JPH1152403A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH1152403A JPH1152403A JP9206354A JP20635497A JPH1152403A JP H1152403 A JPH1152403 A JP H1152403A JP 9206354 A JP9206354 A JP 9206354A JP 20635497 A JP20635497 A JP 20635497A JP H1152403 A JPH1152403 A JP H1152403A
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- substrate
- display device
- crystal display
- polarizing plate
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
- G02F1/13452—Conductors connecting driver circuitry and terminals of panels
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
- G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
- G02F1/134363—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板表面に電荷が蓄積されることがなく、残
像が現れない液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板
と対向基板とを一定間隔で平行に保った間隙に挟持され
る液晶とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電
極に電圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を
発生させ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動
する面内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基
板が、前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導
電膜層が設けられている。
像が現れない液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板
と対向基板とを一定間隔で平行に保った間隙に挟持され
る液晶とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電
極に電圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を
発生させ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動
する面内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基
板が、前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導
電膜層が設けられている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に関す
る。さらに詳しくは残像のない表示品位の良好な液晶表
示装置に関する。
る。さらに詳しくは残像のない表示品位の良好な液晶表
示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は薄型、軽量、低消費電力
などの特徴を有するため、腕時計、電卓などの表示装置
として広く用いられている。とくに薄膜トランジスタ
（thin film transistor、以下、ＴＦＴと略記する）な
どによりアクティブ駆動を行なうツイステットネマチッ
ク（twisted nematic、以下、ＴＮと略記する）型液晶
表示装置はワードプロセッサー、パーソナルコンピュー
タなどの表示装置やテレビなどに適用され、従来の最も
一般的な表示装置であるＣＲＴ(cathode ray tube)に置
き換わりつつある。
などの特徴を有するため、腕時計、電卓などの表示装置
として広く用いられている。とくに薄膜トランジスタ
（thin film transistor、以下、ＴＦＴと略記する）な
どによりアクティブ駆動を行なうツイステットネマチッ
ク（twisted nematic、以下、ＴＮと略記する）型液晶
表示装置はワードプロセッサー、パーソナルコンピュー
タなどの表示装置やテレビなどに適用され、従来の最も
一般的な表示装置であるＣＲＴ(cathode ray tube)に置
き換わりつつある。
【０００３】しかしこのＴＮ型液晶表示装置は一般に視
野角が狭く、斜め方向から眺めたときにコントラストが
低下し、階調が反転して観察されるという問題を有して
いる。とくに近年、液晶表示装置の大型化が進み、同一
の観察点から表示面の上下左右端を眺めたばあいにさえ
表示に差が見られるため視野角の拡大が求められてい
る。
野角が狭く、斜め方向から眺めたときにコントラストが
低下し、階調が反転して観察されるという問題を有して
いる。とくに近年、液晶表示装置の大型化が進み、同一
の観察点から表示面の上下左右端を眺めたばあいにさえ
表示に差が見られるため視野角の拡大が求められてい
る。
【０００４】ＴＮ型液晶表示装置では液晶分子の電界に
よる立ち上がりを利用して表示を行なっているが、その
立ち上がり方向に異方性があるので、斜め方向から観察
したときに表示品位低下が生じると考えられている。つ
まり一方向から立ち上がる液晶分子を種々の方向から眺
めるとその光学的寄与が変化するので視野角に対する表
示変化が生じると考えられ、ＴＮ液晶表示装置の本質的
問題であるといえる。
よる立ち上がりを利用して表示を行なっているが、その
立ち上がり方向に異方性があるので、斜め方向から観察
したときに表示品位低下が生じると考えられている。つ
まり一方向から立ち上がる液晶分子を種々の方向から眺
めるとその光学的寄与が変化するので視野角に対する表
示変化が生じると考えられ、ＴＮ液晶表示装置の本質的
問題であるといえる。
【０００５】この問題を解決するために最近、面内応答
型液晶表示装置の例が特公昭６３−２１９０７号公報や
国際公開第９１／１０９３６号に提案されている。この
面内応答型液晶表示装置は同一基板上に一対のくし型電
極を作製し、基板面に平行な電界を発生させ、この電界
の変化により液晶分子を応答させるものである。液晶分
子は電界に沿って基板面に平行に回転するので、基板面
に対する角度が小さい。このため、液晶分子を種々の方
向から眺めると、視野角に対する表示変化が少なくな
る。この面内応答型液晶表示装置は、くし型電極基板と
対向基板を重ね、接着剤で接合し、２枚の基板間に液晶
材料を注入し、偏光板を貼りつけて製造する。
型液晶表示装置の例が特公昭６３−２１９０７号公報や
国際公開第９１／１０９３６号に提案されている。この
面内応答型液晶表示装置は同一基板上に一対のくし型電
極を作製し、基板面に平行な電界を発生させ、この電界
の変化により液晶分子を応答させるものである。液晶分
子は電界に沿って基板面に平行に回転するので、基板面
に対する角度が小さい。このため、液晶分子を種々の方
向から眺めると、視野角に対する表示変化が少なくな
る。この面内応答型液晶表示装置は、くし型電極基板と
対向基板を重ね、接着剤で接合し、２枚の基板間に液晶
材料を注入し、偏光板を貼りつけて製造する。
【０００６】図１５は、アレイ基板が導電性を有しない
構成の面内応答型液晶表示装置のセルの断面説明図であ
る。図１５において１ａおよび１ｂは配向膜であり、２
はカラーフィルタ保護層であり、３はカラーフィルタで
あり４はくし型電極であり、６は偏光板であり、７ａお
よび７ｂはガラス基板であり、８は対向基板であり、１
０ａおよび１０ｂは電荷の帯電した領域であり、１１は
液晶層である。１０ａおよび１０ｂは電荷が局所的に分
布している領域を示している。領域１０ａがたとえば＋
に帯電しているばあいは、領域１０ｂは−に帯電してい
る。帯電の量は正負同じである。この液晶表示装置の表
面を擦るなどして静電気などにより電荷が注入されたば
あい、対向基板は導電性を有していないので、対向基板
上では電荷は拡散されることはなく、または基板外に除
外されることはなく、１０ａおよび１０ｂに示すように
局所的に電荷が蓄積された領域が生じる。このような局
所的な電荷の蓄積は、基板上での放電をひき起こし、基
板やＴＦＴなどの損傷または破壊をもたらすので、従来
のＴＮ型液晶表示装置において、電荷の蓄積を防止する
ために導電膜を設けたのち、構成要素のいずれかに導電
性をもたせる例（特開平４−６０５１２号、特開平４−
２４５２２０号、特開昭６０−２６３１２３号、特開平
３−２３５９１９号、特開昭６３−５６６２５号、特開
平５−２３２４５９号の各公報）がある。しかし、これ
らの従来例はいずれも面内応答型液晶表示装置とは基板
上の電極などの構成が異なっており、基板面に平行な電
界により液晶分子を応答させるという駆動方式ではない
ので、前述したように視野角を拡大し、視野角に対する
表示変化を少なくすることはできない。
構成の面内応答型液晶表示装置のセルの断面説明図であ
る。図１５において１ａおよび１ｂは配向膜であり、２
はカラーフィルタ保護層であり、３はカラーフィルタで
あり４はくし型電極であり、６は偏光板であり、７ａお
よび７ｂはガラス基板であり、８は対向基板であり、１
０ａおよび１０ｂは電荷の帯電した領域であり、１１は
液晶層である。１０ａおよび１０ｂは電荷が局所的に分
布している領域を示している。領域１０ａがたとえば＋
に帯電しているばあいは、領域１０ｂは−に帯電してい
る。帯電の量は正負同じである。この液晶表示装置の表
面を擦るなどして静電気などにより電荷が注入されたば
あい、対向基板は導電性を有していないので、対向基板
上では電荷は拡散されることはなく、または基板外に除
外されることはなく、１０ａおよび１０ｂに示すように
局所的に電荷が蓄積された領域が生じる。このような局
所的な電荷の蓄積は、基板上での放電をひき起こし、基
板やＴＦＴなどの損傷または破壊をもたらすので、従来
のＴＮ型液晶表示装置において、電荷の蓄積を防止する
ために導電膜を設けたのち、構成要素のいずれかに導電
性をもたせる例（特開平４−６０５１２号、特開平４−
２４５２２０号、特開昭６０−２６３１２３号、特開平
３−２３５９１９号、特開昭６３−５６６２５号、特開
平５−２３２４５９号の各公報）がある。しかし、これ
らの従来例はいずれも面内応答型液晶表示装置とは基板
上の電極などの構成が異なっており、基板面に平行な電
界により液晶分子を応答させるという駆動方式ではない
ので、前述したように視野角を拡大し、視野角に対する
表示変化を少なくすることはできない。
【０００７】本発明においては局所的な電荷の蓄積を解
消することは、このことにより、視野角を大幅に拡大で
きるという画期的な面内応答型の液晶表示装置を実現で
きるという意義を有している。
消することは、このことにより、視野角を大幅に拡大で
きるという画期的な面内応答型の液晶表示装置を実現で
きるという意義を有している。
【０００８】以下、局所的な電荷の蓄積と、液晶分子の
挙動との関係を説明する。面内応答型液晶表示装置にお
いて、局所的な電荷の蓄積により、基板上に、電荷が蓄
積された場所と蓄積されない場所が存在するようにな
る。電荷が蓄積される場所と蓄積されない場所で液晶分
子の立ち上がりの角度に差が生じる。したがって、この
現象が残像として認識され、表示品位を著しく低下させ
るのであると推定されている。
挙動との関係を説明する。面内応答型液晶表示装置にお
いて、局所的な電荷の蓄積により、基板上に、電荷が蓄
積された場所と蓄積されない場所が存在するようにな
る。電荷が蓄積される場所と蓄積されない場所で液晶分
子の立ち上がりの角度に差が生じる。したがって、この
現象が残像として認識され、表示品位を著しく低下させ
るのであると推定されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】面内応答型液晶表示装
置は一対のくし型電極を一方の基板上に形成し、もう一
方の基板（以下対向基板と記す）上には導電部分を有し
ていない。このため、外部からの静電気などにより電荷
が注入されたばあい、対向基板上では電荷は拡散される
ことはなくまたは基板外に除外されることなく、局所的
に蓄積される。つまり電荷が蓄積された場所と蓄積され
ない場所が存在するようになる。電荷が蓄積される場所
と蓄積されない場所で液晶分子の立ち上がりの角度に差
が生じる。この現象が、残像として認識され、表示品位
