CN1522801A - 超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种超声波洗涤机,具有截面为凹状、内部有夹层空腔部的筐体,在该筐体的内底面设置有超声波振动器,在上述夹层空腔部中装有空烧防止液,在上述筐体中设置有防止筐体壁面振动的压铁,上述筐体具有U字形的第一、第二筐体,所述第一、第二筐体的中央部呈凹陷状、四周端部形成遮檐状;在上述第二筐体的凹部嵌入上述第一筐体的凹部,上述第一、第二筐体的端部相对配置;上述端部之间夹持着密封垫,在该第一、第二筐体间形成上述夹层空腔部;上述密封垫由中央部有穿孔的弹性部件构成,上述第一、第二筐体由板状部件构成,第一、第二筐体的上述遮檐状端部通过夹持弹性部件及贯穿这些端部的螺栓来连接,通过对螺栓紧固程度的调节改变密封垫的厚度。
Description
本件申请是中国发明专利申请第00102816.2号的分案申请。
技术领域
本发明涉及一种超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴。
背景技术
在对单张液晶板或半导体片进行洗涤时,现有都是采用,例如图21所示的超声波喷淋洗涤机450。该超声波喷淋洗涤机450,如图所示,在筐体451的内部设有存放洗涤液S的空腔452,在该筐体451的侧面上部,设有向上述空腔452输送洗涤液S的输液口453。在筐体451的下部设有放出洗涤液S用的喷嘴454,另外,在筐体451的上面,装着超声波振动器455。洗涤的方法是让被洗涤物P从该超声波喷淋洗涤机450下面通过,这时,由图中未表示出的超声波发生装置驱动超声波振动器455,将洗涤液S喷射到被洗涤物P的表面,进行洗涤。
但是,采用这种洗涤方法,洗涤液的用量很大,因此有人考虑采用图22所示的节水型超声波洗涤机460。该超声波洗涤机460具有中央部461a呈凹陷状、四周端部461b呈遮檐状的筐体461,超声波振动器462配置于该筐体461的中央部表面,通过使该超声波振动器462振动,让超声波辐射到通过筐体461下面的洗涤液S中的被洗涤物P,进行洗涤。
此外,还有人考虑采用与该方法类似的、图23所示的超声波洗涤机470。该超声波洗涤机470具有中央部471a呈凹陷状、四周端部471b呈遮檐状的第一筐体471,以及包围着该第一筐体471、同样是中央部472a呈凹陷状、四周端部472b呈遮檐状的第二筐体472。在筐体471与472的端部471b、472b之间夹持着密封垫473,在第一筐体471与第二筐体472之间形成空腔474。另外,在该空腔474中装有防止空烧用的液体,例如水475,同时在第一筐体471的中央部表面设置超声波振动器476,通过使该超声波振动器476振动,通过空腔474中的水475,让超声波辐射到通过第二筐体472下面的洗涤液S中的被洗涤物P,进行洗涤。
图22所示的超声波洗涤机460,虽然是节水型的,但是超声波振动器462的振动能除了使筐体461的底面振动、通过洗涤液S辐射到被洗涤物P之外,其余的使得筐体461的壁面产生振动,造成了能源的浪费。
图23所示的超声波洗涤机470,其密封垫的厚度会因紧固力的大小而产生细微的差异,结果造成空腔474的厚度,即其内部装着的水的深度产生变化。在采用这类通过水使超声波辐射到被洗涤物的方法时,如水深产生变化,因为超声波的波长与水深之间的关系,从第二筐体的中央部底面的声波辐射面发出的辐射声压便会产生较大的变化。也就是说,由于密封垫的紧固力左右着辐射声压,因此缺乏稳定性。这样,在水的深度不恰当,超声波辐射面发出的辐射声压较小时,从超声波振动器发出的能量中未被有效利用的部分便被用作使第二筐体的壁面产生振动的能量,这不仅造成浪费,而且还可能因筐体的振动而对其它装置造成影响。
发明内容
本发明的课题是提供一种超声波辐射效率容易调整的超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴。
本发明所述的另一种超声波洗涤机,具有截面为凹状、内部有夹层空腔部的筐体,在该筐体的凹形里面的内底面设置有超声波振动器,在上述空腔中装有将上述超声波振动器发生的振动传到上述筐体凹形外面的外底面的空烧防止液,其特征是,在上述筐体中设置有防止筐体壁面振动的压铁,上述筐体具有U字形的第一筐体和U字形的第二筐体,所述第一、第二筐体的中央部呈凹陷状、四周端部形成遮檐状;在上述第二筐体的凹部嵌入上述第一筐体的凹部,上述第一、第二筐体的端部相对配置;上述端部之间夹持着密封垫,在该第一筐体与第二筐体之间形成上述夹层空腔部;上述密封垫由中央部有穿孔的弹性部件构成,上述第一筐体与第二筐体由板状部件构成,第一筐体的上述遮檐状端部与第二筐体的上述遮檐状端部对弹性部件的夹持通过贯穿这些端部的螺栓来实现,通过对螺栓紧固程度的调节改变密封垫的厚度。
