JP2000119634A - 防汚性組成物および防汚性を有する光学物品 - Google Patents
防汚性組成物および防汚性を有する光学物品Info
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- JP2000119634A JP2000119634A JP10290476A JP29047698A JP2000119634A JP 2000119634 A JP2000119634 A JP 2000119634A JP 10290476 A JP10290476 A JP 10290476A JP 29047698 A JP29047698 A JP 29047698A JP 2000119634 A JP2000119634 A JP 2000119634A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/18—Coatings for keeping optical surfaces clean, e.g. hydrophobic or photo-catalytic films
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/0006—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 with means to keep optical surfaces clean, e.g. by preventing or removing dirt, stains, contamination, condensation
Abstract
(57)【要約】
【課題】防汚性に優れた光学物品およびそれに好適に用
いられる防汚性組成物を提供する。 【解決手段】下記一般式で示される含フッ素シラン化合
物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物またはそ
の加水分解物を１〜１００重量部含有することを特徴と
する防汚性組成物。 【化１】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
パーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1
は加水分解可能な基 Ｒ2は一価の有機基、Ｒ3は二価の
有機基，ｎは０〜２の整数を表す。）
いられる防汚性組成物を提供する。 【解決手段】下記一般式で示される含フッ素シラン化合
物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物またはそ
の加水分解物を１〜１００重量部含有することを特徴と
する防汚性組成物。 【化１】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
パーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1
は加水分解可能な基 Ｒ2は一価の有機基、Ｒ3は二価の
有機基，ｎは０〜２の整数を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】基材表面に汚れが付着しにく
く、かつ汚染物の除去が容易な性質を付与する高耐久性
の防汚性組成物およびＣＲＴディスプレーやＬＣＤディ
スプレーなどの表示画面にその防汚性組成物を付与する
ことにより得られる防汚性光学物品に関する。
く、かつ汚染物の除去が容易な性質を付与する高耐久性
の防汚性組成物およびＣＲＴディスプレーやＬＣＤディ
スプレーなどの表示画面にその防汚性組成物を付与する
ことにより得られる防汚性光学物品に関する。
【０００２】
【従来の技術】表示装置などに使用される反射防止処理
した表面は指紋などの汚れが付着しやすく、透明性や反
射性を損なうため、表面に撥水・撥油性の塗膜を形成さ
せる方法で改善する試みがなされている。このような防
汚層を得る方法としては、蒸着やスパッタなどによって
撥水撥油性の塗膜を形成させるのが一般的であり、この
ようにして得られる防汚層は耐擦傷性に優れる傾向があ
る。しかし、蒸着やスパッタして防汚処理する方法は高
耐久性の防汚層が得られるものの、真空を必要とする大
がかりな装置を用いるので生産性が悪く、製造コストは
高価であった。また、これらの方法は、蒸着もしくはス
パッタ時に基板が８０℃以上に加熱されるので、耐熱性
の点などから使用できる基板が限定されていた。
した表面は指紋などの汚れが付着しやすく、透明性や反
射性を損なうため、表面に撥水・撥油性の塗膜を形成さ
せる方法で改善する試みがなされている。このような防
汚層を得る方法としては、蒸着やスパッタなどによって
撥水撥油性の塗膜を形成させるのが一般的であり、この
ようにして得られる防汚層は耐擦傷性に優れる傾向があ
る。しかし、蒸着やスパッタして防汚処理する方法は高
耐久性の防汚層が得られるものの、真空を必要とする大
がかりな装置を用いるので生産性が悪く、製造コストは
高価であった。また、これらの方法は、蒸着もしくはス
パッタ時に基板が８０℃以上に加熱されるので、耐熱性
の点などから使用できる基板が限定されていた。
【０００３】また、近年、例えば特開平２−２２３７２
のようにパーフルオロアルキル基を有するシラン化合物
を溶媒に溶解した後、基板にコーティングして撥水撥油
層を形成する方法が知られるようになった。しかし、こ
れらの含フッ素被膜は撥水撥油性には優れるが、指紋の
付着しやすさや指紋の除去性に問題があり、表示画面表
面に使用するには満足し得ない。また、膜自体の強度が
弱く被膜の耐久性にも問題がある。
のようにパーフルオロアルキル基を有するシラン化合物
を溶媒に溶解した後、基板にコーティングして撥水撥油
層を形成する方法が知られるようになった。しかし、こ
れらの含フッ素被膜は撥水撥油性には優れるが、指紋の
付着しやすさや指紋の除去性に問題があり、表示画面表
面に使用するには満足し得ない。また、膜自体の強度が
弱く被膜の耐久性にも問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明では、上記従来
技術の欠点を解消した非常に簡便な手法により被膜を形
成することのでき、汚れが付着しにくく、かつ汚染物の
除去が容易な耐磨耗性に優れた防汚性組成物およびそれ
を使用した防汚性光学物品を提供するものである。
技術の欠点を解消した非常に簡便な手法により被膜を形
成することのでき、汚れが付着しにくく、かつ汚染物の
除去が容易な耐磨耗性に優れた防汚性組成物およびそれ
を使用した防汚性光学物品を提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達するために
本発明の防汚性組成物は、下記の構成を有する。
本発明の防汚性組成物は、下記の構成を有する。
【０００６】「下記一般式で示される含フッ素シラン化
合物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物または
その加水分解物を１〜１００重量部含有することを特徴
とする防汚性組成物。
合物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物または
その加水分解物を１〜１００重量部含有することを特徴
とする防汚性組成物。
【０００７】
【化４】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
パーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1
は水酸基あるいは加水分解可能な基 Ｒ2は一価の有機
基、Ｒ3は二価の有機基，ｎは０〜２の整数を表
す。）」
パーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1
は水酸基あるいは加水分解可能な基 Ｒ2は一価の有機
基、Ｒ3は二価の有機基，ｎは０〜２の整数を表
す。）」
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明においては、含フッ素化合
物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物あるいは
その加水分解物を１〜１００重量部、好ましくは５〜５
０重量部、さらに好ましくは１０〜３３重量部添加した
組成を特徴とする。多官能有機珪素化合物としては下記
構造を有しているものが好ましい。多官能有機珪素化合
物を添加することにより、含フッ素化合物と多官能有機
珪素化合物が部分的にシロキサニル縮合して、架橋構造
を生じさせることにより、膜強度を上昇させ、被膜の耐
磨耗性を良好にすることができる。添加量が１重量部未
満だと膜強度が上昇せず、１００重量部を越えると被膜
の防汚性が悪くなる。
物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物あるいは
その加水分解物を１〜１００重量部、好ましくは５〜５
０重量部、さらに好ましくは１０〜３３重量部添加した
組成を特徴とする。多官能有機珪素化合物としては下記
構造を有しているものが好ましい。多官能有機珪素化合
物を添加することにより、含フッ素化合物と多官能有機
珪素化合物が部分的にシロキサニル縮合して、架橋構造
を生じさせることにより、膜強度を上昇させ、被膜の耐
磨耗性を良好にすることができる。添加量が１重量部未
満だと膜強度が上昇せず、１００重量部を越えると被膜
の防汚性が悪くなる。
【０００９】Si(R1)i(R2)j(R3)k(OR4)4-(i+j+k) 式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は炭素、水素、酸素およびフッ素
原子から選ばれる少なくとも１種を含む有機基を、Ｒ４
は脂肪族、脂環族および芳香族残基から選ばれる少なく
とも１種を、ｉは０または１、ｊは０または１、ｋは０
または１の整数をそれぞれ表す。多官能有機珪素化合物
