JPH0390345A - 透明成形体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、低反射性、導電性、防汚性及び耐薬品性を有
する透明成形体に関し、更に詳しくは、低反射性により
反射光による不快感、まぶしさが低減され、かつ導電性
を有することにより表面での静電気の蓄積、はこりの吸
着などを防ぐ効果を有し、しかもフッ素化合物による撥
水撥油作用で指紋などの汚れが取れ易く、酸やアルカリ
などによる腐食を受けにくい透明成形体に関するもので
あり、ＣＲＴのパネル部及び前面板、タッチパネル、シ
ョーケース、メーターカバーなど各種ディスプレイ表示
体として好適に用い得るものである。

［従来の技術］ テレビ受像機のＣＲＴ等においては、外部光の反射によ
って画像が見にくくなったり、動作中の帯電によって人
体などとの間で放電が発生したり、ホコリ等のゴミが付
着したりするのを防止するために、導電性反射防止膜が
用いられている。

このような導電性反射防止膜を形成させた透明成形体の
例としては、実開昭５９４６８９５１号公報記載の酸化
錫または酸化インジウムの導電膜の上に酸化珪素の膜を
形成した陰極線管等が挙げられる。これらは表面のノン
グレア処理に比べて優れた解像度１反射防止特性を有し
ているが、反射防止特性が優れているが故に、指紋など
の汚れが目立つという欠点をもっていた。またこれらの
膜は、酸、アルカリ等に弱く、耐薬品性に劣るという欠
点を併せもっていた。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は、かかる現状に鑑みてなされたものであり、し
たがってその目的は従来技術の有していた問題点を解消
し、反射防止性と帯電防止性とを具備し、しかも防汚性
、耐薬品性を有する透明成形体を提供することにある。

［課題を解決するための手段］ 即ち、本発明は、透明基材から成形されてなる成形体で
あって、該成形体の表面から空気側に向かって、表面抵
抗値ＩＱＩＯ（Ω／口）以下の高屈折率導電層（Ａ）、
該（Ａ）の屈折率と屈折率差が０．１以上のフッ素化合
物を含む低屈折率層（Ｂ）、の２層を設けてなる低反射
性、導電性、防汚性及び耐薬品性を有する透明成形体を
提供するものである。

本発明は、高屈折率導電層（Ａ）および低屈折率層（Ｂ
）の２層の屈折率及び膜厚を調節して光の干渉作用を利
用することにより、目的の一つである低反射性が発現さ
れ、導電性を有する材料を含有する層を設けろことによ
って、もう一つの目的である導電性が発現され、更に空
気側の低屈折率層にフッ素化合物を含有させることによ
り、他の二つの目的である防汚性と耐薬品性を発現させ
ようとするものである。

高屈折率導電層（Ａ）を形成するための導電性材料とし
ては、導電性樹脂、無機微粒子などを用い得るが、その
選択は所定の導電性のレベル、例えば帯電防止、静電防
止、半導電性、導電性或は高導電性等に応じて任意に行
なわれる。しかして表面の耐擦傷性、耐久性を考慮する
場合、導電性樹脂は比較的に表面耐擦傷性に劣ることか
ら一般的には透明基材に対して不向きであるといえる。

従って、無機微粒子を使用するのが好適な場合が多く、
特に、高屈折率導電層（Ａ）の表面抵抗値が１ｏｌＯ（
Ω／口）以下とする点において、金属酸化物の微粒子が
導電性材料として良好なものが多い。かかる導電性材料
としては、例えば酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウムな
どが挙げられ、これらの少なくとも１種が用いられる。

これらは導電性を高める目的で各種の化合物がドープさ
れていても問題ないことは勿論である。高屈折率導電層
（Ａ）の表面抵抗値が１０”　（Ω／口）を越えると十
分な帯電防止性能が発現できないため問題がある。無機
微粒子の大きさは目的に応じて任意であって良いが、あ
まり大きすぎると得られた被膜がＨＡＺＥになり易いた
め平均粒子径は３００　ｎｍ以下であるのが好ましい。

