JPS62122132A - 超音波を用いた洗浄装置 - Google Patents
超音波を用いた洗浄装置Info
- Publication number
- JPS62122132A JPS62122132A JP26211485A JP26211485A JPS62122132A JP S62122132 A JPS62122132 A JP S62122132A JP 26211485 A JP26211485 A JP 26211485A JP 26211485 A JP26211485 A JP 26211485A JP S62122132 A JPS62122132 A JP S62122132A
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- cleaning
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- ultrasonic
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、たとえば半導体装置などにおいて用いられる
たとえばシリコンＳｉ基板を製造するに当たり、この基
板を超音波を用いて洗浄する装置に関する。
たとえばシリコンＳｉ基板を製造するに当たり、この基
板を超音波を用いて洗浄する装置に関する。
背景技術
たとえば大規模集積回路（ＬＳＩ）などを製造する場合
、たとえば単結晶シリコンの基板を５ｉ！遺した後、そ
の表面を洗浄する。この洗浄に関して、基板上に形成さ
れる薄膜回路が、数μｌの微ｔａｈＭ造を有するので、
高精度の洗浄が行なわれる必要がある。そのため、洗浄
後の基板は、基板上に薄膜形成などの処理を行なう前に
、洗浄が完全であるかどうかの検査が一般に行なわれる
。この検査として、たとえば油脂分、塵埃または洗浄液
中のほこりの有無を検査する。この検査は、一般に、レ
ーザ光を基板上に照射し洗浄不良部分にｊ３けるレーザ
光の散乱を検出することによって行なわれる。
、たとえば単結晶シリコンの基板を５ｉ！遺した後、そ
の表面を洗浄する。この洗浄に関して、基板上に形成さ
れる薄膜回路が、数μｌの微ｔａｈＭ造を有するので、
高精度の洗浄が行なわれる必要がある。そのため、洗浄
後の基板は、基板上に薄膜形成などの処理を行なう前に
、洗浄が完全であるかどうかの検査が一般に行なわれる
。この検査として、たとえば油脂分、塵埃または洗浄液
中のほこりの有無を検査する。この検査は、一般に、レ
ーザ光を基板上に照射し洗浄不良部分にｊ３けるレーザ
光の散乱を検出することによって行なわれる。
発明が解決しようとする問題点
上述したような従来技術の基板の洗浄技術では、基板表
面に洗浄不良部分を検出した後、その基板全体を再び洗
浄していた。したがって洗浄工程が繁雑になっていた。
面に洗浄不良部分を検出した後、その基板全体を再び洗
浄していた。したがって洗浄工程が繁雑になっていた。
またこのように全体が再洗浄された基板は、やはり再び
洗浄度を全体に亘って検査する必要がある。また洗浄工
程の清浄度の管理が不充分であると、再洗浄された基板
に新たな汚れが付着する恐れがある。
洗浄度を全体に亘って検査する必要がある。また洗浄工
程の清浄度の管理が不充分であると、再洗浄された基板
に新たな汚れが付着する恐れがある。
本発明の目的は、上述の間厘点を解決し、基板の洗浄度
の検査において、洗浄不良部分があった場合、この洗浄
不良部分を局所的に洗浄することができる改良された超
音波を用いた洗浄装置を提供することである。
の検査において、洗浄不良部分があった場合、この洗浄
不良部分を局所的に洗浄することができる改良された超
音波を用いた洗浄装置を提供することである。
間駆点を解決するための手段
本発明は、被洗浄物を二おいて、洗浄が不充分な表面領
域を検出する手段と、 表面領域検出手段１こよって検出された表面領域に超音
波を照射して洗浄を行なう洗浄手段であって、 超音波が放射される放射端部を有する超音波発生手段と 前記放射端部付近にそれぞれ開口し、超音波伝達用流体
を供給する供給ノズルと、超音波伝達用流体を吸引する