として具体的にはメチルシリケ―ト、エチルシリケ―
ト、ｎ−プロピルシリケ―ト、ｉ−プロピルシリケ―
ト、ｎ−ブチルシリケ―ト、ｓｅｃ−ブチルシリケ―ト
およびｔ−ブチルシリケ―トなどのテトラアルコキシシ
ラン類、さらにはメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチ
ルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、ビニルジメチ
ルエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ―クロロプロピルトリエトキ
シシラン、γ―クロロプロピルトリアセトキシシラン、
３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、
γ―メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
―アミノプロピルトリメトキシシラン、γ―アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）―γ―アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、β―シアノエチルトリエトキシ
シラン、メチルトリフェノキシシラン、クロロメチルト
リメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシ
メチルトリエトキシシラン、α―グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、α―グリシドキシエチルトリエトキ
シシラン、β―グリシドキシエチルトリメトキシシラ
ン、β―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α―
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α―グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、β―グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、β―グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチ
ルシラン、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチ
ルシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルジメチル
エトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピ
ルトリプロポキシシラン、γ―グリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリメト
キシエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリフ
ェノキシシラン、α―グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、α―グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
β―グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β―グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ―グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ―グリシドキシブチルトリエトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメ
トキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メ
チルトリエトキシシラン、β―（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β―（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β―（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リプロポキシシラン、β―（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリブトキシシラン、β―（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシ
ラン、β―（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリフェノキシシラン、γ―（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ―（３，４
−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラ
ン、δ―（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルト
リメトキシシラン、δ―（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ
シラン、トリアシルオキシシランまたはトリフェノキシ
シラン類およびジメチルジメトキシシラン、フェニルメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フ
ェニルメチルジエトキシシラン、γ―クロロプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジエ
トキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ―メタ
クリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メ
タクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メル
カプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ―アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ―アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチ
ルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチル
ジエトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジメ
トキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジエトキ
シシラン、β―グリシドキシエチルメチルジメトキシシ
ラン、β―グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキ
シシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジフェノキ
シシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジメトキシ
シラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシ
ラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジプロポキシシ
ラン、γ―グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラ
ンなどジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン
類、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポ
キシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉ
ｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキ
シシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ
ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、
ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジ
メチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メ
チルジメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、
γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシ
シラン等のシラン化合物などが挙げられる。
原子から選ばれる少なくとも１種を含む有機基を、Ｒ４
は脂肪族、脂環族および芳香族残基から選ばれる少なく
とも１種を、ｉは０または１、ｊは０または１、ｋは０
または１の整数をそれぞれ表す。多官能有機珪素化合物
として具体的にはメチルシリケ―ト、エチルシリケ―
ト、ｎ−プロピルシリケ―ト、ｉ−プロピルシリケ―
ト、ｎ−ブチルシリケ―ト、ｓｅｃ−ブチルシリケ―ト
およびｔ−ブチルシリケ―トなどのテトラアルコキシシ
ラン類、さらにはメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチ
ルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、ビニルジメチ
ルエトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリアセトキシシラン、γ―クロロプロピ
ルトリメトキシシラン、γ―クロロプロピルトリエトキ
シシラン、γ―クロロプロピルトリアセトキシシラン、
３，３，３−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、
γ―メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ
―アミノプロピルトリメトキシシラン、γ―アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリ
メトキシシラン、γ―メルカプトプロピルトリエトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）―γ―アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、β―シアノエチルトリエトキシ
シラン、メチルトリフェノキシシラン、クロロメチルト
リメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、
グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシ
メチルトリエトキシシラン、α―グリシドキシエチルト
リメトキシシラン、α―グリシドキシエチルトリエトキ
シシラン、β―グリシドキシエチルトリメトキシシラ
ン、β―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α―
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、α―グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、β―グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、β―グリシドキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリエトキ
シシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチ
ルシラン、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチ
ルシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシシラ
ン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルジメチル
エトキシシラン、γ−（メタ）アクリロイルオキシプロ
ピルメチルジエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピ
ルトリプロポキシシラン、γ―グリシドキシプロピルト
リブトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリメト
キシエトキシシラン、γ―グリシドキシプロピルトリフ
ェノキシシラン、α―グリシドキシブチルトリメトキシ
シラン、α―グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
β―グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β―グリ
シドキシブチルトリエトキシシラン、γ―グリシドキシ
ブチルトリメトキシシラン、γ―グリシドキシブチルト
リエトキシシラン、δ―グリシドキシブチルトリメトキ
シシラン、δ―グリシドキシブチルトリエトキシシラ
ン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメ
トキシシラン、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メ
チルトリエトキシシラン、β―（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β―（３，４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラ
ン、β―（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リプロポキシシラン、β―（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリブトキシシラン、β―（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシ
ラン、β―（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル
トリフェノキシシラン、γ―（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）プロピルトリメトキシシラン、γ―（３，４
−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラ
ン、δ―（３，４−エポキシシクロヘキシル）ブチルト
リメトキシシラン、δ―（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシ
シラン、トリアシルオキシシランまたはトリフェノキシ
シラン類およびジメチルジメトキシシラン、フェニルメ
チルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フ
ェニルメチルジエトキシシラン、γ―クロロプロピルメ
チルジメトキシシラン、γ―クロロプロピルメチルジエ
トキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ―メタ
クリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メ
タクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ―
メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ―メル
カプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ―アミノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ―アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラ
ン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメチ
ルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチル
ジエトキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジメ
トキシシラン、α―グリシドキシエチルメチルジエトキ
シシラン、β―グリシドキシエチルメチルジメトキシシ
ラン、β―グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジプロポキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジブトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキ
シシラン、γ―グリシドキシプロピルメチルジフェノキ
シシラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジメトキシ
シラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジエトキシシ
ラン、γ―グリシドキシプロピルエチルジプロポキシシ
ラン、γ―グリシドキシプロピルビニルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルビニルジエトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラ
ン、γ―グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラ
ンなどジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン
類、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポ
キシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシ
ラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉ
ｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキ
シシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ
ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅ
ｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、
ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジ
メチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メ
チルジメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、
γ−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシ
シラン等のシラン化合物などが挙げられる。
【００１０】上記の含フッ素シラン化合物および多官能
有機珪素化合物を加水分解縮合するには、純水または塩
酸、酢酸、リン酸、硝酸あるいは硫酸などの酸性水溶液
を添加、撹拌することによって達成される。さらに純
水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節することによっ
て加水分解の度合をコントロ―ルすることも容易に可能
である。加水分解に際しては、加水分解性基と等モル以
上、３倍モル以下の純水または酸性水溶液の添加が硬化
促進の点で特に好ましい。
有機珪素化合物を加水分解縮合するには、純水または塩
酸、酢酸、リン酸、硝酸あるいは硫酸などの酸性水溶液
を添加、撹拌することによって達成される。さらに純
水、あるいは酸性水溶液の添加量を調節することによっ
て加水分解の度合をコントロ―ルすることも容易に可能
である。加水分解に際しては、加水分解性基と等モル以
上、３倍モル以下の純水または酸性水溶液の添加が硬化
促進の点で特に好ましい。
【００１１】上記含フッ素化合物として好ましい物とし
て下記一般式で示される化合物などが挙げられる。
て下記一般式で示される化合物などが挙げられる。
【００１２】
【化５】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
のパーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｘ
はフッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子あるい
は水素原子、Ｙは水素原子または炭素数１〜１０の低級
アルキル基、Ｚはフッ素原子あるいは炭素数１〜１６の
直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロ基あるいはハイド
ロパーフルオロ基、Ｒ1は水酸基あるいは加水分解可能
な基である。加水分解可能な基としてはハロゲン、−Ｏ
Ｒ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝Ｃ（Ｒ）2、−ＯＮ＝
Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−ＯＣＨ3，−ＯＣ2Ｈ5，
−Ｃｌが挙げられる。 Ｒ2は一価の有機基、a,b,c,dは
それぞれ０〜２００の整数であって、１≦a+b+c+d≦２
００である。ｅは０または１、ｌは０〜３の整数、ｍは
１〜２０の整数、ｎは０〜２の整数を表す。）
のパーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｘ
はフッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子あるい
は水素原子、Ｙは水素原子または炭素数１〜１０の低級
アルキル基、Ｚはフッ素原子あるいは炭素数１〜１６の
直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロ基あるいはハイド
ロパーフルオロ基、Ｒ1は水酸基あるいは加水分解可能
な基である。加水分解可能な基としてはハロゲン、−Ｏ
Ｒ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝Ｃ（Ｒ）2、−ＯＮ＝
Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−ＯＣＨ3，−ＯＣ2Ｈ5，
−Ｃｌが挙げられる。 Ｒ2は一価の有機基、a,b,c,dは
それぞれ０〜２００の整数であって、１≦a+b+c+d≦２
００である。ｅは０または１、ｌは０〜３の整数、ｍは
１〜２０の整数、ｎは０〜２の整数を表す。）
【化６】 （式中、Ｘは水素原子またはヨウ素原子、Ｙは水素原子
または炭素数１〜１０の低級アルキル基、Ｒ1は水酸基
あるいは加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基と
してはハロゲン、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝
Ｃ（Ｒ）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−Ｏ
ＣＨ3，−ＯＣ2Ｈ5，−Ｃｌが挙げられる。ａは１〜１
００の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜２０の整数、
ｎは０〜２の整数を表す。Ｒ2は一価の有機基を表
す。） これらのパーフルオロポリエーテル鎖を持つ化合物は例
えば特開平１−２９４７０９で開示されている方法で得
ることができる。
または炭素数１〜１０の低級アルキル基、Ｒ1は水酸基
あるいは加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基と
してはハロゲン、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−ＯＣ（Ｒ）＝
Ｃ（Ｒ）2、−ＯＮ＝Ｃ（Ｒ）2が、より好ましくは−Ｏ
ＣＨ3，−ＯＣ2Ｈ5，−Ｃｌが挙げられる。ａは１〜１
００の整数、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜２０の整数、
ｎは０〜２の整数を表す。Ｒ2は一価の有機基を表
す。） これらのパーフルオロポリエーテル鎖を持つ化合物は例
えば特開平１−２９４７０９で開示されている方法で得
ることができる。
【００１３】上記多官能有機珪素化合物あるいはその加
水分解物を添加したフッ素シラン化合物の防汚性組成物
を有機系あるいは無機系反射防止膜などの光学物品上に
被覆するためには防汚性組成物を含む塗液をコーティン
グし、溶媒を除去し、必要に応じて室温あるいは加熱し
て硬化する。コーティング方法としては、スピンコー
ト、ディップコート、ダイコート、スプレーコート、バ
ーコート、ロールコート、カーテンフローコート、グラ
ビアコートなどが挙げられる。また、塗液に使用する溶
媒としてはパーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタ
ン、トリフルオロキシレンなどのフッ素系の溶媒が好ま
しい。また、加水分解による部分的な縮合を促進するた
めに、純水または塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン
酸、硝酸あるいは硫酸などの酸性水溶液あるいはアルミ
ニウムアセチルアセトナートなどの金属アルコキシドを
添加していても構わない。その他に、表面改質剤（フッ
素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）、Ｓｉ、
Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｔｉの酸化物やフッ化マグネ
シウム、フッ化カルシウムなどの微粒子、ポリテトラフ
ルオロエチレン等のフッ素樹脂を添加しても良い。
水分解物を添加したフッ素シラン化合物の防汚性組成物
を有機系あるいは無機系反射防止膜などの光学物品上に
被覆するためには防汚性組成物を含む塗液をコーティン
グし、溶媒を除去し、必要に応じて室温あるいは加熱し
て硬化する。コーティング方法としては、スピンコー
ト、ディップコート、ダイコート、スプレーコート、バ
ーコート、ロールコート、カーテンフローコート、グラ
ビアコートなどが挙げられる。また、塗液に使用する溶
媒としてはパーフルオロヘキサン、パーフルオロオクタ
ン、トリフルオロキシレンなどのフッ素系の溶媒が好ま
しい。また、加水分解による部分的な縮合を促進するた
めに、純水または塩酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、リン
酸、硝酸あるいは硫酸などの酸性水溶液あるいはアルミ
ニウムアセチルアセトナートなどの金属アルコキシドを
添加していても構わない。その他に、表面改質剤（フッ
素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤など）、Ｓｉ、
Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｔｉの酸化物やフッ化マグネ
シウム、フッ化カルシウムなどの微粒子、ポリテトラフ
ルオロエチレン等のフッ素樹脂を添加しても良い。
【００１４】多官能有機珪素化合物あるいはその加水分
解物を添加した含フッ素シラン化合物の被膜の膜厚とし
ては好ましくは１ｎｍから１００ｎｍより好ましくは１
０ｎｍから５０ｎｍが好ましい、膜厚が１ｎｍより薄い
と防汚性の効果が乏しくなり、１００ｎｍより厚いと膜
強度が弱くなる傾向がある。
解物を添加した含フッ素シラン化合物の被膜の膜厚とし
ては好ましくは１ｎｍから１００ｎｍより好ましくは１
０ｎｍから５０ｎｍが好ましい、膜厚が１ｎｍより薄い
と防汚性の効果が乏しくなり、１００ｎｍより厚いと膜
強度が弱くなる傾向がある。
【００１５】本発明における好ましい実施態様として、
上記防汚性組成物を反射防止膜上に設ける態様が挙げら
れる。反射防止膜としては、有機系反射防止膜が好まし
いが、有機系反射防止膜として、中でもはフッ素系の化
合物を主体としたものを用いた場合に、本発明防汚性組
成物による皮膜が好適に適用される。そのなかでも有機
珪素化合物を含有する反射防止膜が、本発明の防汚性組
成物と化学的に結合できるため膜強度、密着性から考え
て好ましい。本発明を限定するものではないが、例えば
フッ素化合物及び有機珪素化合物を主成分とするバイン
ダー樹脂と微粒子によって形成される膜中に空気による
ミクロ空隙を形成させた低屈折率光学薄膜などが挙げら
れる。このような有機系反射防止膜に使用される微粒子
としては、少なくともＳｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、
