JP3280667B2 - 透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を備えた表示装置 - Google Patents

透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を備えた表示装置

Info

Publication number
JP3280667B2
JP3280667B2 JP50053492A JP50053492A JP3280667B2 JP 3280667 B2 JP3280667 B2 JP 3280667B2 JP 50053492 A JP50053492 A JP 50053492A JP 50053492 A JP50053492 A JP 50053492A JP 3280667 B2 JP3280667 B2 JP 3280667B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
conductive film
less
substrate
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP50053492A
Other languages
English (en)
Inventor
俊晴 平井
通郎 小松
昭 中島
米司 安部
幸博 岩崎
Original Assignee
触媒化成工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 触媒化成工業株式会社 filed Critical 触媒化成工業株式会社
Application granted granted Critical
Publication of JP3280667B2 publication Critical patent/JP3280667B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/24—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising carbon-silicon compounds, carbon or silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24—Electrically-conducting paints
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/04—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases
    • B05D3/0433—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to gases the gas being a reactive gas
    • B05D3/0453—After-treatment
    • B05D3/046—Curing or evaporating the solvent
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
    • B05D3/061—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation using U.V.
    • B05D3/065—After-treatment
    • B05D3/067—Curing or cross-linking the coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
    • C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
    • C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22—Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
    • B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
    • B05D3/0254—After-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
    • C03C2217/45—Inorganic continuous phases
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475—Inorganic materials
    • C03C2217/476—Tin oxide or doped tin oxide
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • H05K1/095—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks for polymer thick films, i.e. having a permanent organic polymeric binder
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
    • Y10T428/31609—Particulate metal or metal compound-containing
    • Y10T428/31612—As silicone, silane or siloxane
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は、透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方
法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を
備えた表示装置に関する。さらに詳しくは本発明は、密
着性、表面の平滑性に優れるとともに、耐水性、耐アル
カリ性などの耐久性に優れ、かつ透明な導電性被膜を形
成し得る透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、
このような優れた性質を有する透明導電性被膜が表面に
形成された導電性基材、その製造方法および透明導電性
基材を備えた表示装置に関する。
背景技術 ガラスあるいはプラスチックは、各種の透明基材とし
て用いられているが、絶縁体であるため、その表面に静
電気が発生し易い。これらのガラスあるいはプラスチッ
クなどの基材をそのままブラウン管（CRT）、蛍光表示
管（FIP）、プラズマディスプレイ（PDP）、液晶ディス
プレイ（LCD）などの表示パネル部位に用いると、表示
パネルの外表面に静電気が発生してゴミ、ホコリなどが
付着し、画像が見え難くなる。特にLCDでは、このよう
な静電気によってIC破壊や誤動作を起こすことがある。
また、自動原稿供給装置（ADF）を備えた電子写真方
式の普通紙複写機（PPC）では、複数の原稿をADFを通し
て順次複写しようとすると、原稿載置台であるコンタク
トガラス板とADFを通して供給されたシート状の原稿と
の間に摩擦が生じてコンタクトガラス板に静電気が発生
し、この静電気によってコンタクトガラス板上に原稿が
付着して停止し、ADF中で原稿が紙詰りを起こすことが
ある。
従来より、上述したような表示装置の表示パネル部
位、ADFを備えたPPCのコンタクトガラス板などに生じる
静電気の発生を防止するために、静電気が発生するこれ
らの表面に透明導電性被膜を形成した透明基材が用いら
れている。
ところでこのような透明導電性基材を得る方法として
は、たとえば透明基材の表面に、金属あるいは無機酸化
物からなる透明導電性被膜を、CVD法、PVD法、真空蒸着
法、スパッタリング法などの乾式被膜形成法によって形
成する方法、あるいは酸化ガスなどの導電性物質と透明
マトリックス形成成分とを含む塗布液を基材表面に塗布
し、次いで乾燥硬化させる湿式被膜形成法によって導電
性被膜を形成する方法が知られている。
このうちCVD法などの乾式被膜形成法では、真空蒸着
装置などによってバッチ方式で被膜を形成しなければな
らず、しかもその装置の大きさによって被膜が形成され
る基材の面積あるいは形状が制限されるという問題点が
ある。
他方、湿式被膜形成法においては、アクリル系樹脂、
