JP2002176021A - 超音波洗浄方法及びその装置 - Google Patents

超音波洗浄方法及びその装置

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JP2002176021A
JP2002176021A JP2000369490A JP2000369490A JP2002176021A JP 2002176021 A JP2002176021 A JP 2002176021A JP 2000369490 A JP2000369490 A JP 2000369490A JP 2000369490 A JP2000369490 A JP 2000369490A JP 2002176021 A JP2002176021 A JP 2002176021A
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JP
Japan
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ultrasonic
cleaning
cleaning liquid
cleaned
vibrator
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Application number
JP2000369490A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Miyamoto
年昭 宮本
Yuichi Maita
雄一 舞田
Tomomi Hikita
智美 疋田
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Honda Electronics Co Ltd
Original Assignee
Honda Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄槽を使用するものでは、被洗浄物が洗浄
液に浸漬されているために、汚れが再付着されるという
欠点があり、又、ノズル1を使用した洗浄装置では、洗
浄液4の量が多くなるという問題がった。 【解決手段】 超音波発生部6の下面に超音波振動子7
が装着され、超音波振動子7は超音波発生部6の上部に
装着したコネクタ9に電極リード線8で電気的に接続さ
れ、このコネクタ9にリード線10を介して超音波発振
器11から発振出力が供給され、さらに、超音波発生部
6の超音波振動子7と対向して半導体ウエハのような被
洗浄物12が微小間隙を設けて保持され、超音波発生部
6の両側に洗浄液供給装置13から洗浄液を供給するノ
ズル14が装着されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、超音波振動子と被
洗浄物の間の微小間隙に洗浄液を供給して洗浄する超音
波洗浄装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の超音波洗浄装置は、洗浄槽の底部
の振動板に超音波振動子を装着し、この超音波振動子に
電源から発振出力を印加すると、超音波振動子は固有の
周波数の超音波を発生するので、この超音波は洗浄槽内
の洗浄液に照射されることにより、洗浄液内にキャビテ
ーションを発生し、このキャビテーションによって洗浄
液内の被洗浄物を洗浄するように構成されるか、又、図
6に示すように、ノズル1に装着した洗浄液供給管2か
らノズル1の内部に洗浄液を供給し、超音波発振器から
リード線3を介してノズル1内の超音波振動子に発振出
力を供給することにより、移動する半導体ウエハのよう
な被洗浄物5の上にノズル1から洗浄液4が供給される
とともに、この洗浄液4に超音波振動子からの超音波を
乗せて被洗浄物3に照射して洗浄するようにした洗浄装
置が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな超音波洗浄装置において、洗浄槽を使用するもので
は、被洗浄物が洗浄液に浸漬されているために、汚れが
再付着するという欠点があり、又、ノズル1を使用した
洗浄装置では、洗浄液4の量が多くなるという問題がっ
た。
【0004】
【課題を解決しようとする手段】本発明は、超音波振動
子と被洗浄物との間に微小間隙を設けて支持し、該微小
間隙に洗浄液を供給して前記超音波振動子から超音波を
前記被洗浄物に照射して洗浄する超音波洗浄方法であ
り、又、超音波振動子を一面に装着した超音波発生部
と、該超音波発生部の前記超音波振動子を設けた面と微
小間隙を設けて対向する被洗浄物と、該被洗浄物と前記
超音波振動子の間に洗浄液を供給するノズルを前記超音
波発生部の少なくとも片側に設けた超音波洗浄装置であ
り、さらに、前記ノズルは前記超音波発生部の両側に装
着してもよいし、前記ノズルの流出口は前記超音波発生
部の側部に沿って幅広く設けてもよいし、前記ノズルは
前記超音波振動子の長さだけ幅の広い供給口がもうけら
れて前記超音波発生部の少なくとも片側の超音波振動子
の近傍に装着されてもよい。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明では、超音波発生部の超音
波振動子と被洗浄物の間に微小間隙を設けて支持し、こ
の微小間隙に洗浄液を供給し、被洗浄物を移動しながら
超音波振動子から被洗浄物に超音波を照射すると、微小
間隙に保持された洗浄液を介して超音波が被洗浄物に照
射されるので、被洗浄物の表面を少ない洗浄液で、又、
超音波出力が小さくても洗浄することができる。
【0006】
【実施例】図1は本発明の1実施例の超音波洗浄槽の構
成図、図2は図1の超音波発生部の斜視図、図3は図1
の超音波発生部の断面図で、超音波発生部6の下面に超
音波振動子7が装着され、超音波振動子7は超音波発生
部6の上部に装着したコネクタ9に電極リード線8で電
気的に接続され、このコネクタ9にケーブル10を介し
て超音波発振器11から発振出力が供給され、さらに、
超音波発生部6の超音波振動子7と対向して半導体ウエ
ハのような被洗浄物12が微小間隙を設けて保持され、
超音波発生部6の両側に洗浄液供給装置13から洗浄液
を供給するノズル14が装着されている。
【0007】このように構成した本実施例の超音波洗浄
装置では、超音波発生部6の超音波振動子7と微小間隙
を介して保持された被洗浄物12の間にノズル14から
洗浄液を供給すると、表面張力により超音波振動子7の
下面の全面に洗浄液が供給され、そして、被洗浄物12
を移動しながら超音波発振器11から超音波振動子7に
発振出力を印加すると、超音波振動子7から照射された
超音波は超音波振動子7と被洗浄物12の間の微小間隙
に保持された洗浄液を介して被洗浄物12の表面に照射
されるので、被洗浄物12の表面を超音波と洗浄液によ
り洗浄することができる。
【0008】このように、本実施例の超音波洗浄装置で
は、超音波発生部6と被洗浄物12の間の微小間隙に洗
浄液を供給すればよいので、洗浄液が従来例より非常に
少量で済み、又、超音波振動子7と被洗浄物12との間
隙が微小であるので、低いパワーの超音波で十分に洗浄
することができ、さらに、超音波発生部6のサイズを被
洗浄物12のサイズに合うように設計することにより、
被洗浄物12の移動距離が少なくて済み、従って、洗浄
時間が従来例に比べて短くなるという利点がある。
【0009】なお、上記実施例では、長さのある超音波
発生部6の超音波振動子7の下に洗浄液を供給するため
に、ノズル14を超音波発生部6の側部1カ所に設けた
が、それ以上の数のノズルを設けても良いし、又、図4
に示すように、ノズル14の供給口14aを超音波発生
部6の長さだけ長くすしても良い。
【0010】図5は本発明の他の実施例の超音波洗浄装
置の断面図で、6は超音波発生部、7は超音波振動子、
8は電極リード線、9はコネクタ、10はケーブル、1
2は被洗浄物であり、これらの構成は上記実施例と同じ
であるので、説明は省略するが、本実施例では、ノズル
15を超音波発生部1の超音波振動子2の両側に設け
る。
【0011】このように構成した本実施例では、ノズル
15が超音波発生部6に装着されているので、上記実施
例のようにノズルを支持する必要がなく、被洗浄物12
と超音波発生部6のどちらか片方を移動しても良い。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の超音波洗
浄装置では、超音波発生部の超音波振動子と被洗浄物の
間に微小間隙で保持し、この微小間隙にノズルより洗浄
液を供給することにより、微小間隙で保持された洗浄液
を介して超音波振動子から発生した超音波が照射されて
被洗浄物が洗浄されるので、洗浄液が少量で済み、又、
超音波振動子に供給するパワーが少なくて済み、さら
に、洗浄時間が短くて済むという利点がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の超音波洗浄装置の構成図であ
る。
【図2】図1の超音波発生部の斜視図である。
【図3】図1の超音波発生部の断面図である。
【図4】本発明の実施例の超音波洗浄装置の他の構成図
である。
【図5】本発明の他の実施例の超音波洗浄装置の構成図
である。
【図6】従来例の超音波洗浄装置の構成図である。
【符号の説明】
6 超音波発生部 7 超音波振動子 8 電極リード線 9 コネクタ 10 ケーブル 11 超音波発振器 12 被洗浄物 13 洗浄液供給装置 14,15 ノズル
フロントページの続き (72)発明者 疋田 智美 愛知県豊橋市大岩町字小山塚20番地 本多 電子株式会社内 Fターム(参考) 3B201 AA03 AB01 AB37 BB22 BB85 BB92 CB01