を著しく低下させるという問題を有している。本発明は
このような問題を解決するためになされたものであり、
基板表面に電荷が蓄積されることがなく、残像が現れな
い液晶表示装置を提供することを目的とする。
置は一対のくし型電極を一方の基板上に形成し、もう一
方の基板（以下対向基板と記す）上には導電部分を有し
ていない。このため、外部からの静電気などにより電荷
が注入されたばあい、対向基板上では電荷は拡散される
ことはなくまたは基板外に除外されることなく、局所的
に蓄積される。つまり電荷が蓄積された場所と蓄積され
ない場所が存在するようになる。電荷が蓄積される場所
と蓄積されない場所で液晶分子の立ち上がりの角度に差
が生じる。この現象が、残像として認識され、表示品位
を著しく低下させるという問題を有している。本発明は
このような問題を解決するためになされたものであり、
基板表面に電荷が蓄積されることがなく、残像が現れな
い液晶表示装置を提供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、２枚の基板間に液晶材料を挟持した液晶表示装置で
あって、同一基板上に配置した一対のくし型電極間に電
圧を印加し、基板面にほぼ平行方向に発生した電界によ
り液晶層の複屈折を変化させ、表示を行う液晶表示装置
であり、アレイ基板が導電層を有していることにより、
外部から静電気などにより電荷が注入されると、一時的
に電荷が局所的に蓄積され、そののち導電層を介して電
荷が基板表面に均一に拡散し、残像のない良好な表示を
与えるものである。
は、２枚の基板間に液晶材料を挟持した液晶表示装置で
あって、同一基板上に配置した一対のくし型電極間に電
圧を印加し、基板面にほぼ平行方向に発生した電界によ
り液晶層の複屈折を変化させ、表示を行う液晶表示装置
であり、アレイ基板が導電層を有していることにより、
外部から静電気などにより電荷が注入されると、一時的
に電荷が局所的に蓄積され、そののち導電層を介して電
荷が基板表面に均一に拡散し、残像のない良好な表示を
与えるものである。
【００１１】本発明の請求項１にかかわる液晶表示装置
は、アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板と対向基板
とを一定間隔で平行に保った間隙による挟持される液晶
とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電極に電
圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を発生さ
せ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動する面
内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基板が、
前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導電膜層
が設けられている。
は、アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板と対向基板
とを一定間隔で平行に保った間隙による挟持される液晶
とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電極に電
圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を発生さ
せ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動する面
内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基板が、
前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導電膜層
が設けられている。
【００１２】請求項２にかかわる液晶表示装置において
は、前記導電膜層の抵抗率が、シート抵抗で１０Ω以上
１×１０10Ω以下であると、電荷を拡散させるので好ま
しい。
は、前記導電膜層の抵抗率が、シート抵抗で１０Ω以上
１×１０10Ω以下であると、電荷を拡散させるので好ま
しい。
【００１３】請求項３にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板に導電性が付与されていると、電荷の
局所的な蓄積を防ぐことができるので好ましい。
は、前記対向基板に導電性が付与されていると、電荷の
局所的な蓄積を防ぐことができるので好ましい。
【００１４】請求項４にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面に導電性が付与されていると、電荷が確実に拡
散するので好ましい。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面に導電性が付与されていると、電荷が確実に拡
散するので好ましい。
【００１５】請求項５にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面と
は反対側の第２の面のほぼ全面に導電性が付与されてい
ると、液晶層に影響を与えにくいので好ましい。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面と
は反対側の第２の面のほぼ全面に導電性が付与されてい
ると、液晶層に影響を与えにくいので好ましい。
【００１６】請求項６にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面と、該第１の面とは反対側の第２の面のほぼ全
面とに導電性が付与されていると、局所的に存在する電
荷の拡散を促進させるので好ましい。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面と、該第１の面とは反対側の第２の面のほぼ全
面とに導電性が付与されていると、局所的に存在する電
荷の拡散を促進させるので好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明を実施の形態に沿って説明する。また、実施の形態、
および比較例の表示特性を表１にまとめた。
明を実施の形態に沿って説明する。また、実施の形態、
および比較例の表示特性を表１にまとめた。
【００１８】本発明において、アレイ基板や対向基板に
導電性を付与するためになされた研究の成果について、
まず説明する。
導電性を付与するためになされた研究の成果について、
まず説明する。
【００１９】本発明において導電膜層（以下、単に導電
層という）に使用する材料は、アレイ基板の電極形成面
の反対側に使用するばあい、充分な導電性をもたせるた
めシート抵抗は１０Ω以上１×１０10Ω以下であること
が不可欠である。さらに１ｋΩ以下であれば好ましい。
シート抵抗が１×１０10Ωよりも大きいと、導電性が小
さくなり、電荷の拡散、基板外への除去が充分に行われ
ず、残像を低減することができない。また、シート抵抗
が１０Ωよりも小さいと導電層の光吸収により光の透過
率が低下してしまうので、シート抵抗を１０Ω以上とす
る必要がある。導電性を付与する方法としては、酸化イ
ンジウム・スズ（indium tin oxide以下、ＩＴＯと略記
する）膜の形成、偏光板にＩＴＯ膜を付与したＩＴＯつ
き偏光板の使用、導電性粘着剤つき偏光板の使用、ＩＴ
Ｏフィルムの使用などがある。ＩＴＯつき偏光板の偏光
板材料はとくに限定するものではないが、トリアセチル
セルロースをベース基板とする材料があり、従来のＴＮ
型液晶表示装置に用いている偏光板の材料を用いること
ができる。導電性粘着剤つき偏光板の偏光板についても
同様である。
層という）に使用する材料は、アレイ基板の電極形成面
の反対側に使用するばあい、充分な導電性をもたせるた
めシート抵抗は１０Ω以上１×１０10Ω以下であること
が不可欠である。さらに１ｋΩ以下であれば好ましい。
シート抵抗が１×１０10Ωよりも大きいと、導電性が小
さくなり、電荷の拡散、基板外への除去が充分に行われ
ず、残像を低減することができない。また、シート抵抗
が１０Ωよりも小さいと導電層の光吸収により光の透過
率が低下してしまうので、シート抵抗を１０Ω以上とす
る必要がある。導電性を付与する方法としては、酸化イ
ンジウム・スズ（indium tin oxide以下、ＩＴＯと略記
する）膜の形成、偏光板にＩＴＯ膜を付与したＩＴＯつ
き偏光板の使用、導電性粘着剤つき偏光板の使用、ＩＴ
Ｏフィルムの使用などがある。ＩＴＯつき偏光板の偏光
板材料はとくに限定するものではないが、トリアセチル
セルロースをベース基板とする材料があり、従来のＴＮ
型液晶表示装置に用いている偏光板の材料を用いること
ができる。導電性粘着剤つき偏光板の偏光板についても
同様である。
【００２０】対向基板の、アレイ基板と対向する第１の
面（対向内）に使用するばあいは、導電性材料のシート
抵抗が１×１０6以上１×１０13Ω以下であることが不
可欠である。さらには、１×１０7以上１×１０12Ω以
下であることが好ましい。シート抵抗が１×１０6Ωよ
りも小さいと、くし型電極と導電層とのあいだの電界や
容量が増大してしまい、１×１０13Ωよりも大きいと導
電性が小さく、電荷の拡散、電荷の基板外への除去が充
分に行われず、残像を低減することができなくなり、本
発明の目的にそぐわなくなる。使用する構成材料として
は配向膜、カラーフィルタ、カラーフィルタ保護層、Ｉ
ＴＯ膜などと同じ材料がある。
面（対向内）に使用するばあいは、導電性材料のシート
抵抗が１×１０6以上１×１０13Ω以下であることが不
可欠である。さらには、１×１０7以上１×１０12Ω以
下であることが好ましい。シート抵抗が１×１０6Ωよ
りも小さいと、くし型電極と導電層とのあいだの電界や
容量が増大してしまい、１×１０13Ωよりも大きいと導
電性が小さく、電荷の拡散、電荷の基板外への除去が充
分に行われず、残像を低減することができなくなり、本
発明の目的にそぐわなくなる。使用する構成材料として
は配向膜、カラーフィルタ、カラーフィルタ保護層、Ｉ
ＴＯ膜などと同じ材料がある。
【００２１】このように導電性を有する配向膜材料はと
くに限定するものではないが、π共役系高分子、金属酸
化物、電荷移動錯体などを用いることもできるπ共役系
高分子はポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェ
ン、ポリチエニレンビニレン、ポリフェニレンビニレ
ン、ポリアニリン、およびこれらの誘導体がある。これ
ら以外にも導電性を示し、液晶材料に配向を与える材料
であれば、とくに制限はない。またこれらの材料を単独
で用いず、組み合わせて使用することもできる。組み合
わせて使用する方法は、π共役系高分子、金属酸化物、
電荷移動錯体などを従来の配向膜ポリイミドに混合して
使用する方法がある。この他、ポリイミドにＬｉ+、Ｎ
ａ+などのイオンを注入する方法もあげられる。
くに限定するものではないが、π共役系高分子、金属酸
化物、電荷移動錯体などを用いることもできるπ共役系
高分子はポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェ
ン、ポリチエニレンビニレン、ポリフェニレンビニレ
ン、ポリアニリン、およびこれらの誘導体がある。これ
ら以外にも導電性を示し、液晶材料に配向を与える材料
であれば、とくに制限はない。またこれらの材料を単独
で用いず、組み合わせて使用することもできる。組み合
わせて使用する方法は、π共役系高分子、金属酸化物、
電荷移動錯体などを従来の配向膜ポリイミドに混合して
使用する方法がある。この他、ポリイミドにＬｉ+、Ｎ
ａ+などのイオンを注入する方法もあげられる。
【００２２】導電性を有するカラーフィルタは、アント
ラセン、テトラセンなどの多環芳香族化合物やフタロシ
アニン系化合物を従来のカラーフィルタ着色層に混合し
たり、π共役系高分子を混合するなどして作製し、使用
することができる。またこれら以外にも導電性を示し、
色相を表すことができる材料であればとくに制限はな
い。
ラセン、テトラセンなどの多環芳香族化合物やフタロシ
アニン系化合物を従来のカラーフィルタ着色層に混合し
たり、π共役系高分子を混合するなどして作製し、使用
することができる。またこれら以外にも導電性を示し、
色相を表すことができる材料であればとくに制限はな
い。
【００２３】導電性を有するカラーフィルタ保護膜は、
π共役系高分子、金属酸化物、電荷移動錯体などの導電
性材料やこれらをアクリル系高分子に混合して使用する
ことができる。またこれら以外に導電性を示す材料であ
れば、とくに制限はない。
π共役系高分子、金属酸化物、電荷移動錯体などの導電
性材料やこれらをアクリル系高分子に混合して使用する
ことができる。またこれら以外に導電性を示す材料であ
れば、とくに制限はない。