ブチラール樹脂、メラミン樹脂、塩ビ・酢ビ共重合体樹
脂などのバインダー樹脂を透明マトリックス形成成分と
して用いて形成された透明導電性被膜は、透明性、耐擦
傷性、基材との密着性あるいは耐アルカリ性、耐酸性、
耐水性、耐溶剤性などの耐久性に劣るといった問題点が
あった。
最近、このような問題点を解決するため、種々の導電
性被膜形成用塗布液、およびこのような導電性被膜形成
用塗布液を用いて形成される透明導電性被膜が提案され
ている。
たとえば特開昭63−193971号公報には、導電性粒子と
ビヒクル（マトリックス）とを主成分としてなり、かつ
前記導電性粒子の平均粒子径が10オングストローム以上
であり、かつ５μｍ以下であるような導電性被膜が提案
されている。
また特開平２−22340号公報には、平均粒子径が１〜3
00mμのスズ酸化物からなる微粒子状無機物を５〜80重
量％含有する透明被膜層（透明導電性被膜）を有する成
形体（透明基材）が提案されている。
これらの提案においては、マトリックスとして、 下記一般式（Ａ）： R1 aR2 bSi（OR3）4-a-b …（Ａ） で表される有機ケイ素化合物が用いられている。
ところで本出願人は、特開昭64−54613号公報、国際
公開WO89/03114号公報、国際公開WO90/02157号公報にお
いて、導電性物質と、マトリックスとしてアルコキシシ
ラン部分加水分解物およびビスアセチルアセトナトジア
ルコキシジルコニウムなどのアセチルアセトナトキレー
トが水−有機溶媒の混合溶媒中に混合されてなる導電性
被膜形成用塗布液、およびこの塗布液から得られる透明
導電性被膜を表面に有する基材を提案している。
これらの透明導電性被膜付基材は、導電性および透明
性に優れるとともに、耐久性などについても一応満足し
得るものであるが、最近では、より一層の耐久性が求め
られると同時に平滑性にも優れていることが要求されて
いる。
さらに透明導電性被膜付表示パネルでは、該表示パネ
ルを備えた表示装置で表示される表示画像の画質、とり
わけ解像力が、透明導電性被膜によって低下しないよう
にすることが求められている。
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであって、密
着性、表面の平滑性に優れ、耐アルカリ性、耐水性など
の耐久性にも優れた透明導電性被膜をガラス、プラスチ
ックなどの表面に形成し得る透明導電性被膜形成用塗布
液、その製造方法、このような優れた性質を有する透明
導電性被膜が基材表面に形成された導電性基材、その製
造方法および透明導電性基材を備えた表示装置を提供す
ることを主要な目的としている。
発明の開示 本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液は、 （ａ）平均粒径が50〜500Åの範囲であり、 （ｂ）600Å以下の粒子が60重量％以上であり、 （ｃ）100Å以下の粒子が５重量％以上であり、 （ｄ）1000Å以上の粒子が15重量％以下である導電性粒
子と、 （イ）平均重合度が1,500〜10,000であり、 （ロ）重合度3,000以下の重合体が50重量％以下であ
り、 （ハ）重合度10,000以上の重合体が20重量％以下である
ようなシリカ重合体からなるマトリックスとを含有して
なることを特徴としている。
上記透明導電性被膜形成用塗布液は、粉末状の導電性
粒子または導電性粒子分散ゾルを、必要に応じて粉砕お
よび／または分級して、上記のような特定の平均粒径と
粒度分布を有する導電性粒子を得、このようにして得ら
れた導電性粒子と上記のような特定の重合度を有するマ
トリックスとを水および／または有機溶媒に分散または
溶解することによって製造することができる。
また本発明に係る導電性基材は、このような透明導電
性被膜形成用塗布液を塗布してなる透明導電性被膜が、
基板上に形成されていることを特徴としている。
さらにこのような導電性基材は、基材表面に上述した
ような透明導電性被膜形成用塗布液を塗布し、次いでこ
のようにして基材表面に形成された透明導電性被膜を加
熱し、硬化することによって製造することができる。
また上記のような導電性基材は、上述したような透明
導電性被膜形成用塗布液を塗布した後、加熱前の未硬化
段階の透明導電性被膜に可視光線よりも波長の短い電磁
波を照射するかあるいは未硬化段階の透明導電性被膜を
硬化反応を促進するガス雰囲気中に晒すことによって好
ましく製造することができる。
本発明に係る表示装置は、上述したような透明導電性
被膜形成用塗布液を塗布してなる透明導電性被膜が、表
示パネルの外表面に形成されていることを特徴としてい
る。
図面の簡単な説明 第１図は、本発明に係る解像度測定用のバーチャート
を示す図面、第２図は、解像度の測定方法を示す説明図
である。
発明を実施するための最良の形態 以下、まず本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布
液、ならびに導電性基材およびその製造方法について具
体的に説明する。
Ｉ）透明導電性被膜形成用塗布液 本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液は、ａ）平
均粒径および粒度分布が共に上記特定範囲を満足する導
電性粒子と、ｂ）上記特定のマトリックスが水および／
または有機溶媒からなる分散媒中に分散されている。
ａ）導電性粒子 本発明において用いられるａ）導電性粒子としては、
従来公知の導電性粒子が広く用いられ、具体的には、酸
化錫、Sb、Ｆ、Ｐなどがドープされた酸化錫、酸化イン
ジウム、Sn、Ｆなどがドープされた酸化インジウム、酸
化アンチモンなどが挙げられる。
このような導電性粒子は、たとえば本出願人が先に出
願した特開昭62−230617号公報、特開昭63−11519号公
報、特開平２−221124号公報などに記載された方法によ
って得ることができる。
本発明で用いられる導電性粒子は、 平均粒径が50〜500Åの範囲、好ましくは50〜300Åで
あり、 かつ透明導電性粒子全体に占める600Å以下の粒子
が、60重量％以上、好ましくは80重量％以上であり、 100Å以下の粒子が、５重量％以上、好ましくは20重
量％以上であり、 1,000Å以上の粒子が、15重量％以下、好ましくは５
重量％以下である。
このような特定の平均粒径および粒度分布を有する導
電性粒子は、上記のような従来公知の導電性粒子を、平
均粒径および粒度分布が上記特定の範囲を満足するよう
になるまで、適宜の手段で粉砕および／または分級する
ことによって得ることができる。
このような導電性粒子の平均粒径および粒度分布をコ
ントロールするための粉砕および／または分級は、粉末
状で行なってもよく、ゾル状で行なってもよい。またこ
のような粉砕および／または分級は、透明導電性被膜形
成用塗布液を調製前に行なってもよく、調製後に行なっ
てもよい。
本発明においては、上記のように特定の粒径分布を有
する導電性粒子を用いているため、導電性粒子の分散性
がきわめて良好で安定な塗布液が得られる。
ｂ）マトリックス 本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液において
は、マトリックスとして、シリカ重合体が用いられる。
これらのシリカ重合体は、平均重合度が1,500〜10,00
0、好ましくは2,500〜7,500であって、重合度3,000以下
の成分が50重量％以下、好ましくは20重量％以下であ
り、 重合度10,000以上の成分が20重量％以下、好ましくは
10重量％以下である。
ここでいうシリカ重合体とは、アルコキシシランなど
の有機珪素化合物を加水分解して得られる重縮合物を意
味する。
また有機珪素化合物としては、具体的には、下記式
［Ｉ］で表わされるアルコキシシランの１種または２種
以上を組み合わせて用いることができる。
Ra−Si−（OR'）4-a …［Ｉ］ （ただし、式中、 Ｒは、−CnH2n+1（ｎ＝１〜４）で表わされるアルキ
ル基、水素原子またはハロゲン原子であり、 R'は、−CnH2n+1（ｎ＝１〜４）で表わされるアルキ
ル基、−C2H4OCnH2n+1（ｎ＝１〜４）で表わされるアル
キルアルコキシ基または水素原子であり、 ａは０〜３の整数である。） なお本発明でいう重合度とは、ゲルクロマトグラフィ
ー法によるポリスチレン換算重合度を意味する。
本発明で用いられるシリカ重合体を得る方法として
は、たとえば水−アルコールなどの混合溶媒中で硝酸、
塩酸、酢酸などの酸の存在下で上記アルコキシシランを
加水分解する方法が挙げられる。
