実施の形態は、図14に示した第1の実施の形態に比べさらに、重り220のみとなり、筺体201の外壁面に付加するものがないので、筺体201の外壁面、外底面の研磨処理が最も容易にでき、ウエット処理ノズルの安定性を大幅に向上させることができる。
【0057】
次に、上述の超音波洗浄機を用いた本発明のウエット処理ノズルの一実施の形態を、図19に従って説明する。
このウエット処理ノズル310は、一側に処理液(図示略)を導入する導入通路311と他側にウエット処理後の処理液Lを排出する排出通路312とを備えるとともに、導入通路311と排出通路312との間に、被処理物(図示略)に対し導入通路311から導入した処理液をガイドしかつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材313を設けている。振動ガイド部材313は、図16に示した超音波洗浄機230を使用している。したがって、図19中、図16と同一部材には同一符号を付し、それら部材の説明を省略する。
【0058】
図19において、導入通路311を形成した導入通路型枠314は、断面L字型のステンレス・スチールからなる金属板からなり、その底面314aが振動ガイド部材の底面201aと面一かほぼ面一になるように形成されている。導入通路型枠314は、長手方向中央部に斜め上方に延びた導入管314bを形成しており、壁面314cを溶接法によつて、振動ガイド部材の壁面201cに設けた重り217に結合されている。なお、この結合は、ボルト止め等の結合方法によつて行ってもよい。
【0059】
同様に排出通路312を形成した排出通路型枠315は、断面L字型のステンレス・スチールからなる金属板からなり、その底面315aが振動ガイド部材の底面201aと面一かほぼ面一になるように形成されている。排出通路型枠315は長手方向中央部に斜め上方に延びた排出管315bを形成しており、壁面315cを溶接法によつて、振動ガイド部材の壁面201cに設けた重り217に結合されている。なお、この結合は、ボルト止め等の結合方法によつて行ってもよい。
【0060】
このウエット処理ノズル300には、被処理物に接触した処理液がウエット処理後に、排出通路外に流れないように被処理物と接触している処理液の圧力と大気圧との差を制御するための圧力制御装置(図示略)が取り付けられる。
またこのウエット処理ノズル300には、振動ガイド部材313と被処理物とを所定間隙に維持し、該間隙に処理液を保持させる位置決め装置(図示略)が取り付けられる。
【0061】
次にこのウエット処理ノズルを用いたウエット処理方法を図20に従って説明する。
被処理物Pとウエット処理ノズル300とをそれぞれ矢印C,D方向に相対的に移動させつつ処理液Lたとえば超純水、電解イオン水、オゾン水、水素水を、導入通路311を通して被処理物Pに順次供給し、この処理液Lを被処理物Pと接触している処理液Lの圧力と大気圧との差を圧力制御装置(図示略)により制御することにより供給した部分以外の部分に接触させることなく被処理物P上から排出する。
【0062】
なお、図19に示した他のウエット処理ノズルは、図16に示した超音波洗浄機を振動ガイド部材として用いたが、本発明のウエット処理ノズルは、これに限られるものではなく、例えば図14、図17、または図18等に示した他の超音波洗浄機等を使用しても良い。
【0063】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の超音波洗浄機によれば、重りによって筺体壁面の振動が抑止されるため、振動エネルギーは空焚き防止液を介してまたは筺体自体を通して、筐体の中央の底面方向に戻り、底面から超音波として効率よく放射される。よつて超音波放射効率の調節が容易な超音波洗浄機及びそれを用いたウエット処理ノズルとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る超音波洗浄機の第1の実施の形態を示し、図1(a)はその斜視図、図1(b)は図1(a)のIb−Ib線に沿った拡大縦断面図である。
【図2】図1に示した超音波洗浄機による被洗浄物の洗浄状態を示す縦断面図である。
【図3】本発明に係る超音波洗浄機の第2の実施の形態を示す縦断面図である。
【図4】本発明に係る超音波洗浄機の第3の実施の形態を示す縦断面図である。
【図5】本発明に係る超音波洗浄機の第4の実施の形態を示す縦断面図である。
【図6】本発明に係る超音波洗浄機の第5の実施の形態を示す縦断面図である。
【図7】本発明に係る超音波洗浄機の第6の実施の形態を示す縦断面図である。
【図8】本発明に係る超音波洗浄機の第7の実施の形態を示す縦断面図である。
【図9】本発明に係る超音波洗浄機の第8の実施の形態を示す縦断面図である。
【図10】本発明に係る超音波洗浄機の第10の実施の形態を示し、図10(a)はその斜視図、図10(b)は図10(a)のXb−Xb線に沿った拡大縦断面図である。
【図11】本発明に係る超音波洗浄機の第11の実施の形態を示し、図11(a)はその斜視図、図11(b)は図11(a)のXIb−XIb線に沿った拡大縦断面図である。
【図12】本発明に係るウエット処理ノズルの一実施の形態を示し、図12(a)はその斜視図、図12(b)は図12(a)のXIIb−XIIb線に沿った拡大縦断面図である。
【図13】図12に示したウエット処理ノズルによる被洗浄物の洗浄状態を示す縦断面図である。
【図14】本発明に係る他の超音波洗浄機の第1の実施の形態を示し、図14(a)はその斜視図、図14(b)は図14(a)のXIVb−XIVb線に沿った拡大縦断面図である。
【図15】図14に示した超音波洗浄機による被洗浄物の洗浄状態を示す縦断面図である。
【図16】本発明に係る他の超音波洗浄機の第2の実施の形態を示す縦断面図である。
【図17】本発明に係る他の超音波洗浄機の第3の実施の形態を示す縦断面図である。
【図18】本発明に係る他の超音波洗浄機の第4の実施の形態を示し、図18(a)はその斜視図、図18(b)は図18(a)のXVIIIb−XVIIIb線に沿った拡大縦断面図である。
【図19】本発明に係る他のウエット処理ノズルの一実施の形態を示し、図19(a)はその斜視図、図19(b)は図19(a)のXIXb−XIXb線に沿った拡大縦断面図である。
【図20】図19に示したウエット処理ノズルによる被洗浄物の洗浄状態を示す断面図である。