【００２４】ＩＴＯ膜は、真空蒸着法、スパッタリング
法、スピンコート法などで形成する。膜厚は膜全体で均
一である必要はない。
法、スピンコート法などで形成する。膜厚は膜全体で均
一である必要はない。
【００２５】さらに対向基板の、前記第１の面とは反対
側の第２の面（対向外）に導電性を有するばあい、すな
わち、アレイ基板と反対側の面に導電性を有するばあ
い、アレイ基板上の導電層と同様にシート抵抗が１０Ω
以上１×１０10Ω以下であることが不可欠である。さら
に１ｋΩ以下であれば好ましい。シート抵抗の範囲を限
定する理由は、アレイ基板に導電層を形成するばあいと
同じである。シート抵抗が１×１０10Ωよりも大きい
と、導電性が小さくなり、電荷の拡散、基板外への除去
が充分に行われず、残像を低減することはできない。導
電性を有する方法としてはＩＴＯ膜の形成、ＩＴＯつき
偏光板の使用、導電性粘着剤つき偏光板の使用、ＩＴＯ
フィルムの使用などがある。ＩＴＯつき偏光板の偏光材
料はとくに限定するものではないが、トリアセチルセル
ロースをベース基板とする材料があり、従来の液晶表示
装置に用いている偏光板を用いることができる。導電性
粘着剤つき偏光板の偏光板も同様である。
側の第２の面（対向外）に導電性を有するばあい、すな
わち、アレイ基板と反対側の面に導電性を有するばあ
い、アレイ基板上の導電層と同様にシート抵抗が１０Ω
以上１×１０10Ω以下であることが不可欠である。さら
に１ｋΩ以下であれば好ましい。シート抵抗の範囲を限
定する理由は、アレイ基板に導電層を形成するばあいと
同じである。シート抵抗が１×１０10Ωよりも大きい
と、導電性が小さくなり、電荷の拡散、基板外への除去
が充分に行われず、残像を低減することはできない。導
電性を有する方法としてはＩＴＯ膜の形成、ＩＴＯつき
偏光板の使用、導電性粘着剤つき偏光板の使用、ＩＴＯ
フィルムの使用などがある。ＩＴＯつき偏光板の偏光材
料はとくに限定するものではないが、トリアセチルセル
ロースをベース基板とする材料があり、従来の液晶表示
装置に用いている偏光板を用いることができる。導電性
粘着剤つき偏光板の偏光板も同様である。
【００２６】さらに本発明において、対向基板の前記第
１の面および前記第２の面（対向内外）に導電性を有す
るばあい、すなわち、対向基板が両面に導電性を有する
ばあいも、既に述べたものと同様のものを使用できる。
アレイ基板と対向する第１の面に使用する導電層はシー
ト抵抗が１×１０6以上１×１０13Ω以下であることが
必要で、さらに１×１０7以上１×１０12Ω以下である
ことが好ましい。前記第１の面と反対側の第２の面に使
用する導電層はシート抵抗が１０Ω以上１×１０10Ω以
下であることが必要で、さらに１ｋΩ以下であることが
好ましい。材質は前述したものと同様のものでよい。
１の面および前記第２の面（対向内外）に導電性を有す
るばあい、すなわち、対向基板が両面に導電性を有する
ばあいも、既に述べたものと同様のものを使用できる。
アレイ基板と対向する第１の面に使用する導電層はシー
ト抵抗が１×１０6以上１×１０13Ω以下であることが
必要で、さらに１×１０7以上１×１０12Ω以下である
ことが好ましい。前記第１の面と反対側の第２の面に使
用する導電層はシート抵抗が１０Ω以上１×１０10Ω以
下であることが必要で、さらに１ｋΩ以下であることが
好ましい。材質は前述したものと同様のものでよい。
【００２７】本発明者らの詳細な検討の結果、図１に示
したようなアレイ基板に導電性を付与するように構成す
ることにより、表示時に液晶表示装置の表面を擦っても
残像が観察者に確認できなくなるという結果をえてい
る。その条件は、導電層のシート抵抗が１０ｋΩ以下で
ある。
したようなアレイ基板に導電性を付与するように構成す
ることにより、表示時に液晶表示装置の表面を擦っても
残像が観察者に確認できなくなるという結果をえてい
る。その条件は、導電層のシート抵抗が１０ｋΩ以下で
ある。
【００２８】つぎに、本発明にかかわる液晶表示装置の
構成を説明する。本発明にかかわる液晶表示装置の部分
断面説明図を図１（ａ）および（ｂ）に示しており、平
面説明図を図２の（ａ）に示しており、側面説明図を図
２の（ｂ）に示しており、その一部分Ｐの部分拡大説明
図を図３に示した。図３の（ａ）は、図２に示した領域
Ｐの平面説明図であり、図３の（ｂ）は領域ＰのＡ−Ａ
線断面説明図である。図２および図３では、アレイ基板
の外側、対向基板の外側にそれぞれ設けられる偏光板は
省略して示している。図１の（ａ）および（ｂ）はアレ
イ基板が電極形成面と反対側に導電層を有し、かつ対向
基板がアレイ基板側に導電性を有する構造の断面説明図
である。これらの図において、１ａおよび１ｂは配向膜
であり、２はカラーフィルタ保護層であり、３はカラー
フィルタであり、４はくし型電極であり、５はＩＴＯ膜
であり、６は偏光板であり、７ａおよび７ｂはガラス基
板であり、８は対向基板であり、９は導電性粘着剤によ
る導電膜であり、１０ａおよび１０ｂは電荷により帯電
している領域であり、１１は液晶層であり、１２はＩＴ
Ｏつき偏光板であり、、１３は導電性粘着剤つき偏光板
である。
構成を説明する。本発明にかかわる液晶表示装置の部分
断面説明図を図１（ａ）および（ｂ）に示しており、平
面説明図を図２の（ａ）に示しており、側面説明図を図
２の（ｂ）に示しており、その一部分Ｐの部分拡大説明
図を図３に示した。図３の（ａ）は、図２に示した領域
Ｐの平面説明図であり、図３の（ｂ）は領域ＰのＡ−Ａ
線断面説明図である。図２および図３では、アレイ基板
の外側、対向基板の外側にそれぞれ設けられる偏光板は
省略して示している。図１の（ａ）および（ｂ）はアレ
イ基板が電極形成面と反対側に導電層を有し、かつ対向
基板がアレイ基板側に導電性を有する構造の断面説明図
である。これらの図において、１ａおよび１ｂは配向膜
であり、２はカラーフィルタ保護層であり、３はカラー
フィルタであり、４はくし型電極であり、５はＩＴＯ膜
であり、６は偏光板であり、７ａおよび７ｂはガラス基
板であり、８は対向基板であり、９は導電性粘着剤によ
る導電膜であり、１０ａおよび１０ｂは電荷により帯電
している領域であり、１１は液晶層であり、１２はＩＴ
Ｏつき偏光板であり、、１３は導電性粘着剤つき偏光板
である。
【００２９】図において、カラーフィルタ３には各フィ
ルタがアレイ状にドットとして配置されている様子を模
式的に示した。また、図１の（ａ）は基板表面に電荷が
局所的に蓄積している状態、図１の（ｂ）は基板表面に
電荷が均一に分布している状態をそれぞれ示している。
ルタがアレイ状にドットとして配置されている様子を模
式的に示した。また、図１の（ａ）は基板表面に電荷が
局所的に蓄積している状態、図１の（ｂ）は基板表面に
電荷が均一に分布している状態をそれぞれ示している。
【００３０】アレイ基板が電極形成面と反対側にほぼ全
面に導電層を有し、かつ対向基板がアレイ基板側にほぼ
全面に導電性を有するばあい、外部から静電気などによ
り電荷が注入されると、図１の（ａ）で示したように局
所的に電荷が蓄積される場所が現れ、それ以外の場所に
は電荷が蓄積されない。電荷が蓄積される領域と電荷が
蓄積されない領域とで液晶分子の立ち上がりの角度に差
が生じ、残像として認識される。しかし、アレイ基板と
対向基板とが導電性を有しているばあいは導電性層を介
して電荷が基板表面に拡散して均一に分布して、残像が
消え、良好な表示をうることができる。ここで、ほぼ全
面とは、基板上で電荷が蓄積されうる領域を全て含むこ
とをいう（以下、同じである）。
面に導電層を有し、かつ対向基板がアレイ基板側にほぼ
全面に導電性を有するばあい、外部から静電気などによ
り電荷が注入されると、図１の（ａ）で示したように局
所的に電荷が蓄積される場所が現れ、それ以外の場所に
は電荷が蓄積されない。電荷が蓄積される領域と電荷が
蓄積されない領域とで液晶分子の立ち上がりの角度に差
が生じ、残像として認識される。しかし、アレイ基板と
対向基板とが導電性を有しているばあいは導電性層を介
して電荷が基板表面に拡散して均一に分布して、残像が
消え、良好な表示をうることができる。ここで、ほぼ全
面とは、基板上で電荷が蓄積されうる領域を全て含むこ
とをいう（以下、同じである）。
【００３１】さらに図４に示すように、アレイ基板面上
にほぼ全面に導電層を有しかつ対向基板がアレイ基板に
対向する第１の面（対向内）にほぼ全面に導電性を有す
る構造、図５に示すように、アレイ基板面上にほぼ全面
に導電層を有しかつ対向基板の第１の面および第２の面
（対向内外）にいずれもほぼ全面に導電性を有する構
造、図６に示すように、アレイ基板面上に導電層を有す
る構造においても同様の作用によって残像が消え、良好
な表示をうることができる。またこれら以外にも導電層
を電気的にグランドに落とす、すなわち接地するための
構造を備えることによっても同様の機構によって残像が
消え、良好な表示をうることができる。
にほぼ全面に導電層を有しかつ対向基板がアレイ基板に
対向する第１の面（対向内）にほぼ全面に導電性を有す
る構造、図５に示すように、アレイ基板面上にほぼ全面
に導電層を有しかつ対向基板の第１の面および第２の面
（対向内外）にいずれもほぼ全面に導電性を有する構
造、図６に示すように、アレイ基板面上に導電層を有す
る構造においても同様の作用によって残像が消え、良好
な表示をうることができる。またこれら以外にも導電層
を電気的にグランドに落とす、すなわち接地するための
構造を備えることによっても同様の機構によって残像が
消え、良好な表示をうることができる。
【００３２】本発明の基板材料はとくに限定するもので
はないが、通常のガラス、石英など従来の液晶表示装置
に用いている材料を用いることができる。また本発明の
電極材料はとくに限定するものではないが、アルミニウ
ム、クロムなどの金属膜、金属酸化膜を用いることがで
きる。
はないが、通常のガラス、石英など従来の液晶表示装置
に用いている材料を用いることができる。また本発明の
電極材料はとくに限定するものではないが、アルミニウ
ム、クロムなどの金属膜、金属酸化膜を用いることがで
きる。
【００３３】実施の形態１．図２は本発明の実施の形態
１である液晶表示装置の全体平面説明図および断面説明
図であり、その一部の断面を拡大した説明図を図１の
（ｂ）に示している。本実施の形態では導電膜として配
向膜材料を用い、ＩＴＯつき偏光板を電極基板（アレイ
基板、以下、電極基板という）に貼付している。対向基
板８はガラス基板上に緑、赤および青の３色のカラーフ
ィルタを形成し、その上にカラーフィルタ保護層を塗布
している。またガラス基板７ｂ上には金属電極を図１４
に示した形状となるようにパターニングしている。図１
４は、くし型電極パターンの斜視説明図であり、図示し
た符号は図１〜図３と共通である。この両基板の間隙に
は液晶組成物からなる厚さ５μｍの液晶層を形成してい
る。
１である液晶表示装置の全体平面説明図および断面説明
図であり、その一部の断面を拡大した説明図を図１の
（ｂ）に示している。本実施の形態では導電膜として配
向膜材料を用い、ＩＴＯつき偏光板を電極基板（アレイ
基板、以下、電極基板という）に貼付している。対向基
板８はガラス基板上に緑、赤および青の３色のカラーフ
ィルタを形成し、その上にカラーフィルタ保護層を塗布
している。またガラス基板７ｂ上には金属電極を図１４
に示した形状となるようにパターニングしている。図１
４は、くし型電極パターンの斜視説明図であり、図示し
た符号は図１〜図３と共通である。この両基板の間隙に
は液晶組成物からなる厚さ５μｍの液晶層を形成してい
る。
【００３４】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。まずガラス基板７ｂ上にスパッタリング法
でクロムを１０００Åの厚さに成膜し、ポジ型感光性レ
ジストを用いてパターニングし、一対のくし型電極４を
形成した。くし型電極の電極幅は５μｍとし、電極間隔
も５μｍとした。このガラス基板上にポリイミド（日本
合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からなる配向膜１ｂを
スピンコート法によって８００Åの厚さに成膜し、焼成
（１８０℃、１時間３０分）した。対向基板８上に配向
膜材料ポリアセチレンを８００Åの厚さに成膜した。こ
の配向膜材料のシート抵抗は４．３×１０8Ωであっ
た。くし型電極を形成した電極基板とこの対向基板とに
ラビング処理を行った。電極基板のラビング方向は電極
間方向から０〜４５度ずらした方向とし、また対向基板
では電極基板と反平行方向となるようにした。ついで電
極基板にエポキシ樹脂系の接着剤をもちいてリング状に
シール材を配置し、熱処理（１００℃、１０分）を行っ
た。また、粒径５μｍのスペーサ（積水ファインケミカ
ル（株）製）を対向基板８上に１００粒／ｍｍ2となる
ように散布した。この２枚の基板をラビング方向が反平