このようなアルコキシシランの加水分解は、 酸/SiO2＝0.0001〜0.05（wt/wt） および 水/SiO2＝４〜16（モル／モル） （上記式中、SiO2は、アルコキシシランをSiO2に換算し
た値である。） の条件下で行なうことが好ましい。
また上記アルコキシシランの加水分解温度は、室温〜
200℃が好ましい。
さらに加水分解反応に用いるアルコキシシランの濃度
は、SiO2として約３〜25重量％の範囲が好ましく、加水
分解温度が低い程高い濃度にすることが好ましい。
本発明においては、上述したような特定の平均粒径と
粒度分布を有する導電性粒子と特定の重合度を有するマ
トリックスとを水および／または有機溶媒に分散または
溶解して透明導電性被膜形成用塗布液を調製することが
できる。
このような塗布液の調製はたとえば次のようにして行
なわれる。
上述したような粒径分布を有する導電性粒子が分散し
たゾルに、上述したような重合度のシリカ重合体の水−
アルコール分散液を所定量加える。このとき水および／
またはアルコールを添加して固形分濃度（導電性粒子と
シリカ重合体の合計濃度）を調整する。
次いでこの混合液に塩酸、硝酸などの酸を添加して液
のpHを約1.5〜6.0、好ましくは1.5〜4.0に調整して塗布
液とする。
本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液に含まれる
導電性粒子とマトリックスとの配合比は、 EOx/SiO2＝0.5〜5.0（wt/wt） （式中、EOxは、導電性粒子の酸化物換算の重量を示
し、SiO2は、シリカ重合体の酸化物換算の重量を示
す。） の範囲にあることが好ましい。
透明導電性被膜形成用塗布液中において、マトリック
ス成分の量が多すぎると基材表面に形成される被膜の導
電性が低下し、逆に導電性粒子の量が多過ぎると塗布液
中の導電性粒子の分散性、塗布液の保存性が低下した
り、あるいはこのような塗布液を用いて形成した被膜の
透明性、基材との密着性が低下する場合がある。
また透明導電性被膜形成用塗布液中において、導電性
粒子とマトリックスとの合計固形分濃度は、15重量％以
下であることが好ましい。
上述したような導電性粒子およびマトリックスの分散
媒として用いられる有機溶媒としては、特に限定されな
いが、たとえば メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、エ
チレングリコール、ヘキシレングリコールなどのアルコ
ール類、 酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステルなどのエス
テル類、 ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエ
チルエーテルなどのエーテル類、 アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、
アテト酢酸エステルなどのケトン類などが挙げられる。
上述した方法で得られた本発明に係る透明導電性被膜
形成用塗布液に、さらに別の機能を付与する目的で、種
々の成分を添加することも可能である。
たとえば少量の染料が添加された塗布液を用いて形成
された透明導電性被膜を有する表示パネル、特にCRTの
フェイスプレートは、特定の波長に光を吸収し、コント
ラストを向上させることができる。
また被膜中にZrO2、TiO2、CeO2などの金属酸化物また
はこれらの複合酸化物を共存させると、被膜の屈折率を
調整することができるが、この場合、塗布液にこれら金
属酸化物微粒子またはその前駆物質を添加する。
このような前駆物質としては、ジブトキシ−ビスアセ
チルアセトナトジルコニウム、ジブトキシ−ビスアセチ
ルアセトナトチタンなどのアセチルアセトナトキレート
化合物、またはテトラブトキシジルコニウム、テトライ
ソプロポキシチタンなどの金属アルコキシド化合物が好
ましく用いられる。
また、アルカリ金属珪酸塩を脱アルカリして得られる
珪酸液を補助バインダーとして添加することもできる。
II）導電性基材 本発明に係る導電性基材は、ガラス、プラスチックな
どの基材表面に、上述したような透明導電性被膜形成用
塗布液を塗布することにより基材表面に透明導電性被膜
が形成された基材である。
ちなみにこの透明導電性被膜が形成された基材は、い
ずれも103〜1010Ω／□の表面抵抗を有している。この
うち、後述するようなノングレア処理を施さない場合
は、ヘイズが１％以下であり、ノングレア処理を施した
場合には、光沢度が40〜90％であるものが得られる。
さらに本発明に係る導電性基材は、このような透明導
電性被膜の表面に透明保護膜が形成されていてもよい。
本発明に係る導電性基材に形成される透明導電性被膜
は、大粒径の導電性粒子が少ない。すなわち、この透明
導電性被膜は、粒径600Å以下の粒子が60重量％以上を
占め、さらに粒径1000Å以上の粒子が15重量％以下であ
る導電性粒子が分散した塗布液を用いて形成されてい
る。このため、この透明導電性被膜の表面は、膜厚を薄
くしても平滑性に優れ、大粒子の存在に起因する凹凸が
ほとんどない。従って、本発明に係る導電性基材では、
透明導電性被膜の表面で散乱光を低下させることがで
き、同時にこの被膜中で粒子によって生じる散乱光も抑
制することができる。
本発明においては、上述したように、透明導電性被膜
形成用塗布液に含まれる導電性粒子の粒径範囲が限定さ
れていることに加えて、粒径100Å以下の粒子の含有量
も５重量％以上に限定されているので、塗布液中に含ま
れる大粒子の割合は、このような限定がない場合に比較
してさらに少ない。従って、このような塗布液を用いて
基材上に形成された被膜中には大粒径の導電性粒子がほ
とんど存在していない。このため、この大粒径の導電性
粒子に起因する散乱光が、さらに低下し、透明性に優
れ、かつヘイズの低い導電性基材が得られる。
特に、このような透明導電性被膜を表示装置の表示パ
ネルに形成することにより、解像性に優れた表示パネル
が得られる。
本発明に係る導電性基材に形成された透明導電性被膜
は、上述したように大粒子の割合が少なく、特定範囲の
粒径を有する導電性粒子が分散した塗布液を用いている
ため、導電性粒子が均一に分散した被膜が得られる。
したがって大粒径の導電性粒子を多く含む従来の塗布
液により得られる被膜と同じ表面抵抗の被膜を得ようと
する場合、その膜厚を薄くすることが可能である。
また本発明においては上述したような特定の重合度分
布を有するシリカ重合体をマトリックスとして用いてい
るため、基材に本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布
液を塗布した後に硬化することによりボイド（細孔また
は微細なクラック）がほとんどない緻密な被膜が得られ
る。したがってこのような特徴を有するマトリックスと
微細な導電性粒子とを組み合わせた本発明に係る塗布液
で形成された被膜は、その表面がきわめて平滑である。
本発明でいう平滑性とは、凹凸がなく、被膜の表面粗
さが小さいことに加えて、上記のボイドのない緻密さを
合わせ持った平滑性を意味する。
このため本発明に係る導電性基材は、透明でヘイズが
低いという光学的特性に優れていることに加えて表面硬
度に優れていることは勿論、酸、アルカリなどの雰囲気
あるいは高温多湿の雰囲気に対する耐久性および被膜と
基材との密着性が向上すると同時に耐汚染性に優れてい
る。なお、本発明で耐汚染性とは被膜表面が汚染され難
く、また汚染されても容易に汚染物質を除去し得るよう
な被膜の性質を意味する。
本発明に係る基材の表面に形成された透明導電性被膜
の膜厚は、約500〜7,000Åであることが好ましい。
本発明に係る導電性基材は、このような透明導電性被
膜上にさらに透明保護膜が形成されていてもよい。
上記膜厚の透明導電性被膜を基材の表面に形成し、さ
らに必要に応じて透明導電性被膜上に透明保護膜を形成
することにより、103Ω／□〜1010Ω／□の範囲にある
任意の表面抵抗を有し、ヘイズが１％以下の導電性基材
を得ることができる。さらに、被膜形成時に後述するよ
うなノングレア処理を行なえば、ノングレア処理を行な
わない場合と同様の表面抵抗を有し、かつ40〜90％の範
囲の光沢度を有する導電性基材を得ることができる。
また、後述するようにこの透明導電性被膜および透明
保護膜の光学的な特性をコントロールすることにより、
表面抵抗が103〜1010Ω／□、光沢度が40〜90％、表面
反射率が１％以下である導電性基材を得ることができ
る。
III）導電性基材の製造方法 本発明に係る導電性基材は、ガラス、プラスチックな
