JPH0290525A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0290525A JPH0290525A JP24075888A JP24075888A JPH0290525A JP H0290525 A JPH0290525 A JP H0290525A JP 24075888 A JP24075888 A JP 24075888A JP 24075888 A JP24075888 A JP 24075888A JP H0290525 A JPH0290525 A JP H0290525A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- bottom wall
- inner vessel
- vessel
- inner tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 title claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 6
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 3
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000001815 facial effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 1
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
＜１ｆｆ−業−１−の利用分野〉
この発明はキャリアに保持したシリコンウェハなどを超
音波により超クリーンに洗浄するための超ｔ′ｆ波洗浄
装置′；！Ｉに関する。
音波により超クリーンに洗浄するための超ｔ′ｆ波洗浄
装置′；！Ｉに関する。
〈従来の技術〉
超音波洗浄装置として、洗浄液を内部に容れて被洗浄物
を洗ｆｌＩｌするための内槽と、１−記内槽を、上端部
を残して内部に収容すると共に、城壁外面に超音波振動
子を取付け、内部に容れた液でに記超音波振動子か発生
する超音波を前記内槽に伝達する外槽とからなる二重４
６型、ないし間接型のものは従来から公知である。
を洗ｆｌＩｌするための内槽と、１−記内槽を、上端部
を残して内部に収容すると共に、城壁外面に超音波振動
子を取付け、内部に容れた液でに記超音波振動子か発生
する超音波を前記内槽に伝達する外槽とからなる二重４
６型、ないし間接型のものは従来から公知である。
この二重種型超音波洗浄装置は、連続して使用する場合
にＩｔｆｌ音波振動子の周波数変化か無く、安定したパ
ワーを入力できることから汎〈使用されて居り、特に内
槽中の洗顔液に温水を用いるとその効果が大きい。
にＩｔｆｌ音波振動子の周波数変化か無く、安定したパ
ワーを入力できることから汎〈使用されて居り、特に内
槽中の洗顔液に温水を用いるとその効果が大きい。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、この二重種型超音波洗浄装置では超音波照射時
に外槽中の液に気泡が発生して内槽の底壁下面に付着し
、内槽中の洗浄液に浸漬した被洗浄物に到達するパワー
を気泡が減衰する。従って、結果的にパワーを過大にし
、長い時間をかけて洗浄する必要かある。
に外槽中の液に気泡が発生して内槽の底壁下面に付着し
、内槽中の洗浄液に浸漬した被洗浄物に到達するパワー
を気泡が減衰する。従って、結果的にパワーを過大にし
、長い時間をかけて洗浄する必要かある。
〈課題を解決するための手段〉
そこで本発明の超音波洗浄装置は、被洗浄物を洗浄する
ための内槽の底壁な傾斜させると共に、外槽内には上記
内槽の底壁の傾斜の下側から上側に向って液を噴射する
噴射管を設けたことを特徴とする。
ための内槽の底壁な傾斜させると共に、外槽内には上記
内槽の底壁の傾斜の下側から上側に向って液を噴射する
噴射管を設けたことを特徴とする。
〈実 施 例〉
図示の実施例において、ｌは洗浄液２を内部に容れた内
槽、３は上記内槽を、」一端部を残して内部に収容する
外槽で、内槽の周囲壁と、底壁との間に保った空間には
液たとえば水４を容れ、自身の底壁下面には超音波振動
子５を取付け、該振動子が発生する超音波を上記液で内
槽に伝達し、内槽の洗浄液２中に浸漬した被洗浄物、例
えばキャリア６に保持したシリコンウェハ７を洗浄する
。
槽、３は上記内槽を、」一端部を残して内部に収容する
外槽で、内槽の周囲壁と、底壁との間に保った空間には
液たとえば水４を容れ、自身の底壁下面には超音波振動
子５を取付け、該振動子が発生する超音波を上記液で内
槽に伝達し、内槽の洗浄液２中に浸漬した被洗浄物、例
えばキャリア６に保持したシリコンウェハ７を洗浄する
。
さて、本発明に則り内槽ｌの底壁ｌ′は第１図で右上り
に傾斜し、外槽３の内部には内槽の上記底壁１′の傾斜
の下側から上側に向かって液を噴射する噴射管８が設け
である。尚、噴射する液は外槽中に容れた液と同質のも
のを用いる。
に傾斜し、外槽３の内部には内槽の上記底壁１′の傾斜
の下側から上側に向かって液を噴射する噴射管８が設け
である。尚、噴射する液は外槽中に容れた液と同質のも
のを用いる。
従って、超音波振動子５を作動し、内槽中の被洗ｆｉｒ