采用这样的喷嘴,因为可以在向被处理面供给处理液的同时,将使用过的处理液通过排出通道适当地排出,所以可以总是用新鲜的处理液处理被处理面,可以防止使用过的处理液再污染被处理面。
由于处理液因表面张力等的压力平衡而被保持在被处理面与振动引导部件之间的间隙中,因此可以用最低限度必要量的处理液对被处理面进行湿处理,并且可以确实地使被处理面受到超声波振动。
由于采用了设有压铁的超声波洗涤机作为振动引导部件,所以可以获得湿处理所必需的超声波能量,用最低限度必要量的处理液便可极好地进行处理。
该湿处理喷嘴设有对处理液的压力与大气压的差进行控制,使与被处理物接触过的处理液在湿处理后不流到排出通道外的压力控制装置。该压力控制装置由,例如设置于排出通道下游的吸入泵以及设置于引入通道上游的供液泵构成,另外具有探测与被处理物接触的处理液的压力用的压力传感器,以及根据该压力传感器的信号对吸入泵与供液泵的驱动进行控制的控制装置。
采用这样的结构,即使空腔的厚度、即空烧防止液、例如水的深度与超声波的波长因为例如密封垫紧固的关系而不匹配,超声波振动器产生的能量通过空烧防止液使筐体凹形外面的底面产生振动,也可以由压铁来抑制振动,因此振动能可通过空烧防止液回归筐体中央底面,作为超声波从底面高效地发送出来。
空烧防止液最好用除气的液体。通过除气,空烧防止液的流量(为冷却而进行的循环)也可以大幅度地降低。如该空烧防止液中有大量气泡,则还是会产生与空烧同样的现象的。
因为上述的压铁是用来提高筐体刚性的装置,因此可设置于外面的外壁面与内壁面的任何一面,所以最好设置于构成筐体的上述凹形外面的外壁面与内壁面中至少一面。
在这种情况下,因为压铁还提高了凹形里面的壁面刚性,从而防止了设置于凹形里面的超声波振动器发出的超声波振动能量逃逸到壁面,因此也可以设置于构成筐体的上述凹形里面的外壁面与内壁面中至少一面。
通过将上述压铁设置于凹形外面的内底面的、与设置在凹形里面的超声波振动器相当的面积的外侧,便可防止超声波能量从凹形外面的内底面的周边泄漏到壁面,通过将上述压铁设置于设置在凹形里面的超声波振动器的外侧,可以防止超声波能量从凹形里面的内底面泄漏到壁面,因此上述压铁也可以设置在上述筐体的上述凹形外面的内底面与上述凹形里面的底面中至少一面,即内底面或底面上不会妨碍超声波振动器产生振动的部位。
此外,上述的压铁是为了改变筐体本身的刚性而设置的,因此其构成方法可以采用新加压铁的办法,也可以采用使必要的部分增加厚度的办法,所以可以采用改变筐体的上述外凹面或上述内凹面的厚度的方法来形成。
因为上述的压铁是通过提高筐体的刚性、使壁面的固有频率与振动输入的频率不同,不产生共振,从而防止超声波振动器发出的能量被传到壁面的,因此最好是在上述筐体的壁面四周全部设置压铁。
采用这样的筐体,只要在该空腔中注入适当的液体,即使筐体下面没有湿处理液,也不会发生空烧,可防止超声波振动器被损坏。在筐体下面有湿处理液的情况下,则可以使超声波能量充分地传输到湿处理液。
采用这样的结构,夹在第一筐体的遮檐状端部与第二筐体的遮檐状端部之间的弹性部件的厚度便可用调节螺栓紧固程度的办法进行调整,这样便可方便地对超声波的辐射强度进行调整。
另外,本发明所述的另一种湿处理喷嘴,其一侧具有引入处理液的引入通道,另一侧具有排出湿处理后的处理液的排出通道,同时在上述引入通道与上述排出通道之间,具有将上述引入通道引入的处理液引导到被处理物、在使被处理物受振动的同时进行湿处理的振动引导部件,其特征是上述振动引导部件超声波洗涤机,该超声波洗涤机具有截面为凹形的、内部具有夹层空腔部的筐体,在该筐体的内底面设有超声波振动器,在上述夹层空腔部中装有将上述超声波振动器发生的振动传到上述筐体凹形外底面的空烧防止液;在上述筐体中设置有防止筐体壁面振动的压铁;上述筐体具有U字形的第一筐体和U字形的第二筐体,所述第一筐体与所述第二筐体的中央部呈凹陷状、四周端部形成遮檐状;在上述第二筐体的凹部嵌入上述第一筐体的凹部,所述第一筐体与所述第二筐体的端部相对配置;上述端部之间夹持着密封垫,在该第一筐体与第二筐体之间形成上述夹层空腔部;上述密封垫由中央部有穿孔的弹性部件构成,上述第一筐体与第二筐体由板状部件构成,第一筐体的上述遮檐状端部与第二筐体的上述遮檐状端部对弹性部件的夹持通过贯穿这些端部的螺栓来实现,通过对螺栓紧固程度的调节来改变密封垫的厚度。
采用这样的喷嘴,因为可以在向被处理面供给处理液的同时,将使用过的处理液通过排出通道适当地排出,所以可以总是用新鲜的处理液处理被处理面,可以防止使用过的处理液再污染被处理面。
由于处理液因表面张力等的压力平衡而被保持在被处理面与振动引导部件之间的间隙中,因此可以用最低限度必要量的处理液对被处理面进行湿处理,并且可以确实地使被处理面受到超声波振动。