行方向になるように重ね合わせ、熱圧着によりシール剤
を硬化させ、両基板間隙に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３
（メルクジャパン（株）製）を真空注入法によって注入
した。注入口を紫外線硬化製樹脂により封止し、等方性
処理（１１０℃、１０分）を行った。偏光板は、対向基
板の最も外側に通常の偏光板（住友化学工業（株）製）
を貼付し、電極基板の最も外側にＩＴＯつき偏光板（住
友化学工業（株）製）を貼付した。ＩＴＯのシート抵抗
は、３００Ωであった。偏光板の貼付方向は、光の入射
側の偏光板はその吸収軸方向を液晶分子の配向方向（ラ
ビング方向）に一致させ、出射側の偏光板は他方の偏光
板とその吸収軸方向が直角方向になるように配置した。
いて述べる。まずガラス基板７ｂ上にスパッタリング法
でクロムを１０００Åの厚さに成膜し、ポジ型感光性レ
ジストを用いてパターニングし、一対のくし型電極４を
形成した。くし型電極の電極幅は５μｍとし、電極間隔
も５μｍとした。このガラス基板上にポリイミド（日本
合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からなる配向膜１ｂを
スピンコート法によって８００Åの厚さに成膜し、焼成
（１８０℃、１時間３０分）した。対向基板８上に配向
膜材料ポリアセチレンを８００Åの厚さに成膜した。こ
の配向膜材料のシート抵抗は４．３×１０8Ωであっ
た。くし型電極を形成した電極基板とこの対向基板とに
ラビング処理を行った。電極基板のラビング方向は電極
間方向から０〜４５度ずらした方向とし、また対向基板
では電極基板と反平行方向となるようにした。ついで電
極基板にエポキシ樹脂系の接着剤をもちいてリング状に
シール材を配置し、熱処理（１００℃、１０分）を行っ
た。また、粒径５μｍのスペーサ（積水ファインケミカ
ル（株）製）を対向基板８上に１００粒／ｍｍ2となる
ように散布した。この２枚の基板をラビング方向が反平
行方向になるように重ね合わせ、熱圧着によりシール剤
を硬化させ、両基板間隙に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３
（メルクジャパン（株）製）を真空注入法によって注入
した。注入口を紫外線硬化製樹脂により封止し、等方性
処理（１１０℃、１０分）を行った。偏光板は、対向基
板の最も外側に通常の偏光板（住友化学工業（株）製）
を貼付し、電極基板の最も外側にＩＴＯつき偏光板（住
友化学工業（株）製）を貼付した。ＩＴＯのシート抵抗
は、３００Ωであった。偏光板の貼付方向は、光の入射
側の偏光板はその吸収軸方向を液晶分子の配向方向（ラ
ビング方向）に一致させ、出射側の偏光板は他方の偏光
板とその吸収軸方向が直角方向になるように配置した。
【００３５】このように作製した液晶表示装置は対向基
板上にシート抵抗が４．３×１０8Ωの配向膜を塗布
し、電極基板側にシート抵抗が３００ΩのＩＴＯつき偏
光板を貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装
置のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の
形態にかかわる液晶表示装置においては、残像のない良
好な表示をうることができた。
板上にシート抵抗が４．３×１０8Ωの配向膜を塗布
し、電極基板側にシート抵抗が３００ΩのＩＴＯつき偏
光板を貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装
置のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の
形態にかかわる液晶表示装置においては、残像のない良
好な表示をうることができた。
【００３６】実施の形態２．本発明の実施の形態２であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図７に示している。図７中
の符号は図１〜図６と共通である（図７以下の図におい
ても同様である）。本実施の形態においては実施の形態
１において絶縁性の配向膜を使用し、導電層とカラーフ
ィルタを用い、電極基板側にＩＴＯつき偏光板を貼付し
ている。図７に示すとおり、対向基板８上には導電性を
有するカラーフィルタ３を形成し、その上にカラーフィ
ルタ保護層２を塗布している。ガラス基板７ｂ上には実
施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図７に示している。図７中
の符号は図１〜図６と共通である（図７以下の図におい
ても同様である）。本実施の形態においては実施の形態
１において絶縁性の配向膜を使用し、導電層とカラーフ
ィルタを用い、電極基板側にＩＴＯつき偏光板を貼付し
ている。図７に示すとおり、対向基板８上には導電性を
有するカラーフィルタ３を形成し、その上にカラーフィ
ルタ保護層２を塗布している。ガラス基板７ｂ上には実
施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
【００３７】つぎにこの液晶表示装置の製造工程につい
て述べる。まずガラス基板７ｂ上に実施の形態１と同様
の方法で一対のくし型電極４を形成した。くし型電極の
幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この上にポ
リイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からな
る配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対向基板は
ガラス基板７ｂ上に導電性を示すカラーフィルタ３を有
し、この上にカラーフィルタ保護層２を塗布している。
カラーフィルタ３は色材とアントラセンとの混合物であ
り、シート抵抗が６．４×１０7Ωであった。この基板
上にポリイミドＡＬ１０３４を８００Åの厚さに塗布し
た。この２枚の基板にラビング処理を行った。ラビング
方向は実施の形態１と同様の方向にした。ついでセルギ
ャップが５μｍとなるように両基板を重ね合わせ、ラビ
ング方向が反平行方向になるようにした。液晶組成物Ｚ
ＬＩ−２２９３を注入し、注入口を封止した。偏光板
は、対向基板側には通常の偏光板（住友化学工業（株）
製）を貼付し、電極基板側にはＩＴＯつき偏光板（住友
化学工業（株）製）を貼付した。ＩＴＯのシート抵抗
は、３００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の形態
１と同様の方向にした。
て述べる。まずガラス基板７ｂ上に実施の形態１と同様
の方法で一対のくし型電極４を形成した。くし型電極の
幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この上にポ
リイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からな
る配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対向基板は
ガラス基板７ｂ上に導電性を示すカラーフィルタ３を有
し、この上にカラーフィルタ保護層２を塗布している。
カラーフィルタ３は色材とアントラセンとの混合物であ
り、シート抵抗が６．４×１０7Ωであった。この基板
上にポリイミドＡＬ１０３４を８００Åの厚さに塗布し
た。この２枚の基板にラビング処理を行った。ラビング
方向は実施の形態１と同様の方向にした。ついでセルギ
ャップが５μｍとなるように両基板を重ね合わせ、ラビ
ング方向が反平行方向になるようにした。液晶組成物Ｚ
ＬＩ−２２９３を注入し、注入口を封止した。偏光板
は、対向基板側には通常の偏光板（住友化学工業（株）
製）を貼付し、電極基板側にはＩＴＯつき偏光板（住友
化学工業（株）製）を貼付した。ＩＴＯのシート抵抗
は、３００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の形態
１と同様の方向にした。
【００３８】このように作製した液晶表示装置は、対向
基板がシート抵抗６．４×１０7Ωのカラーフィルタ３
を有し、電極基板にシート抵抗が３００ΩのＩＴＯつき
偏光板１２を貼付している。作製プロセスは従来の液晶
表示装置のプロセスと変化はない。このようにして、本
実施の形態にかかわる液晶表示装置においては、実施の
形態１と同様に残像のない良好な表示をうることができ
た。
基板がシート抵抗６．４×１０7Ωのカラーフィルタ３
を有し、電極基板にシート抵抗が３００ΩのＩＴＯつき
偏光板１２を貼付している。作製プロセスは従来の液晶
表示装置のプロセスと変化はない。このようにして、本
実施の形態にかかわる液晶表示装置においては、実施の
形態１と同様に残像のない良好な表示をうることができ
た。
【００３９】実施の形態３．本発明の実施の形態３であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図８に示している。本実施
の形態においては実施の形態において絶縁性の配向膜を
使用し、導電層としてカラーフィルタ保護層を用い、電
極基板の外側にＩＴＯ膜５を形成している。図８に示す
とおり、対向基板８には、カラーフィルタ上に導電性を
示すカラーフィルタ保護層２を塗布している。ガラス基
板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニング
している。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図８に示している。本実施
の形態においては実施の形態において絶縁性の配向膜を
使用し、導電層としてカラーフィルタ保護層を用い、電
極基板の外側にＩＴＯ膜５を形成している。図８に示す
とおり、対向基板８には、カラーフィルタ上に導電性を
示すカラーフィルタ保護層２を塗布している。ガラス基
板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニング
している。
【００４０】つぎにこの液晶表示装置の製造工程につい
て述べる。まずガラス基板７ｂ上にＩＴＯ膜５を形成し
た。このＩＴＯ膜のシート抵抗は３．７ｋΩであった。
つぎに実施の形態１と同様の方法でＩＴＯ膜を有する面
と反対側に一対のくし型電極４を形成した。くし型電極
の電極幅は５μｍとし、電極間も５μｍとした。この上
にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）か
らなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対応基
板８は導電性を示すカラーフィルタ保護層２を有してい
る。カラーフィルタ保護層２はアクリルとポリピロール
の混合物であり、シート抵抗が７．３×１０8Ωであっ
た。この基板上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製Ａ
Ｌ１０３４）からなる配向膜１ａを８００Åの厚さに成
膜した。この２枚の基板にラビング処理を行った。ラビ
ング方向は実施の形態１と同様の方向にした。ついでセ
ルギャップが５μｍとなるように両基板を重ね合わせ、
ラビング方向が反平行方向になるようにした。液晶組成
物ＺＬＩ−２２９３を注入した。注入口を封止し、偏光
板を貼付した。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様
の方向にした。
て述べる。まずガラス基板７ｂ上にＩＴＯ膜５を形成し
た。このＩＴＯ膜のシート抵抗は３．７ｋΩであった。
つぎに実施の形態１と同様の方法でＩＴＯ膜を有する面
と反対側に一対のくし型電極４を形成した。くし型電極
の電極幅は５μｍとし、電極間も５μｍとした。この上
にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）か
らなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対応基
板８は導電性を示すカラーフィルタ保護層２を有してい
る。カラーフィルタ保護層２はアクリルとポリピロール
の混合物であり、シート抵抗が７．３×１０8Ωであっ
た。この基板上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製Ａ
Ｌ１０３４）からなる配向膜１ａを８００Åの厚さに成
膜した。この２枚の基板にラビング処理を行った。ラビ
ング方向は実施の形態１と同様の方向にした。ついでセ
ルギャップが５μｍとなるように両基板を重ね合わせ、
ラビング方向が反平行方向になるようにした。液晶組成
物ＺＬＩ−２２９３を注入した。注入口を封止し、偏光
板を貼付した。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様
の方向にした。