【図21】従来の超音波シャワー洗浄機の縦断面図である。
【図22】従来の節水型超音波洗浄機の縦断面図である。
【図23】従来の2重槽形式の節水型超音波洗浄機の縦断面図である。
【符号の説明】
10 超音波洗浄機
11 第1の筐体
12 第2の筐体
13 パッキン
14 空洞部
15 水
16 超音波振動子
17、21、31、41、51、61 重り
71、72、81、82、83、91 重り
110 ウエット処理ノズル
111 導入通路
112 排出通路
113 振動ガイド部材
Claims (15)
- 断面凹状の筺体を具備し、該筺体の内底面に超音波振動子を配設するとともに、前記筺体の壁面下部に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴とする超音波洗浄機。
- 前記重りは、筐体の外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄機。
- 断面凹状の筺体を具備し、該筺体の内底面に超音波振動子を配設するとともに、前記筐体の内底面であって前記超音波振動子による振動を阻害しない領域の内底面に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴とする超音波洗浄機。
- 前記重りは、筐体の肉厚を変えることで形成されていることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄機。
- 前記重りは、前記筐体の壁面全周にわたって設けられていることを特徴とする請求項1,2,4のいずれか1項に記載の超音波洗浄機。
- 一側に処理液を導入する導入通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出通路とを備えるとともに、前記導入通路と前記排出通路との間に、被処理物に対して前記導入通路から導入した処理液をガイドし、かつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を備えたウエット処理ノズルにおいて、前記振動ガイド部材は請求項1〜5のいずれか1項に記載の超音波洗浄機であることを特徴とするウエット処理ノズル。
- 断面凹状であって内部に空洞部を有する筺体を具備し、該筺体の凹内面の内底面に超音波振動子を配設し、前記空洞部に前記超音波振動子からの振動を前記筺体の凹外面の外底面に伝える空焚き防止液を入れ、前記筺体の壁面下部に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴とする超音波洗浄機。
- 前記重りは、筐体の前記凹外面を成す外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の超音波洗浄機。
- 前記重りは、筐体の前記凹内面を成す外壁面及び内壁面の少なくとも一方に設けられていることを特徴とする請求項7に記載の超音波洗浄機。
- 断面凹状であって内部に空洞部を有する筺体を具備し、該筺体の凹内面の内底面に超音波振動子を配設し、前記空洞部に前記超音波振動子からの振動を前記筺体の凹外面の外底面に伝える空焚き防止液を入れるとともに、前記筐体の凹外面の内底面および前記凹内面の底面の少なくとも一方であって前記超音波振動子による振動を阻害しない領域の前記内底面または前記底面に、前記超音波振動子から放射された振動エネルギーを効率よく被洗浄物に照射するための重りを設けたことを特徴とする超音波洗浄機。
- 前記重りは、筐体の前外凹外面または前記凹内面の肉厚を変えることで形成されていることを特徴とする請求項7に記載の超音波洗浄機。
- 前記重りは、前記筐体の壁面全周にわたって設けられていることを特徴とする請求項7,8,9,11のいずれか1項に記載の超音波洗浄機。
- 前記筺体は、中央部が凹み周囲の端部が庇状に形成された第1の筐体を囲んで、同じく中央部が凹み周囲の端部が庇状に形成された第2の筐体を配置し、かつこれら筐体の端部間にパッキンを挟んで該第1の筐体と第2の筐体間に前記空洞部を形成してなることを特徴とする請求項7に記載の超音波洗浄機。
- 前記パッキンは中央部に貫通穴を有する弾性部材から成り、前記第1の筺体および第2の筺体は板状部材からなり、第1の筺体の前記庇状端部と第2の筺体の前記庇状端部とによる弾性部材の挟着を、これら端部を貫通するボルトにより行い、かつボルトの締め付け調節によりパッキンの厚さを変えられるように構成したことを特徴とする請求項13に記載の超音波洗浄機。
- 一側に処理液を導入する導入通路と他側にウエット処理後の処理液を排出する排出通路とを備えるとともに、前記導入通路と前記排出通路との間に、被処理物に対して前記導入通路から導入した処理液をガイドし、かつ振動を与えながら被処理物をウエット処理する振動ガイド部材を備えたウエット処理ノズルにおいて、前記振動ガイド部材は請求項7〜14のいずれか1項に記載の超音波洗浄機であることを特徴とするウエット処理ノズル。
Priority Applications (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06310299A JP3806537B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル |
EP00301847A EP1034850B1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-07 | Ultrasonic cleaner and wet treatment nozzle comprising the same |
DE60006014T DE60006014T2 (de) | 1999-03-10 | 2000-03-07 | Ultraschallreiniger und diesen enthaltende Nassbehandlungsdüse |
DE60017614T DE60017614T2 (de) | 1999-03-10 | 2000-03-07 | Ultraschallreiniger und diesen enthaltende Nassbehandlungsdüse |