吸引ノズルとを含む、そのような洗浄手段と、 前記表面領域検出手段からの出力に基づいて被洗浄物を
洗浄手段に向けて搬送する搬送手段とを含むことをｖｆ
徴とする足音波を用いた洗浄装置である。
域を検出する手段と、 表面領域検出手段１こよって検出された表面領域に超音
波を照射して洗浄を行なう洗浄手段であって、 超音波が放射される放射端部を有する超音波発生手段と 前記放射端部付近にそれぞれ開口し、超音波伝達用流体
を供給する供給ノズルと、超音波伝達用流体を吸引する
吸引ノズルとを含む、そのような洗浄手段と、 前記表面領域検出手段からの出力に基づいて被洗浄物を
洗浄手段に向けて搬送する搬送手段とを含むことをｖｆ
徴とする足音波を用いた洗浄装置である。
作 用
本発明に従う洗浄装置では、被洗浄物において洗浄が不
充分な表面領域が、表面領域検出手段によって検出され
る。被洗浄物に洗浄が不充分な表面領域が検出されると
、搬送手段は表面領域検出手段からの信号に基づいて、
被洗浄物を洗浄手段に向けて搬送する。洗浄手段は、被
洗浄物の前記洗浄が不充分な表面領域に、超音波発生手
段から超音波を照射して超音波洗浄を行なう。この超音
波洗浄に先立って、前記足音波発生手段の足音波が放射
される放射端部付近に開口している供給ノズルから、超
音波伝達用流体が供給され、重工放射端部と被洗浄物の
洗浄が不充分な前記表面領域との間に充満される。前記
放射端部がらの足音波は、この超音波伝達用流体を伝播
して、被洗浄物に到達して洗浄を行なう。
充分な表面領域が、表面領域検出手段によって検出され
る。被洗浄物に洗浄が不充分な表面領域が検出されると
、搬送手段は表面領域検出手段からの信号に基づいて、
被洗浄物を洗浄手段に向けて搬送する。洗浄手段は、被
洗浄物の前記洗浄が不充分な表面領域に、超音波発生手
段から超音波を照射して超音波洗浄を行なう。この超音
波洗浄に先立って、前記足音波発生手段の足音波が放射
される放射端部付近に開口している供給ノズルから、超
音波伝達用流体が供給され、重工放射端部と被洗浄物の
洗浄が不充分な前記表面領域との間に充満される。前記
放射端部がらの足音波は、この超音波伝達用流体を伝播
して、被洗浄物に到達して洗浄を行なう。
次に、ｉη記放射端部付近に開口している吸引ノズルは
、被洗浄物から除去された汚れなどを含む超音波伝達用
流体を吸引する。このようにして、被洗浄物において洗
浄が不充分な表面領域を検出したとき、この表面領域付
近のみを局所的に洗浄することができる。したがって、
被洗浄物の洗浄が不充分な表面領域を検出するごとに、
被洗浄物の全体を再洗浄する必要がなく、洗浄処理工程
が格段に簡略化される。
、被洗浄物から除去された汚れなどを含む超音波伝達用
流体を吸引する。このようにして、被洗浄物において洗
浄が不充分な表面領域を検出したとき、この表面領域付
近のみを局所的に洗浄することができる。したがって、
被洗浄物の洗浄が不充分な表面領域を検出するごとに、
被洗浄物の全体を再洗浄する必要がなく、洗浄処理工程
が格段に簡略化される。
実施例
ｆ５１図は本発明の一実施例の洗浄装置１の構成を示す
ブロック図である。洗浄装置１は基台２上に配置され、
第１図の左右方向に変位可能なＸテーブル３と、Ｘテー
ブル３上に配置され、Ｘ方向（ｍ１図の左右方向）とＹ
方向（第１図の紙面垂直方向）とに変位可能なＸ−Ｙテ
ーブル４とを含む。
ブロック図である。洗浄装置１は基台２上に配置され、
第１図の左右方向に変位可能なＸテーブル３と、Ｘテー
ブル３上に配置され、Ｘ方向（ｍ１図の左右方向）とＹ
方向（第１図の紙面垂直方向）とに変位可能なＸ−Ｙテ
ーブル４とを含む。
Ｘ−Ｙテーブル４上には、被洗浄物であるたとえば半導
体基板５が乗載される。
体基板５が乗載される。
半導体基板５が洗浄された後に、たとえば各種酸などに
よって洗浄が行なわれ、この洗浄が充分であるか否かを
検出するためにレーザ光発振器６からのレーザ光を照射
して、洗浄が不充分な表面領域である洗浄不良部分にお
ける前記レーザ光の散ａ光を、散乱光検出手段７によっ
て検出する。
よって洗浄が行なわれ、この洗浄が充分であるか否かを
検出するためにレーザ光発振器６からのレーザ光を照射
して、洗浄が不充分な表面領域である洗浄不良部分にお