【００４１】このように作製した液晶表示装置ではカラ
ーフィルタ保護層２のシート抵抗が７．３×１０8Ωで
あり、電極基板の外側にシート抵抗３．７ｋΩのＩＴＯ
膜を形成している。作製プロセスは従来の液晶表示装置
のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の形
態にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１と
同様に残像のない良好な表示をうることができた。
ーフィルタ保護層２のシート抵抗が７．３×１０8Ωで
あり、電極基板の外側にシート抵抗３．７ｋΩのＩＴＯ
膜を形成している。作製プロセスは従来の液晶表示装置
のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の形
態にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１と
同様に残像のない良好な表示をうることができた。
【００４２】実施の形態４．本発明の実施の形態４であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大図を図９に示している。本実施の形
態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜を使
用し、導電層としてＩＴＯ膜５をカラーフィルタ３上に
形成し、電極基板の外側にもＩＴＯ膜５を形成してい
る。図９に示すとおり対向基板８にはカラーフィルタ３
上にＩＴＯ膜５を形成している。ガラス基板７ｂには実
施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大図を図９に示している。本実施の形
態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜を使
用し、導電層としてＩＴＯ膜５をカラーフィルタ３上に
形成し、電極基板の外側にもＩＴＯ膜５を形成してい
る。図９に示すとおり対向基板８にはカラーフィルタ３
上にＩＴＯ膜５を形成している。ガラス基板７ｂには実
施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
【００４３】つぎにこの液晶表示装置の製造工程につい
て述べる。まず実施の形態３と同様の方法でＩＴＯ膜５
と、くし型電極４とを形成した。この電極基板上のＩＴ
Ｏ膜５のシート抵抗は３．７ｋΩであった。くし型電極
の電極幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この
上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）
からなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。つぎ
に、対向基板８上にスパッタリング法によってＩＴＯ膜
５を１００〜１５０Åの厚さに成膜した。この対向基板
上のＩＴＯ膜５のシート抵抗は２．５×１０7Ωであっ
た。この上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１
０３４）１ｂを８００Åの厚さに成膜した。この２枚の
基板にラビング処理を行った。ラビング方向は実施の形
態１と同様の方向にした。ついでセルギャップが５μｍ
となるように両基板を重ね合わせ、ラビング方向が反平
行方向になるようにし、液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を
注入した。注入口を封止し、偏光板６を貼付した。偏光
板６の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
て述べる。まず実施の形態３と同様の方法でＩＴＯ膜５
と、くし型電極４とを形成した。この電極基板上のＩＴ
Ｏ膜５のシート抵抗は３．７ｋΩであった。くし型電極
の電極幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この
上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）
からなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。つぎ
に、対向基板８上にスパッタリング法によってＩＴＯ膜
５を１００〜１５０Åの厚さに成膜した。この対向基板
上のＩＴＯ膜５のシート抵抗は２．５×１０7Ωであっ
た。この上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１
０３４）１ｂを８００Åの厚さに成膜した。この２枚の
基板にラビング処理を行った。ラビング方向は実施の形
態１と同様の方向にした。ついでセルギャップが５μｍ
となるように両基板を重ね合わせ、ラビング方向が反平
行方向になるようにし、液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を
注入した。注入口を封止し、偏光板６を貼付した。偏光
板６の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
【００４４】このように作製した液晶表示装置は対向基
板のカラーフィルタ上にシート抵抗が２．５×１０7Ω
のＩＴＯ膜を有しており、電極基板の外側にシート抵抗
３．７ｋΩのＩＴＯ膜を有している。作製プロセスは従
来の液晶表示装置のプロセスと変化はない。このように
して、本実施の形態にかかわる液晶表示装置において
は、実施の形態１と同様に残像のない良好な表示をうる
ことができた。
板のカラーフィルタ上にシート抵抗が２．５×１０7Ω
のＩＴＯ膜を有しており、電極基板の外側にシート抵抗
３．７ｋΩのＩＴＯ膜を有している。作製プロセスは従
来の液晶表示装置のプロセスと変化はない。このように
して、本実施の形態にかかわる液晶表示装置において
は、実施の形態１と同様に残像のない良好な表示をうる
ことができた。
【００４５】実施の形態５．本発明の実施の形態５であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１０に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層としてＩＴＯ膜５を対向基板の外側
に形成し、導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基板に貼
付している。対向基板８は実施の形態１と同様の対向基
板であり、基板の外側にＩＴＯ膜５を有している。ガラ
ス基板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニ
ングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１０に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層としてＩＴＯ膜５を対向基板の外側
に形成し、導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基板に貼
付している。対向基板８は実施の形態１と同様の対向基
板であり、基板の外側にＩＴＯ膜５を有している。ガラ
ス基板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニ
ングしている。
【００４６】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。まず実施の形態１と同様の方法でくし型電
極４をガラス基板７ｂに形成した。くし型電極の電極幅
は５μｍとし、電極間も５μｍとした。この上にポリイ
ミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からなる配
向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対向基板８はカ
ラーフィルタ形成面と反対側の面にＩＴＯ膜５を有して
いる。このＩＴＯ膜のシート抵抗は６．３ｋΩであっ
た。この基板上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製Ａ
Ｌ１０３４）からなる配向膜１ａを８００Åの厚さに成
膜した。ラビング方向は実施の形態１と同様の方向にし
た。ついでセルギャップが５μｍとなるように両基板を
重ね合わせ、ラビング方向が反平行方向になるようにし
た。液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入し、注入口を封
止した。導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基板に貼付
した。粘着剤のシート抵抗は２．３ｋΩであった。偏光
板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
いて述べる。まず実施の形態１と同様の方法でくし型電
極４をガラス基板７ｂに形成した。くし型電極の電極幅
は５μｍとし、電極間も５μｍとした。この上にポリイ
ミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）からなる配
向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した。対向基板８はカ
ラーフィルタ形成面と反対側の面にＩＴＯ膜５を有して
いる。このＩＴＯ膜のシート抵抗は６．３ｋΩであっ
た。この基板上にポリイミド（日本合成ゴム（株）製Ａ
Ｌ１０３４）からなる配向膜１ａを８００Åの厚さに成
膜した。ラビング方向は実施の形態１と同様の方向にし
た。ついでセルギャップが５μｍとなるように両基板を
重ね合わせ、ラビング方向が反平行方向になるようにし
た。液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入し、注入口を封
止した。導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基板に貼付
した。粘着剤のシート抵抗は２．３ｋΩであった。偏光
板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
【００４７】このように作製した液晶表示装置は対向基
板が外側にシート抵抗３．７ｋΩのＩＴＯ膜を有し、電
極基板にシート抵抗２．３ｋΩの導電性粘着剤つき偏光
板を貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置
のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の形
態にかかわる液晶表示装置においては、、実施の形態１
と同様に残像のない良好な表示をうることができた。
板が外側にシート抵抗３．７ｋΩのＩＴＯ膜を有し、電
極基板にシート抵抗２．３ｋΩの導電性粘着剤つき偏光
板を貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置
のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の形
態にかかわる液晶表示装置においては、、実施の形態１
と同様に残像のない良好な表示をうることができた。
【００４８】実施の形態６．本発明の実施の形態６であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図４に示している。本実施
の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜
を使用し、ＩＴＯつき偏光板を対向基板と電極基板に貼
付することで基板面上に導電性をもたせている。対向基
板８は実施の形態５と同様の対向基板であり、ガラス基
板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニング
している。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図４に示している。本実施
の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜
を使用し、ＩＴＯつき偏光板を対向基板と電極基板に貼
付することで基板面上に導電性をもたせている。対向基
板８は実施の形態５と同様の対向基板であり、ガラス基
板７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニング
している。
【００４９】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、ＩＴＯつき偏光板（住友化学工業
（株）製）１２を使用した。偏光板のＩＴＯ膜５のシー