どの基材表面に透明導電性被膜形成用塗布液をディッピ
ング法、スピナー法、スプレー法、ロールコーター法、
フレキソ印刷法などの方法で塗布し、次いでこのように
して基材表面上に形成された透明導電性被膜を常温〜90
℃で乾燥し、次いで100℃以上に加熱して硬化すること
によって得ることができる。
さらに本発明では次のような方法で導電性基材を製造
することにより、上述したような効果がより一層顕著に
発揮される導電性基材が得られる。
すなわち、上述したような塗布工程または乾燥工程の
後に、あるいは乾燥工程中に、未硬化段階の透明導電性
被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照射するかあ
るいは未硬化段階の透明導電性被膜を硬化反応を促進す
るガス雰囲気中に晒す。
このような加熱前の未硬化段階の透明導電性被膜に照
射する電磁波としては、具体的には紫外線、電子線、Ｘ
線、γ線などが例示されるが、紫外線が好ましい。たと
えば、発光強度が約250nmと360nmとにおいて極大とな
り、光強度が10mW/cm2以上、好ましくは100mW/cm2以上
である水銀ランプを紫外線源として使用し、100mJ/cm2
以上、好ましくは100mJ/cm2以上のエネルギー量の紫外
線を未硬化段階の透明導電性被膜に照射する。
また、加熱前の未硬化段階の透明導電性被膜の硬化反
応を促進するガスとしては、たとえばアンモニア、オゾ
ンなどが例示される。透明導電性被膜の硬化促進は、た
とえば、未硬化段階の透明導電性被膜を、このような活
性ガス雰囲気下で、ガス濃度を100〜100,000ppm、好ま
しくは1000〜10,000ppmとして１〜60分間処理すること
によって達成される。
上述したような硬化促進処理を行なうことにより、マ
トリックスの重合促進と同時に、被膜中に残存する水お
よび溶媒の蒸発も促進される。その結果、次の加熱工程
において必要とされる加熱温度、加熱時間などの加熱硬
化条件を緩和することができる。
なお本発明において、ガラス、プラスチックなどの基
材の表面に塗布液を塗布する際その表面を約40〜90℃に
予熱し、この温度を維持しつつ塗布液をスプレー法で塗
布し、その後、加熱硬化処理を行なうと、被膜の表面に
多数の微細なリング状の凹凸が形成され、ギラツキの少
ないノングレアな透明導電性基材が得られる。したがっ
てこのような方法で透明導電性基材を製造した場合、被
膜表面の見かけの表面粗さは多少失われるが、基材の耐
汚染性、耐久性などの性能が低下することはない。
また、この加熱硬化処理を行なう前に上述したような
硬化促進処理を行なうこともできる。
本発明においては、既に説明したように、上述したよ
うな方法で形成された透明導電性被膜上に透明保護膜を
形成してもよい。
このような透明保護膜の膜厚は約0.5μｍ以下である
ことが好ましく、またこのような透明保護膜は、上述し
た透明導電性被膜の形成方法と同様の方法で塗布、乾
燥、加熱を順次行なうことによって製造することができ
る。この際、上述したような硬化促進処理および／また
はノングレア処理を透明保護膜形成時に施してもよい。
この際に用いられる透明保護膜形成用塗布液として
は、上記透明導電性被膜形成用塗布液から導電性粒子を
除いた塗布液、あるいは上記透明導電性被膜形成用塗布
液よりも少量の導電性粒子を含む塗布液が好ましく用い
られる。
本発明に係る導電性基材は、導電性被膜と透明保護膜
とを順次基材上に積層して形成する際に、屈折率調整用
化合物粒子、すなわちそれぞれの被膜の屈折率を調整す
ることができるような化合物粒子が添加された被膜形成
用塗布液を用いて、所望の屈折率と膜厚とを有する被膜
が得られるように、各被膜形成用塗布液の量を制御し
て、それぞれの被膜を形成することにより、外光の反射
率が１％以下の反射防止性能を備えた導電性基材が得ら
れる。
この場合、透明導電性被膜形成用塗布液に添加される
化合物粒子としては、ZrO2、TiO2、CeO2などの金属酸化
物粒子あるいはこれらの複合酸化物粒子、またはこれら
の前駆物質からなる化合物粒子が挙げられる。
また、透明保護膜形成用塗布液に添加される化合物粒
子としては、MgF2、CaF2などの化合物粒子が挙げられ
る。
IV）透明導電性基材を備えた表示装置 本発明に係る表示装置は、ブラウン管（CRT）、蛍光
表示管（FIP）、プラズマディスプレイ（PDP）、液晶デ
ィスプレイ（LCD）等のような電気的に画像を表示する
装置であり、その表示パネルの外表面には、透明導電性
被膜が形成されている。すなわち本発明に係る表示装置
は、透明導電性基材としての透明導電性被膜付表示パネ
ルを備えている。
この透明導電性被膜は、上記本発明に係る透明導電性
被膜形成用塗布液を用いて形成される。
また、このようにして形成された透明導電性被膜付表
示パネルは、導電性、平滑性、耐久性、被膜と基材との
密着性および耐汚染性に優れている。またこの透明導電
性被膜付表示パネルを通して観察される表示画像の解像
度は高水準に維持される。
ちなみに、本発明で用いられる透明導電性被膜付表示
パネルは、いずれも103〜1010Ω／□の表示抵抗を有し
ている。このうち、ノングレア処理を施さない場合は、
ヘイズが１％以下で、70本/cm以上の解像度を有してお
り、ノングレア処理を施した場合は、光沢度が40〜90％
で、60本/cm以上の解像度のものが得られる。ここでい
う解像度とは、次のような方法で測定した値である。
第１図に示すような、1cm当り所定本数のバー２が等
間隔で印刷されたバーチャート１を、透明導電性被膜が
形成された測定用表示パネル３の被膜が形成されていな
い側にはりつけ、第２図に示すような測定装置４にバー
チャートをはりつけた側が内側になるように配置する。
測定装置は、内壁を白色とし、測定用表示パネル配置位
置から50cm離れた反対側に蛍光灯（20W）５を２本、30c
m離して設けた。そして、測定用表示パネルから30cm離
れた場所からバーチャートを観察する。このとき1cm当
りのバーの本数の少ないバーチャートから本数の多いバ
ーチャートに変えて行き、バーの本数が視認可能な最大
のバーチャートの1cm当りのバーの本数を解像度とす
る。
また本発明に係る表示装置では、表示パネルの外表面
に、上述したようなTiO2、ZrO2等の屈折率調整用化合物
粒子を含有する透明導電性被膜を形成し、さらにこの透
明導電性被膜の表面に上述したようなMgF2、CaF2等の屈
折率調整用化合物粒子を含有する保護膜を形成すれば、
表示パネルの光反射率を１％以下に低減することができ
る。すなわち表示画面の表面で起こる光反射が防止さ
れ、表示パネル上に表示される画像が見やすくなる。
このように本発明に係る表示装置は、表示パネルの外
表面に形成された透明導電性被膜の上に特殊な保護膜を
形成するなどにより、表示画面の光反射防止等の様々な
改良が可能である。
発明の効果 本発明に係る透明導電性被膜形成用塗布液は、特定の
粒径分布を有する導電性粒子と、特定のシリカ重合体か
らなるマトリックスとを含んでいるため、密着性、表面
の平滑性に優れるとともに耐水性耐アルカリ性などの耐
久性に優れ、かつ透明性およびヘイズ、光沢度などの光
学的特性にも優れた導電性被膜を基材表面に形成するこ
とができる。
すなわち、導電性粒子が上述したような大粒子の割合
が少ない特定の粒度分布を有する微小粒子であるため、
膜厚を薄くしても平滑でヘイズの低い透明導電性被膜を
得ることができる。
また、塗布液中での導電性粒子の分散性が良好であ
り、塗布液中の導電性粒子の量を少なくしても表面抵抗
の充分低い被膜を得ることができる。
またマトリックスが特定の重合度のシリカ重合体から
なるため、前記の導電性粒子を塗布液に分散したとき、
凝集粒子がほとんどない塗布液が得られ、これを被膜化
しても単分散状態が保持される。したがって、被膜の平
滑化に寄与するとともに凝集粒子による被膜中の空隙が
ほとんどなくなり、被膜の緻密化が促進され、密着性に
優れ、耐湿性、耐アルカリ性などの耐久性および耐汚染
性に優れたきわめて平滑な透明導電性被膜を得ることが
できる。
本発明に係る導電性基材の製造方法によれば、加熱前
の未硬化段階の透明導電性被膜に可視光線よりも波長の
短い電磁波を照射するかあるいは特定のガス雰囲気中に
晒すなどの硬化促進処理をすることにより、加熱硬化条
件を緩和することができる。
本発明に係る表示装置は、上述したような優れた性質
を有する透明導電性被膜が形成された表示パネルを備え
ているので、苛酷な環境下でも長期間にわたって表示画