而且,采用这样的结构,即使超声波振动引导部件与被处理面之间的处理液不足,也因为在超声波振动器与超声波振动引导部件之间有空烧防止液的关系,可以确实地防止超声波振动器的空烧。
该湿处理喷嘴也与设有上述的、对处理液的压力与大气压的差进行控制,使与被处理物接触过的处理液在湿处理后不流到排出通道外的压力控制装置。
附图说明
图1A表示的是本发明的超声波洗涤机的第一实施例的立体图;图1B是沿图1A的Ib-Ib线的放大纵截面图。
图2是表示图1A、图1B所示的超声波洗涤机的被洗涤物洗涤状态的纵截面图。
图3是表示本发明的超声波洗涤机的第二实施例的纵截面图。
图4是表示本发明的超声波洗涤机的第三实施例的纵截面图。
图5是表示本发明的超声波洗涤机的第四实施例的纵截面图。
图6是表示本发明的超声波洗涤机的第五实施例的纵截面图。
图7是表示本发明的超声波洗涤机的第六实施例的纵截面图。
图8是表示本发明的超声波洗涤机的第七实施例的纵截面图。
图9是表示本发明的超声波洗涤机的第八实施例的纵截面图。
图10A表示的是本发明的超声波洗涤机的第十实施例的立体图;图10B是沿图10A的Xb-Xb线的放大纵截面图。
图11A表示的是本发明的超声波洗涤机的第十一实施例的立体图;图11B是沿图11A的XIb-XIb线的放大纵截面图。
图12A表示的是本发明的湿处理喷嘴的一种实施例的立体图;图12B是沿图12A的XIIb-XIIb线的放大纵截面图。
图13是表示图12A、图12B所示的湿处理喷嘴的被洗涤物洗涤状态的纵截面图。
图14A表示的是本发明的另一种超声波洗涤机的第一实施例的立体图;图14B是沿图14A的XIVb-XIVb线的放大纵截面图。
图15是表示图14A、图14B所示的超声波洗涤机的被洗涤物洗涤状态的纵截面图。
图16是表示本发明的另一种超声波洗涤机的第二实施例的纵截面图。
图17是表示本发明的另一种超声波洗涤机的第三实施例的纵截面图。
图18A表示的是本发明的另一种超声波洗涤机的第四实施例的立体图;图18B是沿图18A的XVIIIb-XVIIIb线的放大纵截面图。
图19A表示的是本发明的另一种湿处理喷嘴的一种实施例的立体图;图19B是沿图19A的XIXb-XIXb线的放大纵截面图。
图20是表示图19A、图19B所示的湿处理喷嘴的被洗涤物洗涤状态的截面图。
图21是现有的超声波喷淋洗涤机的纵截面图。
图22是现有的节水型超声波洗涤机的纵截面图。
图23是现有的双重槽式节水型超声波洗涤机的纵截面图。
具体实施方式
图1A、图1B表示的是本发明的超声波洗涤机的第一实施例。
该超声波洗涤机10具有中央部11a呈凹陷状、四周端部11b呈遮檐状的槽形第一筐体11,以及包围着该第一筐体11、同样是中央部12a呈凹陷状、四周端部12b呈遮檐状的槽形第二筐体12。在这些筐体11与12的端部11b、12b之间夹持着密封垫13,在第一筐体11与第二筐体12之间形成空腔14。另外,在第一、第二筐体11、12的端部11b、12b之间整个四周全配置有密封垫13,用多个螺栓18与螺母19紧固。
因夹持该密封垫13而形成的第一筐体11与第二筐体12之间的空腔14中,注入除气的水15作为空烧防止液。水15至少装满第一筐体11的中央部(底面)11a与第二筐体12的中央部(底面)12a之间的间隙。另外,在第一筐体11的中央部11a的表面配置着超声波振动器16,通过让超声波振动器16振动,经由空腔14中的水15,向在第二筐体12的横向宽度L构成的辐射面下面的洗涤液(图中未表示出)中通过的被洗涤物(图中未表示出)进行超声波照射,进行洗涤。
在第二筐体12的壁面12c的下部外侧,围绕着整个壁面12c,设有环状的压铁17。
下面对设置该压铁17的作用与效果进行说明,如图2所示,超声波洗涤机10的第二筐体12的中央部12a浸泡在洗涤液S中,使得被洗涤物P从超声波洗涤机10的下面通过。通过图中未表示出的超声波发生装置使超声波振动器16振动,经由空腔14中的水15,向在第二筐体12的横向宽度L构成的辐射面下面通过的被洗涤物P进行超声波照射,进行洗涤。
在第一筐体11与第二筐体12的端部11b、12b之间夹持着密封垫13,紧固、固定,形成了空腔14,但如因密封垫13的紧固程度的关系,空腔1 4的厚度、即水15的深度与超声波的波长不匹配的话,从第二筐体12的中央部12a、即底面的声波辐射面发出的辐射声压就会减少。从超声波振动器16发送出来的振动能的减少部分使得第二筐体12的壁面12c产生振动,但是因为压铁17使振动受到抑制,所以振动能通过水15向第二筐体12的底面12a的方向回归,从底面12a作为超声波辐射出来。这样,不管密封垫13的紧固程度如何,超声波振动器16产生的能量可高效率地辐射到被洗涤物。
这样,由于设置了压铁17,本来为密封垫13的紧固程度所左右的水深变化引起的辐射声压的变化,被控制为大致一定。