ト抵抗は３００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の
形態１と同様の方向にした。
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、ＩＴＯつき偏光板（住友化学工業
（株）製）１２を使用した。偏光板のＩＴＯ膜５のシー
ト抵抗は３００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の
形態１と同様の方向にした。
【００５０】このように作製した液晶表示装置はＩＴＯ
つき偏光板１２を使用し、ＩＴＯ膜のシート抵抗が３０
０Ωである。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロ
セスと変化はない。このようにして、本実施の形態にか
かわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に
残像のない良好な表示をうることができた。
つき偏光板１２を使用し、ＩＴＯ膜のシート抵抗が３０
０Ωである。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロ
セスと変化はない。このようにして、本実施の形態にか
かわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に
残像のない良好な表示をうることができた。
【００５１】実施の形態７．本発明の実施の形態７であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図６に示している。本実施
の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜
を使用し、導電層としてＩＴＯ膜を電極基板の外側に形
成している。対向基板８は実施の形態５と同様の対向基
板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の形態１と同様の
電極をパターニングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図６に示している。本実施
の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向膜
を使用し、導電層としてＩＴＯ膜を電極基板の外側に形
成している。対向基板８は実施の形態５と同様の対向基
板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の形態１と同様の
電極をパターニングしている。
【００５２】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。電極基板は実施の形態３と同様にし、電極
面と反対側にＩＴＯ膜５を有している。ＩＴＯ膜のシー
ト抵抗は２．９ｋΩであった。対向基板８は実施の形態
１と同様の構成である。配向膜にはポリイミド（日本合
成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）を用いた。ラビング方向
は実施の形態１と同じにした。この２枚の基板をセルギ
ャップ５μｍ、液晶配向方向が反平行方向になるように
貼り合わせて、さらに液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注
入して液晶表示装置を作製した。偏光板６は、実施の形
態３と同様のものを使用した。偏光板の貼付方向は実施
の形態１と同様の方向にした。
いて述べる。電極基板は実施の形態３と同様にし、電極
面と反対側にＩＴＯ膜５を有している。ＩＴＯ膜のシー
ト抵抗は２．９ｋΩであった。対向基板８は実施の形態
１と同様の構成である。配向膜にはポリイミド（日本合
成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）を用いた。ラビング方向
は実施の形態１と同じにした。この２枚の基板をセルギ
ャップ５μｍ、液晶配向方向が反平行方向になるように
貼り合わせて、さらに液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注
入して液晶表示装置を作製した。偏光板６は、実施の形
態３と同様のものを使用した。偏光板の貼付方向は実施
の形態１と同様の方向にした。
【００５３】このように作製した液晶表示装置はシート
抵抗が２．９ｋΩのＩＴＯ膜を電極基板の外側に形成し
ている。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロセス
と変化はない。このようにして、本実施の形態にかかわ
る液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に残像
のない良好な表示をうることができた。
抵抗が２．９ｋΩのＩＴＯ膜を電極基板の外側に形成し
ている。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロセス
と変化はない。このようにして、本実施の形態にかかわ
る液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に残像
のない良好な表示をうることができた。
【００５４】実施の形態８．本発明の実施の形態８であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１１に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層としてＩＴＯつき偏光板１２を電極
基板の外側に形成している。対向基板８は実施の形態５
と同様の対向基板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の
形態１と同様の電極をパターニングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１１に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層としてＩＴＯつき偏光板１２を電極
基板の外側に形成している。対向基板８は実施の形態５
と同様の対向基板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の
形態１と同様の電極をパターニングしている。
【００５５】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。くし型電極基板は実施の形態１と同様にし
て作製した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成で
ある。配向膜はポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ
１０３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同
じにした。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶
配向方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さら
に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置
を作製した。偏光板は、ＩＴＯつき偏光板１２を電極基
板に貼付した。この偏光板のＩＴＯ膜のシート抵抗は３
００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同
様の方向にした。
いて述べる。くし型電極基板は実施の形態１と同様にし
て作製した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成で
ある。配向膜はポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ
１０３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同
じにした。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶
配向方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さら
に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置
を作製した。偏光板は、ＩＴＯつき偏光板１２を電極基
板に貼付した。この偏光板のＩＴＯ膜のシート抵抗は３
００Ωであった。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同
様の方向にした。
【００５６】このように作製した液晶表示装置はシート
抵抗が３００ΩのＩＴＯ膜つきの偏光板を電極基板に貼
付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロ
セスと変化はない。このようにして、本実施の形態にか
かわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に
残像のない良好な表示をうることができた。
抵抗が３００ΩのＩＴＯ膜つきの偏光板を電極基板に貼
付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロ
セスと変化はない。このようにして、本実施の形態にか
かわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同様に
残像のない良好な表示をうることができた。
【００５７】実施の形態９．本発明の実施の形態９であ
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１２に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層として、導電性粘着剤が付与されて
いる偏光板である導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基
板側に貼付している。対向基板８は実施の形態５と同様
の対向基板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の形態１
と同様の電極をパターニングしている。
る液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であり、
その一部の断面拡大説明図を図１２に示している。本実
施の形態においては実施の形態１において絶縁性の配向
膜を使用し、導電層として、導電性粘着剤が付与されて
いる偏光板である導電性粘着剤つき偏光板１３を電極基
板側に貼付している。対向基板８は実施の形態５と同様
の対向基板であり、ガラス基板７ｂ上には実施の形態１
と同様の電極をパターニングしている。
【００５８】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、導電性粘着剤つき偏光板１３を電極
基板に貼付した。この粘着剤のシート抵抗は６．５ｋΩ
であった。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方
向にした。
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、導電性粘着剤つき偏光板１３を電極
基板に貼付した。この粘着剤のシート抵抗は６．５ｋΩ
であった。偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方
向にした。
【００５９】このように作製した液晶表示装置はシート
抵抗が６．５ｋΩの導電性粘着剤つき偏光板を電極基板
に貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置の
プロセスと変化はない。このようにして、本実施の形態
にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同
様に残像のない良好な表示をうることができた。
抵抗が６．５ｋΩの導電性粘着剤つき偏光板を電極基板
に貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装置の
プロセスと変化はない。このようにして、本実施の形態
にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１と同
様に残像のない良好な表示をうることができた。
【００６０】実施の形態１０．本発明の実施の形態１０
である液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であ
り、その一部の断面拡大説明図を図１３に示している。