Ｔｉから選ばれる１種以上の元素を含む酸化物か、フッ
化マグネシウム又はフッ化カルシウムが挙げられ、ＢＥ
Ｔ法で測定した平均粒子径が１〜１００ｎｍであること
を特徴とする。このような組成を有する有機系の低屈折
率膜を当該膜よりも屈折率の高い層の上に形成されたこ
とを特徴とする反射防止体を作成することは反射率の点
から好ましい。屈折率の高い層としては帯電防止機能を
有するスズ、インジウム、アンチモン、亜鉛などの群無
機酸化物微粒子を分散させたものが具体的に挙げられ
る。
上記防汚性組成物を反射防止膜上に設ける態様が挙げら
れる。反射防止膜としては、有機系反射防止膜が好まし
いが、有機系反射防止膜として、中でもはフッ素系の化
合物を主体としたものを用いた場合に、本発明防汚性組
成物による皮膜が好適に適用される。そのなかでも有機
珪素化合物を含有する反射防止膜が、本発明の防汚性組
成物と化学的に結合できるため膜強度、密着性から考え
て好ましい。本発明を限定するものではないが、例えば
フッ素化合物及び有機珪素化合物を主成分とするバイン
ダー樹脂と微粒子によって形成される膜中に空気による
ミクロ空隙を形成させた低屈折率光学薄膜などが挙げら
れる。このような有機系反射防止膜に使用される微粒子
としては、少なくともＳｉ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、
Ｔｉから選ばれる１種以上の元素を含む酸化物か、フッ
化マグネシウム又はフッ化カルシウムが挙げられ、ＢＥ
Ｔ法で測定した平均粒子径が１〜１００ｎｍであること
を特徴とする。このような組成を有する有機系の低屈折
率膜を当該膜よりも屈折率の高い層の上に形成されたこ
とを特徴とする反射防止体を作成することは反射率の点
から好ましい。屈折率の高い層としては帯電防止機能を
有するスズ、インジウム、アンチモン、亜鉛などの群無
機酸化物微粒子を分散させたものが具体的に挙げられ
る。
【００１６】上記の組成の有機系反射防止膜を使用した
場合、ミクロ空隙が膜表面に有するため、含フッ素シラ
ン化合物の被膜と有機系反射防止膜の密着性が向上す
る。
場合、ミクロ空隙が膜表面に有するため、含フッ素シラ
ン化合物の被膜と有機系反射防止膜の密着性が向上す
る。
【００１７】また、反射防止膜と上記防汚性組成物との
密着性をあげるために、反射防止膜にプラズマ放電やコ
ロナ放電などの処理を行い表面性質を改質することも耐
擦傷性を向上させるためには有効である。
密着性をあげるために、反射防止膜にプラズマ放電やコ
ロナ放電などの処理を行い表面性質を改質することも耐
擦傷性を向上させるためには有効である。
【００１８】また、無機系反射防止膜としては無機酸化
物、無機窒化物、フッ素含有無機化合物などを単層また
は多層コーティングして得られる。
物、無機窒化物、フッ素含有無機化合物などを単層また
は多層コーティングして得られる。
【００１９】用いられる無機化合物としては、一酸化珪
素、二酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ
ム、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化セリ
ウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、ＩＴＯ等の酸化物、
窒化珪素などの無機窒化物、フッ化マグネシム、フッ化
カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化セリウム、フッ
化リチウム等のフッ素含有無機化合物等が挙げられる。
素、二酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウ
ム、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化セリ
ウム、酸化ハフニウム、酸化スズ、ＩＴＯ等の酸化物、
窒化珪素などの無機窒化物、フッ化マグネシム、フッ化
カルシウム、フッ化ナトリウム、フッ化セリウム、フッ
化リチウム等のフッ素含有無機化合物等が挙げられる。
【００２０】無機系反射防止膜の被覆方法としては、特
に限定されるものではないが真空蒸着法、イオンビーム
アシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法などにより被覆される。
に限定されるものではないが真空蒸着法、イオンビーム
アシスト蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリ
ング法などにより被覆される。
【００２１】以上のような方法で有機系あるいは無機系
反射防止膜上に、本発明の優れた耐磨耗性を有する防汚
性組成物を被覆することにより目的とする防汚性に優れ
た反射防止物品を得る事ができる。
反射防止膜上に、本発明の優れた耐磨耗性を有する防汚
性組成物を被覆することにより目的とする防汚性に優れ
た反射防止物品を得る事ができる。
【００２２】
【実施例】次に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明
するが、これに限定されるものではない。なお、以下の
実施例及び参考例において用いた評価手段及び測定手段
は次の通りである。
するが、これに限定されるものではない。なお、以下の
実施例及び参考例において用いた評価手段及び測定手段
は次の通りである。
【００２３】ａ．指紋の拭き取り性：表面に指を３秒間
押しつけて、指紋を付着させ、ティッシュペーパーを往
復させて指紋を拭き取り、指紋の拭き取り易さを判定し
た。判定基準は以下の通り。
押しつけて、指紋を付着させ、ティッシュペーパーを往
復させて指紋を拭き取り、指紋の拭き取り易さを判定し
た。判定基準は以下の通り。
【００２４】 ◎：１０往復程度で指紋が完全に拭き取れる ○：２０往復程度で指紋が完全に拭き取れる △：３０往復程度で拭き取れる ×：３０往復以上で拭き残しあり ××：全くとれない ｂ．スチールウール（ＳＷ）硬度：スチールウール＃０
０００番を使用し、２５０ｇ/ｃｍ2荷重で１０往復す
る。判定基準は以下の通り。 ◎：傷全く無し ○：細かい傷が数本ある △：傷が数本ある ×：傷あり ××:表面がはがれる ｃ．耐擦傷性：クリーニングクロス（ベンコットＭ３：
旭化成製）を２Ｋｇ/ｃｍ2荷重で１００往復する。判定
基準は以下の通り。 ◎：変化無し ○：接触角に多少変化あり △：反射率に多少変化あり ×：反射色が変化する ××：剥離 （プラスティック基板）シリカゾル（１３５重量部）、
γーグリシドキシプロピルトリエトキシシラン（１２９
重量部）の加水分解物、γークロロプロピルトリメトキ
シシラン（７０部）の加水分解物を主としてなるエタノ
ール溶液をポリカーボネート板の両面に塗布硬化して、
ハードコート膜を形成したものを用いた。
０００番を使用し、２５０ｇ/ｃｍ2荷重で１０往復す
る。判定基準は以下の通り。 ◎：傷全く無し ○：細かい傷が数本ある △：傷が数本ある ×：傷あり ××:表面がはがれる ｃ．耐擦傷性：クリーニングクロス（ベンコットＭ３：
旭化成製）を２Ｋｇ/ｃｍ2荷重で１００往復する。判定
基準は以下の通り。 ◎：変化無し ○：接触角に多少変化あり △：反射率に多少変化あり ×：反射色が変化する ××：剥離 （プラスティック基板）シリカゾル（１３５重量部）、
γーグリシドキシプロピルトリエトキシシラン（１２９
重量部）の加水分解物、γークロロプロピルトリメトキ
シシラン（７０部）の加水分解物を主としてなるエタノ
ール溶液をポリカーボネート板の両面に塗布硬化して、
ハードコート膜を形成したものを用いた。
【００２５】比較例１ 有機系反射防止膜を以下の方法により作成した。
【００２６】下記組成を用いて有機溶媒により固形分濃
度１．５ｗｔ％の塗料を調製し、上記プラスチック基板
上にグラビアコートし、脱溶媒後、１３０℃の熱風オー
ブン中で、基材が熱損傷を受けない時間内（約１分）の
条件で加熱硬化して反射防止膜を得た（以下、得られた
被膜を「有機系反射防止膜」という）。
度１．５ｗｔ％の塗料を調製し、上記プラスチック基板
上にグラビアコートし、脱溶媒後、１３０℃の熱風オー
ブン中で、基材が熱損傷を受けない時間内（約１分）の
条件で加熱硬化して反射防止膜を得た（以下、得られた
被膜を「有機系反射防止膜」という）。
【００２７】
【化７】 酸化珪素微粒子（平均粒子径１０ｎｍ） ５０重量部 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン加水分解物 ５０重量部 アルミニウムアセチルアセトナート ５重量部 得られた低屈折率膜はミクロボイドを有し、膜厚は約８
０ｎｍであり、屈折率nd=１．３６であった。
０ｎｍであり、屈折率nd=１．３６であった。
【００２８】パーフルオロオクチルエチルトリメトキシ
シラン(ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）
をパーフルオロヘキサンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液と
した。この溶液を比較例１で使用した有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
シラン(ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3）
をパーフルオロヘキサンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液と
した。この溶液を比較例１で使用した有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００２９】比較例２ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを１５０重量部添加した後、ｎ−プロパ
ノールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射