物に超音波を照射して洗浄を行っている間、噴射管８か
ら液を噴射すると、外槽中で発生して内槽の底壁１′の
下面に付着しようとする気泡は噴射管８か噴射する液な
いしはその液により生しる流れによって内槽の底壁ｌ′
の傾斜の上側に向かって吹掃され、内槽と外槽の間の空
間なＬ）１して外槽の液面に浮」−シ、消失する。
物に超音波を照射して洗浄を行っている間、噴射管８か
ら液を噴射すると、外槽中で発生して内槽の底壁１′の
下面に付着しようとする気泡は噴射管８か噴射する液な
いしはその液により生しる流れによって内槽の底壁ｌ′
の傾斜の上側に向かって吹掃され、内槽と外槽の間の空
間なＬ）１して外槽の液面に浮」−シ、消失する。
このため、外槽内に発生する気泡の′、＃響を殆ど受け
ることなく超音波で内槽中の被洗？７１物の洗浄が行え
る。
ることなく超音波で内槽中の被洗？７１物の洗浄が行え
る。
効果を確認するため図示の実施例の洗浄装置と、内槽の
底が水平て、噴射管を有さない従来の洗浄装置を使用し
１粒径０．２μｍのポリスチレンラテックスを付着し、
強制的に汚染したシリコンウェハを同条件で洗浄し、汚
染粒子の除去率を比較した従来装置での除去率は３０％
であるのに対し、実施例の装置による除去率は９１１％
てあった。
底が水平て、噴射管を有さない従来の洗浄装置を使用し
１粒径０．２μｍのポリスチレンラテックスを付着し、
強制的に汚染したシリコンウェハを同条件で洗浄し、汚
染粒子の除去率を比較した従来装置での除去率は３０％
であるのに対し、実施例の装置による除去率は９１１％
てあった。
尚、洗浄条件は１周波数４００〜８００に１１Ｚ、水温
７３°Ｃ１超音波照射時間１２分、超音波入力３００Ｗ
、洗浄水量９！；Ｌ／１ｎである。尚、従来装置で汚染
粒子の除去を９０％にするには、超音波照射時間は３０
分を要した。又、照射時間１２分程度で除去率９０％と
するには超音波入力を６００ｗ以上にしなければならな
かった。
７３°Ｃ１超音波照射時間１２分、超音波入力３００Ｗ
、洗浄水量９！；Ｌ／１ｎである。尚、従来装置で汚染
粒子の除去を９０％にするには、超音波照射時間は３０
分を要した。又、照射時間１２分程度で除去率９０％と
するには超音波入力を６００ｗ以上にしなければならな
かった。
〈発明の効果〉
本発明によれば外槽中て発生ずる気泡の影響を・殆ど受
けることかないので、超音波の照射効率か高まり、短時
間で洗浄を行え、洗？ｆｆｌ処理能力が向上する。更に
パワーの減衰がない分、大パワーを必要としなくなるた
め、パワーアンプをコンパクトにすることかでき、省ス
ペース、省エネルギー化か図れる。
けることかないので、超音波の照射効率か高まり、短時
間で洗浄を行え、洗？ｆｆｌ処理能力が向上する。更に
パワーの減衰がない分、大パワーを必要としなくなるた
め、パワーアンプをコンパクトにすることかでき、省ス
ペース、省エネルギー化か図れる。
第１図は本発明の洗浄装置の一実施例を示す模式縦段側
面図である。 図中、ｌは内槽、１′は底壁、２は洗浄液、３は外槽、
４は液、５は超音波振動子、７は被洗浄物（シリコンウ
ェハ）、８は噴射管を示す。
面図である。 図中、ｌは内槽、１′は底壁、２は洗浄液、３は外槽、
４は液、５は超音波振動子、７は被洗浄物（シリコンウ
ェハ）、８は噴射管を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 洗浄液を内部に容れて被洗浄物を洗浄するための内槽と
、上記内槽を、上端部を残して内部に収容すると共に、
底壁外面に超音波振動子を取付け、内部に容れた液で上
記超音波振動子が発生する超音波を前記内槽に伝達する
外槽とからなる超音波洗浄装置において、 前記内槽の底壁を傾斜させると共に、外槽内には上記内
槽の底壁の傾斜の下側から上側に向って液を噴射する噴
射管を設けたことを特徴とする超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24075888A JPH0290525A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24075888A JPH0290525A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0290525A true JPH0290525A (ja) | 1990-03-30 |
Family
ID=17064279
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24075888A Pending JPH0290525A (ja) | 1988-09-28 | 1988-09-28 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0290525A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03222419A (ja) * | 1990-01-29 | 1991-10-01 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 超音波洗浄装置 |
| JPH0556285U (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-27 | 株式会社カイジョー | 超音波洗浄装置 |