EP03075663A EP1321198B1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-07 | Ultrasonic cleaner and wet treatment nozzle comprising the same |
US09/521,906 US6644327B1 (en) | 1999-03-10 | 2000-03-09 | Ultrasonic cleaner and wet treatment nozzle comprising the same |
KR10-2000-0011809A KR100375184B1 (ko) | 1999-03-10 | 2000-03-09 | 초음파 세정기 및 이를 구비하는 웨트처리 노즐 |
TW089104432A TW449821B (en) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | Ultrasonic cleaner and wet treatment nozzle comprising the same |
CNB031349455A CN1235686C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
CNB001028162A CN1165972C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
US10/650,393 US7523524B2 (en) | 1999-03-10 | 2003-08-27 | Ultrasonic cleaner and wet treatment nozzle comprising the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06310299A JP3806537B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000254606A JP2000254606A (ja) | 2000-09-19 |
JP3806537B2 true JP3806537B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=13219605
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06310299A Expired - Fee Related JP3806537B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6644327B1 (ja) |
EP (2) | EP1321198B1 (ja) |
JP (1) | JP3806537B2 (ja) |
KR (1) | KR100375184B1 (ja) |
CN (2) | CN1235686C (ja) |
DE (2) | DE60017614T2 (ja) |
TW (1) | TW449821B (ja) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002176021A (ja) * | 2000-12-05 | 2002-06-21 | Honda Electronic Co Ltd | 超音波洗浄方法及びその装置 |
US6845778B2 (en) * | 2002-03-29 | 2005-01-25 | Lam Research Corporation | In-situ local heating using megasonic transducer resonator |
US6729339B1 (en) * | 2002-06-28 | 2004-05-04 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for cooling a resonator of a megasonic transducer |
JP2006095461A (ja) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Honda Electronic Co Ltd | 超音波洗浄装置 |
DE102004053337A1 (de) * | 2004-11-04 | 2006-05-11 | Steag Hama Tech Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln von Substraten und Düseneinheit hierfür |
JP2006284288A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Jokoh Co Ltd | 組織処理部の二重構造 |
US20070034227A1 (en) * | 2005-08-15 | 2007-02-15 | Harris Corporation | Ultrasonic device for cleaning connectors |
JP2007057318A (ja) * | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Olympus Corp | 分析装置、供給装置、攪拌装置及び攪拌方法 |
US20070157791A1 (en) * | 2005-12-21 | 2007-07-12 | Kenneth Mazursky | Methods for infusing matter with vibration |
US8327861B2 (en) * | 2006-12-19 | 2012-12-11 | Lam Research Corporation | Megasonic precision cleaning of semiconductor process equipment components and parts |
GB201003750D0 (en) * | 2010-03-08 | 2010-04-21 | Hoover Ltd | Vacuum cleaner |
CN102151671A (zh) * | 2011-02-15 | 2011-08-17 | 济南巴克超声波科技有限公司 | 超声波清洗机 |