また平均粒子径があまり小さすぎると導電性が悪くなる
ため１　ｎｍ以上であることが望ましい。

一方の低屈折率層（Ｂ）の低屈折率材料も各種の化合物
が知られているが、本発明における低屈折率材料は高屈
折率層（Ａ）の屈折率に比して低屈折率を与え、撥水撥
油性に優れたフッ素化合物を含む材料から選択する。高
屈折率導電層（Ａ）と低屈折率層（Ｂ）の屈折率差は、
原理的には（空気側第１層の屈折率）＜（空気側第２層
の屈折率）であれば良いが、優れた低反射性を発現する
には両層の屈折率の差が０．１以上であることが必要で
ある。フッ素化合物は低屈折率材料として知られており
、この目的にかなう材料である。本発明のフッ素化合物
としては下記式（Ｃ）または（Ｄ）を必須成分として含
有する組成物が、優れた撥水性９ｗＩ油性、耐薬品性を
有する点で好ましい。

Ｒｆ　’　、　Ｒｆ”はパーフルオロ基含有の有機基Ｒ
’、Ｒ”　　は水素または炭素数１から６の有機基ａ、
ｂは独立に０．　ｌ、　２　　であって０≦ａ＋ｂ≦２
を満たす。

ｃ、ｄは独立に０．１．２　　であって０≦ｃ＋ｄ≦２
を満たす。

Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパー
フルオロ基を含有する２価の有機基。

Ｘは加水分解可能な有機基 Ｒｆ’はパーフルオロ基含有の有機基 Ｒ３は水素または炭素数１から６の有機基ｅは１．２　
　であってｇ　は０，１．２　　であって０≦６＋ｇ≦
２を満たす。

Ｘは加水分解可能な有機基 以下、構成要素について詳細に記述する。

本発明の組成物において（Ｃ）または（Ｄ）成分は防汚
性、撥水性を発現するのに必須な成分である。

（Ｃ）成分として例えば ＸａＳｉＣ＊Ｌ（ＣＦ、）ｎｃＪ４ｓｉＸｉＸａＳｉＣ
＊Ｈ＜（ＣＦｘ）ｎｃＪ４ＳＬＸａＸａＳｉＣＪＪＣｓ
Ｈ４ＳｉＸｉ Ｒｆ　　　　　　　　　Ｒｆ ＸｓＳｉＣＪ４ＳＣ＊Ｈ＋５ｉＸａ Ｒｆ ■ ｘ−ｓｉｃ！）１４ｓｃＪ４ｓｉＬ ｆ ｄ丁 バ Ｘ２ＳｉＣＪ４０（：ａＨ４０ＧＪ＋５ｉＸｉＩ Ｒｆ　　　　　　　　　　　　　Ｒｆ ＸＪｉＣＪ４０ＣＪ４０Ｃ２Ｈ４ＳｉＸｉ吐 Ｒｆ Ｔ ＸｇＳｉＣＪ４ＳＣＪ４ＳＣａＨ４ＳｉＸ、１Ｒｆ ■ ｎは１から１６の整数 ＸはＣ１，０ＣＨａ　、０ＣａＨｓ　　等の加水分解可
能な基Ｒは置換または非置換の１価の炭化水素基Ｒｆは
　Ｃ，１（４ＣＦ３　、Ｃｍ）１４（ＣＦ、）、ＣＦ３
　、ＣＪ４０ＣＯＣＦｇ　等のパーフルオロ基含有の有
機基等がある。

（Ｄ）成分としては、例えば ２ （ＲｆＣ１Ｈ４）ＩＳｉＸ！ ＲｆＣＯＮ）ＩＣｓＨｓＳｉＸｓ ＲｆＣＯＮＨＣｓＨ，５ｉＸｉ ＲｆＣＯＮＨＣａ［（４ＮＨＣ，ＨａＳｉＸｍＲｆＣＯ
ＮＨＣＪＪＨＣａＨａＳｉＸ＊旨 ＲｆＣＯＪ（Ｃｌ（、）Ｃ，Ｈ，Ｃ０ＮＨ（ＣＩ（８）
ＳｉＸ＊ＲｆＣＯ□Ｎ（ＣＨＩ）ＣｔＨ，Ｃ０ＮＨ（Ｃ
Ｈ３）ＳｉＸ、＋ＲｆＣＪ４０ＣＯ（ＣＨａ）ａＳ（Ｃ
Ｉ２）３ＳＬＸ！ＲｆＣＪ、ＯＣＯ（ＣＬ）ｍｓ（ＣＨ
ａ）　３ｓｉＸ雪− ＲｆＣａ）１４０ＣＯＮＨ（ＣＨＪ−ＳＩＸ−ＲｆＣＩ
Ｈ４０ＣＯＮＨ（ＣＨＩ）ａＳｉＸｌト ＲｆＣ２ＨＪＨ（ＣＨ２）　ａｓｉＸａＲｆＣＪＪＨ（
ＣＨｍ）ａｓｉＸｚ Ｒｆは炭素数１〜１６のパーフルオロアルキル基ｎは１
〜１６の整数 ｍは１以上の整数 ＸはＣＩ　、０ＣＨｓ　、０ＣａＨｓ　　等の加水分解
可能な基等がある。