| JPH0731182U (ja) * | 1993-11-09 | 1995-06-13 | 株式会社カイジョー | 間接照射型超音波洗浄機 |
| JPH07232142A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Kimura Chem Plants Co Ltd | 超音波振動洗浄装置 |
| JP2008243342A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の超音波洗浄装置および超音波洗浄方法、磁気ディスク製造方法ならびに磁気ディスク |
| KR20180060059A (ko) * | 2016-11-28 | 2018-06-07 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 세정 장치 |
-
1988
- 1988-09-28 JP JP24075888A patent/JPH0290525A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03222419A (ja) * | 1990-01-29 | 1991-10-01 | Kokusai Denki Erutetsuku:Kk | 超音波洗浄装置 |
| JPH0556285U (ja) * | 1992-01-07 | 1993-07-27 | 株式会社カイジョー | 超音波洗浄装置 |
| JPH0731182U (ja) * | 1993-11-09 | 1995-06-13 | 株式会社カイジョー | 間接照射型超音波洗浄機 |
| JPH07232142A (ja) * | 1994-02-22 | 1995-09-05 | Kimura Chem Plants Co Ltd | 超音波振動洗浄装置 |
| JP2008243342A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-09 | Hoya Corp | 磁気ディスク用ガラス基板の超音波洗浄装置および超音波洗浄方法、磁気ディスク製造方法ならびに磁気ディスク |
| KR20180060059A (ko) * | 2016-11-28 | 2018-06-07 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 세정 장치 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH06503498A (ja) | 超音波式食器洗い装置 | |
| JPS5573236A (en) | Washing device of endoscope | |
| JP2008279429A (ja) | フィルタ洗浄装置及びフィルタ洗浄方法 | |
| US20050268668A1 (en) | Mist generating device, and dishwasher and washing machine using same | |
| KR20060110982A (ko) | 야채 세척기 | |
| JPH0290525A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP3979374B2 (ja) | 霧化発生装置を備えた食器洗い機 | |
| JP3988709B2 (ja) | 食器洗い機 | |
| US5820688A (en) | Method for the treatment of semiconductor material | |
| JPH11116221A (ja) | 活性炭粒子洗浄装置 | |
| KR950007877A (ko) | 의료기구의 청정방법 및 그 청정장치 | |
| WO2023039689A1 (zh) | 一种应用于淘米及其米粒转运中容器的清理机构和方法 | |
| JP2000155192A (ja) | 棒要素の周りを洗浄する装置と方法 | |
| JP2002177906A (ja) | 超音波洗浄機 | |
| JPH10165910A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP2006167672A (ja) | センサ洗浄装置 | |
| KR200379422Y1 (ko) | 초음파 세척기 | |
| JPH0442530A (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JP6805708B2 (ja) | 洗浄装置 | |
| JPH08197022A (ja) | せきを具備した超音波洗浄器 | |
| JPS54103266A (en) | Ultrasonic cleaner | |
| SU1042827A1 (ru) | Способ очистки емкостей | |
| JP3326310B2 (ja) | 超音波洗浄装置 | |
| JPS62249634A (ja) | 洗浄方法およびこれに使用する洗浄装置 | |
| JP3031163B2 (ja) | 食器洗浄装置 |