KR101575001B1 (ko) | 2014-04-04 | 2015-12-07 | (주) 경일메가소닉 | 패널 세정용 수막 구조형 초음파 샤워 노즐 장치 |
CN105405792B (zh) * | 2015-11-24 | 2018-08-03 | 如皋市大昌电子有限公司 | 一种二极管清洗槽 |
USD808091S1 (en) * | 2016-08-19 | 2018-01-16 | Newbee New Energy Technology Co., Ltd. | Ultrasonic cleaner |
USD825119S1 (en) * | 2016-09-28 | 2018-08-07 | Todd C. Wells | Vibrating cleaner |
AU201811112S (en) * | 2018-01-31 | 2018-03-14 | Guangdong Gt Ultrasonic Co | Ultrasonic Cleaner |
USD942096S1 (en) * | 2018-06-06 | 2022-01-25 | Lead Young Technology Co., Ltd. | Multifunctional underwear sterilizer |
US11910815B2 (en) * | 2019-12-02 | 2024-02-27 | Pepsico, Inc. | Device and method for nucleation of a supercooled beverage |
CN111166267A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-05-19 | 华帝股份有限公司 | 一种洗碗机的洗涤控制方法及洗碗机 |
JP2022068575A (ja) * | 2020-10-22 | 2022-05-10 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置 |
CN112676254B (zh) * | 2020-12-09 | 2022-03-18 | 深圳市富吉真空技术有限公司 | 一种用于铣刀的超声波清洗装置 |
Family Cites Families (66)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2398701A (en) * | 1942-06-29 | 1946-04-16 | United Aircraft Corp | Supersonic inspection device |
US2625035A (en) * | 1945-12-22 | 1953-01-13 | United Aircraft Corp | Supersonic inspection device |
US2471330A (en) * | 1947-02-17 | 1949-05-24 | Paper Chemistry Inst | Method of continuously coating porous sheets |
US2973739A (en) * | 1949-10-06 | 1961-03-07 | Nelson N Estes | Underwater transducer |
US2834952A (en) * | 1953-03-19 | 1958-05-13 | Wilbur T Harris | Transducer |
US2788719A (en) * | 1954-02-11 | 1957-04-16 | Klmberly Clark Corp | Flow control apparatus |
US2848672A (en) * | 1955-07-26 | 1958-08-19 | Harris Transducer Corp | Self-excited transducer |
US2873391A (en) * | 1955-11-04 | 1959-02-10 | Sperry Prod Inc | Methods and means for coupling an ultrasonic transducer to a test specimen |
US2970938A (en) * | 1956-05-08 | 1961-02-07 | Beloit Iron Works | Control of stock supply in paper making machines |
US2947888A (en) * | 1956-05-11 | 1960-08-02 | Harris Transducer Corp | Transducer construction |
US2992553A (en) * | 1957-04-24 | 1961-07-18 | Ivan L Joy | Coupling method and apparatus for ultrasonic testing of solid bodies |
US2923783A (en) * | 1957-06-17 | 1960-02-02 | Stanley F White | Electro-acoustical transducer |
US2896649A (en) * | 1957-11-19 | 1959-07-28 | Faidley Hunter Clayton | Apparatus for cleaning by ultrasonic vibrations |
US3089790A (en) * | 1960-06-09 | 1963-05-14 | Cavitron Ultrasonics Inc | Ultrasonic cleaning devices and method of cleaning |
US3154890A (en) * | 1961-04-13 | 1964-11-03 | Jerome H Lemelson | Ultrasonic tool |
US3206323A (en) * | 1962-06-12 | 1965-09-14 | Eastman Kodak Co | Coating high viscosity liquids |