防止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を
蒸発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の
被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを１５０重量部添加した後、ｎ−プロパ
ノールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射
防止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を
蒸発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の
被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３０】比較例３ 下式で示されるパーフルオロポリエーテルシラン化合物
（ダイキン工業（株）製：数平均分子量７０００）をパ
ーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の溶液とし
た。この溶液を比較例１で得た有機系反射防止膜上にス
ピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた
後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成
させた防汚性反射防止物品を得た。
（ダイキン工業（株）製：数平均分子量７０００）をパ
ーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の溶液とし
た。この溶液を比較例１で得た有機系反射防止膜上にス
ピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた
後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成
させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３１】
【化８】 比較例４ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを１５０重量部添加した後、パーフルオロヘキサ
ンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止
膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発
させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜
を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを１５０重量部添加した後、パーフルオロヘキサ
ンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止
膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発
させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜
を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３２】実施例１ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、エチルシリケートを
２０重量部添加した後、ｎ−プロパノールに希釈し０．
３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコ
ートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼
夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防
汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、エチルシリケートを
２０重量部添加した後、ｎ−プロパノールに希釈し０．
３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコ
ートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼
夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防
汚性反射防止物品を得た。
【００３３】実施例２ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３４】実施例３ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを９０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを９０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３５】実施例４ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部、アルミニウムアセチルア
セトナートを１０重量部添加した後、ｎ−プロパノール
に希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部、アルミニウムアセチルア
セトナートを１０重量部添加した後、ｎ−プロパノール
に希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３６】実施例５ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、エチルシリケートを２０重量
部添加した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗ
ｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコート
で塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放
置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性
反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、エチルシリケートを２０重量
部添加した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗ
ｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコート
で塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放
置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性
反射防止物品を得た。
【００３７】実施例６ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを２０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを２０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３８】実施例７ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを９０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを９０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。有機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００３９】実施例８ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したパーフルオ
ロオクチルエチルトリメトキシシランを２０重量部添加
した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の
溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコートで塗布
し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、
含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性反射防
止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したパーフルオ
ロオクチルエチルトリメトキシシランを２０重量部添加
した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の
溶液とした。有機系反射防止膜上にスピンコートで塗布
し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、
含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性反射防
止物品を得た。
【００４０】比較例５ 無機系反射防止膜を以下の方法により作成した。
【００４１】上記プラスチック基板に無機物質のZrO2/S
iO2/TiO2/SiO2を真空蒸着法でこの順にそれぞれλ/４
（λ＝５４０ｎｍ）の膜厚に設定し、多層被覆した。
iO2/TiO2/SiO2を真空蒸着法でこの順にそれぞれλ/４
（λ＝５４０ｎｍ）の膜厚に設定し、多層被覆した。
【００４２】得られた膜の屈折率nd=1.88/1.46/2.05/1.
46であった。
46であった。
【００４３】無機系反射防止膜上に比較例１と同様の方
法でパーフルオロオクチルエチルトリメトキシシランの
被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た（以下、得
られた被膜を「無機系反射防止膜」という）。
法でパーフルオロオクチルエチルトリメトキシシランの
被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た（以下、得
られた被膜を「無機系反射防止膜」という）。
【００４４】比較例６ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを１５０重量部添加した後、パーフルオ
ロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系
反射防止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶
媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合
物の被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを１５０重量部添加した後、パーフルオ
ロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系
反射防止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶
媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合
物の被膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００４５】比較例７ 比較例５で得た無機系反射防止膜上に比較例３と同様の
方法でパーフルオロポリエーテルシラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た 比較例８ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを１５０重量部添加した後、パーフルオロヘキサ
ンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止
膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発
させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜
を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
方法でパーフルオロポリエーテルシラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た 比較例８ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを１５０重量部添加した後、パーフルオロヘキサ
ンに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止
膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発
させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜
を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００４６】実施例９ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、エチルシリケートを
２０重量部添加した後、ｎ−プロパノールに希釈し０．
３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコ
ートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼
夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防
汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、エチルシリケートを
２０重量部添加した後、ｎ−プロパノールに希釈し０．
３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコ
ートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼
夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防
汚性反射防止物品を得た。
【００４７】実施例１０ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００４８】実施例１１ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを９０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを９０重量部添加した後、ｎ−プロパノ
ールに希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防
止膜上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸
発させた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被
膜を形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００４９】実施例１２ 比較例１で使用したパーフルオロオクチルエチルトリメ
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部、アルミニウムアセチルア
セトナートを１０重量部添加した後、ｎ−プロパノール
に希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
トキシシラン１００重量部に対し、予め加水分解したエ
チルシリケートを２０重量部、アルミニウムアセチルア
セトナートを１０重量部添加した後、ｎ−プロパノール
に希釈し０．３ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００５０】実施例１３ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、エチルシリケートを２０重量
部添加した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗ
ｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコート
で塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放
置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性
反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、エチルシリケートを２０重量
部添加した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗ
ｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコート
で塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放
置し、含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性
反射防止物品を得た。
【００５１】実施例１４ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを２０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを２０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００５２】実施例１５ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを９０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したエチルシリ
ケートを９０重量部添加した後、パーフルオロヘキサン
に希釈し０．１ｗｔ％の溶液とした。無機系反射防止膜
上にスピンコートで塗布し、加熱乾燥して溶媒を蒸発さ
せた後、一昼夜放置し、含フッ素シラン化合物の被膜を
形成させた防汚性反射防止物品を得た。
【００５３】実施例１６ 比較例３で使用したパーフルオロポリエーテルシラン化
合物１００重量部に対し、予め加水分解したパーフルオ
ロオクチルエチルトリメトキシシランを２０重量部添加
した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の
溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコートで塗布
し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、
含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性反射防
止物品を得た。
合物１００重量部に対し、予め加水分解したパーフルオ
ロオクチルエチルトリメトキシシランを２０重量部添加
した後、パーフルオロヘキサンに希釈し０．１ｗｔ％の
溶液とした。無機系反射防止膜上にスピンコートで塗布
し、加熱乾燥して溶媒を蒸発させた後、一昼夜放置し、
含フッ素シラン化合物の被膜を形成させた防汚性反射防
止物品を得た。
【００５４】有機系反射防止膜の評価結果を表１に、無
機系反射防止膜の評価結果を表２に示した。
機系反射防止膜の評価結果を表２に示した。
【００５５】
【表１】
【表２】
【００５６】
【発明の効果】本発明により、汚れが付きにくく、か
つ、汚れが除去しやすいという防汚性光学物品およびそ
れに好適に用いられる防汚性組成物を提供することがで
きる。
つ、汚れが除去しやすいという防汚性光学物品およびそ
れに好適に用いられる防汚性組成物を提供することがで
きる。
Claims (6)
- 【請求項１】下記一般式で示される含フッ素シラン化合
物１００重量部に対し、多官能有機珪素化合物またはそ
の加水分解物を１〜１００重量部含有することを特徴と
する防汚性組成物。 【化１】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
パーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｒ1
は水酸基あるいは加水分解可能な基 Ｒ2は一価の有機
基、Ｒ3は二価の有機基，ｎは０〜２の整数を表す。） - 【請求項２】含フッ素シラン化合物が、下記一般式で示
される請求項１記載の防汚性組成物。 【化２】 （式中、Ｒｆは炭素数１〜１０の直鎖状あるいは分岐状
のパーフルオロ基あるいはハイドロパーフルオロ基、Ｘ
はフッ素原子、ヨウ素原子、臭素原子、塩素原子あるい
は水素原子、Ｙは水素原子または炭素数１〜１０の低級
アルキル基、Ｚはフッ素原子あるいは炭素数１〜１６の
直鎖状あるいは分岐状のパーフルオロ基あるいはハイド
ロパーフルオロ基、Ｒ1は水酸基あるいは加水分解可能
な基である。 Ｒ2は一価の有機基、a,b,c,dはそれぞれ
０〜２００の整数であって、１≦a+b+c+d≦２００であ
る。ｅは０または１、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜２０
の整数、ｎは０〜２の整数を表す。） - 【請求項３】含フッ素シラン化合物が、下記一般式で示
される請求項１記載の防汚性組成物。 【化３】 （式中、Ｘは水素原子またはヨウ素原子、Ｙは水素原子
または炭素数１〜１０の低級アルキル基、Ｒ1は水酸基
あるいは加水分解可能な基である。ａは１〜１００の整
数、ｌは０〜３の整数、ｍは１〜２０の整数、ｎは０〜