下面,分别参照图3至图8,对本发明的超声波洗涤机的第二至第八实施例进行说明。这些实施例是在图1A、图1B所示的第一实施例中,在加上压铁17外再附加其它的压铁而构成的,对与图1A、图1B所示的结构部件相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
图3所示的第二实施例是环绕整个第二筐体12的壁面12c的里面下部设置了环状的第二压铁21的超声波洗涤机20。通过设置第二压铁21,第二实施例与第一实施例相比,压铁17可以较小,这样可以使筐体12与压铁17构成的整个超声波洗涤机本身的宽度较小。另外还可以使压铁17的下部的面的研磨处理更加方便易行。
图4所示的第三实施例是环绕整个第一筐体11的壁面11c的里面下部设置了环状的第三压铁31的超声波洗涤机30。通过设置第三压铁31,第三实施例与第一实施例相比,可以防止从设置于第一筐体11的超声波振动器16辐射出来的超声波能量被传输到壁面11c,其结果是传输到空烧防止液的超声波能量的比率极佳,从外底面12c辐射出来的超声波能量大为增加。
图5所示的第四实施例是环绕整个第一筐体11的壁面11c的外面下部设置了环状的第四压铁41的超声波洗涤机40。通过设置第四压铁41,第四实施例与第三实施例具有差不多同样的效果。
图6所示的第五实施例是环绕整个第二筐体12的底面12a的里面周缘部设置了环状的第五压铁51的超声波洗涤机50。通过设置第五压铁51,第五实施例与第一实施例相比,压铁17可以较小,这样可以使筐体12与压铁17构成的整个超声波洗涤机本身的宽度较小。另外还可以使压铁17的下部的面的研磨处理更加方便易行,降低生产成本。
图7所示的第六实施例是环绕整个第一筐体11的底面11a的里面周缘部设置了环状的第六压铁61的超声波洗涤机60。通过设置第六压铁61,第六实施例与第三实施例具有差不多同样的效果。
图8所示的第七实施例是环绕整个第二筐体12的壁面12c的里面下部设置了环状的第七压铁71,而且在环绕整个第二筐体12的底面12a的里面周缘部设置了环状的第八压铁72的超声波洗涤机70。通过设置第七压铁71与第八压铁72,第七实施例与第一实施例相比,压铁17可以比第五实施例更小,这样可以使整个筐体的宽度较小,而且还可以使压铁17与凹形外面12之间的部分的研磨处理比第五实施例更好,可提高湿处理的稳定性。
图9所示的第八实施例是环绕整个第一筐体11的壁面11c的里面下部设置了环状的第九压铁81,而且在环绕整个第一筐体11的壁面11c的里面下部设置了环状的第十压铁82,在环绕整个第一筐体11的底面11a的里面周缘部设置了环状的第十一压铁83的超声波洗涤机80。通过设置第九压铁81,第十压铁82与第十一压铁83,第八实施例与第三实施例差不多同样,可以从第二筐体的底面12a良好地辐射出超声波。
下面,分别参照图10A、图10B与图11A、图11B,对本发明的超声波洗涤机的第九与第十实施例进行说明。这些实施例是在图1A、图1B所示的实施例中,除去压铁17,在第一筐体11或第二筐体12上设置其它的压铁而构成的,对与图1A、图1B所示的结构部件相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
图10A、图10B所示的第九实施例是环绕整个第二筐体12的壁面12c的里面下部设置了环状的第十二压铁91的超声波洗涤机90。通过设置第十二压铁91,第九实施例与第一实施例相比,因为没有了压铁17,处理喷嘴的宽度可以由第二筐体12的大小确定,不会增加喷嘴本身的宽度,而且这样可以使筐体12的外壁面与外底面的研磨处理极为方便易行,湿处理喷嘴的制造也非常方便。
图11A、图11B所示的第十实施例是环绕整个第二筐体12的底面12a的里面周缘部设置了环状的第十三压铁101的超声波洗涤机100。通过设置第十三压铁101,第十实施例与第九实施例差不多具有同样的效果。
下面,参照图12A、图12B,对采用上述超声波洗涤机的本发明的湿处理喷嘴的实施例进行说明。
该湿处理喷嘴110的一侧具有引入处理液(图中未表示出)的引入通道111,另一侧具有排出湿处理后的处理液L的排出通道112,同时在引入通道111与排出通道112之间,具有将上述引入通道111引入的处理液引导到被处理物(图中未表示出)、而且在使被处理物受振动的同时进行湿处理的振动引导部件113,振动引导部件113采用图1A、图1B所示的超声波洗涤机10。因此,在图12A、图12B中,对与图1A、图1B相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
在图12A、图12B中,形成引入通道111的引入通道框架114由截面为L形的不锈钢金属板制成,其底面114a与振动引导部件的底面12a成一个面或大致成一个面。引入通道框架114,在其长度方向中央部形成有向斜上方延伸的引入管114b,其壁面114c与设置于振动引导部件外壁面12c的压铁17焊接在一起。另外,它们的连结也可以采用螺栓等连结方法。
同样地,形成排出通道112的排出通道框架115由截面为L形的不锈钢金属板制成,其底面115a与振动引导部件的底面12a成一个面或大致成一个面。排出通道框架115,在其长度方向中央部形成有向斜上方延伸的引入管115b,其壁面115c与设置于振动引导部件外壁面12c的压铁17焊接在一起。另外,它们的连结也可以采用螺栓等连结方法。
在该湿处理喷嘴110上,装有对处理液的压力与大气压的差进行控制,使与被处理物接触过的处理液在湿处理后不流到排出通道外的压力控制装置(图中未表示出)。另外,在该湿处理喷嘴110上,还装有使振动引导部件113与被处理物保持一定间隔、使处理液保持在该间隔中的定位装置(图中未表示出)。
下面,参照图13对采用该湿处理喷嘴的湿处理方法进行说明。
在被处理物P与湿处理喷嘴110各自向箭头A、B方向相对移动的同时,通过引入通道111将处理液L,例如纯净水、离子交换水、臭氧水、氢水依次输送给被处理物P,通过压力控制装置(图中未表示出)对与被处理物P接触的处理液L的压力与大气压的差进行控制,输送到被处理物那部分以外的处理液L不与被处理物接触,从被处理物P上面排出。
图12A、图12B所示的湿处理喷嘴是用图1A、图1B所示的超声波洗涤机作为振动引导部件的,但是,本发明的湿处理喷嘴不限于此,例如也可以采用图3至图11A、图11B所示的超声波洗涤机。
下面,对本发明的另一种超声波洗涤机的实施例进行说明。
作为另一种超声波洗涤机的第一实施例的超声波洗涤机200,如图14A、图14B所示,由中央部201a呈凹陷状、四周端部201b呈遮檐状的槽形筐体201,设置于该中央部201a的表面的超声波振动器216,以及设置于筐体壁面201c的外面下部、围绕着整个壁面四周的环状压铁217构成。
该超声波洗涤机200,通过让超声波振动器216振动,向在筐体201的横向宽度L2构成的辐射面下面的洗涤液(图中未表示出)中通过的被洗涤物(图中未表示出)进行超声波照射,进行洗涤。
下面,对设置该压铁217的作用与效果进行说明,如图15所示,超声波洗涤机200的筐体201的中央部201a浸泡在洗涤液S中,使得被洗涤物P从超声波洗涤机200的下面通过。通过图中未表示出的超声波发生装置使超声波振动器216振动,向在筐体201的横向宽度L2构成的辐射面下面通过的被洗涤物P进行超声波照射,进行洗涤。进行这样的处理时,压铁217由于某种原因,能很好地防止超声波振动器216辐射出来的超声波能量输送到筐体201,输送到压铁217的上方,因此能很好地使超声波能量通过底面201a输送到洗涤液S,很好地进行洗涤。
下面,分别参照图16与图17对本发明的另一种超声波洗涤机的第二与第三实施例进行说明。这些实施例是在图14A、图14B所示的另一种超声波洗涤机的第一实施例中,在加上压铁217外再附加其它的压铁而构成的,对与图14A、图14B所示的结构部件相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
图16所示的另一种超声波洗涤机的第二实施例是环绕整个筐体201的壁面201c的里面下部设置了环状的第二压铁218的超声波洗涤机230。通过设置压铁218,该第二实施例与图14A、图14B所示的第一实施例相比,压铁217可以较小,这样可以使筐体201的外壁面、外底面的研磨处理更加方便易行,可以提高喷嘴的稳定性。超声波能量有效地输送到洗涤液的效果可以与图14A、图14B所示的第一实施例相同。
图17所示的另一种超声波洗涤机的第三实施例是在图16所示的洗涤机的基础上,环绕整个筐体201的底面201a的里面周缘部再设置环状的第三压铁219的超声波洗涤机240。通过设置压铁218、219,该第三实施例与图14A、图14B所示的第一实施例相比,压铁217可以较小。这样可以使筐体201的外壁面、外底面的研磨处理比第二实施例更加方便易行,可以提高喷嘴的稳定性。
下面,参照图18A、图18B对本发明的另一种超声波洗涤机的第四实施例进行说明。该实施例是在图14A、图14B所示的第一实施例中,除去压铁217,在筐体201上设置其它的压铁而构成的,对与图14A、图14B所示的结构部件相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
图18A、图18B所示的第四实施例是环绕整个筐体201的底面201a的里面周缘部设置了环状的第四压铁220的超声波洗涤机250。通过设置压铁220,该实施例与图14A、图14B所示的第一实施例相比,因为筐体201的外壁面没有了附加物,因此可以使筐体201的外壁面与外底面的研磨处理最为方便易行,湿处理喷嘴的稳定性可以得到大幅度的提高。