US3237445A (en) * | 1962-08-20 | 1966-03-01 | American Mach & Foundry | Ultrasonic inspection device |
US3722149A (en) * | 1965-01-05 | 1973-03-27 | A Bodine | Grit pad cleaner |
US3431440A (en) * | 1966-04-01 | 1969-03-04 | Hewlett Packard Co | Retaining apparatus for an ultrasonic coupling medium |
US3392706A (en) * | 1966-09-06 | 1968-07-16 | Varian Associates | Liquid inker for electrographic image development employing the suction of an air pump for applying the ink |
US3353380A (en) * | 1966-12-29 | 1967-11-21 | Monsanto Co | Washing apparatus |
US3461843A (en) * | 1967-11-21 | 1969-08-19 | Stanford Research Inst | Toner application apparatus |
US3711891A (en) * | 1970-08-03 | 1973-01-23 | J Conway | Jet-vibrator-vacuum system and method |
US3797281A (en) * | 1971-06-12 | 1974-03-19 | Norton Co Ltd Sir James Farmer | Apparatus for treating webs |
US3756048A (en) * | 1972-03-15 | 1973-09-04 | R Portus | Theft-proof tether |
US3744961A (en) * | 1972-04-13 | 1973-07-10 | Daido Steel Co Ltd | Strip floating-apparatus |
GB1455124A (en) * | 1973-02-15 | 1976-11-10 | Dawe Instr Ltd | Apparatus for vibrating a liquid |
US3874022A (en) * | 1973-03-19 | 1975-04-01 | Wells Electronics | Means for removing ink from a screen and including a cleaning head and accumulator |
SU528128A1 (ru) * | 1974-09-18 | 1976-09-15 | Научно-Исследовательский Институт Строительных Конструкций Госстроя Ссср | Вибратор |
SE419946B (sv) * | 1974-10-16 | 1981-09-07 | Inventing Ab | Sett och anordning for bestrykning av en lopande bana |
US3952216A (en) * | 1975-04-04 | 1976-04-20 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Multiple-frequency transducer |
US4069541A (en) * | 1976-04-23 | 1978-01-24 | U.S. Floor Systems, Inc. | Cleaning method and apparatus |
US4103519A (en) * | 1977-03-18 | 1978-08-01 | Byron W. Boyd | Apparatus for ultrasonic cleaning of carpet, upholstery, and similar materials |
DE2717486C3 (de) * | 1977-04-20 | 1980-01-10 | Doelco Teppich- Und Polster-Reinigungs- Anlagen Alfred Doerle, System Vakuumextraktion, 7800 Freiburg | Reinigungskopf für eine Maschine zum Reinigen von Bodenflächen mit einem Ultraschallgeber |
JPS593701B2 (ja) * | 1978-01-30 | 1984-01-25 | 三菱重工業株式会社 | 浸透探傷による連続洗浄装置 |
JPS554123A (en) * | 1978-06-23 | 1980-01-12 | Nec Corp | Power amplifier |
JPS573040A (en) * | 1980-06-09 | 1982-01-08 | Hitachi Ltd | Ultrasonic probe |
US4408366A (en) * | 1980-06-24 | 1983-10-11 | Aaron Goldsmith | Cleaning system having improved agitation |
US4764021A (en) * | 1983-02-22 | 1988-08-16 | Corning Glass Works | Apparatus for ultrasonic agitation of liquids |
FR2549745B1 (fr) * | 1983-07-27 | 1986-10-10 | Scp Biscornet | Procede de nettoyage par ultra-sons de surfaces et dispositif et installation mettant en oeuvre le procede |
