JPH10165910A - 超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波洗浄装置

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Publication number
JPH10165910A
JPH10165910A JP8335491A JP33549196A JPH10165910A JP H10165910 A JPH10165910 A JP H10165910A JP 8335491 A JP8335491 A JP 8335491A JP 33549196 A JP33549196 A JP 33549196A JP H10165910 A JPH10165910 A JP H10165910A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
tank
cleaning tank
nozzle
ultrasonic
Prior art date
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Application number
JP8335491A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Fujitani
▲吉▼宏 藤谷
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH10165910A publication Critical patent/JPH10165910A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄槽底部に発生する気泡を除去する機構を
備えた超音波洗浄槽を提供する。 【解決手段】 洗浄液1を満たし被洗浄物2を浸漬する
洗浄槽3と、洗浄槽3と一定間隔をおいて、洗浄槽3の
外側を覆うように設けた外槽4と、洗浄槽3と前記外槽
4の間に液体6を満たし、外槽4の底面4aに配置した
超音波振動子5と、外槽4の側壁4bに設けたノズル7
と、ノズル7に液体6を供給する手段を具備し、超音波
振動子5の発振を停止した後ノズル7から洗浄槽3の底
面3aに向けて液体6を噴射し、洗浄槽3の底面3aに
生じている気泡6aを除去する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体のウェハ等を
洗浄するための超音波洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より半導体のウェハ等を洗浄するた
めの超音波洗浄装置として、図2に示すような構造の間
接伝搬式の超音波洗浄装置が知られている。この間接伝
搬式の超音波洗浄装置は洗浄液1を満たし、被洗浄物2
を浸漬した洗浄槽3と、この洗浄槽3と一定間隔をおい
て、その外側を覆うように設けた外槽4と、外槽4の底
面4aに超音波振動子5を配置し、外槽4と内槽である
洗浄槽3の間に水等の液体6を満たして構成したもので
ある。
【0003】超音波振動子5を発振させると、超音波振
動が液体6を介して外槽4の底面4aから洗浄槽3に伝
搬し、洗浄液1を通じて被洗浄物2に伝わり、洗浄が行
われる。
【0004】ところがこの超音波洗浄中に、液体6が振
動することによって、液体中に溶存している気体を集積
し多数の気泡6aが発生するという現象がある。発生し
た気泡6aは液体6中を上昇し液外へ出て行くものもあ
るが、洗浄槽3の底面3aに発生した気泡6aは液体6
から外へ出られず、洗浄槽3の底面3aに付着してしま
う。そして、付着した気泡6aは超音波振動子の発振停
止後も完全には消えることなく、そのまま残るため次の
発振時には既存の付着気泡6aの上に、さらに新たに発
生した気泡6aが付着してしまう。
【0005】この結果、超音波の発振のONーOFFを
繰り返す程、付着する気泡6aの量が増えることとな
り、さらにこの気泡6aの存在が超音波の伝搬を妨げて
しまうため、本来の洗浄能力を損なうこととなってしま
う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明が解決し
ようとする課題は、洗浄槽底部に発生する気泡を除去す
る機構を備えた超音波洗浄槽を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の超音波洗浄装置
は、洗浄液を満たし被洗浄物を浸漬する洗浄槽と、洗浄
槽と一定間隔をおいて、洗浄槽の外側を覆うように設け
た外槽と、洗浄槽と前記外槽の間に液体を満たし、外槽
の底面に配置した超音波振動子と、外槽の側壁に設けた
ノズルと、ノズルに液体を供給する手段を具備した構成
とし、超音波振動子の発振を停止した後ノズルから洗浄
槽の底面に向けて液体を噴射し、洗浄槽の底面に生じて
いる気泡を除去する。
【0008】
【発明の実施の形態】次に図1の本発明の実施の形態の
超音波洗浄槽の断面図を参照しつつ、その構成と作用に
ついて説明する。本発明の超音波洗浄装置は洗浄液1を
満たし、被洗浄物2を浸漬した洗浄槽3と、この洗浄槽
3と一定間隔の空間をおいて、その外側を覆うように設
けた外槽4と、外槽4の底面4aに超音波振動子5を配
置し、外槽4の側壁4bに洗浄槽3の底面3aの高さ位
置に合わせた位置にノズル7を設ける。
【0009】そして、このノズル7は先端7aを洗浄槽
3の底面3aに向けてあり、他端7bはモータで駆動さ
れたポンプ8が接続され、ポンプ8には供給管9が接続
され、供給管9の端部は外槽4の底面4aに設けた開口
4cに接続されている。そして外槽4と洗浄槽3の間に
水等の液体6を満たして構成したものである。
【0010】その作用としては、超音波振動子5の超音
波の発振が停止した後、ノズル7より液体6が噴出さ
れ、洗浄槽3の底面3aに水流10が生じる。この水流
10により、洗浄槽3の底面3aに付着した気泡6a
は、槽から離脱し流され消失する。次に超音波振動子5
を発振させる時は、ノズル7からの水流10の噴出を停
止し、水流10が超音波の伝搬を妨げることがないよう
にする。
【0011】
【発明の効果】本発明の洗浄装置によれば超音波振動子
の発振時に発生し、洗浄槽の底面に付着した気泡を、洗
浄槽の底面に水流を生じさせて取り除くことにより、常
に一定の洗浄力を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の超音波洗浄装置の側断面図。
【図2】 従来の超音波洗浄装置の側断面図。
【符号の説明】
1…洗浄液、2…被洗浄物、3…洗浄槽、3a…底面、
4…外槽、4a…底面、4b…側壁、4c…開口、5…
超音波振動子、6…液体、6a…気泡、7…ノズル、7
a…先端、7b…他端、8…ポンプ、9…供給管、10
…水流

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄液を満たし被洗浄物を浸漬する洗浄
    槽と、 前記洗浄槽と一定間隔をおいて、前記洗浄槽を覆うよう
    に設けた外槽と、 前記洗浄槽と前記外槽の間に液体を満たし、 前記外槽の底面に配置した超音波振動子と、 前記外槽の側壁に設けたノズルと、 前記ノズルに液体を供給する手段を具備したことを特徴
    とする超音波洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記ノズルの先端は前記洗浄槽の底面に
    向けてあり、 前記ノズルの他端にはモータで駆動されたポンプが接続
    され、 前記ポンプには供給管が接続され、 前記供給管の端部は外槽の底面に設けた開口に接続され
    ていることを特徴とする請求項1に記載の超音波洗浄装
    置。
JP8335491A 1996-12-16 1996-12-16 超音波洗浄装置 Pending JPH10165910A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008243342A (ja) * 2007-03-29 2008-10-09 Hoya Corp 磁気ディスク用ガラス基板の超音波洗浄装置および超音波洗浄方法、磁気ディスク製造方法ならびに磁気ディスク
JP2010246633A (ja) * 2009-04-13 2010-11-04 Fujifilm Corp 内視鏡洗浄装置
JP2011241515A (ja) * 2010-05-20 2011-12-01 Nitto Boseki Co Ltd ガラス繊維織物の開繊装置及び開繊方法
JP2012095921A (ja) * 2010-11-04 2012-05-24 Miyake Hirotaka コンタクトレンズ消毒装置
CN108435655A (zh) * 2018-04-08 2018-08-24 青岛元汇丰企业管理咨询服务有限公司 一种食品加工设备用附件的超声波清洗装置

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