JPS63218350A - 制電性を有する反射防止性光透過板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、つや消しタイプの反射防止性光透過板におい
て、ざらに制電性（帯電防止性）、とくには電磁波シー
ルド性を有するプラスチック光透過板に関する。ざらに
詳しくはディスプレイやテレビのブラウン管などから発
生する有害な静電気や電磁波を有効に遮断することが可
能な光透過板に関する。

〔従来技術〕

オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などは陰極線を用いているた
め、画像表示装置の上に静電気が発生し易く、はこりな
どが付着し易い。そしてほこりが付着すると画像が極め
て見にくくなるという問題点がある。

さらにブラウン管などからは有害な電磁波が多量に発生
しており、健康障害が指摘されたり、また他の機器への
障害が問題となっている。たとえばコンピュータに誤信
号が入ったり、テレビとステレオを同時につけるとステ
レオから雑音が聞えることはしばしば児受けられる。

そこで従来よりかかる静電気やＮ磁波障害を取り除くた
め種々の改良がなされてきた。その有効な手段は金属な
どの導電物で覆うことである。たとえば細い繊維の表面
にカーボンを粘着させてメツシュ構造にしたものを貼り
つけるとか、蝶理株式会社の商品名“アイセーバー″の
ように、合わせガラスの内部に金属細線を導入させたも
のがある。しかしこれらの方法ではディスプレーから発
生する光を透過しない部分を生ずるので、ワードプロセ
ッサーなどの使用者にとっては見にくいという欠点を有
していた。また他の公知例としては、ガラス基材に対し
て導電物質を高温蒸着した技術が提案されているが（特
公昭４９−１８４４７＠公報）、この方法ではプラスチ
ック基材は軟化あるいは溶融するものが多く、また表面
に傷がつき易いという欠点を改良できず利用できないも
のであった。

従ってプラスチックの透明板に対しては、その有効な技
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。

本出願人は既につや消しタイプの光透過板を提案してい
るが（特開昭５５−１２１０７号公報）、本発明はかか
る技術をさらに改良したものである。

〔発明が解決しようとする問題点〕

本発明は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供する
。すなわちプラスチックの透明板であっても、表層につ
や消し層と導電層を設けることにより、効果的に反射防
止と制電性（帯電防止性）、とくには電磁波をシールド
できる技術を提供する。

ざらには、表面硬度の低いプラスデック材料であっても
、表面にシリカ層を設けて硬度を高め傷がつきにくい特
性を付与する技術を提供する。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するため本発明は下記の構成を有する。

「　プラスチック透明基材の表面に、少なくとも下記Ａ
、Ｂからなる被膜層が、どちらかの順序で積層されてな
ることを特徴とする制電性を有する反射防止性光透過板
。

Ａ、ビヒクルと平均粒子径が１〜２００ｎｍの微粒子を
含有し、かつ少なくともその最表面に０．１μｍ〜１０
μｍの平均直径を有する凝集体が形成された被膜。

Ｂ、透明導電性を有する被膜。」 まず本発明のＡ層について説明する。本発明における被
膜Ａは微粒子とビヒクルを必須成分とし、かつ少なくと
もその最表面部に０．１μｍ〜１０μｍの平均直径を有
する凝集体が形成された被膜であり、この凝集体によっ
て外光を散乱せしめ、ノングレア性を与えるものである
。とくにノングレア性を顕著に発現せしめるためには前
記凝集体の平均直径が１〜１０μｍのものが好ましく、
ノングレア性と同時に透明性、おるいは高解像性を与え
る目的には凝集体の平均直径を０．１〜１μｍにコント
ロールすることが好ましい。かかる微細な凝集体は少な
くとも被膜表面に凸凹を形成させるものであり、透明性
をできるだけ高く保つためには、実質的に最表面層にの
み存在させることが好ましい。