US4504526A (en) * | 1983-09-26 | 1985-03-12 | Libbey-Owens-Ford Company | Apparatus and method for producing a laminar flow of constant velocity fluid along a substrate |
FR2564055B1 (fr) * | 1984-05-09 | 1989-09-15 | Electricite De France | Engin de manutention apte a se deplacer sur une paroi d'inclinaison quelconque |
US4607185A (en) * | 1985-02-01 | 1986-08-19 | American Hospital Supply Corporation | Ultrasonic horn assembly |
DE3622170C2 (de) * | 1985-07-23 | 1996-10-17 | Horst Kauffeldt | Vorrichtung zum Reinigen von großflächigen Textilauflagen, insbesondere von Teppichen und Teppichböden |
JPS62122132A (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-03 | Sharp Corp | 超音波を用いた洗浄装置 |
US4740726A (en) * | 1986-07-21 | 1988-04-26 | Nohken Inc. | Vibrator-type level sensor |
SU1518035A1 (ru) * | 1987-02-16 | 1989-10-30 | Калининский политехнический институт | Устройство дл очистки плоских поверхностей |
US4720889A (en) * | 1987-04-24 | 1988-01-26 | Grave Dale L | Perimeter seal structure for a cleaning head |
US5363344A (en) * | 1987-08-10 | 1994-11-08 | Sofen Michael E | Acoustic sensor having a shell-mounted transducer |
JPH01182457A (ja) * | 1988-01-12 | 1989-07-20 | Ryoji Nakamura | 吹付け石綿の除去処理方法 |
DE3933519C2 (de) * | 1989-10-05 | 1993-11-11 | Bandelin Electronic Gmbh & Co | Vorrichtung zur Reinigung von Gegenständen mit Ultraschall |
AT393468B (de) * | 1990-03-01 | 1991-10-25 | Prodinger Karl Dipl Ing Dr | Vorrichtung zur behandlung, insbesondere zur reinigung, von oberflaechen |
JPH03259523A (ja) * | 1990-03-09 | 1991-11-19 | Hitachi Ltd | 洗浄装置 |
JPH0434991A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Fujitsu Ltd | 回路基板の異物除去方法及び装置 |
DE4115096A1 (de) * | 1991-05-08 | 1992-11-12 | Kln Ultraschall Gmbh | Vorrichtung zum erzeugen von ultraschall-schwingungen in einem reinigungsbad |
US5275690A (en) * | 1992-06-17 | 1994-01-04 | Santa Barbara Research Center | Method and apparatus for wet chemical processing of semiconductor wafers and other objects |
US5849098A (en) * | 1992-08-01 | 1998-12-15 | Volkmann; Thilo | Process and device for the reduction of the amount of liquids remaining on flat stock after a rolling process |
US5339842A (en) * | 1992-12-18 | 1994-08-23 | Specialty Coating Systems, Inc. | Methods and apparatus for cleaning objects |
SE505864C2 (sv) * | 1993-03-19 | 1997-10-20 | Tetra Laval Holdings & Finance | Anordning för ultraljudsförsegling |
JP2900788B2 (ja) * | 1994-03-22 | 1999-06-02 | 信越半導体株式会社 | 枚葉式ウェーハ処理装置 |
JP3116297B2 (ja) * | 1994-08-03 | 2000-12-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理方法及び処理装置 |
JPH08100418A (ja) * | 1994-10-03 | 1996-04-16 | Sakai Heavy Ind Ltd | 排水性舗装の洗浄方法およびその装置 |