面への帯電防止がなされる。このため表示画面にゴミ、
ホコリなどが付着し難く、IC破壊および誤動作の少ない
状態が長期間にわたって保持される。
また、上記透明導電性被膜付表示パネルを通して観察
される表示画像の解像度が高水準に維持されるので、本
発明に係る表示装置によれば鮮明な画像が得られる。
次に実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明す
るが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施
例に何ら限定されるものではない。
まず、実施例に用いられているマトリックスおよび導
電性粒子の製造例を示す。
［製造例１］ マトリックスの調製 エチルシリケート28（SiO2濃度28重量％）またはエチ
ルシリケート40（SiO2濃度40重量％）を、有機溶媒、
水、および酸の混合溶液に添加し、表１に示す諸条件で
加水分解してマトリックスＡ〜Ｇを調製した。
［製造例２］ 導電性粒子の調製 １）錫酸カリウム333gと吐酒石69.5gを純水1019gに溶解
した水溶液を調製した。この水溶液を、50℃に保持され
た1876gの純水中に12時間かけて添加した。この時同時
に濃HNO3を添加し、系内のpHを8.5に維持した。得られ
た酸化錫水和物分散液から酸化錫水和物を限外膜で濾
過、洗浄して乾燥した後、空気中で550℃、３時間焼成
した。
こうして得られたアンチモンがドープした酸化錫微粉
末400gを、40gのKOHを含む水溶液1600g中に加えた。こ
の混合液を30℃に保持しながらサンドミルで５時間撹拌
した後、陽イオン交換樹脂で脱アルカリし、表２に示す
ような粒度を持った導電性酸化錫コロイド粒子分散液Ｉ
を得た。
２）１）において酸化錫水和物生成時のpHを10にした以
外は、すべて１）と同一条件で導電性酸化錫コロイド粒
子分散液IIを得た。
３）２）と同一条件で得られた酸化錫水和物分散液を限
外膜で濾過、洗浄した後、５重量％のH2O2水溶液300gを
加えた。これを100℃30分間加熱した後、さらにオート
クレーブに移し、300℃、２時間加熱し、導電性酸化錫
コロイド粒子分散液IIIを得た。
４）サンドミル処理を３時間行った後、遠心分離（5000
ppm、１時間）処理を行った以外は１）と同一条件で導
電性酸化錫コロイド粒子分散液IVを得た。
５）サンドミル処理時のKOH水溶液のKOH含有量を10gと
した以外は１）と同一条件で導電性酸化錫コロイド粒子
分散液Ｖを得た。
［実施例１〜８、比較例１〜３］ 透明導電性被膜形成用塗布液の調製 製造例１で得られたマトリックス、製造例２で得られ
た導電性酸化錫コロイド粒子分散液、希釈剤として有機
溶媒および純水を混合した後、酸を添加してpHを調整し
て表３に示す実施例１〜８および比較例１〜３の透明導
電性被膜形成用塗布液を調製した。
［実施例９〜16、比較例４〜６］ 透明導電性被膜付表示パネルの製造 ブラウン管用表示パネル（14インチ）を所定温度に予
熱した後、または予熱せずに表３に示されている実施例
１〜８および比較例１〜３の塗布液を用いて表４に示す
条件で実施例９〜16および比較例４〜６の透明導電性被
膜付表示パネルを製造した。塗布条件および硬化促進処
理条件は次のとおりである。
スプレー条件 :SPRAYING SYSTEM社製、1Aノズル、空
気圧1.5kg/cm2、液供給速度20ml/分で１分 スピンナー条件:100rpm、30秒 紫外線照射 ：水銀灯、500mW/cm2、6000mJ アンモニア処理:10000ppm NH3蒸気雰囲気中に５分間 透明導電性被膜付表示パネルの評価 上記のようにして得られた実施例９〜16および比較例
４〜６の透明導電性被膜付表示パネルについて、下記の
ような項目について評価した。
結果を表５に示す。
ヘイズ ：ヘイズコンピューター（スガ試験機製）で
測定。
光沢度 :JIS K7105−81に基づき測定。（測定角60
゜） 表面抵抗：ハイレスターまたはローレスター（三菱油
化（株）製）で測定。
膜強度 ：事務用消ゴム（LION製No.50−50相当品）
を被膜のうえに置き、1kgの荷重をかけて200回往復摺動
した後、テスト前後の光沢度（△Ｇ）および表面抵抗
（テスト前（Rs）とテスト後（Rm）の比）を比較。
耐煮沸性：基板を沸騰水に30分間および60分間浸した
後の光沢度、表面抵抗を比較。
耐汚染性：被膜のうえに6B〜9Hまでの鉛筆で1kgの荷
重をかけて線を引き、その痕跡をエタノールを浸したガ
ーゼで軽く拭きとる。10回拭きとった後に痕跡が残った
鉛筆の硬度を指標として評価（耐汚染性の定義は11頁11
〜18行参照）。
解像度 ：前述の方法で評価。
表５からわかるとおり本発明の塗布液で形成された透
明導電性被膜は、膜強度テスト、耐煮沸性テストにおい
て、いずれも光沢度変化、表面抵抗変化がほとんどない
か、少ない。また、耐汚染性テストにおいても優れてい
る。さらに、平均重合度が小さいマトリックスを用いた
比較例３の塗布液により形成した被膜付表面パネルで
は、表面抵抗が５×1011Ω／□と高くなっており、これ
はマトリックス中の低分子成分による導電性粒子表面の
カップリング現象により少なくとも一部の導電粒子の周
囲に絶縁層が形成されるためと推定される。一方、本発
明においては、このような現象がみられないため、安定
した表面抵抗をもった膜が得られる。
［実施例17〜24、比較例７〜９］ 表示装置の製造および評価 上記実施例９〜16および比較例４〜６の透明導電性被
膜付表示パネルを有するブラウン管を用いて実施例17〜
24および比較例７〜９の表示装置（ターミナルディスプ
レイ）を組立てた。
なお表示装置の実施例および比較例は、透明導電性被
膜付表示パネルのこれらに対応し、例えば実施例17の表
示装置は実施例９の透明導電性被膜付表示パネルを具備
している。
実施例17〜24の表示装置は、長期間の保存および使用
の後にも表示画面がゴミ、ホコリなどで汚染されること
もなく、鮮明な画像が形成できた。これに対して比較例
７の表示装置は、表示画像の鮮明度が若干低く、かつ表
示画面がゴミ、ホコリなどで汚染され易いことが判明し
た。また比較例８の表示装置は、長期間の使用の後に表
示パネルの表面に形成した透明導電性被膜が剥離すると
いう欠陥が生じた。比較例９の表示装置は、表示画面へ
の帯電防止効果が充分でなく、長期間の保存の後、表示
画面にゴミ、ホコリなどが付着する傾向が見られた。
［実施例25］ 透明導電性被膜形成用塗布液および保護膜形成用塗布
液にそれぞれ屈折率調整粒子を添加して、表６に示すよ
うな塗布液を調製した。なお屈折率調整用粒子のうち、
TiO2は、平均粒径200Åの粒子が分散したチタニアゾル
（TiO2）濃度20wt％）、MgF2は、平均粒径300Åの粒子
が分散したフッ化マグネシウムゾル（MgF2濃度5wt％）
を用いた。
40℃に予熱したブラウン管用表示パネル（14"）の表
面に、まず表６の導電性被膜形成用塗布液を、スピンナ
ー法（100rpm、１分）で塗布した後、180℃、30分間加
熱して導電性被膜（膜厚800Å）を形成した。
次いで、上記の被膜付表示パネルを40℃に予熱した
後、表６に示す保護膜形成用塗布液を上記と同一条件で
塗布して保護膜（1000Å）を形成した。
このようにして得られた実施例25の反射防止膜付表示
パネルについて、実施例９と同様の評価を行い、さらに
表面反射率を測定した。
結果を表７に示す。
［実施例26］ 複写機用天板ガラスに用いるガラス基板（450×300m
m）の表面に、表８に示すような条件で被膜を形成し
た。この被膜付ガラス基板について、実施例９と同様の
評価を行った。
結果を表９に示す。
さらに、このガラス基板をADF装着の複写機に組み込
み、コピー紙を供給して紙詰まりを起すまでの枚数を調
べた。
その結果、被膜を形成しない天板ガラスでは2000枚で
紙詰まりを起したが、本発明の被膜付天板ガラスは10万
枚以上でも紙詰まりを起さなかった。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｂ 1/20 Ｈ０１Ｂ 1/20 1/22 1/22 1/24 1/24 (72)発明者 安部 米司 福岡県北九州市若松区北湊町13―２ 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (72)発明者 岩崎 幸博 福岡県北九州市若松区北湊町13―２ 触 媒化成工業株式会社若松工場内 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C09D 5/24