本実施の形態においては実施の形態１において絶縁性の
配向膜を使用し、導電層として導電性粘着剤つき偏光板
１３を電極基板と対向基板とに貼付している。対向基板
８は実施の形態５と同様の対向基板であり、ガラス基板
７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニングし
ている。
である液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であ
り、その一部の断面拡大説明図を図１３に示している。
本実施の形態においては実施の形態１において絶縁性の
配向膜を使用し、導電層として導電性粘着剤つき偏光板
１３を電極基板と対向基板とに貼付している。対向基板
８は実施の形態５と同様の対向基板であり、ガラス基板
７ｂ上には実施の形態１と同様の電極をパターニングし
ている。
【００６１】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、導電性粘着剤つき偏光板１３を使用
した。この粘着剤のシート抵抗は５．０ｋΩであった。
偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
いて述べる。電極基板は実施の形態１と同様にして作製
した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成である。
配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０
３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態１と同じに
した。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶配向
方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さらに液
晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置を作
製した。偏光板は、導電性粘着剤つき偏光板１３を使用
した。この粘着剤のシート抵抗は５．０ｋΩであった。
偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にした。
【００６２】このように作製した液晶表示装置はシート
抵抗が５．０ｋΩの導電性粘着剤つき偏光板１３を電極
基板に貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装
置のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の
形態にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１
と同様に残像のない良好な表示をうることができた。
抵抗が５．０ｋΩの導電性粘着剤つき偏光板１３を電極
基板に貼付している。作製プロセスは従来の液晶表示装
置のプロセスと変化はない。このようにして、本実施の
形態にかかわる液晶表示装置においては、実施の形態１
と同様に残像のない良好な表示をうることができた。
【００６３】実施の形態１１．本発明の実施の形態１１
である液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であ
り、その一部の断面拡大説明図を図５に示している。本
実施の形態においては導電層として配向膜材料を用い、
対向基板８の外側にＩＴＯ膜を形成し、さらに電極基板
の外側にＩＴＯ膜を形成している。ガラス基板７ｂ上に
は実施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
である液晶表示装置の全体平面説明図は図２と同様であ
り、その一部の断面拡大説明図を図５に示している。本
実施の形態においては導電層として配向膜材料を用い、
対向基板８の外側にＩＴＯ膜を形成し、さらに電極基板
の外側にＩＴＯ膜を形成している。ガラス基板７ｂ上に
は実施の形態１と同様の電極をパターニングしている。
【００６４】つぎに、この液晶表示装置の製造工程につ
いて述べる。まず実施の形態３と同様の方法でガラス基
板７ｂ上にＩＴＯ膜と、くし型電極４を形成した。ＩＴ
Ｏ膜のシート抵抗は５．５ｋΩであった。くし型電極の
電極幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この上
にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）か
らなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した対向基板
８はカラーフィルタ形成面と反対側の面にＩＴＯ膜を有
している。このＩＴＯ膜のシート抵抗は９００Ωであっ
た。この基板上に配向膜材料ポリフェニレンビニレンを
８００Åの厚さに成膜した。この配向膜材料のシート抵
抗は３．５×１０12Ωであった。この２枚の基板にラビ
ング処理を行った。ラビング方向は実施の形態１と同様
の方向にした。ついでセルギャップが５μｍとなるよう
に両基板を重ね合わせ、ラビング方向が反平行方向にな
るようにし、液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入した。
注入口を封止し、偏光板を貼付した。偏光板の貼付方向
は実施の形態１と同様の方向にした。
いて述べる。まず実施の形態３と同様の方法でガラス基
板７ｂ上にＩＴＯ膜と、くし型電極４を形成した。ＩＴ
Ｏ膜のシート抵抗は５．５ｋΩであった。くし型電極の
電極幅は５μｍとし、電極間隔も５μｍとした。この上
にポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ１０３４）か
らなる配向膜１ｂを８００Åの厚さに成膜した対向基板
８はカラーフィルタ形成面と反対側の面にＩＴＯ膜を有
している。このＩＴＯ膜のシート抵抗は９００Ωであっ
た。この基板上に配向膜材料ポリフェニレンビニレンを
８００Åの厚さに成膜した。この配向膜材料のシート抵
抗は３．５×１０12Ωであった。この２枚の基板にラビ
ング処理を行った。ラビング方向は実施の形態１と同様
の方向にした。ついでセルギャップが５μｍとなるよう
に両基板を重ね合わせ、ラビング方向が反平行方向にな
るようにし、液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入した。
注入口を封止し、偏光板を貼付した。偏光板の貼付方向
は実施の形態１と同様の方向にした。
【００６５】このように作製した液晶表示装置は、対向
基板が電極基板側にシート抵抗３．５×１０12Ωの配向
膜を有し、外側にシート抵抗９００ΩのＩＴＯ膜を有し
ており、電極基板が外側にシート抵抗５．５ｋΩであ
る。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロセスと変
化はない。このようにして、本実施の形態にかかわる液
晶表示装置においては、実施の形態１と同様に残像のな
い良好な表示をうることができた。
基板が電極基板側にシート抵抗３．５×１０12Ωの配向
膜を有し、外側にシート抵抗９００ΩのＩＴＯ膜を有し
ており、電極基板が外側にシート抵抗５．５ｋΩであ
る。作製プロセスは従来の液晶表示装置のプロセスと変
化はない。このようにして、本実施の形態にかかわる液
晶表示装置においては、実施の形態１と同様に残像のな
い良好な表示をうることができた。
【００６６】比較例１．図１５は比較例である液晶表示
装置の断面説明図である。本比較例においては図１５に
示すようにくし型電極を形成している基板は導電層を有
していない。対向基板８は実施の形態５と同様の対向基
板である。ガラス基板７ｂ上には第１の実施の形態と同
様の電極をパターニングしている。
装置の断面説明図である。本比較例においては図１５に
示すようにくし型電極を形成している基板は導電層を有
していない。対向基板８は実施の形態５と同様の対向基
板である。ガラス基板７ｂ上には第１の実施の形態と同
様の電極をパターニングしている。
【００６７】つぎにこの液晶表示装置の製造工程につい
て述べる。くし型電極基板は実施の形態５と同様にして
作製した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成であ
る。配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ
１０３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態５と同
じにした。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶
配向方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さら
に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置
を作製した。偏光板は実施の形態３と同様のものを使用
し、偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にし
た。
て述べる。くし型電極基板は実施の形態５と同様にして
作製した。対向基板８は実施の形態１と同様の構成であ
る。配向膜にはポリイミド（日本合成ゴム（株）製ＡＬ
１０３４）を用いた。ラビング方向は実施の形態５と同
じにした。この２枚の基板をセルギャップ５μｍ、液晶
配向方向が反平行方向になるように貼り合わせて、さら
に液晶組成物ＺＬＩ−２２９３を注入して液晶表示装置
を作製した。偏光板は実施の形態３と同様のものを使用
し、偏光板の貼付方向は実施の形態１と同様の方向にし
た。
【００６８】このように作製した液晶表示装置は、電極
基板が導電性を有していないので、基板表面に電荷が局
所的に蓄積し残像として現れた。表示品位が低下し、良
好な表示をうることができなかった。
基板が導電性を有していないので、基板表面に電荷が局
所的に蓄積し残像として現れた。表示品位が低下し、良
好な表示をうることができなかった。
【００６９】
【表１】
【００７０】
【発明の効果】本発明の請求項１にかかわる液晶表示装
置は、アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板と対向基
板とを一定間隔で平行に保った間隙による挟持される液
晶とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電極に
電圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を発生
させ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動する
面内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基板
が、前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導電
膜層が設けられているので電荷が蓄積しにくく、残像の
ない良好な表示をうる効果を奏する。
置は、アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板と対向基
板とを一定間隔で平行に保った間隙による挟持される液
晶とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電極に
電圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を発生
させ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動する
面内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基板
が、前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導電
膜層が設けられているので電荷が蓄積しにくく、残像の
ない良好な表示をうる効果を奏する。
【００７１】請求項２にかかわる液晶表示装置において
は、前記導電膜層の抵抗率が、シート抵抗で１０Ω以上
１×１０10Ω以下であるので、電荷を拡散させる効果を
奏する。
は、前記導電膜層の抵抗率が、シート抵抗で１０Ω以上
１×１０10Ω以下であるので、電荷を拡散させる効果を
奏する。
【００７２】請求項３にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板に導電性が付与されているので、電荷
の局所的な蓄積を防ぐことができ、残像のない良好な表
示をうる効果を奏する。
は、前記対向基板に導電性が付与されているので、電荷