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 超音波振動子と被洗浄物との間に微小間
    隙を設けて支持し、該微小間隙に洗浄液を供給して前記
    超音波振動子から超音波を前記被洗浄物に照射して洗浄
    することを特徴とする超音波洗浄方法。
  2. 【請求項2】 超音波振動子を一面に装着した超音波発
    生部と、該超音波発生部の前記超音波振動子を設けた面
    と微小間隙を設けて対向する被洗浄物と、該被洗浄物と
    前記超音波振動子の間に洗浄液を供給するノズルを前記
    超音波発生部の少なくとも片側に設けたことを特徴とす
    る超音波洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記ノズルは前記超音波発生部の両側に
    装着されることを特徴とする請求項2記載の超音波洗浄
    装置。
  4. 【請求項4】 前記ノズルの流出口は前記超音波発生部
    の側部に沿って幅広く設けられたことを特徴とする請求
    項2記載の超音波洗浄装置。
  5. 【請求項5】 前記ノズルは前記超音波振動子の長さだ
    け幅の広い供給口がもうけられて前記超音波発生部の少
    なくとも片側の超音波振動子の近傍に装着されることを
    特徴とする請求項2記載の超音波洗浄装置。
JP2000369490A 2000-12-05 2000-12-05 超音波洗浄方法及びその装置 Pending JP2002176021A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS551114A (en) * 1978-06-19 1980-01-07 Hitachi Ltd Method and device for washing wafer
JPH1133506A (ja) * 1997-07-24 1999-02-09 Tadahiro Omi 流体処理装置及び洗浄処理システム
JP2000254606A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Kaijo Corp 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP2000254606A (ja) * 1999-03-10 2000-09-19 Kaijo Corp 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル

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