Claims (16)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】（ａ）平均粒径が50〜500Åの範囲にあ
    り、 （ｂ）600Å以下の粒子が60重量％以上であり、 （ｃ）100Å以下の粒子が５重量％以上であり、 （ｄ）1000Å以上の粒子が15重量％以下である導電性粒
    子と、 （イ）平均重合度が1,500〜10,000であり、 （ロ）重合度3,000以下の重合体が50重量％以下であ
    り、 （ハ）重合度10,000以上の重合体が20重量％以下である
    ようなシリカ重合体からなるマトリックスとを含有して
    なることを特徴とする透明導電性被膜形成用塗布液。
  2. 【請求項２】（ａ）平均粒径が50〜500Åの範囲にあ
    り、 （ｂ）600Å以下の粒子が60重量％以上であり、 （ｃ）100Å以下の粒子が５重量％以上であり、 （ｄ）1000Å以上の粒子が15重量％以下である粉末状導
    電性粒子または導電性粒子分散ゾルを得、該導電性粒子
    と、 （イ）平均重合度が1,500〜10,000であり、 （ロ）重合度3,000以下の重合体が50重量％以下であ
    り、 （ハ）重合度10,000以上の重合体が20重量％以下である
    ようなシリカ重合体からなるマトリックスとを水および
    ／または有機溶媒に分散または溶解することを特徴とす
    る透明導電性被膜形成用塗布液の製造方法。
  3. 【請求項３】基材表面に請求の範囲第１項に記載の透明
    導電性被膜形成用塗布液を塗布してなる透明導電性被膜
    が形成されていることを特徴とする導電性基材。
  4. 【請求項４】前記透明導電性被膜の表面に透明保護膜が
    形成されている請求の範囲第３項に記載の導電性基材。
  5. 【請求項５】前記透明導電性被膜が形成された基材表面
    の表面抵抗が103〜1010Ω／□、ヘイズが１％以下であ
    る請求の範囲第３項または第４項に記載の導電性基材。
  6. 【請求項６】前記透明導電性被膜が形成された基材表面
    の表面抵抗が103〜1010Ω／□、光沢度が40〜90％であ
    る請求の範囲第３項または第４項に記載の導電材料。
  7. 【請求項７】前記透明導電性被膜および透明保護膜が形
    成された基材表面の表面抵抗が103〜1010Ω／□、光沢
    度が40〜90％、表面反射率が１％以下である請求の範囲
    第４項に記載の導電性基材。
  8. 【請求項８】基材表面に、請求の範囲第１項に記載の透
    明導電性被膜形成用塗布液を塗布し、次いでこのように
    して基材表面に形成された透明導電性被膜を加熱して、
    導電性基材を製造するに際して、未硬化段階の透明導電
    性被膜に可視光線よりも波長の短い電磁波を照射するこ
    とを特徴とする導電性基材の製造方法。
  9. 【請求項９】基材表面に、請求の範囲第１項に記載の透
    明導電性被膜形成用塗布液を塗布し、次いでこのように
    して基材表面に形成された透明導電性被膜を加熱して、
    導電性基材を製造するに際して、未硬化段階の透明導電
    性被膜を硬化反応を促進するガス雰囲気中に晒すことを
    特徴とする導電性基材の製造方法。
  10. 【請求項１０】前記硬化反応を促進するガスが、アンモ
    ニアである請求の範囲第９項に記載の透明導電性基材の
    製造方法。
  11. 【請求項１１】前記硬化反応を促進するガスが、オゾン
    である請求の範囲第９項に記載の透明導電性基材の製造
    方法。
  12. 【請求項１２】下記の透明導電性被膜形成用塗布液； （ａ）平均粒径が50〜500Åの範囲にあり、 （ｂ）600Å以下の粒子が60重量％以上であり、 （ｃ）100Å以下の粒子が５重量％以上であり、 （ｄ）1000Å以上の粒子が15重量％以下である導電性粒
    子と、 （イ）平均重合度が1,500〜10,000であり、 （ロ）重合度3,000以下の重合体が50重量％以下であ
    り、 （ハ）重合度10,000以上の重合体が20重量％以下である
    ようなシリカ重合体からなるマトリックスとを含有して
    なる透明導電性被膜形成用塗布液を用いて形成された透
    明導電性被膜を外表面に有する表示パネルを備えている
    ことを特徴とする表示装置。
  13. 【請求項１３】前記透明導電性被膜の表面に透明保護膜
    が形成された表示パネルを備えていることを特徴とする
    表示装置。
  14. 【請求項１４】前記透明導電性被膜が形成された表示パ
    ネルの表面抵抗が103〜1010Ω／□、ヘーズが１％以
    下、解像度が70本/cm以上であることを特徴とする請求
    の範囲第12項または第13項に記載の表示装置。
  15. 【請求項１５】前記透明導電性被膜が形成された表示パ
    ネルの表面抵抗が103〜1010Ω／□、光沢度が40〜90
    ％、解像度が60本/cm以上であることを特徴とする請求
    の範囲第12項または第13項に記載の表示装置。
  16. 【請求項１６】前記透明導電性被膜と透明保護膜が形成
    された表示パネルの表面抵抗が103〜1010Ω／□、光沢
    度が40〜90％、表示反射率が１％以下、解像度が60本/c
    m以上である請求の範囲第13項に記載の表示装置。
JP50053492A 1990-11-21 1991-11-21 透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を備えた表示装置 Expired - Lifetime JP3280667B2 (ja)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31657590 1990-11-21
JP9065091 1991-04-22
JP2-316575 1991-04-22
JP3-90650 1991-04-22
PCT/JP1991/001603 WO1992009665A1 (en) 1990-11-21 1991-11-21 Coating solution for forming transparent electrically conductive film, method of preparation thereof, electrically conductive substrate, method of preparation thereof, and display device having transparent electrically conductive substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP3280667B2 true JP3280667B2 (ja) 2002-05-13