このような微細な凸凹を形成する手段としては、種々の
方法が考えられる。例えば、被覆組成物中に３ｉ０２、
ＡＱ２０３、■！０２、五酸化アンチモンなどの無機物
微粒子を分散させる方法、さらには有機物ポリマーを分
散させる方法、被覆形成後に砂などを吹きつけて表面を
荒らす方法、砥石や金属繊維などを用いて基材表面を研
磨し微細傷をつけて表面のつやを消す方法、あるいは塗
料をコーティングした後、硬化していない状態において
ブラッシング現象を起こさせることによるつや消し化方
法などが挙げられる。これらの方法の中で有機物ポリマ
ーを分散させる方法が、コスト面、加工の容易さ、塗料
のポットライフ性、透明性、再現性などの点から好まし
く用いられる。さらに好ましくは塗料の安定性、再現性
の点から、水溶性有機ポリマーが用いられ、中でもセル
ロース類、ポリ酢酸ビニルケン化物が透明性を損なわず
にソングレア性を付与できることからもつとも好ましい
。

また有機物ポリマーの使用に当っては、その分子量、あ
るいはケン化度の異なる２種以上の添加も可能である。

またその添加量はポリマーの特性、目的とするノングレ
ア性によって決められるべきものである。これらの微細
凸凹を形成する方法はそれぞれの方法、および目的に応
じてつや消し性を発現させることが出来るが、２種以上
の方法を組み合わせて行なうことも可能である。

本発明でいうところの被膜の最表面部に有する凝集体の
直径とは顕微鏡観察によって測定可能であるが、とくに
凝集体のソングレア性との関係からはＪＩＳ　　ＢＯ６
５１に定められた表面粗さ測定によって得られる直径が
０．１〜１０μｍであることが最も好ましい。またソン
グレア性をコントロールする目的から被膜最表面部に存
在する凝集体は、その大きざのみならず、単位面積当り
の存在数を規制することも有効であり、本発明の目的に
は凝集体間隔を２〜１００μｍ、ざらに好ましくは５〜
７５μｍにできるだ【ブ均一に分散させることが良好な
ノングレア性を与えるものである。

本発明におけるビヒクルとしては、透明性、ソングレア
性及び耐摩耗性を与え、微粒子を均一に分散させて透明
被膜を形成し１ｑるものであれば特に限定されないが、
被膜の硬度、耐薬品性などの観点から熱硬化性樹脂が好
ましく使用される。また、ノングレア性の発現のために
は水溶性有機ポリマーを合せて使用することが好ましい
。

これらの熱硬化性樹脂の好ましい具体例としては、エポ
キシ樹脂、オルガノポリシロキサン系化合物などが好適
に用いられる。

上記のエポキシ樹脂としては、公知のいかなるものであ
ってもよい。

オルガノポリシロキサン系化合物としては下記一般式（
Ｉ＞で表わされる有機ケイ素化合物および／またはその
加水分解物が用いられる。

Ｒ１Ｒ２ｂｓ’４−ａ−ｂ　　　　　　　　（Ｉ＞（式
中Ｒ１、Ｒ２は各々アルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、またはハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基
、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基あるい
はシアノ基を有する炭化水素基、Ｘは加水分解性基であ
り、ａおよびｂはＯまたは１である。） 具体的な代表例としては、メチルシリケート、エチルシ
リケート、ｎ−プロピルシリケート、ｉ−プロピルシリ
ケート、ｎ−ブチルシリケート、５ｅｃ−ブチルシリケ
ートおよびｔ−ブチルシリケートなどのテトラアルコキ
シシラン類、およびその加水分解物ざらにはメチルトリ
エトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルト
リメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェ
ニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン
、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロプロピル
トリメトキシシラン、Ｔ−クロロプロピルトリエトキシ
シラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシラン、３
．３．３−　トリフロロプロピルトリメトキシシラン、
γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
レアミノプロピルトリメトキシシラン、γレアミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−７ミノプロピ
ルトリメトキシシラン、β−シアンエチルトリエトキシ
シラン、メチルトリフエノキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシ
メチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン
、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシプロビルトリメトキシシラン、α−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、β−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、β−グリシドキシプロビル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキレプロピルトリブロポキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリブトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシエトキシシラン、
γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシシラン、α−
グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−グリシド
キシブチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシブヂルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシブヂルトリエトキシシラン、δ
−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ−グリシ
ドキシブチルトリエトキシシラン、（３，４−エポキシ
シクロヘキシル）メチルトリメトキシシラン、（３，４
−エポキシシクロヘキシル）メチルトリエトキシシラン
、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）■デルトリ
メトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリブトキ
シシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）■
チルトリメトキシエトキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリフエノキシシラン、γ
−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメ
トキシシラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル
）プロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキ
シシクロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、β−（
３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシ
シランなどのトリアルコキシシラン、トリアジルオキシ
シラン、またはトリフエノキシシラン類またはその加水
分解物およびジメチルジェトキシシラン、フェニルメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、フェ
ニルメチルジェトキシシラン、γ−クロロプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジェト
キシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタク
リルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタ
クリルオキシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルメヂルジエトキシシラン、γ−７ミノプロ
ピルメヂルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチ
ルジェトキシシラン、メチルどニルジメトキシシラン、
メチルビニルジェトキシシラン、グリシドキシメチルメ
チルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチルジェ
トキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジメトキ
シシラン、α−グリシドキシエヂルメチルジエトギシシ
ラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン
、β−グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン、α
−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、α−
グリシドキシプロピルメチルジェトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、β−グリ
シドキシプロピルメヂルジエトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルメチルジプロポキシシラン、γ−グリシド４
：シプロビルメヂルジブトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロビルメヂルジメトキシエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジフェノキシシラン、γ−グリ
シドキシプロビルエチルジメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルエチルジェトキシシラン、γ−グリシド
キシプロビルエチルジプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルビニルジメトキシシラン、γ−グリシドキ
シプロピルビニルジェトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルフェニルジメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルフェニルジエトキシシラン、などジアルコキシ
シランまたはジアシルオキシシラン類またはその加水分
解物がその例である。

これらの有機ケイ素化合物は１種又は２種以上添加する
ことも可能である。

これらの有機ケイ素化合物はキュア温度を下げ、硬化を
より進行させるためには加水分解して使用することが好
ましい。

加水分解は純水または塩酸、酢酸あるいは硫酸などの酸
性水溶液を添加、攪拌することによって製造される。さ
らに純水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節すること
によって加水分解の度合をコントロールすることも容易
に可能である。加水分解に際しては、一般式（Ｉ＞の加
水分解性基と等モル以上、３倍モル以下の純水または酸
性水溶液の添加が硬化促進の点で特に好ましい。

加水分解に際しては、アルコール等が生成してくるので
、無溶媒で加水分解することが可能であるが、加水分解
をざらに均一に行なう目的で有機ケイ素化合物と溶媒を
混合した後、加水分解を行なうことも可能である。また
目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱および／
または減圧下に適当量除去して使用することも可能であ
るし、その後に適当な溶媒を添加することも可能でおる
。

これらの溶媒としては、アルコール、エステル、エーテ
ル、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙げられる。

またこれらの溶媒は必要に応じて２種以上の混合溶媒と
して使用することも可能である。また、目的に応じて加
水分解反応を促進し、ざらに予備縮合等の反応を進める
ために室温以上に加熱することも可能でおるし、予備縮
合を抑えるために加水分解温度を室温以下に下げて行な
うことも可能であることは言うまでもない。

上記ビビクルには、ポリビニルブチラールなどの樹脂成
分を加えてもよい。

本発明における平均粒子径１〜２００ｎｍの微粒子とし
ては、５１０２、Ａ　Ｑ２０３、ＴｉＯ２、五酸化アン
チモンなどの無機物微粒子の水および／またはアルコー
ルなどの有機溶媒にコロイド状に分散させたゾルが具体
的な例として挙げられる。とくに好ましくはシリカ微粒
子である。

本発明の目的のためには平均粒子径１〜２００ｎｍのも
のが使用されるが、好ましくは５〜１１００ｎの粒子径
のものが使用される。平均粒子径が２００ｎｍを越える
ものは、生成塗膜の透明性が悪く、濁りの大きなものと
なる。

また上記微粒子の分散性を改良するために各種の界面活
性剤やアミンを添加してあっても何ら問題はない。ざら
には微粒子を酸化ジルコンやアルミなどの他の無機酸化
物で被覆されていてもよい。

本発明の被膜形成時に使用されるコーティング組成物に
は、硬化促進、低温硬化などを可能とする目的で各種の
硬化剤が併用可能である。硬化剤としては各種エポキシ
樹脂硬化剤、あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが
使用される。

これら硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸およ
びそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属錯
化合物あるいは金属アルコキシドさらにはアルカリ金属
の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種馬が挙げられる
。これらの硬化剤は２種以上混合して使用することも可
能である。これら硬化剤の中でも本発明の目的には、塗
料の安定性、コーテイング後の塗膜の着色の有無などの
点から、とくに下記に示すアルミニウムキレート化合物
が有用である。

ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、例えば一
般式へ〇ＸｎＹ３−ｏで示されるアルミニウムキレート
化合物である。

ただし式中 ＸはＯＬ　（Ｌは低級アルキル基）、Ｙは一般式Ｍ’　
ＣＯＣＨ２Ｃ０Ｍ”　（Ｍｌ、Ｍ２はいずれも低級アル
キル基〉で示される化合物に由来する配位子および一般
式 ％式％ 低級アルキル基）で示される化合物に由来する配位子か
ら選ばれる少なくとも１つであり、ｎはＯ１１または２
である。

本発明の硬化剤として特に有用な一般式Ａｌ２ＸｏＹ３
．で示されるアルミニウムキレート化合物としては、各
種の化合物をあげ１ｑるが、組成物への溶解性、安定性
、硬化触媒としての効果などの観点からとくに好ましい
のは、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニウ
ムビスエチルアセトアセテートモノアセヂルアセトネー
ト、アルミニウムージ−ｎ−ブトキシド−モノエチルア
セトアセテート、アルミニウムージー１ＳＯ−プロポキ
シド−モノメチルアセトアセテートなどである。これら
は２種以上を混合して使用することも可能である。

本発明の透明基材上に塗布される被膜の塗布手段として
は、刷毛塗り、浸漬塗り、ロール塗り、スプレー塗装、
スピン塗装、流し塗りなどの通常行なわれる塗布方法が
容易に使用可能である。

本発明における被膜の膜厚はとくに限定されるものでは
ない。しかし、接着強度の保持、硬度などの点から０．
５μｍ〜２０μｍの間で好ましく用いられる。特に好ま
しくは０．７μｍ〜１５μｍである。また、コーティン
グ組成物の塗布にあたっては作業性、被膜厚さ調節など
から各種溶剤により、稀釈して用いられるが稀釈溶剤と
しては例えば水、アルコール、エステル、エーテル、ハ
ロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメヂルス
ルホキシドなどが目的に応じて種々使用が可能であり、
必要に応じて混合溶媒を使用することもできる。しかし
、微粒子の分散性などの点から、水、アルコール、ジメ
チルホルムアミド、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ベンジルアルコー
ル、フェネチルアルコール、フェニルセロンル１などが
好ましく用いられる。

これらの組成物から被膜を形成するにはこれらの組成物
を含有するコーティング組成物を塗布の後、加熱により
乾燥硬化させる。

硬化温度は選択される化合物、作業条件によっても異な
るが６０℃〜３００℃、好ましくは８０°Ｃ〜２００℃
が用いられる。これより低温度では硬化が不十分であり
、高温度ではクラック、被膜の分解などの不都合が生ず
る。

次に本発明のＢ層について述べる。透明基材上に適用さ
れる透明導電膜はこれまでその名の下に知られている各
種材料、すなわち金、銀、パラジウムなどの金属薄膜、
導電性を有する無機酸化物薄膜などを用いることができ
るが、とくに酸化インジウム／酸化スズ系薄膜（以下Ｉ
ＴＯと略称する）、酸化スズ薄膜が有用である。薄膜の
厚さは導電性および透明性の観点から１〜６００ｎｍが
必要でおるが、ざらに５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく用
いられる。このうち電磁波を効果的にシールドするには
１００〜３００ｎｍ程度の厚さである。

かかる薄膜の形成にあたっては真空蒸着法、スパッタリ
ング法、その他の物理的気相法や該当する金属のハロゲ
ン化物、有機系誘導体の化学的気相法、さらには場合に
より液相からの薄膜形成法が適宜用いられる。かかる薄
膜形成にあたっては各種化学的、物理的な基材表面の処
理、基材の表面改質は必要に応じて行なうことができる
。中でも基材にＩＴＯや酸化スズ薄膜が設けられている
ものについては、熱水、とくに清水中に浸漬する処理が
接着性向上の点で好まＬノい。該処理は被膜形成の前で
も後であっても同様の効果が認められる。

本発明においては、Ａ層、Ｂ層の順序はどちらでもよい
が、好ましくはプラスチック透明基材側からＡ層、Ｂ層
の順序である。そしてかかるＡ、Ｂ層を有する面がブラ
ウン管側に面しているのが、静電気除去と電磁波シール
ドにとって好ましい。

次に図面を用いて説明する。

第１図は本発明の好ましい制電性を有する反射防止性光
透過板の一実施態様の断面を示す。第２図は第１図の導
電層３を有する面から見た平面図である。

着色したプラスチック透明基材１の上に、ノングレア、
耐擦過性を有するハードコート層２．２−を設け、その
上の少なくとも一面に導電層３を設ける。そして好まし
くは、アース線４により除電を促進する。

本発明によって得られる透明成形品は、Ａ層の最表面部
の凝集体によってソングレア性を与え、かつ被膜自身は
透明性を保持するとともに、高硬度表面を有し、耐摩耗
性に優れており、ＣＲＴの前面板、タッチパネル、ショ
ーケース、メーターカバーなど各種ディスプレイ前面板
に好ましく使用できる。本発明の特徴を明瞭にするため
に次に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。

［実施例］ 実施例１ （１）塗料の製造 ■　有機ケイ素化合物の加水分解 攪拌機、温度計、滴下ロートを取りつけた１Ｄ。

ビーカーにメチルトリメトキシシラン４１６ｇ、木酢１
２ｇ、エチルアルコール２９ｇを加え溶解する。

この溶液を５〜１０℃に冷却し攪拌しながら０゜０１規
定の塩酸水溶液１６５ｑを、内温か１０℃を越えないよ
うに保ちつつ滴下する。塩酸水溶液滴下終了後、同じ温
度で１時間攪拌し加水分解を行う。終了後、酢酸ナトリ
ウム（ＣＨ３ＣＯＯＮａ・３Ｈ２０）１．２ＣＪを加え
て攪拌溶解する。１ｑられた加水分解物溶液は、加熱乾
燥侵の固形分３５゜７％含む。

◎　塗料の調整 上記加水分解物７８．５ｇに、シリカゾル（日産化学工
業株式会社製メタノールシリカゾル、ゾル中に平均粒子
直径１３±１ｍμのシリカ微粒子を約３０％を含有する
。）３．５ｇ、さらに溶剤を１８ｇ加えて塗料を調整し
た。

（２）　　透明プラスチック板への塗装厚さ２ｍｌ１ｌ
のポリメチルメタクリレート樹脂板（三菱レイヨン株式
会社製：商品名アクリライト００１）を約１００ｘ　１
００ｍｍ角に切り出し、前記の塗料に浸漬して、約２０
ｃｍ／分の引き上げ速度で塗布した。次いで７５℃の熱
風乾燥機で４時間加熱乾燥し１、両面にノングレア性を
有する透明成形品を得た。

また膜厚は２．８μｍであった。なお被膜の最表面部に
おける凝集体の平均直径はＪＩＳ　　ＢＯ６５１によっ
て測定した結果、０．５μｍであった。

（３）透明導電膜の形成 次いで前記つや消し層の一方の面上に、導電層として、
スパッタリング法でＩｎ２Ｏ：＋　（酸化インジウム〉
と５ｎ０２　（Ｍ化スズ）との混合物をコーティングし
、７０ｎｍの膜厚とした。スパッタリング法の条件は、
特同昭６０−３２０５３＠公報の実施例７〜９に記載の
されているとおり、インジウム−錫合金（錫；１０重量
％）をターゲットとして、マグネトロンスパッタ装置を
用いて、アルゴンガスと酸素の混合ガス（酸素３０体積
％）を導入しながらＩ　Ｘ　１０　’Ｔｏｒｒの圧力で
行なった。

〈４）　　評価 前記（３）で得られた透明成形品をＣＲＴの前面に装着
したところ（ただし透明導電膜の方がＣＲＴ側）、ＣＲ
Ｔ画面の文字および図形などは鮮明に確認出来た。また
室内の蛍光燈（３７ワツト）を透明成形品の前面で反射
させて見たところコルティング前の基材と比べはるかに
反射が抑えられており、まぶしさを感じなかった。この
時の全光線透過率は８７％であり、グロスメーター（村
上色材研究所ｌｓ）による６０’角の表面光沢は４６％
であった。また、塗膜面に１Ｍ角の基板に達するゴバン
目を塗膜の上から鋼ナイフで１００個入れて、セロハン
粘着テープ（商品名″セロテープパニチバン側製品）を
強くはりつけ、９０度方向に急速にはがし、塗膜剥離の
有無を調べたところ塗膜剥離は認められず良好な接着性
を有していた。

表面硬度試験として鉛筆硬度試験（ＪＩＳ　　Ｋ５４０
０）を行ない８日が得られた。また、スチールウール（
＃０ＯＯＯ）で塗膜を強くこすったがほとんど傷がつか
ず良好な表面硬度を有していた。

ざら［４％られた光透過板は、アースを取ったところ、
周波数１０ＧＨ２における電磁波の透過量は約１０分の
１に減衰することができた。

これをワードプロセッサーの光学フィルターとして使用
したところ、反射防止機能に優れ、使用者の目が疲れな
い点において著るしい効果があった。

実施例２ 実施例１において、基材の表面につや消し層を設ける工
程まで同一とし、次に実施例１と同様にスパッタリング
法によるＩＴＯｋ　（２０ｎｍの膜厚）を形成した。

得られた成形品はスヂールウール（＃０ＯＯＯ）で塗膜
を強くこすったがほとんど傷がつかず良好な表面硬度を
有していた。また静電気除去効果も優れていた。

これをワードプロセッサーの光学フィルターとして使用
したところ、反射防止機能に優れ、使用者の目が疲れな
い点において著るしい効果があった。

［発明の効果］ 本発明により得られる表面特性に優れた透明成形品には
以下のような効果がある。

（１）　　ソングレア性を有し、表面硬度が高く耐摩耗
性、耐久性に優れた透明成形品が得られる。

（２）　　制電効果、電磁波シールド効果に優れる。

（３）　　塗料安定性が良好であり、生産性および再現
性の良い透明成形品が得られる。

（４）　　通常透明導電膜は高屈折率であり（たとえば
ＩＴＯの場合屈折率的２．１＞、これを最外層にすると
反射が高くなり見にくくなるが、本発明のつや消し層（
ノングレア、ＷＩ４　ｆ寮過性を有するハードコート層
）の上に透明導電膜を設けた場合は、反射は目立つほど
に高くならず、使用者にとって使い易いものとなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の好ましい制電性を有する反射防止性光
透過板の一実施態様の断面を示す。第２図は第１図の導
電層３を右する面から見た平面図である。 １：着色したプラスチック透明基材 ２．２−：ノングレア、耐擦過性を有するハードコート
層 ３：導電層 ４：アース線 第１図 第２図

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）プラスチック透明基材の表面に、少なくとも下記
   Ａ、Ｂからなる被膜層が、どちらかの順序で積層されて
   なることを特徴とする制電性を有する反射防止性光透過
   板。 Ａ、ビヒクルと平均粒子径が１〜２００ｎｍの微粒子を
   含有し、かつ少なくともその最表面に０．１μｍ〜１０
   μｍの平均直径を有する凝集体が形成された被膜。 Ｂ、透明導電性を有する被膜。
2. （２）特許請求の範囲第（１）項において、Ａ層、Ｂ層
   の順序が、プラスチック透明基材側からＡ層、Ｂ層の順
   序であることを特徴とする制電性を有する反射防止性光
   透過板。
3. （３）特許請求の範囲第（１）項において、導電層が酸
   化インジウムと酸化スズを含む層であることを特徴とす
   る制電性を有する反射防止性光透過板。
4. （４）特許請求の範囲第（１）項において、Ａ層のビヒ
   クルが、有機ポリシロキサンを含むことを特徴とする制
   電性を有する反射防止性光透過板。
5. （５）特許請求の範囲第（１）項において、導電層の膜
   厚が、１〜６００ｎｍの範囲であることを特徴とする制
   電性を有する反射防止性光透過板。
6. （６）特許請求の範囲第（１）項において、Ａ層の平均
   粒子径が１〜２００ｎｍの微粒子を含有し、かつ少なく
   ともその最表面に０．１μｍ〜１０μｍの平均直径を有
   する凝集体が、シリカ微粒子であることを特徴とする制
   電性を有する反射防止性光透過板。
7. （７）特許請求の範囲第（１）項において、制電性が、
   電磁波シールド性を有することを特徴とする制電性を有
   する反射防止性光透過板。