ける前記レーザ光の散ａ光を、散乱光検出手段７によっ
て検出する。
散乱光検出手段７からの信号は、異常検出部８に与えら
れ、異常検出部８は半導体基板５に洗浄不良部分が検出
されたとき、すなわちレーザ光発振器６からのレーザ光
が散乱された散乱光が、故古り光検出手段７に入射した
とき、まずＸ−Ｙテーブル駆動部１１に信号を送り、Ｘ
−Ｙテーブル・ｔの移動を停止し、次にＸテーブル３を
Ｘテーブル駆動部９を制御して、ｆｐＪ１図の２．α鎖
線で示す位置に移動する。
れ、異常検出部８は半導体基板５に洗浄不良部分が検出
されたとき、すなわちレーザ光発振器６からのレーザ光
が散乱された散乱光が、故古り光検出手段７に入射した
とき、まずＸ−Ｙテーブル駆動部１１に信号を送り、Ｘ
−Ｙテーブル・ｔの移動を停止し、次にＸテーブル３を
Ｘテーブル駆動部９を制御して、ｆｐＪ１図の２．α鎖
線で示す位置に移動する。
所定の位置に到達したＸ−Ｙテーブル４上の半導体基板
５の洗浄不良部分は、前記故δＬ尤の検出時に停止した
位置から、Ｘテーブル駆動部９にようて直線的に移動す
るのみであり、この移動ｆｌｕは散乱光検出手段７と洗
浄装置本体１０との距離として、高精度に予め定めるこ
とができる。したがって前記洗浄不良部分は調整繰作不
用で、洗浄手段である洗浄装置本体１０の直下に位置す
るように移動する。この移動は、Ｘ−Ｙテーブル駆動部
１１によって行なわれる。洗浄装置本体１０は、後述さ
れるように超音波を用いた洗浄を行ない、この超音波は
駆動部１２からの電気信号が、超音波発振器１３によっ
て超音波振動に変換され、洗浄装置本体１０を介して半
導体基板５の前記洗浄不良部分に照射される。前記超音
波発振器１３は、たとえば圧電素子などから構成される
。
５の洗浄不良部分は、前記故δＬ尤の検出時に停止した
位置から、Ｘテーブル駆動部９にようて直線的に移動す
るのみであり、この移動ｆｌｕは散乱光検出手段７と洗
浄装置本体１０との距離として、高精度に予め定めるこ
とができる。したがって前記洗浄不良部分は調整繰作不
用で、洗浄手段である洗浄装置本体１０の直下に位置す
るように移動する。この移動は、Ｘ−Ｙテーブル駆動部
１１によって行なわれる。洗浄装置本体１０は、後述さ
れるように超音波を用いた洗浄を行ない、この超音波は
駆動部１２からの電気信号が、超音波発振器１３によっ
て超音波振動に変換され、洗浄装置本体１０を介して半
導体基板５の前記洗浄不良部分に照射される。前記超音
波発振器１３は、たとえば圧電素子などから構成される
。
第２図は第１図の洗浄装置本体１０に関連する構成を示
す図である。前記洗浄装置本体１０は、超音波伝達部材
１４と、超音波伝達用流体の供給７ズル１５と、供給ノ
ズル１５から供給された超音波伝達用流体を吸引する吸
引ノズル１６とを含む。超音波伝達部材１４は直円柱部
１４ａと、逆円錐台部１４ｂと、逆円錐台部１４ｂの先
ｒＩｉ部（第２図の下端部）に形成された凹所１４ｃと
が、一体に形成されて構成される。
す図である。前記洗浄装置本体１０は、超音波伝達部材
１４と、超音波伝達用流体の供給７ズル１５と、供給ノ
ズル１５から供給された超音波伝達用流体を吸引する吸
引ノズル１６とを含む。超音波伝達部材１４は直円柱部
１４ａと、逆円錐台部１４ｂと、逆円錐台部１４ｂの先
ｒＩｉ部（第２図の下端部）に形成された凹所１４ｃと
が、一体に形成されて構成される。
第３図は第１図の洗浄装置１を用いて半導体基板５の洗
浄を行なう工程を説明するブロック図である。第１図〜
第３図を参照して、本実施例における洗浄動作について
説明する。前述したように、半導体基板５において、レ
ーザ光発振器６を用いた検査で、洗浄不良部分が検出さ
れた場合、Ｘテーブル３およびＸ−Ｙテーブル４に乗載
された半導体基板５は、前述したように洗浄装置本体１
０に向けて搬送される。このとき前述したように、半導
体基板５の洗浄不良部分１７が、−超音波伝達部材４に
形成された凹所１４ｅの直下に位置するように移動され
る。
浄を行なう工程を説明するブロック図である。第１図〜
第３図を参照して、本実施例における洗浄動作について
説明する。前述したように、半導体基板５において、レ
ーザ光発振器６を用いた検査で、洗浄不良部分が検出さ