Family

ID=26432103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP50053492A Expired - Lifetime JP3280667B2 (ja) 1990-11-21 1991-11-21 透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を備えた表示装置

Country Status (7)

Country Link
US (2) US5376308A (ja)
EP (1) EP0514557B1 (ja)
JP (1) JP3280667B2 (ja)
KR (1) KR960002743B1 (ja)
DE (1) DE69130921T2 (ja)
SG (1) SG42911A1 (ja)
WO (1) WO1992009665A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007511356A (ja) * 2003-11-21 2007-05-10 ザ ユニヴァーシティ オヴ クイーンズランド シリカ膜およびその製造方法

Families Citing this family (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5376308A (en) * 1990-11-21 1994-12-27 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solution for forming transparent conductive coating and process for preparing same
US5504133A (en) * 1993-10-05 1996-04-02 Mitsubishi Materials Corporation Composition for forming conductive films
JPH0859239A (ja) * 1994-02-14 1996-03-05 Nyacol Prod Inc 酸化スズフィルム
US5569412A (en) * 1994-08-18 1996-10-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Tin oxide based conductive powders and coatings
US5580662A (en) * 1995-03-09 1996-12-03 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Antistatic coating for video display screen
TWI234674B (en) * 1995-10-12 2005-06-21 Hitachi Ltd In-plane electric field LCD panel with structure for preventing electric charging
US5773150A (en) * 1995-11-17 1998-06-30 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes
NL1004635C2 (nl) * 1995-12-06 1999-01-12 Sumitomo Chemical Co Indiumoxyde-tinoxydepoeders en werkwijze voor het voortbrengen daarvan.
EP0781817A1 (en) * 1995-12-27 1997-07-02 HEAT SYSTEM RESEARCH & INDUSTRY, INC. Water soluble pyrolytic paint
US5670259A (en) * 1995-12-29 1997-09-23 Heat System Research & Industry, Inc. Water soluble pyrolytic paint
KR100388899B1 (ko) * 1995-12-29 2003-09-06 삼성에스디아이 주식회사 도전막조성물및이를사용하여형성된도전막을채용한음극선관용벌브
KR100225910B1 (ko) 1996-04-04 1999-10-15 구자홍 액정표시장치(liquid crystal display device)
JPH09286936A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 透明導電膜形成用塗布液、これを用いた透明導電膜及びその形成方法
KR100209531B1 (ko) 1996-06-22 1999-07-15 구자홍 액정표시장치
KR100218697B1 (ko) * 1996-09-23 1999-09-01 구자홍 액정표시소자
US6812985B1 (en) 1996-09-23 2004-11-02 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. Liquid crystal display device
JPH10104606A (ja) * 1996-09-27 1998-04-24 Toray Ind Inc 液晶表示装置
KR100234170B1 (ko) * 1996-12-10 2000-01-15 손욱 투명도전성 박막 형성용 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막의 제조방법 및 표면도전성 물품
KR100257370B1 (ko) 1997-05-19 2000-05-15 구본준 횡전계방식액정표시장치
KR100257369B1 (ko) 1997-05-19 2000-05-15 구본준 횡전계방식액정표시장치
US6972818B1 (en) 1997-05-19 2005-12-06 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. In-plane switching mode liquid crystal display device
US6577358B1 (en) * 1997-06-25 2003-06-10 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lens film with conductive lens layer or conductive layer
US6184961B1 (en) 1997-07-07 2001-02-06 Lg Electronics Inc. In-plane switching mode liquid crystal display device having opposite alignment directions for two adjacent domains
KR100251512B1 (ko) 1997-07-12 2000-04-15 구본준 횡전계방식 액정표시장치
KR100472496B1 (ko) * 1997-07-23 2005-05-16 삼성에스디아이 주식회사 투명도전성조성물,이로부터형성된투명도전막및그제조방법
US6697140B2 (en) 1997-07-29 2004-02-24 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. In-plane switching mode liquid crystal display device wherein portions of second gate line overlaps with data electrode
JPH1152403A (ja) * 1997-07-31 1999-02-26 Mitsubishi Electric Corp 液晶表示装置
KR100255931B1 (ko) * 1997-08-14 2000-05-01 구본준, 론 위라하디락사 횡전계방식 액정표시소자
US6549258B1 (en) 1997-09-04 2003-04-15 Lg. Philips Lcd Co., Ltd. Hybrid switching mode liquid crystal display device
TW505685B (en) 1997-09-05 2002-10-11 Mitsubishi Materials Corp Transparent conductive film and composition for forming same
KR100293434B1 (ko) 1997-09-08 2001-08-07 구본준, 론 위라하디락사 횡전계방식액정표시소자
KR100293436B1 (ko) 1998-01-23 2001-08-07 구본준, 론 위라하디락사 횡전계방식액정표시장치
US6122033A (en) * 1998-04-06 2000-09-19 National Semiconductor Corporation Fusible seal for LCD devices and methods for making same
US6562465B1 (en) * 1998-04-24 2003-05-13 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating liquid for forming a silica-containing film with a low-dielectric constant and substrate coated with such a film
KR100344844B1 (ko) 1998-07-07 2002-11-18 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자및그제조방법
KR100320416B1 (ko) 1998-08-26 2002-09-17 엘지.필립스 엘시디 주식회사 횡전계방식액정표시소자
KR100595294B1 (ko) 1999-12-14 2006-07-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 횡전계방식 액정표시장치용 칼라필터 기판의 제조방법
KR100504531B1 (ko) * 1999-12-15 2005-08-03 엘지.필립스 엘시디 주식회사 횡전계방식 액정표시장치
DE10043110B4 (de) * 2000-08-31 2007-12-27 Siemens Ag Anzeigevorrichtung mit einer transparenten Abdeckung
US6897918B1 (en) 2000-09-15 2005-05-24 Toray Industries, Inc. Color filter with protrusion
US6743516B2 (en) * 2000-09-29 2004-06-01 Guardian Industries Corporation Highly durable hydrophobic coatings and methods
JP2002167576A (ja) * 2000-12-04 2002-06-11 Nof Corp 高屈折率導電性材料用組成物、透明導電性材料ならびに減反射材
JP5187990B2 (ja) * 2000-12-22 2013-04-24 日揮触媒化成株式会社 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材ならびに表示装置
US6623662B2 (en) 2001-05-23 2003-09-23 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption
US6811878B2 (en) * 2001-06-27 2004-11-02 Fuji Photo Film Co., Ltd. Conductive film
US6746530B2 (en) 2001-08-02 2004-06-08 Chunghwa Pictures Tubes, Ltd. High contrast, moisture resistant antistatic/antireflective coating for CRT display screen
US6521346B1 (en) 2001-09-27 2003-02-18 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Antistatic/antireflective coating for video display screen with improved refractivity
US6764580B2 (en) 2001-11-15 2004-07-20 Chungwa Picture Tubes, Ltd. Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering
US7015280B2 (en) * 2002-03-22 2006-03-21 Northern Illinois University Conductive emulsion for preparing surface for powder coating
US6656331B2 (en) 2002-04-30 2003-12-02 Chunghwa Picture Tubes, Ltd. Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen
DE10311639A1 (de) 2003-03-14 2004-09-23 Röhm GmbH & Co. KG Antistatisch beschichteter Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
EP1794244A1 (en) * 2004-07-23 2007-06-13 CPFilms Inc. A film having an electrically conductive coating
WO2006102669A1 (en) * 2005-03-24 2006-09-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for uniformly dispersing particles in a polymer
EP1734016B1 (en) * 2005-05-31 2017-01-04 BrisMat Inc. Silica and silica-like films and method of production
US8871335B2 (en) * 2005-08-31 2014-10-28 Kuraray America Inc. Solar control laminate
JP2007066711A (ja) * 2005-08-31 2007-03-15 Tdk Corp 透明導電体及びこれを用いた透明導電フィルム
US20070297966A1 (en) * 2006-06-22 2007-12-27 Nissan Chemical Industries, Ltd. Conductive tin oxide sol and process for producing same
US8030376B2 (en) 2006-07-12 2011-10-04 Minusnine Technologies, Inc. Processes for dispersing substances and preparing composite materials
JP4872620B2 (ja) * 2006-11-17 2012-02-08 Ｔｄｋ株式会社 透明導電フィルムの製造方法
WO2008132829A1 (ja) 2007-04-20 2008-11-06 Fujitsu Limited 電極箔及びその製造方法,並びに電解コンデンサ
US20100126227A1 (en) * 2008-11-24 2010-05-27 Curtis Robert Fekety Electrostatically depositing conductive films during glass draw
RU2720133C2 (ru) * 2015-02-26 2020-04-24 Дайнемик Солар Системс Аг Способ получения электротехнических тонких пленок при комнатной температуре и электротехническая тонкая пленка
EP3541762B1 (en) 2016-11-17 2022-03-02 Cardinal CG Company Static-dissipative coating technology