２の整数を表す。Ｒ2は一価の有機基を表す。） - 【請求項４】多官能有機珪素化合物が下式で表されるこ
とを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載の防汚
性組成物。 Si(R1)i(R2)j(R3)k(OR4)4-(i+j+k) （式中 Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素、酸素およびフッ素原
子から選ばれる少なくとも１種を含む有機基を、Ｒ４は
脂肪族、脂環族および芳香族残基から選ばれる少なくと
も１種を、ｉは０または１、ｊは０または１、ｋは０ま
たは１の整数をそれぞれ表す。） - 【請求項５】含フッ素シラン化合物および／あるいは多
官能有機珪素化合物を加水分解によりシロキサニル結合
で少なくとも部分的に縮合したことを特徴とする請求項
１から４のいずれかに記載の防汚性組成物。 - 【請求項６】上記請求項１から５のいずれかに記載の防
汚性組成物を光学物品表面に被覆することを特徴とする
防汚性を有する光学物品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10290476A JP2000119634A (ja) | 1998-10-13 | 1998-10-13 | 防汚性組成物および防汚性を有する光学物品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10290476A JP2000119634A (ja) | 1998-10-13 | 1998-10-13 | 防汚性組成物および防汚性を有する光学物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000119634A true JP2000119634A (ja) | 2000-04-25 |
Family
ID=17756516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10290476A Pending JP2000119634A (ja) | 1998-10-13 | 1998-10-13 | 防汚性組成物および防汚性を有する光学物品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000119634A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281412A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Nissha Printing Co Ltd | 反射防止部材とその製造方法 |
| US6558804B2 (en) | 2000-08-04 | 2003-05-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition and coated article |
| WO2005121265A1 (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Toray Industries, Inc. | シロキサン系塗料、光学物品およびシロキサン系塗料の製造方法 |
| US7638589B2 (en) | 2005-12-19 | 2009-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Triazole-containing fluorocarbon-grafted polysiloxanes |
| US7763678B2 (en) | 2006-04-14 | 2010-07-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Anti-smudge agent, smudge proof coating composition, smudge proof film, and article coated with smudge proof film |
| EP2216379A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photocurable coating composition, film forming method, and coated article |
| US7842753B2 (en) | 2006-04-14 | 2010-11-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composite resin, coating composition containing such resin, and coated article |
| JP2013510931A (ja) * | 2009-11-11 | 2013-03-28 | エシロール アンテルナシオナル （コンパニー ジェネラル ドプティック） | 表面処理組成物、その製造方法および表面処理された物品 |
| JP2014505114A (ja) * | 2010-11-10 | 2014-02-27 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品 |
| JP2014174508A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-22 | Canon Inc | 微細パターン表面の撥水処理方法 |
| JP2016537484A (ja) * | 2013-09-16 | 2016-12-01 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ポリフッ素含有シロキサン被覆 |
| JP2020117670A (ja) * | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 東洋アルミニウム株式会社 | フッ素含有複合粒子 |
| CN113045970A (zh) * | 2019-12-27 | 2021-06-29 | 株式会社尼欧斯 | 涂覆组合物及具备涂层的物品 |
-
1998
- 1998-10-13 JP JP10290476A patent/JP2000119634A/ja active Pending
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001281412A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-10 | Nissha Printing Co Ltd | 反射防止部材とその製造方法 |
| US6558804B2 (en) | 2000-08-04 | 2003-05-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Coating composition and coated article |
| WO2005121265A1 (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Toray Industries, Inc. | シロキサン系塗料、光学物品およびシロキサン系塗料の製造方法 |
| US7638589B2 (en) | 2005-12-19 | 2009-12-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Triazole-containing fluorocarbon-grafted polysiloxanes |
| US7763678B2 (en) | 2006-04-14 | 2010-07-27 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Anti-smudge agent, smudge proof coating composition, smudge proof film, and article coated with smudge proof film |
| US7842753B2 (en) | 2006-04-14 | 2010-11-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Composite resin, coating composition containing such resin, and coated article |
| EP2216379A1 (en) | 2009-02-09 | 2010-08-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photocurable coating composition, film forming method, and coated article |
| US8221878B2 (en) | 2009-02-09 | 2012-07-17 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photocurable coating composition, film forming method, and coated article |
| KR20140082845A (ko) * | 2009-11-11 | 2014-07-02 | 에씰로르 엥떼르나씨오날(꽁파니 제네랄 돕띠끄) | 표면 처리 조성물 및 표면-처리된 물품 |
| JP2013510931A (ja) * | 2009-11-11 | 2013-03-28 | エシロール アンテルナシオナル （コンパニー ジェネラル ドプティック） | 表面処理組成物、その製造方法および表面処理された物品 |
| KR101599655B1 (ko) | 2009-11-11 | 2016-03-03 | 에씰로르 엥떼르나씨오날(꽁파니 제네랄 돕띠끄) | 표면 처리 조성물 및 표면-처리된 물품 |
| JP2014505114A (ja) * | 2010-11-10 | 2014-02-27 | ダウ・コーニング・コーポレイション | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、及び表面処理した物品 |
| JP2014174508A (ja) * | 2013-03-13 | 2014-09-22 | Canon Inc | 微細パターン表面の撥水処理方法 |
| JP2016537484A (ja) * | 2013-09-16 | 2016-12-01 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ポリフッ素含有シロキサン被覆 |
| US10150889B2 (en) | 2013-09-16 | 2018-12-11 | Honeywell International Inc. | Poly fluorine-containing siloxane coatings |
| JP2020117670A (ja) * | 2019-01-28 | 2020-08-06 | 東洋アルミニウム株式会社 | フッ素含有複合粒子 |
| JP7134107B2 (ja) | 2019-01-28 | 2022-09-09 | 東洋アルミニウム株式会社 | フッ素含有複合粒子 |
| CN113045970A (zh) * | 2019-12-27 | 2021-06-29 | 株式会社尼欧斯 | 涂覆组合物及具备涂层的物品 |
| JP2021105137A (ja) * | 2019-12-27 | 2021-07-26 | 株式会社ネオス | コーティング組成物及びコーティングを備えた物品 |
| JP7330883B2 (ja) | 2019-12-27 | 2023-08-22 | 株式会社ネオス | コーティング組成物及びコーティングを備えた物品 |
| CN113045970B (zh) * | 2019-12-27 | 2023-10-13 | 株式会社尼欧斯 | 涂覆组合物及具备涂层的物品 |
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