（Ｃ）または（Ｄ）　成分の添加量は目的４こ応じて任
意にすることが可能である。

本発明の組成物は（Ｃ）または（Ｄ）成分のどちらか一
方成分が必須であるが、もちろん両成分が含有されてい
ても問題は無い。

（Ｃ）または／及びＣＤ）成分はそのまま或は部分加水
分解を行なって使用するが、加水分解にあたっては、単
純に水を添加してもよいし、塩酸、酢酸、燐酸、硝酸、
硫酸、スルホン酸等の酸性水溶液を添加してもよい。

（（：）　、　（Ｄ）成分に目的に応じて他の成分、添
加剤を加えることは一向に差し支えがなく、他の成分、
添加剤を加えることでこの組成物の適用範囲が大きくひ
ろがることにつながる。

本発明の透明成形体を得るには種々の方法を採用し得る
。例えば、真空蒸着、スパッタ法、イオンブレーティン
グ法などのＰＶＤ法。

ＣＶＤ法、コーティング組成物の塗布法などが挙げられ
る。かかる各種の方法において、作業性、コストの点、
あるいは複雑な形状の透明成形体に適応し得るという点
でコーティング組成物の塗布法が有利である。従って、
安価で、形状の複雑な本発明の透明成形体を得るには、
高屈折率導電材料、あるいは低屈折率材料を含有する組
成物を透明基材から成形された成形体の表面に塗布して
被膜層を形成する方法が最適である。

本発明の透明成形体をコーティング組成物の塗布法で得
るには単に高屈折率導電材料、あるいは低屈折率材料が
溶解あるいは分散したコーティング組成物を透明基材に
塗布すれば良いが、かかる場合の組成物の調製に際し、
無機微粒子はコロイド状のものであっても何ら問題はな
い。また組成物は塗布に好適となすために、溶剤によっ
て溶液状とするが、高屈折率導電材料、低屈折率材料を
溶解、分散させる溶剤としては各種の溶剤が使用可能で
ある。例えば、アルコール系、エステル系、ケトン系、
エーテル系、ハロゲン化炭化水素系、芳香族系溶剤など
が挙げられるが、これらの単独、あるいは混合系のいず
れであっても問題はない。組成物において、材料の濃度
は任意であってよく、目的とする被膜層の厚さに応じて
決定される。ここで、目的とする被膜層の厚さとは本発
明においては基本的には基材及び２つの層の間で光学干
渉が生じ、る膜厚のことである。