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0035609A1 (en) * 1980-02-29 1981-09-16 Swedlow, Inc. Transparent abrasion resistant coating composition
JPS5840375A (ja) * 1981-09-04 1983-03-09 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 導電性塗料組成物
JPS60181177A (ja) * 1984-02-29 1985-09-14 Sekisui Chem Co Ltd 導電性塗料組成物
JPH0719551B2 (ja) * 1985-04-22 1995-03-06 東レ株式会社 電磁波シールド性を有する光学フィルター
JPH0615071B2 (ja) * 1985-07-01 1994-03-02 タキロン株式会社 導電性塗膜の形成方法
EP0232033B1 (en) * 1986-01-24 1993-04-07 Sumitomo Chemical Company, Limited Transparent electrically conductive plastic molded articles
US4937148A (en) * 1986-03-06 1990-06-26 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Process for preparing conductive fine particles
JPS6311519A (ja) * 1986-03-06 1988-01-19 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 導電性微粉末の製造法
JPS62230617A (ja) * 1986-04-01 1987-10-09 Catalysts & Chem Ind Co Ltd 酸化錫ゾル及びその製造方法
JPH0619074B2 (ja) * 1986-08-12 1994-03-16 触媒化成工業株式会社 導電性塗料
JPS6366267A (ja) * 1986-09-05 1988-03-24 Honny Chem Ind Co Ltd 可塑化軟質ポリ塩化ビニル用透明導電性コ−テイング剤
JPS63193971A (ja) * 1987-02-05 1988-08-11 Toray Ind Inc 透明導電性被膜
JPS63251466A (ja) * 1987-04-06 1988-10-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱伝導性液状シリコ−ンゴム組成物
US5013607A (en) * 1987-09-30 1991-05-07 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Transparent conductive ceramic-coated substrate processes for preparing same and uses thereof
US5382383A (en) * 1988-08-24 1995-01-17 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solutions for forming transparent conductive ceramic coatings, substrates coated with transparent conductive ceramic coatings and process for preparing same, and uses of substrates coated with transparent conductive ceramic coatings
JPH0277473A (ja) * 1988-09-14 1990-03-16 Hitachi Chem Co Ltd 無機導電塗料
JP2728172B2 (ja) * 1989-02-21 1998-03-18 触媒化成工業株式会社 スズ・アンチモン複合酸化物ゾルの製造方法
JPH02259726A (ja) * 1989-03-31 1990-10-22 Toshiba Corp 透明導電性フィルム、分散型ｅｌパネルおよび液晶表示装置
JPH02269381A (ja) * 1989-04-11 1990-11-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 映像表示装置
JPH0222340A (ja) * 1989-05-29 1990-01-25 Toray Ind Inc 透明被覆層を有する成形体
JPH0791464B2 (ja) * 1989-10-31 1995-10-04 信越化学工業株式会社 導電性シリコーンゴム組成物およびその硬化物
JP3133357B2 (ja) * 1990-06-11 2001-02-05 日本エーアールシー株式会社 高屈折率耐擦傷性被膜形成用コーティング組成物および該組成物を用いる成形体
US5376308A (en) * 1990-11-21 1994-12-27 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. Coating solution for forming transparent conductive coating and process for preparing same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007511356A (ja) * 2003-11-21 2007-05-10 ザ ユニヴァーシティ オヴ クイーンズランド シリカ膜およびその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5376308A (en) 1994-12-27
US5492762A (en) 1996-02-20
KR920703742A (ko) 1992-12-18
EP0514557A4 (en) 1993-07-28
KR960002743B1 (ko) 1996-02-26
SG42911A1 (en) 1997-10-17
DE69130921T2 (de) 1999-06-24
EP0514557B1 (en) 1999-02-24
WO1992009665A1 (en) 1992-06-11
DE69130921D1 (de) 1999-04-01
EP0514557A1 (en) 1992-11-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3280667B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、その製造方法、導電性基材、その製造方法および透明導電性基材を備えた表示装置
KR950013731B1 (ko) 투명도전성 세라믹 피막 형성용 도포액, 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재 및 이것의 제조방법 및 투명도전성 세라믹 피막을 부착한 기재를 사용하는 방법
TWI302559B (ja)
TWI357432B (en) Antireflective coating composition with stain resi
JP4031624B2 (ja) 透明被膜付基材、透明被膜形成用塗布液、および表示装置
JP3302186B2 (ja) 透明導電性被膜付基材、その製造方法および該基材を備えた表示装置
WO2004070436A1 (ja) 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品
JPH1161029A (ja) 防曇性コーティング材料、防曇性塗膜および防曇性物品
US5013607A (en) Transparent conductive ceramic-coated substrate processes for preparing same and uses thereof
JP4540979B2 (ja) ハードコート膜付基材および該ハードコート膜形成用塗布液
JP4866811B2 (ja) 反射防止フィルム
JP4522505B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP4343520B2 (ja) 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材、表示装置
JP2007121786A (ja) コーティング液の製造方法、およびそのコーティング液を用いた反射防止膜の製造方法
GB2288184A (en) Coating composition
JP5068298B2 (ja) 透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置
JP2009160755A (ja) 透明被膜付基材
JPS5813101B2 (ja) コロイドシリカとコロイドチタニアとの分散体から成る組成物
JPH01261469A (ja) 透明導電性被膜
JP3606772B2 (ja) 透明帯電防止膜形成用塗料および透明帯電防止膜付基材
JP2509722B2 (ja) 透明導電性セラミックス被膜形成用塗布液、透明導電性セラミックス被膜付基材およびその製造方法、ならびに透明導電性セラミックス被膜付基材の用途
JP2002317151A (ja) フィルム基材用ハードコート膜及びその製造方法
JP4586496B2 (ja) 導電層を備えた積層体
JP2007106936A (ja) 帯電防止膜形成用組成物
JPS63218350A (ja) 制電性を有する反射防止性光透過板

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080222

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090222

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100222

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100222

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110222

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120222

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120222

Year of fee payment: 10