れた場合、Ｘテーブル３およびＸ−Ｙテーブル４に乗載
された半導体基板５は、前述したように洗浄装置本体１
０に向けて搬送される。このとき前述したように、半導
体基板５の洗浄不良部分１７が、−超音波伝達部材４に
形成された凹所１４ｅの直下に位置するように移動され
る。
次に、供給ノズル１５がらたとえば水などの超音波伝達
用流体が供給され、前記凹所１４ｃと半導体基板５の洗
浄不良部分１７どの間に充満される。前記凹所１４ｅに
は、発生される超音波が洗浄不良部分１７に効率的に照
射されるように、超音波を洗浄不良部分１７に集中する
機能を有する制御層１８が形成される。
用流体が供給され、前記凹所１４ｃと半導体基板５の洗
浄不良部分１７どの間に充満される。前記凹所１４ｅに
は、発生される超音波が洗浄不良部分１７に効率的に照
射されるように、超音波を洗浄不良部分１７に集中する
機能を有する制御層１８が形成される。
次に駆動部１２は電気信号を発生し、超音波発振器１３
はこの電気信号を機械的振動に変換し、この振動は超音
波伝達部材１４を矢符Ａ１方向に伝達され、凹所１４ｃ
およ１制御層１８を介して、矢符Ａ２方向に超音波伝達
用流体１つ内部を伝播され、洗浄不良部分１７に照射さ
れる。洗浄不良部分１７では、付着したたとえば油脂な
どが超音波振動によって分解されて除去される。
はこの電気信号を機械的振動に変換し、この振動は超音
波伝達部材１４を矢符Ａ１方向に伝達され、凹所１４ｃ
およ１制御層１８を介して、矢符Ａ２方向に超音波伝達
用流体１つ内部を伝播され、洗浄不良部分１７に照射さ
れる。洗浄不良部分１７では、付着したたとえば油脂な
どが超音波振動によって分解されて除去される。
次にこのような除去された油脂などを含んだ超音波伝達
用流体１９は、吸引ノズル１６によって吸引され、半導
体基板５の表面がら除かれる。このようにして、洗浄不
良部分１７の汚れが除去された半導体基板５は、再びｆ
ｊＳ１図の左方に戻され、レーザ光発振器６による洗浄
不良部分の検査が再開される。この再開後の検査は、前
記洗浄不良部分１７が検出されるまでに検査された領域
は除くことができる。すなわち半導体基板５には、従来
技術で指摘したように全体の再洗浄は行なわず、汚れが
検出された洗浄不良部分１７付近のみを局所的に洗浄す
るようにしたので、この洗浄不良部分１７のたとえば油
脂分などが、完全に除去されたかどうかを検査すると共
に、前回検査が行なわれなかった箇所があれば、その箇
所を引き続き検査するようにすればよい。したがって半
導体基板５に関する洗浄工程は、格段に簡略化される。
用流体１９は、吸引ノズル１６によって吸引され、半導
体基板５の表面がら除かれる。このようにして、洗浄不
良部分１７の汚れが除去された半導体基板５は、再びｆ
ｊＳ１図の左方に戻され、レーザ光発振器６による洗浄
不良部分の検査が再開される。この再開後の検査は、前
記洗浄不良部分１７が検出されるまでに検査された領域
は除くことができる。すなわち半導体基板５には、従来
技術で指摘したように全体の再洗浄は行なわず、汚れが
検出された洗浄不良部分１７付近のみを局所的に洗浄す
るようにしたので、この洗浄不良部分１７のたとえば油
脂分などが、完全に除去されたかどうかを検査すると共
に、前回検査が行なわれなかった箇所があれば、その箇
所を引き続き検査するようにすればよい。したがって半
導体基板５に関する洗浄工程は、格段に簡略化される。
効 果
以上のように、本発明に従えば、被洗浄物に洗浄が不充
分な表面領域が検出された場合、ｍ音波発生手段の超音
波が放射される放射端部は近に開口する供給ノズルから
、超音波伝達用流体を供給し、前記放射端部と洗浄が不
充分な表面領域との間に充満させる。次に超音波発生手
段からｍａ波を放射し、洗浄が不充分な表面領域の汚れ
を足音波振動によって分解し除去する。次に前記放射端
部付近に開口している吸引ノズルによって、前記分解さ
れた汚れを含む超音波伝達用流体があった吸引される。
分な表面領域が検出された場合、ｍ音波発生手段の超音
波が放射される放射端部は近に開口する供給ノズルから
、超音波伝達用流体を供給し、前記放射端部と洗浄が不
充分な表面領域との間に充満させる。次に超音波発生手
段からｍａ波を放射し、洗浄が不充分な表面領域の汚れ