下面,参照图19A、图19B对采用上述超声波洗涤机的本发明的湿处理喷嘴的一种实施例进行说明。
该湿处理喷嘴310的一侧具有引入处理液(图中未表示出)的引入通道311,另一侧具有排出湿处理后的处理液L的排出通道312,同时在引入通道311与排出通道312之间,设有将上述引入通道311引入的处理液引导到被处理物(图中未表示出)、而且在使被处理物受振动的同时进行湿处理的振动引导部件313。振动引导部件313采用图16所示的超声波洗涤机230。因此,在图19A、图19B中,对与图16相同的部件给予同一符号,并省去了对这些部件的说明。
在图19A、图19B中,形成引入通道311的引入通道框架314由截面为L形的不锈钢金属板制成,其底面314a与振动引导部件的底面201a成一个面或大致成一个面。引入通道框架314,在其长度方向中央部形成有向斜上方延伸的引入管314b,其壁面314c与设置于振动引导部件外壁面201c的压铁217焊接在一起。另外,它们的连结也可以采用螺栓等连结方法。
同样地,形成排出通道312的排出通道框架315由截面为L形的不锈钢金属板制成,其底面315a与振动引导部件的底面201a成一个面或大致成一个面。排出通道框架315,在其长度方向中央部形成有向斜上方延伸的排出管315b,其壁面315c与设置于振动引导部件外壁面201c的压铁217焊接在一起。另外,它们的连结也可以采用螺栓等连结方法。
在该湿处理喷嘴300上,装有对处理液的压力与大气压的差进行控制,使与被处理物接触过的处理液在湿处理后不流到排出通道外的压力控制装置(图中未表示出)。另外,在该湿处理喷嘴300上,还装有使振动引导部件313与被处理物保持一定间隔、使处理液保持在该间隔中的定位装置(图中未表示出)。
下面,参照图20对采用该湿处理喷嘴的湿处理方法进行说明。
在被处理物P与湿处理喷嘴300各自向箭头C、D方向相对移动的同时,通过引入通道311将处理液L,例如纯净水、离子交换水、臭氧水、氢水依次输送给被处理物P,通过压力控制装置(图中未表示出)对与被处理物P接触的处理液L的压力与大气压的差进行控制,输送到被处理物那部分以外的处理液L不与被处理物接触,从被处理物P上面排出。
图19A、图19B所示的另一种湿处理喷嘴是用图16所示的超声波洗涤机作为振动引导部件的,但是,本发明的湿处理喷嘴不限于此,例如也可以采用图14A、图14B、图17或图18A、图18B等所示的另一种超声波洗涤机。
如上所述,根据本发明的超声波洗涤机,由于筐体壁面的振动因压铁而受到抑制,所以振动能可以通过空烧防止液或筐体本身向筐体中央的底面方向回归,作为超声波从底面高效率地辐射出来。这样,便可制成能方便地调节超声波辐射效率的超声波洗涤机以及采用该超声波洗涤机的湿处理喷嘴。
Claims (16)
1.一种超声波洗涤机,具有截面为凹状、内部有夹层空腔部的筐体,在该筐体的凹形里面的内底面设置有超声波振动器,在上述夹层空腔部中装有将上述超声波振动器发生的振动传到上述筐体凹形外面的外底面的空烧防止液,其特征是,在上述筐体中设置有防止筐体壁面振动的压铁,上述筐体具有U字形的第一筐体和U字形的第二筐体,所述第一、第二筐体的中央部呈凹陷状、四周端部形成遮檐状;在上述第二筐体的凹部嵌入上述第一筐体的凹部,上述第一、第二筐体的端部相对配置;上述端部之间夹持着密封垫,在该第一筐体与第二筐体之间形成上述夹层空腔部;上述密封垫由中央部有穿孔的弹性部件构成,上述第一筐体与第二筐体由板状部件构成,第一筐体的上述遮檐状端部与第二筐体的上述遮檐状端部对弹性部件的夹持通过贯穿这些端部的螺栓来实现,通过对螺栓紧固程度的调节改变密封垫的厚度。
2.根据权利要求1所述的超声波洗涤机,其特征是上述的压铁设置于筐体的构成上述凹形外面的外壁面与内壁面中至少一面。
3.根据权利要求1所述的超声波洗涤机,其特征是上述的压铁设置于筐体的构成上述凹形里面的外壁面与内壁面中至少一面。
4.根据权利要求1所述的超声波洗涤机,其特征是上述的压铁设置在上述筐体的上述凹形外面的内底面与上述凹形里面的底面中至少一面,即内底面或底面上不会妨碍超声波振动器产生振动的部位。
5.根据权利要求1所述的超声波洗涤机,其特征是上述压铁用变化筐体的上述外凹面或上述内凹面的厚度的方法形成。
6.根据权利要求1所述的超声波洗涤机,其特征是在上述筐体的壁面四周全部设置上述压铁。
7.一种湿处理喷嘴,其一侧具有引入处理液的引入通道,另一侧具有排出湿处理后的处理液的排出通道,同时在上述引入通道与上述排出通道之间,具有将上述引入通道引入的处理液引导到被处理物、在使被处理物受振动的同时进行湿处理的振动引导部件,其特征是上述振动引导部件具有超声波洗涤机,该超声波洗涤机具有截面为凹形的、内部具有夹层空腔部的筐体,在该筐体的内底面设有超声波振动器,在上述夹层空腔部中装有将上述超声波振动器发生的振动传到上述筐体凹形外底面的空烧防止液;在上述筐体中设置有防止筐体壁面振动的压铁;上述筐体具有U字形的第一筐体和U字形的第二筐体,所述第一筐体与所述第二筐体的中央部呈凹陷状、四周端部形成遮檐状;在上述第二筐体的凹部嵌入上述第一筐体的凹部,所述第一筐体与所述第二筐体的端部相对配置;上述端部之间夹持着密封垫,在该第一筐体与第二筐体之间形成上述夹层空腔部;上述密封垫由中央部有穿孔的弹性部件构成,上述第一筐体与第二筐体由板状部件构成,第一筐体的上述遮檐状端部与第二筐体的上述遮檐状端部对弹性部件的夹持通过贯穿这些端部的螺栓来实现,通过对螺栓紧固程度的调节来改变密封垫的厚度。
8.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,设置于上述筐体的内壁面与外壁面中至少一面。
9.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,设置在筐体的内底面上不会妨碍超声波振动器产生振动的部位。
10.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,用变化筐体厚度的方法形成。
11.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,在上述筐体的壁面四周全部设置。
12.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,设置于筐体的构成上述凹形外面的外壁面与内壁面中至少一面。
13.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,设置于筐体的构成上述凹形里面的外壁面与内壁面中至少一面。
14.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,设置在上述筐体的上述凹形外面的内底面与上述凹形里面的底面中至少一面,即内底面或底面上不会妨碍超声波振动器产生振动的部位。
15.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,用变化筐体的上述外凹面或上述内凹面的厚度的方法形成。
16.根据权利要求7所述的湿处理喷嘴,其特征是上述的超声波洗涤机的上述压铁,在上述筐体的壁面四周全部设置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06310299A JP3806537B2 (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 超音波洗浄機及びそれを具備するウエット処理ノズル |
JP063102/99 | 1999-03-10 | ||
JP063102/1999 | 1999-03-10 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB001028162A Division CN1165972C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1522801A true CN1522801A (zh) | 2004-08-25 |
CN1235686C CN1235686C (zh) | 2006-01-11 |
Family
ID=13219605
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB001028162A Expired - Fee Related CN1165972C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
CNB031349455A Expired - Fee Related CN1235686C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 超声波洗涤机以及具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB001028162A Expired - Fee Related CN1165972C (zh) | 1999-03-10 | 2000-03-10 | 具有超声波洗涤机的湿处理喷嘴 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6644327B1 (zh) |
EP (2) | EP1034850B1 (zh) |
JP (1) | JP3806537B2 (zh) |
KR (1) | KR100375184B1 (zh) |
CN (2) | CN1165972C (zh) |
DE (2) | DE60017614T2 (zh) |
TW (1) | TW449821B (zh) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1999
- 1999-03-10 JP JP06310299A patent/JP3806537B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-03-07 EP EP00301847A patent/EP1034850B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 EP EP03075663A patent/EP1321198B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 DE DE60017614T patent/DE60017614T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-07 DE DE60006014T patent/DE60006014T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-09 US US09/521,906 patent/US6644327B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-09 KR KR10-2000-0011809A patent/KR100375184B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2000-03-10 CN CNB001028162A patent/CN1165972C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-10 TW TW089104432A patent/TW449821B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-03-10 CN CNB031349455A patent/CN1235686C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-08-27 US US10/650,393 patent/US7523524B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1034850A3 (en) | 2000-09-20 |
US20040035451A1 (en) | 2004-02-26 |
CN1267084A (zh) | 2000-09-20 |
DE60017614T2 (de) | 2005-12-22 |
DE60006014D1 (de) | 2003-11-27 |
US6644327B1 (en) | 2003-11-11 |
EP1034850A2 (en) | 2000-09-13 |
EP1321198A3 (en) | 2003-07-02 |
US7523524B2 (en) | 2009-04-28 |
CN1165972C (zh) | 2004-09-08 |
JP3806537B2 (ja) | 2006-08-09 |
KR20010014555A (ko) | 2001-02-26 |
EP1321198B1 (en) | 2005-01-19 |
EP1034850B1 (en) | 2003-10-22 |
TW449821B (en) | 2001-08-11 |
DE60006014T2 (de) | 2004-06-24 |
KR100375184B1 (ko) | 2003-03-08 |
DE60017614D1 (de) | 2005-02-24 |
JP2000254606A (ja) | 2000-09-19 |
CN1235686C (zh) | 2006-01-11 |
EP1321198A2 (en) | 2003-06-25 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20060111 Termination date: 20130310 |