US5589080A (en) * | 1995-04-04 | 1996-12-31 | Cfr Corporation | Liquid recycling system with moving concentrated counterflow for filter clearance |
JP3198899B2 (ja) | 1995-11-30 | 2001-08-13 | アルプス電気株式会社 | ウエット処理方法 |
DE19651693C2 (de) * | 1996-12-12 | 1999-09-30 | Dornier Tech Gmbh & Co | Automatische Scheibenreinigungsanlage |
US6290863B1 (en) * | 1999-07-31 | 2001-09-18 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for etch of a specific subarea of a semiconductor work object |
-
1999
- 1999-03-10 JP JP06310299A patent/JP3806537B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-07 EP EP03075663A patent/EP1321198B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 EP EP00301847A patent/EP1034850B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 DE DE60017614T patent/DE60017614T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 DE DE60006014T patent/DE60006014T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-09 US US09/521,906 patent/US6644327B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-09 KR KR10-2000-0011809A patent/KR100375184B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-03-10 CN CNB031349455A patent/CN1235686C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 CN CNB001028162A patent/CN1165972C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 TW TW089104432A patent/TW449821B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-08-27 US US10/650,393 patent/US7523524B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1321198A2 (en) | 2003-06-25 |
EP1321198B1 (en) | 2005-01-19 |
DE60006014T2 (de) | 2004-06-24 |
DE60006014D1 (de) | 2003-11-27 |
DE60017614T2 (de) | 2005-12-22 |
EP1321198A3 (en) | 2003-07-02 |
TW449821B (en) | 2001-08-11 |
EP1034850A2 (en) | 2000-09-13 |
US6644327B1 (en) | 2003-11-11 |
KR20010014555A (ko) | 2001-02-26 |
US7523524B2 (en) | 2009-04-28 |
US20040035451A1 (en) | 2004-02-26 |
JP2000254606A (ja) | 2000-09-19 |
DE60017614D1 (de) | 2005-02-24 |
CN1267084A (zh) | 2000-09-20 |
EP1034850B1 (en) | 2003-10-22 |
EP1034850A3 (en) | 2000-09-20 |
KR100375184B1 (ko) | 2003-03-08 |
CN1165972C (zh) | 2004-09-08 |
CN1235686C (zh) | 2006-01-11 |
CN1522801A (zh) | 2004-08-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051025 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20051129 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051212 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20051129 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060509 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060515 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100519 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110519 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120519 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130519 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |