JP2906472B2 - 透明成形体 - Google Patents
透明成形体Info
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- JP2906472B2 JP2906472B2 JP1224650A JP22465089A JP2906472B2 JP 2906472 B2 JP2906472 B2 JP 2906472B2 JP 1224650 A JP1224650 A JP 1224650A JP 22465089 A JP22465089 A JP 22465089A JP 2906472 B2 JP2906472 B2 JP 2906472B2
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- JP
- Japan
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- refractive index
- molded article
- organic group
- layer
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- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、低反射性、導電性、防汚性および耐薬品性
を有する透明成形体に関する。更に詳しくは、低反射性
により反射光による不快感、まぶしさが低減され、かつ
導電性を有することにより表面での静電気の蓄積、ほこ
りの吸着などを防ぐ効果を有し、しかもフッ素化合物に
よる撥水撥油作用で指紋などの汚れが取れやすく、酸や
アルカリなどによる腐食を受けにくい透明成形体に関す
る。
を有する透明成形体に関する。更に詳しくは、低反射性
により反射光による不快感、まぶしさが低減され、かつ
導電性を有することにより表面での静電気の蓄積、ほこ
りの吸着などを防ぐ効果を有し、しかもフッ素化合物に
よる撥水撥油作用で指紋などの汚れが取れやすく、酸や
アルカリなどによる腐食を受けにくい透明成形体に関す
る。
本発明の透明成形体は、CRTのパネル部および前面
板、タッチパネル、ショーケース、メーターカバーなど
各種ディスプレイ表示体として好適に用いうる。
板、タッチパネル、ショーケース、メーターカバーなど
各種ディスプレイ表示体として好適に用いうる。
［従来の技術］ テレビ受像機のCRT等においては、外部光の反射によ
って画像が見にくくなったり、動作中の帯電によって人
体などの間で放電が発生したり、ホコリ等のゴミが付着
したりするのを防ぐために、導電性反射防止膜が用いら
れている。
って画像が見にくくなったり、動作中の帯電によって人
体などの間で放電が発生したり、ホコリ等のゴミが付着
したりするのを防ぐために、導電性反射防止膜が用いら
れている。
このような導電性反射防止膜を形成させた透明成形体
の例としては、実開昭59−168951号公報記載の酸化錫ま
たは酸化インジウム導電膜の上に酸化珪素の膜を形成し
た陰極線管等が挙げられる。これらの表面のノングレア
処理に比べて優れた解像度、反射防止特性を有するが、
反射防止特性が優れているがゆえに、指紋などの汚れが
目立つ欠点があった。またこれらの膜は、酸、アルカリ
等に弱く、耐薬品性に劣る欠点もあった。
の例としては、実開昭59−168951号公報記載の酸化錫ま
たは酸化インジウム導電膜の上に酸化珪素の膜を形成し
た陰極線管等が挙げられる。これらの表面のノングレア
処理に比べて優れた解像度、反射防止特性を有するが、
反射防止特性が優れているがゆえに、指紋などの汚れが
目立つ欠点があった。またこれらの膜は、酸、アルカリ
等に弱く、耐薬品性に劣る欠点もあった。
［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、
したがってその目的は従来技術の有していた問題点を解
消し、反射防止性と帯電防止性とを具備し、しかも防汚
性、耐薬品性を有する透明成形体を提供することにあ
る。
したがってその目的は従来技術の有していた問題点を解
消し、反射防止性と帯電防止性とを具備し、しかも防汚
性、耐薬品性を有する透明成形体を提供することにあ
る。
［課題を解決するための手段］ 本発明は、透明基材から成形されてなる成形体、およ
び、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられ
た高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有す
る透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子
径１〜300nmの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値1010Ω
／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）がフッ素化合物
を含みかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い層
である透明成形体である。
び、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられ
た高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有す
る透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子
径１〜300nmの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値1010Ω
／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）がフッ素化合物
を含みかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い層
である透明成形体である。
本発明の透明成形体は、低反射性、導電性、防汚性お
よび耐薬品性を有する。
よび耐薬品性を有する。
本発明の透明成形体においては、高屈折率導電層
（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）の２層の屈折率および膜
厚を調節して光の干渉作用を利用することにより、目的
の一つである低反射性が発現され、導電性を有する材料
を含有する層を設けることによって、もう一つの目的で
ある導電性が発現され、更に空気側の低屈折率層にフッ
素化合物を含有させることにより、他の二つの目的であ
る防汚性と耐薬品性を発現させようとするものである。
（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）の２層の屈折率および膜
厚を調節して光の干渉作用を利用することにより、目的
の一つである低反射性が発現され、導電性を有する材料
を含有する層を設けることによって、もう一つの目的で
ある導電性が発現され、更に空気側の低屈折率層にフッ
素化合物を含有させることにより、他の二つの目的であ
る防汚性と耐薬品性を発現させようとするものである。
高屈折率導電層（Ａ）を形成するための導電性材料と
しては、無機微粒子を使用する。特に、高屈折率導電層
（Ａ）の表面抵抗値を1010Ω／□以下とする点におい
て、金属酸化物の微粒子が導電性材料として良好であ
る。
しては、無機微粒子を使用する。特に、高屈折率導電層
（Ａ）の表面抵抗値を1010Ω／□以下とする点におい
て、金属酸化物の微粒子が導電性材料として良好であ
る。
かかる導電性材料としては、例えば酸化錫、酸化亜
鉛、酸化インジウムなどが挙げられ、これらの少なくと
も１種が用いられるのが好ましい。これらは導電性を高
める目的で各種の化合物がドープされていても問題な
い。高屈折率導電層（Ａ）の表面抵抗値が1012Ω／□を
超えると十分な帯電防止性能が発現できないため問題が
ある。
鉛、酸化インジウムなどが挙げられ、これらの少なくと
も１種が用いられるのが好ましい。これらは導電性を高
める目的で各種の化合物がドープされていても問題な
い。高屈折率導電層（Ａ）の表面抵抗値が1012Ω／□を
超えると十分な帯電防止性能が発現できないため問題が
ある。
無機微粒子の大きさは、あまり多きすぎると得られた
被膜がヘイズになりやすいため、平均流径は300nm以下
である。また平均粒子径があまり小さすぎると導電性が
悪くなるため、1nm以上である。
被膜がヘイズになりやすいため、平均流径は300nm以下
である。また平均粒子径があまり小さすぎると導電性が
悪くなるため、1nm以上である。
一方の低屈折率層（Ｂ）の低屈折率材料も各種の化合
物が知られているが、本発明における低屈折率材料は高
屈折率層（Ａ）の屈折率に比して低屈折率を与え、撥水
撥油性に優れたフッ素化合物を含む材料から選択する。
高屈折率導電層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）の屈折率差
は、原理的には（空気側第１層の屈折率）＜（空気側第
２層の屈折率）であればよいが、優れた低反射性を発現
するには両層の屈折率が0.1以上であることが必要であ
る。
物が知られているが、本発明における低屈折率材料は高
屈折率層（Ａ）の屈折率に比して低屈折率を与え、撥水
撥油性に優れたフッ素化合物を含む材料から選択する。
高屈折率導電層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）の屈折率差
は、原理的には（空気側第１層の屈折率）＜（空気側第
２層の屈折率）であればよいが、優れた低反射性を発現
するには両層の屈折率が0.1以上であることが必要であ
る。
フッ素化合物は低屈折率材料として知られており、こ
の目的にかなう材料である。本発明におけるフッ素化合
物としては下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、
（Ｃ）成分と記す。）および／または下記式（Ｄ）で表
される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）を必須成分
として含有する組成物から形成されるフッ素化合物が、
優れた撥水性、撥油性、耐薬品性を有する点で好まし
い。
の目的にかなう材料である。本発明におけるフッ素化合
物としては下記式（Ｃ）で表される化合物（以下、
（Ｃ）成分と記す。）および／または下記式（Ｄ）で表
される化合物（以下、（Ｄ）成分と記す。）を必須成分
として含有する組成物から形成されるフッ素化合物が、
優れた撥水性、撥油性、耐薬品性を有する点で好まし
い。
Rf1、Rf2はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
R1、R2は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ
≦２を満たす。
≦２を満たす。
ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ
≦２を満たす。
≦２を満たす。
Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパ
ーフルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。
ーフルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。
Ｘは加水分解可能な有機基。
Rf3はパーフルオロアルキル基含有の有機基。
R3は水素原子または炭素数１〜６の有機基。
ｅは１または２であって、ｇは０、１、または２であ
って、１≦ｅ＋ｇ≦３を満たす。
って、１≦ｅ＋ｇ≦３を満たす。
Ｘは加水分解可能な有機基。
以下、構成要素について詳細に記述する。
本発明の組成物においては、防汚性、撥水性を発現す
る成分として（Ｃ）成分および／または（Ｄ）成分を含
有する組成物が好ましい。
る成分として（Ｃ）成分および／または（Ｄ）成分を含
有する組成物が好ましい。
（Ｃ）成分としては、例えば、以下の化合物が挙げら
れる。
れる。
ただし、上記の式においてｎは１〜16の整数、ＸはC
l、OCH3、OC2H5等の加水分解可能な基、Ｒは置換または
非置換の１価の炭化水素基、RfはC2H4CF3、C2H4（CF2）
nCF3（ｎは１〜15の整数）、C2H4OCOCF3等のパーフルオ
ロアルキル基含有の有機基である。
l、OCH3、OC2H5等の加水分解可能な基、Ｒは置換または
非置換の１価の炭化水素基、RfはC2H4CF3、C2H4（CF2）
nCF3（ｎは１〜15の整数）、C2H4OCOCF3等のパーフルオ
ロアルキル基含有の有機基である。
（Ｄ）成分としては、例えば、以下の化合物が挙げら
れる。
れる。
ただし、上記の式においてＲは置換または非置換の１
価炭化水素基、Rf′は炭素数１〜16のパーフルオロアル
キル基、ｍは１以上の整数、ＸはCl、OCH3、OC2H5等の
加水分解可能な基である。
価炭化水素基、Rf′は炭素数１〜16のパーフルオロアル
キル基、ｍは１以上の整数、ＸはCl、OCH3、OC2H5等の
加水分解可能な基である。
（Ｃ）成分または（Ｄ）成分の添加量は、目的に応じ
て任意に変更できる。
て任意に変更できる。
フッ素化合物を形成する組成物は（Ｃ）成分または
（Ｄ）成分のどちらか一方の成分が必須であるが、両成
分が含有されていても問題はない。
（Ｄ）成分のどちらか一方の成分が必須であるが、両成
分が含有されていても問題はない。
（Ｃ）および／または（Ｄ）成分はそのままあるいは
部分加水分解を行なって使用するが、加水分解にあたっ
ては、単純に水を添加してもよく、塩酸、酢酸、リン
酸、硝酸、硫酸、スルホン酸等の酸性水溶液を添加して
もよい。
部分加水分解を行なって使用するが、加水分解にあたっ
ては、単純に水を添加してもよく、塩酸、酢酸、リン
酸、硝酸、硫酸、スルホン酸等の酸性水溶液を添加して
もよい。
（Ｃ）、（Ｄ）成分について目的に応じて他の成分、
添加剤を加えることは支障なく、他の成分、添加剤を加
えることでこの組成物の適用範囲がひろがる。
添加剤を加えることは支障なく、他の成分、添加剤を加
えることでこの組成物の適用範囲がひろがる。
本発明の透明成形体を得るには種々の方法を採用しう
る。例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンプレーティ
ング法などのPVD法、CVD法、コーティング組成物を塗布
する方法などが挙げられる。
る。例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンプレーティ
ング法などのPVD法、CVD法、コーティング組成物を塗布
する方法などが挙げられる。
かかる各種の方法において、作業性、コストの点、ま
たは複雑な形状の透明成形体に適応しうるという点でコ
ーティング組成物を塗布する方法が有利である。したが
って、安価で、形状の複雑な本発明の透明成形体を得る
には、高屈折率導電材料、低屈折率材料を含有するコー
ティング組成物を透明基材から成形された成形体の表面
に順次塗布して被膜層を形成する方法が最適である。
たは複雑な形状の透明成形体に適応しうるという点でコ
ーティング組成物を塗布する方法が有利である。したが
って、安価で、形状の複雑な本発明の透明成形体を得る
には、高屈折率導電材料、低屈折率材料を含有するコー
ティング組成物を透明基材から成形された成形体の表面
に順次塗布して被膜層を形成する方法が最適である。
コーティング組成物を塗布する方法で本発明の透明成
形体を得るには、単に高屈折率導電材料、または低屈折
率材料が溶解または分散したコーティング組成物を透明
基材に塗布すればよい。高屈折率導電材料を含むコーテ
ィング組成物に含まれる無機微粒子はコロイド状のもで
あってもよい。
形体を得るには、単に高屈折率導電材料、または低屈折
率材料が溶解または分散したコーティング組成物を透明
基材に塗布すればよい。高屈折率導電材料を含むコーテ
ィング組成物に含まれる無機微粒子はコロイド状のもで
あってもよい。
また組成物は、塗布に好適となすために、溶剤によっ
て溶液状とするのが好ましく、高屈折率導電材料、低屈
折率材料を溶解、分散させる溶剤としては各種の溶剤が
使用できる。例えば、アルコール系、エステル系、ケト
ン系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、芳香族系溶
剤などが挙げられが、これらの単独、または混合系のい
ずれであっても問題はない。
て溶液状とするのが好ましく、高屈折率導電材料、低屈
折率材料を溶解、分散させる溶剤としては各種の溶剤が
使用できる。例えば、アルコール系、エステル系、ケト
ン系、エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、芳香族系溶
剤などが挙げられが、これらの単独、または混合系のい
ずれであっても問題はない。
組成物において、材料の濃度は任意であってよく、目
的とする被膜層の厚さに応じて決定される。ここで、目
的とする被膜層の厚さとは本発明においては基本的には
基材および２つの層の間で光学干渉が生じる膜厚のこと
である。
的とする被膜層の厚さに応じて決定される。ここで、目
的とする被膜層の厚さとは本発明においては基本的には
基材および２つの層の間で光学干渉が生じる膜厚のこと
である。
本発明において、優れた性能を有する高屈折率導電層
（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を形成するには造膜性も
重要な要因の一つである。したがって、コーティング組
成物の塗布において造膜性を高めるために他の成分を添
加できる。かかる他の成分として好適なものはシリコン
化合物（Ｘ）が挙げられ、シリコン化合物（Ｘ）の添加
は形成される被膜層の耐擦傷性を損なわないという点で
良好な添加成分である シリコン化合物（Ｘ）としては、以下の化合物が例示
される。
（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を形成するには造膜性も
重要な要因の一つである。したがって、コーティング組
成物の塗布において造膜性を高めるために他の成分を添
加できる。かかる他の成分として好適なものはシリコン
化合物（Ｘ）が挙げられ、シリコン化合物（Ｘ）の添加
は形成される被膜層の耐擦傷性を損なわないという点で
良好な添加成分である シリコン化合物（Ｘ）としては、以下の化合物が例示
される。
メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピル
シリケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリ
ケート、sec−ブチルシリケート、およびｔ−ブチルシ