を足音波振動によって分解し除去する。次に前記放射端
部付近に開口している吸引ノズルによって、前記分解さ
れた汚れを含む超音波伝達用流体があった吸引される。
したがって半導体基板の洗浄勤イヤは、一度洗浄度の検
査を行なえば、検出された洗浄が不充分な表面領域のみ
を再検査すればよ（、洗浄工程が格段に簡略化される。
査を行なえば、検出された洗浄が不充分な表面領域のみ
を再検査すればよ（、洗浄工程が格段に簡略化される。
第１図は本発明の一実施例の構成を示すプロ・ンク図、
第２１Ｚは第１図の洗浄装置本体１０の構成を示す図、
第３図は洗浄動作を説明する簡略化した断面図である。 １・・・洗浄装置、３・・・Ｘテーブル、４・・・Ｘ−
Ｙテーブル、５・・・半導体基板、６・・−レーザ光発
振器、７・・・散乱光検出手段、９・・・Ｘテーブル駆
動部、１０・・・洗浄装置本体、１１・・・Ｘ−Ｙテー
ブル駆動部、１３・・・超音波発振器、１５・・・供給
ノズル、１Ｇ・・・吸引ノズル、１７・・・洗浄不良部
分、１９・・・超音波伝達用流体 代理人 弁理士 四教 圭一部 第２図 ｊＩ３図
第２１Ｚは第１図の洗浄装置本体１０の構成を示す図、
第３図は洗浄動作を説明する簡略化した断面図である。 １・・・洗浄装置、３・・・Ｘテーブル、４・・・Ｘ−
Ｙテーブル、５・・・半導体基板、６・・−レーザ光発
振器、７・・・散乱光検出手段、９・・・Ｘテーブル駆
動部、１０・・・洗浄装置本体、１１・・・Ｘ−Ｙテー
ブル駆動部、１３・・・超音波発振器、１５・・・供給
ノズル、１Ｇ・・・吸引ノズル、１７・・・洗浄不良部
分、１９・・・超音波伝達用流体 代理人 弁理士 四教 圭一部 第２図 ｊＩ３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 被洗浄物の洗浄が不充分な表面領域を検出する手段と、 表面領域検出手段によって検出された洗浄が不充分な表
面領域に超音波を照射して洗浄を行なう洗浄手段であっ
て、 超音波が放射される放射端部を有する超音波発生手段と 前記放射端部付近にそれぞれ開口し、超音波伝達用流体
を供給する供給ノズルと、超音波伝達用流体を吸引する
吸引ノズルとを含む、そのような洗浄手段と、 前記表面領域検出手段からの出力に基づいて被洗浄物を
洗浄手段に向けて搬送する搬送手段とを含むことを特徴
とする超音波を用いた洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26211485A JPS62122132A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 超音波を用いた洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26211485A JPS62122132A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 超音波を用いた洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62122132A true JPS62122132A (ja) | 1987-06-03 |
Family
ID=17371234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26211485A Pending JPS62122132A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | 超音波を用いた洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62122132A (ja) |
Cited By (11)
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-
1985
- 1985-11-20 JP JP26211485A patent/JPS62122132A/ja active Pending
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