本発明において、優れた性能を有する高屈折率導電層（
Ａ）及び低屈折率層（Ｂ）を形成するには造膜性も重要
な要因の一つである。従って、コーティング組成物の塗
布法においては、造膜性を高めるために樹脂あるいは無
機微粒子、さらにはそれらを含む組成物に他の成分を添
加することができる。かかる他の成分として好適なもの
はシリコン化合物が挙げられ、シリコン化金物の添加は
形成される被膜層の耐擦傷性を損なうことがないという
点で良好な添加成分である。シリコン化合物としては、
メチルシリケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシ
リケート、ｉ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケ
ート、　５ｅｃ−ブチルシリケートおよびｔ−ブチルシ
リケートなどのテトラアルコキシシラン、およびその加
水分解物さらにはメチルトリメトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチ
ルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エ
チルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキ
シシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−クロロ
プロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリ
エトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセトキシシ
ラン、　３，３．３−トリフロロプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチルトリ
エトキシシラン、メチルトリフエノキシシラン、クロロ
メチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシ
シラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリ
シドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシ
エチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルト
リエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキ
シシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン
、α−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、β−グリシ
ドキシプロビルトリメトキシシラン、β−グリシドキシ
プロビルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロビ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリ
エトキシシラン、γ−グリシドキシブロビルトリブロボ
キシシラン、γ−グリシドキシプロビルトリブトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリフエノキシシラ
ン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、α−
グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシブチ
ルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリメ
トキシシラン、γ−グリシドキシブチルトリエトキシシ
ラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラン、δ
−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、　　（３，
４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキシシラ
ン、　　（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチルト
リエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキ
シル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポ
キシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、β−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプロポ
キシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）
エチルトリブトキシシラン、β−（３，４−エポキシシ
クロヘキシル〉エチルトリフエノキシシラン、γ−（３
，４−エポキシシクロヘキシル）プロピルトリメトキシ
シラン、γ−（３，４−エポキシシクロヘキシル）プロ
ピルトリエトキシシラン、δ−（３，４−エポキシシク
ロヘキシル）ブチルトリメトキシシラン、δ−（３，４
−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリエトキシシラン
などのトリアルコキシシラン、トリアジルオキシシラン
またはトリフエノキシシラン類またはその加水分解物お
よびジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、ジメチルジェトキシシラン、フェニルメチ
ルジェトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−クロロプロピルメチルジェトキシシラ
ン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオキ
シプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリルオ
キシプロピルメチルジェトキシシラン、γ−メルカブト
プロビルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロ
ピルメチルジェトキシシラン、γ−アミノプロピルメチ
ルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジェト
キシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビ
ニルジェトキシシラン。

グリシドキシメチルメチルジメトキシシラン。

グリシドキシメチルメチルジェトキシシラン。

α−グリシドキシエチルメチルジメトキシシラン、α−
グリシドキシエチルメチルジェトキシシラン、β−グリ
シドキシエチルメチルジメトキシシラン、β−グリシド
キシエチルメチルジェトキシシラン、α−グリシドキシ
プロビルメチルジメトキシシラン、α−グリシドキシプ
ロビルメチルジェトキシシラン、β−グリシドキシプロ
ビルメチルジメトキシシラン、β−グリシドキシプロビ
ルメチルジェトキシシラン。

γ−グリシドキシプロビルメチルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロビルメチルジェトキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルメチルジブロボキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルメチルジブトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルメチルジフェノキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルエチルジメトキシシラン。

γ−グリシドキシプロビルエチルジェトキシシラン、γ
−グリシドキシプロビルエチルジブロボキシシラン、γ
−グリシドキシプロビルビニルジメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロビルビニルジェトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルフエニルジメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロビルフエニルジエトキシシラン。

などジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン等
が例示される。

上記例示のシリコン化合物は１種あるいは数種の混合物
をそのままあるいは加水分解して用いる。加水分解に際
しては、単に純水の添加で良いが、酸の存在下で水を加
えてもよい。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、ス
ルホン酸等が用いられる。さらに形成される被膜層の耐
擦傷性を高めるために従来から公知の硬化触媒等を加え
ることもできる。

また、樹脂としては目的に応じて、溶解性。

相溶性２分子量（分布、重合度）、含有する官能基、高
次構造等を考慮して最適なものを選択できる。さらに、
レベリング性を高めるために界面活性剤等を加えたり、
形成される被膜層を改質し得る他の添加剤、紫外線吸収
剤、滑剤等を加えてもよい。

コーティング組成物から本発明の被膜層を形成する方法
において、塗布方法としてはスピンコード、デイツプコ
ート、流し塗り、スプレーコート、はけ塗り等従来公知
の方法を採用することができる。優れた性能を有する被
膜層を形成するには、塗布後に焼成するのが望ましく、
焼成時間、焼成温度は基材の耐熱性、材料の種類等を考
慮して、最適条件が決定される。また１層毎に、あるい
は２層を同時に焼成することができる。

本発明における透明成形体は透明基材から成形されてな
るが、透明基材としてはガラスおよびプラスチックであ
り、ガラスとしては普通板ガラスはもとより、各種加工
硝子、特にディスプレイ表示体としてブラウン管のパネ
ル部などが好適である。

また、プラスチックはその材質として、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート。

ポリジエチレングリコールビスアリルカーボネート、ポ
リスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、不飽和ポ
リエステル等が挙げられる。

［実施例１ 以下に実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらの実施例に限定されるものではない。