リケートなどのテトラアルコキシシラン、およびその加
水分解物。
シリケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリ
ケート、sec−ブチルシリケート、およびｔ−ブチルシ
リケートなどのテトラアルコキシシラン、およびその加
水分解物。
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラ
ン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリアセトキシシラン。
ン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリブトキシ
シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキ
シシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエト
キシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、フェニルト
リメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェ
ニルトリアセトキシシラン。
γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロ
プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
アセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノ
エチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラ
ン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン。
プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
アセトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリ
メトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノ
エチルトリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラ
ン、クロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルト
リエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシ
ラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン。
α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
シエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチル
トリメトキシシラン。
リシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
シエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、α−グリシドキシプロピルトリ
エトキシシラン、β−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリプロポキシシラン、γ−グリシド
キシプロピルトリブトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリフェノキシシラン、α−グリシドキシブチル
トリメトキシシラン。
α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
シブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエト
キシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン。
リシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキ
シブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチル
トリメトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエト
キシシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン。
（3,4−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキ
シシラン、（3,4−エポキシシクロヘキシル）メチルト
リエトキシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン、β−（3,4−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（3,
4−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシ
ラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リブトキシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（3,4−エポキ
シシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキ
シシラン、δ−（3,4−エポキシシクロヘキシル）ブチ
ルトリメトキシシラン、δ−（3,4−エポキシシクロヘ
キシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキ
シシラン、トリアシルオキシシランまたはトリフェノキ
シシラン類またはその加水分解物。
シシラン、（3,4−エポキシシクロヘキシル）メチルト
リエトキシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリメトキシシラン、β−（3,4−エポキシ
シクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−（3,
4−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポキシシ
ラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リブトキシシラン、β−（3,4−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリフェノキシシラン、γ−（3,4−エポキ
シシクロヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ−
（3,4−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキ
シシラン、δ−（3,4−エポキシシクロヘキシル）ブチ
ルトリメトキシシラン、δ−（3,4−エポキシシクロヘ
キシル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキ
シシラン、トリアシルオキシシランまたはトリフェノキ
シシラン類またはその加水分解物。
およびジメチルジメトキシシラン、（フェニル）メチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、（フ
ェニル）メチルジエトキシシラン、（γ−クロロプロピ
ル）メチルジメトキシシラン、（γ−クロロプロピル）
メヂルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルジメチルジメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、（γ−メルカプトプロピル）メチルジメトキ
シシラン、（γ−メルカプトプロピル）メチルジエトキ
シシラン。
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、（フ
ェニル）メチルジエトキシシラン、（γ−クロロプロピ
ル）メチルジメトキシシラン、（γ−クロロプロピル）
メヂルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルジメチルジメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、（γ−メルカプトプロピル）メチルジメトキ
シシラン、（γ−メルカプトプロピル）メチルジエトキ
シシラン。
（γ−アミノプロピル）メチルジメトキシシラン、
（γ−アミノプロピル）メチルジエトキシシラン、エチ
ルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシ
ラン、（グリシドキシメチル）メチルジメトキシシラ
ン、（グリシドキシメチル）メチルジエトキシシラン、
（α−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、
（α−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、
（β−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、
（β−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、
（α−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラ
ン、（α−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシ
ラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシ
シラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジエトキ
シシラン。
（γ−アミノプロピル）メチルジエトキシシラン、エチ
ルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシ
ラン、（グリシドキシメチル）メチルジメトキシシラ
ン、（グリシドキシメチル）メチルジエトキシシラン、
（α−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、
（α−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、
（β−グリシドキシエチル）メチルジメトキシシラン、
（β−グリシドキシエチル）メチルジエトキシシラン、
（α−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラ
ン、（α−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシ
ラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシ
シラン、（β−グリシドキシプロピル）メチルジエトキ
シシラン。
（γ−グリシドキシプロピル）メチルジメトキシシラ
ン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシ
ラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジプロポキ
シシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルブトキ
シシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジフェ
ノキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチルジ
メトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチル
ジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチ
ルジプロポキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）
ビニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピ
ル）ビニルジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロ
ピル）フェニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシ
プロピル）フェニルジエトキシシラン、などジアルコキ
シシランまたはジアシルオキシシラン等。
ン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジエトキシシ
ラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジプロポキ
シシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルブトキ
シシラン、（γ−グリシドキシプロピル）メチルジフェ
ノキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチルジ
メトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチル
ジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）エチ
ルジプロポキシシラン、（γ−グリシドキシプロピル）
ビニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシプロピ
ル）ビニルジエトキシシラン、（γ−グリシドキシプロ
ピル）フェニルジメトキシシラン、（γ−グリシドキシ
プロピル）フェニルジエトキシシラン、などジアルコキ
シシランまたはジアシルオキシシラン等。
上記例示のシリコン化合物（Ｘ）は１種または数種の
混合物をそのまままたは加水分解して用いる。加水分解
に際しては、単に純水の添加でよいが、酸の存在下で水
を加えてもよい。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢
酸、スルホン酸等が用いられる。さらに形成される被膜
層の耐擦傷性を高めるために従来から公知の硬化触媒等
を加えることもできる。
混合物をそのまままたは加水分解して用いる。加水分解
に際しては、単に純水の添加でよいが、酸の存在下で水
を加えてもよい。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢
酸、スルホン酸等が用いられる。さらに形成される被膜
層の耐擦傷性を高めるために従来から公知の硬化触媒等
を加えることもできる。
また、樹脂としては目的に応じて、溶解性、相溶性、
分子量（分布、重合度）、含有する官能基、高次構造等
を考慮して最適なものを選択できる。さらに、レベリン
グ性を高めるために界面活性剤等を加えたり、形成され
る被膜層を改質し得る他の添加剤、紫外線吸収剤、滑剤
等を加えてもよい。
分子量（分布、重合度）、含有する官能基、高次構造等
を考慮して最適なものを選択できる。さらに、レベリン
グ性を高めるために界面活性剤等を加えたり、形成され
る被膜層を改質し得る他の添加剤、紫外線吸収剤、滑剤
等を加えてもよい。
コーティング組成物から本発明の被膜相を形成する方
法において、塗布方法としてはスピンコート、ディップ
コート、流し塗り、スプレーコート、はけ塗りなど、従
来公知の方法を採用できる。優れた性能を有する被膜層
を形成するには、塗布後に焼成するのが望ましく、焼成
時間、焼成温度は基材の耐熱性、材料の種類等を考慮し
て、最適条件が決定される。また１層毎に、あるいは２
層を同時に焼成できる。
法において、塗布方法としてはスピンコート、ディップ
コート、流し塗り、スプレーコート、はけ塗りなど、従
来公知の方法を採用できる。優れた性能を有する被膜層
を形成するには、塗布後に焼成するのが望ましく、焼成
時間、焼成温度は基材の耐熱性、材料の種類等を考慮し
て、最適条件が決定される。また１層毎に、あるいは２
層を同時に焼成できる。
本発明における成形体は透明基材から成形されてなる
が、透明基材としてはガラスおよびプラスチックが好ま
しい。
が、透明基材としてはガラスおよびプラスチックが好ま
しい。
ガラス成形体としては普通板ガラスはもとより、各種
加工ガラス、特にディスプレイ表示体としてブラウン管
のパネル部などが好適である、 プラスチック成形体としては、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、不飽和ポリエステル等の基材からな
るシートやフィルムが挙げられる。
加工ガラス、特にディスプレイ表示体としてブラウン管
のパネル部などが好適である、 プラスチック成形体としては、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリジエチレングリコールビ
スアリルカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、不飽和ポリエステル等の基材からな
るシートやフィルムが挙げられる。
［実施例］ 以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例において得られた透明成形体の評価方法につい
ては次の通りである。
ては次の通りである。
（１）低反射性の評価方法 GAMMA分光反射スペクトル測定機により基材表面の片
面の視感反射率を測定した。
面の視感反射率を測定した。
（２）導電性の評価方法 ハイレスタ抵抗測定器（三菱油化製）により基材の表
面抵抗値を測定した。
面抵抗値を測定した。
（３）防汚性の評価方法 （３−１）ヘキサデカンの接触角を測定した。
（３−２）手の指紋を処理表面に付着後、綿布で20往
復拭き取りその後の外観を検査し、以下の基準で評価し
た。
復拭き取りその後の外観を検査し、以下の基準で評価し
た。
A:完全にきれいに油汚れが拭き取れる。
B:少し油汚れが残る。
C:かなり油汚れが残る。
（４）撥水性の評価方法 （４−１）水の接触角を測定した。
（４−２）サンプルから20cmの距離に保持したノズル
から水道水をスプレーして試験した。適当な時間、水の
スプレーをテストサンプルの処理表面に当てた後スプレ
ーを止め、サンプルに残った水滴を肉眼で検査し以下の
評価基準で判断した。