の局所的な蓄積を防ぐことができ、残像のない良好な表
示をうる効果を奏する。
【００７３】請求項４にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面に導電性が付与されているので、電荷が確実に
拡散する効果を奏する。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面に導電性が付与されているので、電荷が確実に
拡散する効果を奏する。
【００７４】請求項５にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面と
は反対側の第２の面のほぼ全面に導電性が付与されてい
るので、液晶に影響を与えることなく電荷の局所的な蓄
積を防ぐ効果を奏する。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面と
は反対側の第２の面のほぼ全面に導電性が付与されてい
るので、液晶に影響を与えることなく電荷の局所的な蓄
積を防ぐ効果を奏する。
【００７５】請求項６にかかわる液晶表示装置において
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面と、該第１の面とは反対側の第２の面のほぼ全
面とに導電性が付与されているので、局所的に存在する
電荷の拡散を促進させる効果を奏する。
は、前記対向基板の、アレイ基板と対向する第１の面の
ほぼ全面と、該第１の面とは反対側の第２の面のほぼ全
面とに導電性が付与されているので、局所的に存在する
電荷の拡散を促進させる効果を奏する。
【図１】 本発明の一実施の形態にかかわる液晶表示装
置の断面説明図である。
置の断面説明図である。
【図２】 本発明の一実施の形態にかかわる液晶表示装
置の説明図である。
置の説明図である。
【図３】 本発明の一実施の形態にかかわる液晶表示装
置の部分拡大説明図である。
置の部分拡大説明図である。
【図４】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図５】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図６】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図７】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図８】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図９】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表示
装置の断面説明図である。
装置の断面説明図である。
【図１０】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表
示装置の断面説明図である。
示装置の断面説明図である。
【図１１】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表
示装置の断面説明図である。
示装置の断面説明図である。
【図１２】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表
示装置の断面説明図である。
示装置の断面説明図である。
【図１３】 本発明の他の実施の形態にかかわる液晶表
示装置の断面説明図である。
示装置の断面説明図である。
【図１４】 くし型電極パターン図である。
【図１５】 従来の面内応答型液晶表示装置（比較例
１）の断面説明図である。
１）の断面説明図である。
１ａ、１ｂ 配向膜、２ カラーフィルタ保護層、３
カラーフィルタ、４ くし型電極、５ ＩＴＯ膜、６
偏光板、７ａ、７ｂ ガラス基板、８ 対向基板、９
導電性粘着剤、１０ａ、１０ｂ 電荷の帯電した領域、
１１ 液晶層、１２ ＩＴＯつき偏光板、１３ 導電性
粘着剤つき偏光板。
カラーフィルタ、４ くし型電極、５ ＩＴＯ膜、６
偏光板、７ａ、７ｂ ガラス基板、８ 対向基板、９
導電性粘着剤、１０ａ、１０ｂ 電荷の帯電した領域、
１１ 液晶層、１２ ＩＴＯつき偏光板、１３ 導電性
粘着剤つき偏光板。
フロントページの続き (72)発明者 津村 顯 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 田畑 伸 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 水沼 昌也 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 玉谷 晃 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 森井 康裕 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 藤田 康雄 熊本県菊池郡西合志町御代志997番地 株 式会社アドバンスト・ディスプレイ内
Claims (6)
- 【請求項１】 アレイ基板と対向基板と、該アレイ基板
と対向基板とを一定間隔で平行に保った間隙に挟持され
る液晶とからなり、該アレイ基板上に配置した一対の電
極に電圧を印加して該アレイ基板面にほぼ平行に電界を
発生させ前記液晶の分子を面内応答させて該液晶を駆動
する面内応答型の液晶表示装置であって、前記アレイ基
板が、前記一対の電極を配置した面と反対側の面上に導
電膜層が設けられてなる液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記導電膜層の抵抗率が、シート抵抗で
１０Ω以上１×１０10Ω以下である請求項１記載の液晶
表示装置。 - 【請求項３】 前記対向基板に導電性が付与されてなる
請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項４】 前記対向基板の、アレイ基板と対向する
第１の面のほぼ全面に導電性が付与されてなる請求項３
記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 前記対向基板の、アレイ基板と対向する
第１の面とは反対側の第２の面のほぼ全面に導電性が付
与されてなる請求項３記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記対向基板の、アレイ基板と対向する
第１の面のほぼ全面と、該第１の面とは反対側の第２の
面のほぼ全面とに導電性が付与されてなる請求項３記載
の液晶表示装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9206354A JPH1152403A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 液晶表示装置 |
| US09/237,663 US6166795A (en) | 1997-07-31 | 1999-01-27 | Liquid crystal display apparatus including a conductive layer on an array substrate thereof |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9206354A JPH1152403A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 液晶表示装置 |
| US09/237,663 US6166795A (en) | 1997-07-31 | 1999-01-27 | Liquid crystal display apparatus including a conductive layer on an array substrate thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152403A true JPH1152403A (ja) | 1999-02-26 |
Family
ID=26515606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9206354A Pending JPH1152403A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 液晶表示装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6166795A (ja) |
| JP (1) | JPH1152403A (ja) |
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| JP2001281703A (ja) * | 2000-01-26 | 2001-10-10 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置およびその作製方法 |
| KR100692685B1 (ko) | 2003-12-29 | 2007-03-14 | 비오이 하이디스 테크놀로지 주식회사 | 반사투과형 액정표시장치용 어레이 기판 및 그의 제조 방법 |
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| KR100826372B1 (ko) * | 2004-01-20 | 2008-05-02 | 샤프 가부시키가이샤 | 표시 소자 및 표시 장치 |
| KR100839834B1 (ko) * | 2001-12-28 | 2008-06-19 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 액정표시장치 |
| JP2008209468A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Seiko Instruments Inc | 液晶表示装置 |
| JP2008209529A (ja) * | 2007-02-24 | 2008-09-11 | Seiko Instruments Inc | 液晶表示装置及びその製造方法 |
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| JP5580986B2 (ja) * | 2006-07-14 | 2014-08-27 | コニカミノルタ株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
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| JP2003057667A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-26 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 液晶パネル、液晶表示装置および駆動方式 |
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| JP2008003541A (ja) * | 2006-01-27 | 2008-01-10 | Fujifilm Corp | 偏光板保護フィルムとそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 |
| JP2009122474A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP2009300555A (ja) * | 2008-06-11 | 2009-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 液晶表示装置、及びその製造方法 |
| WO2010109804A1 (ja) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| JP5537345B2 (ja) * | 2010-09-03 | 2014-07-02 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
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-
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- 1999-01-27 US US09/237,663 patent/US6166795A/en not_active Expired - Fee Related
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