実施例において得られた透明成形体の評価方法について
は次の通りである。

（１）低反射性の評価 ＧＡＭＭＡ分光反射スペクトル測定機により基材表面の
片面の視感反射率を測定。

（２）導電性の評価 ハイレスタ抵抗測定器（三菱油化製）により基材の表面
抵抗値を測定。

（３）防汚性の評価 Ａ、ヘキサデカンの接触角を測定した。

Ｂ、手の指紋を処理表面に付着後、綿布で２０往復拭き
取りその後の外観を検査し、以下の基準で評価した。

Ａ：完全にきれいに油汚れが拭き取れる。

Ｂ：少し油汚れが残る。

Ｃ：かなり油汚れが残る。

（４）撥水性の評価 Ａ、水の接触角を測定した。

Ｂ、サンプルから２０ｃｍの距離に保持したノズルから
水道水をスプレーして試験し た。適当な時間、水のスプレーをテストサンプルの処理
表面に当てた後スプレーを止め、サンプルに残った水滴
を肉眼で検査し以下の評価基準で判断した。

Ａ：　サンプル表面に全く水滴が残らない。

Ｂ：　サンプル表面に少し水滴が残る。

Ｃ：　サンプル表面にかなり水滴が残る。

Ｄ：　サンプル表面に水が濡れ広がる。

（５）耐擦傷性、耐久性の評価 １ｋｇの荷重下に消しゴムで基材表面を１００往復後、
その表面の傷の付き方を調査。

耐擦傷性の評価の基準は以下の通り Ａ：　傷が全くつかない。

Ｂ：　傷が少しつく。

Ｃ：　多くの傷がつく。

また、耐久性として、上記の耐擦傷性評価後、低反射性
、導電性、防汚性１撥水性を評価。

実施例１ ［高屈折率導電層用コーティング組成物（Ｔ液）の調製
］ テトラエトキシシラン５０ｇをエタノール２００ｇに溶
解した。次にこれに、１％塩酸水溶液４６ｇを徐々に滴
下し、３日間熟成して部分加水分解物を得た。これに２
００ｇのエタノール分散アンチモンドープ酸化錫ゾル液
（濃度３％、平均粒子径１１００ｎ　）を加えて調製し
た。（以下、Ｔ−１液と略） ［低屈折率層用コーティング組成物（Ｕ液）の調製］ 下記Ａ成分を１９゜Ｏｇ、　Ｂ成分を５．０ｇ、　Ｓ成
分を５．６ｇ、撹拌子がセットされた三つ口に入れ混合
した。更にイソプロピルアルコール、２−メチル−２−
プロパツールを各々６００ｇ、　１４００ｇ加えた６次
にアルミニウムアセチルアセトナート２．２ｇを加えよ
く撹拌した。これに１％ＨＣＩ水溶液６．７ｇを徐々に
滴下した。滴下終了後２５℃に保温し７日間放置した。

（以下、Ｕ−１液と略） Ａ　：　　（ＣＨｓＯ）ｓｓｉｃＪ４ＣａＦ＋＊ＣＪＪ
ｉ（ＯＣＨｓ）ａＢ　：　　ＣｅＦ＋ｓＣ＊Ｉ（４ｓｉ
（ＯＣＨｓ）ｍＳ　：　　Ｓｉ（ＯＣＲｍ）４ 予め洗浄されたガラス板（１０ｃｍＸ　１０ｃａ＋　（
厚さ３問）】をＴ−１液に浸漬した。浸漬後、１０ｃｍ
／ｗｉｎの速さで引き上げ、１００℃、１０分焼戒した
０次に、このガラス板をＵ−Ｌ液に浸漬後、６　ｃｍ／
　ｗｉｎの速さで引き上げ、２００℃、６０分焼威した
。このようにして、２層の被膜層の形成されたガラス板
を得た。このガラス板にっいて前記の評価方法に従って
評価し、その結果を第１表に示す。

比較例１ 比較例として、実施例１に用いたガラス板について被膜
層を形成することなく評価し、その結果を第１表に示す
。

実施例２ 実施例１におけるガラス板をテレビ用ブラウン管のパネ
ル部に変えた他は同様にして、表面に２層の被膜層を形
成した。このようにして得られたパネルについて評価し
、その結果を第１表に示す。

比較例２ 比較例として、実施例２にて用いたテレビ用ブラウン管
のパネル部について被膜層を形成することなく評価し、
その結果を第１表に示す。

実施例３〜４ 実施例１に用いたＵ−１液に変えて下表のＵ液を用いた
他は実施例１と同様にして２層の被膜層の形成されたガ
ラス板を得た。

このガラス板について評価し、その結果を第１表に示す
。

実施例５〜１１、比較例３〜４ 実施例１に用いたＵ−１液のＡ成分、Ｂ成分、Ｓ成分に
変えて、第２表に示した種類の化合物及び量だけ用いて
組成物を調合し、他は実施例１と同様にして２層の被膜
層の形成されたガラス板を得た。

第２表 Ｘ１＝テトラメトキシシラン Ｘ２＝γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシランＸ
３＝ジメチルジメトキシシラン Ｘ４＝イソプロピルアルコ一ル分散コロイダルシリカＸ
５＝イエボキシ樹脂油化シェル社製　εＰ８２７このガ
ラス板について評価し、その結果を第３表に示す。

実施例１２〜１６ 実施例１におけるＴ−１液に変えて下表のＴ液（高屈折
率導電層用コーティング組成物）を用い、Ｕ−１液塗布
後の焼成温度を２００℃から４００℃に変えたほかは実
施例１と同様にして、２層の被膜層の形成されたガラス
板を得た。

このガラス板について評価し、その結果を第３表に示す
。

実施例１７ 実施例１で得られた２層の被膜層の形成されたガラス板
を第４表に示す薬品に２４時間浸漬した。浸漬後洗浄を
行い、低反射性、導電性、防汚性、撥水性を評価した。

結果を同じく第４表に示す。

第４表 ［発明の効果］ 本発明の透明形成体は ■　優れた導電性を有することから、静電作用によるホ
コリの付着を防ぐ。

■　優れた低反射性を有することから、反射光による不
快感、まぶしさが低減される。

■　優れた防汚性を有することから、汚れが付着しにく
く、たとえ汚れが付着しても布やティッシュベーパーで
簡単に拭き取ることができる。

■　優れた耐薬品性を有することから、酸やアルカリに
よる腐食を受けにくい。

■　優れた耐擦傷性を有し、しかも耐久性も良好である
。

■　数多くの材料の選択が可能であり、性能の幅を広く
設定できる。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）透明基材から成形されてなる成形体であって、該
   成形体の表面から空気側に向かって、表面抵抗値１０＾
   １＾０（Ω／□）以下の高屈折率誘電層（Ａ）、該（Ａ
   ）の屈折率と屈折率差が０．１以上のフッ素化合物を含
   む低屈折率層（Ｂ）、の二層を設けてなる低反射性、導
   電性、防汚性、及び耐薬品性を有する透明成形体。
2. （２）透明基材がガラスである請求項１記載の透明成形
   体。
3. （３）透明基材がプラスチックである請求項１記載の透
   明成形体。
4. （４）高屈折率導電層（Ａ）が酸化亜鉛、酸化錫、酸化
   インジウムから選ばれる少なくとも１種の無機微粒子を
   含むことを特徴とする請求項１記載の透明成形体。
5. （５）高屈折率導電層（Ａ）が平均粒子径１〜３００ｎ
   ｍの無機微粒子を含むことを特徴とする請求項１または
   ４記載の透明成形体。
6. （６）フッ素化合物が下記式（Ｃ）または（Ｄ）を必須
   成分として含有する組成物であることを特徴とする請求
   項１記載の透明成形体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒｆ＾１、Ｒｆ＾２はパーフルオロ基含有の有機基Ｒ＾
   １、Ｒ＾２は水素または炭素数１から６の有機基 ａ、ｂは独立に０、１、２であって０≦ａ＋ｂ≦２を満
   たす。 ｃ、ｄは独立に０、１、２であって０≦ｃ＋ｄ≦２を満
   たす。 Ｙは２価の有機基。ただし、ａ＋ｃ＝０の場合にはパー
   フルオロ基を含有する２価の有機基。 Ｘは加水分解可能な有機基 ▲数式、化学式、表等があります▼ Ｒｆ＾３はパーフルオロ基含有の有機基 Ｒ＾３は水素または炭素数１から６の有機基ｅは１、２
   であってｇは０、１、２であって０≦ｅ＋ｇ≦２を満た
   す。 Ｘは加水分解可能な有機基
7. （７）透明基材から成形されてなる成形体がガラスより
   成形されてなるディスプレイ表示体である請求項１記載
   の透明成形体。