から水道水をスプレーして試験した。適当な時間、水の
スプレーをテストサンプルの処理表面に当てた後スプレ
ーを止め、サンプルに残った水滴を肉眼で検査し以下の
評価基準で判断した。
A:サンプル表面に全く水滴が残らない。
B:サンプル表面に少し水滴が残る。
C:サンプル表面にかなり水滴が残る。
D:サンプル表面にＣが濡れ広がる。
（５）耐擦傷性の評価方法 1kgの荷重下に消しゴムで基材表面を100往復後、その
表面の傷の付き方を調査した。耐擦傷性の評価の基準は
以下の通りである。
表面の傷の付き方を調査した。耐擦傷性の評価の基準は
以下の通りである。
A:傷が全くつかない。
B:傷が少しつく。
C:多くの傷がつく。
また、上記耐擦傷性評価後のサンプルについて低反射
性、導電性、防汚性、および撥水性を評価した。
性、導電性、防汚性、および撥水性を評価した。
実施例１ ［高屈折率導電層用コーティング組成物（Ｔ液）の調
製］ テトラエトキシシラン50gをエタノール200gに溶解し
た。次にこれに１％塩酸水溶液46gを徐々に滴下し、３
日間熟成して部分加水分解を得た。これに200gのエタノ
ール分散アンチモンドープ酸化錫ゾル液（濃度３％、平
均粒子径100nm）を加えて調製した（以下、Ｔ−１液と
略する。）。
製］ テトラエトキシシラン50gをエタノール200gに溶解し
た。次にこれに１％塩酸水溶液46gを徐々に滴下し、３
日間熟成して部分加水分解を得た。これに200gのエタノ
ール分散アンチモンドープ酸化錫ゾル液（濃度３％、平
均粒子径100nm）を加えて調製した（以下、Ｔ−１液と
略する。）。
［低屈折率層用コーティング組成物（Ｕ液）の調製］ 下記Ｃ成分19.0g、Ｄ成分5.0gおよびX1成分5.6gを、
撹拌子がセットされた三つ口容器に入れ混合した。更に
２−プロパノールを600g、および２−メチル−２−プロ
パノールを1400g加えた。次にアルミニウムアセチルア
セトネート2.2gを加えよく撹拌した。これに１％HCl水
溶液6.7gを徐々に滴下した。滴下終了後26℃に保温し７
日間放置した（以下、Ｕ−１液と略する。）。
撹拌子がセットされた三つ口容器に入れ混合した。更に
２−プロパノールを600g、および２−メチル−２−プロ
パノールを1400g加えた。次にアルミニウムアセチルア
セトネート2.2gを加えよく撹拌した。これに１％HCl水
溶液6.7gを徐々に滴下した。滴下終了後26℃に保温し７
日間放置した（以下、Ｕ−１液と略する。）。
C:（CH3O）3SiC2H4C8F16C2H4Si（OCH3）３ D:C9F19C2H4Si（OCH3）３ X1:Si（OCH3）４ 予め洗浄されたガラス板［10cm×10cm×厚さ3mm］を
Ｔ−１液に浸漬した。浸漬後、10cm/minの速さで引き上
げ、100℃で10分焼成した。次に、このガラス板をＵ−
１液に浸漬後、6cm/minの速さで引き上げ、200℃で60分
焼成した。このようにして、２層の被膜層の形成された
ガラス板を得た。そのガラス板について前記の評価方法
にしたがって評価した結果を第１表に示す。
Ｔ−１液に浸漬した。浸漬後、10cm/minの速さで引き上
げ、100℃で10分焼成した。次に、このガラス板をＵ−
１液に浸漬後、6cm/minの速さで引き上げ、200℃で60分
焼成した。このようにして、２層の被膜層の形成された
ガラス板を得た。そのガラス板について前記の評価方法
にしたがって評価した結果を第１表に示す。
比較例１ 比較例として、実施例１に用いたガラス板について被
膜層を形成することなく評価した結果を第１表に示す。
膜層を形成することなく評価した結果を第１表に示す。
実施例２ 実施例１におけるガラス板をテレビ用ブラウン管のパ
ネル部に変更した他は同様にして、表面に２層の被膜層
を形成した。このようにして得られたパネルについて評
価した結果を第１表に示す。
ネル部に変更した他は同様にして、表面に２層の被膜層
を形成した。このようにして得られたパネルについて評
価した結果を第１表に示す。
比較例２ 比較例として、実施例２で用いたテレビ用ブラウン管
のパネル部について被膜層を形成することなく評価した
結果を第１表に示す。
のパネル部について被膜層を形成することなく評価した
結果を第１表に示す。
実施例３〜４ 実施例１に用いたＵ−１液のかわりに第２表のＵ液を
用いた他は実施例１と同様にして２層の被膜層の形成さ
れたガラス板を得た。このガラス板について評価した結
果を第１表に示す。
用いた他は実施例１と同様にして２層の被膜層の形成さ
れたガラス板を得た。このガラス板について評価した結
果を第１表に示す。
実施例５〜11、比較例３〜４ 実施例１に用いたＵ−１液のＣ成分、Ｄ成分、X1成分
のかわりに、第３表に示した種類の化合物および量（単
位:g）だけ用いて組成物を調合し、他は実施例１と同様
にして２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。この
ガラス板について評価した結果を第１表に示す。
のかわりに、第３表に示した種類の化合物および量（単
位:g）だけ用いて組成物を調合し、他は実施例１と同様
にして２層の被膜層の形成されたガラス板を得た。この
ガラス板について評価した結果を第１表に示す。
実施例12〜16 実施例１におけるＴ−１液のかわりに第４表のＴ液
（高屈折率導電層用コーティング組成物）を用い、Ｕ−
１液塗布後の焼成温度を200℃から400℃に変更したほか
は実施例１と同様にして、２層の被膜層の形成されたガ
ラス板を得た。このガラス板について評価した結果を第
１表に示す。
（高屈折率導電層用コーティング組成物）を用い、Ｕ−
１液塗布後の焼成温度を200℃から400℃に変更したほか
は実施例１と同様にして、２層の被膜層の形成されたガ
ラス板を得た。このガラス板について評価した結果を第
１表に示す。
実施例17 実施例１で得られた２層の被膜層の形成されたガラス
板を第５表に示す薬品に24時間浸漬した。浸漬後洗浄を
行い、低反射性、導電性、防汚性、撥水性を評価した結
果を第５表に示す。
板を第５表に示す薬品に24時間浸漬した。浸漬後洗浄を
行い、低反射性、導電性、防汚性、撥水性を評価した結
果を第５表に示す。
［発明の効果］ 本発明の透明成形体は以下の特徴を有する。
優れた導電性を有することから、静電作陽によるホコ
リの付着を防ぐ。
リの付着を防ぐ。
優れた低反射性を有することから、反射光による不快
感、まぶしさが低減される。
感、まぶしさが低減される。
優れた防汚性を有することから、汚れが付着しにく
く、たとえ汚れが付着しても布やティッシュペーパーで
簡単に拭き取ることができる。
く、たとえ汚れが付着しても布やティッシュペーパーで
簡単に拭き取ることができる。
優れた耐薬品性を有することから、酸やアルカリによ
る腐食を受けにくい。
る腐食を受けにくい。
優れた耐擦傷性を有し、しかも耐久性も良好である。
数多くの材料の選択が可能であり、性能の幅を広く設
定でる。
定でる。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00
Claims (4)
- 【請求項１】透明基材から成形されてなる成形体、およ
び、該成形体の表面から空気側に向かって順に設けられ
た高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ）を有す
る透明成形体であり、高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子
径１〜300nmの無機微粒子を含みかつ表面抵抗値1010Ω
／□以下の層であり、低屈折率層（Ｂ）がフッ素化合物
を含みかつ高屈折率導電層（Ａ）よりも屈折率が低い層
である透明成形体。 - 【請求項２】高屈折率導電層（Ａ）における無機微粒子
が、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウムから選ばれる少
なくとも１種の無機微粒子である請求項１に記載の透明
成形体。 - 【請求項３】低屈折率層（Ｂ）が、下記式（Ｃ）で表さ
れる化合物および／または下記式（Ｄ）で表される化合
物を必須成分として含有する組成物から形成されたフッ
素化合物を含む層である請求項１または２に記載の透明
成形体。 Rf1、Rf2はパーフルオロアルキル基含有の有機基。 R1、R2は水素原子または炭素数１〜６の有機基。 ａ、ｂは独立に０、１、または２であって０≦ａ＋ｂ≦
２を満たす。 ｃ、ｄは独立に０、１、または２であって０≦ｃ＋ｄ≦
２を満たす。 Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパー
フルオロアルキレン基を含有する２価の有機基。 Ｘは加水分解可能な有機基。 Rf3はパーフルオロアルキル基含有の有機基。 R3は水素原子または炭素数１〜６の有機基。 ｅは１または２であって、ｇは０、１、または２であっ
て、１≦ｅ＋ｇ≦３を満たす。 Ｘは加水分解可能な有機基。 - 【請求項４】透明基材から成形されてなる成形体が、ガ
ラスより成形されてなるディスプレイ表示体である請求
項１、２、または３に記載の透明成形体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1224650A JP2906472B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 透明成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1224650A JP2906472B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 透明成形体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0390345A JPH0390345A (ja) | 1991-04-16 |
| JP2906472B2 true JP2906472B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=16817049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1224650A Expired - Fee Related JP2906472B2 (ja) | 1989-09-01 | 1989-09-01 | 透明成形体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2906472B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1303793B1 (en) | 2000-07-17 | 2015-01-28 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method and system of automatic fluid dispensing for imprint lithography processes |
| US20080160129A1 (en) | 2006-05-11 | 2008-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Template Having a Varying Thickness to Facilitate Expelling a Gas Positioned Between a Substrate and the Template |
| WO2004108845A1 (ja) * | 2003-06-06 | 2004-12-16 | Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. | 透明被膜形成用塗布液、該被膜付基材および液晶表示セル |
| US20060177535A1 (en) | 2005-02-04 | 2006-08-10 | Molecular Imprints, Inc. | Imprint lithography template to facilitate control of liquid movement |
-
1989
- 1989-09-01 JP JP1224650A patent/JP2906472B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0390345A (ja) | 1991-04-16 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |