JP2000212480A - 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 - Google Patents
赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜Info
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- JP2000212480A JP2000212480A JP11013036A JP1303699A JP2000212480A JP 2000212480 A JP2000212480 A JP 2000212480A JP 11013036 A JP11013036 A JP 11013036A JP 1303699 A JP1303699 A JP 1303699A JP 2000212480 A JP2000212480 A JP 2000212480A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高い、赤外線吸収機能を有し、表面強度の高い
ハードコート被膜の提供。 【解決手段】赤外線吸収剤およびビヒクルとを主成分と
することを特徴とする赤外線吸収性ハードコート被膜お
よび赤外線吸収剤およびビヒクルを含有する塗料。
ハードコート被膜の提供。 【解決手段】赤外線吸収剤およびビヒクルとを主成分と
することを特徴とする赤外線吸収性ハードコート被膜お
よび赤外線吸収剤およびビヒクルを含有する塗料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、赤外線吸収性と耐
磨耗性性、耐擦傷性に優れた面を有するハードコート被
膜に関するものである。
磨耗性性、耐擦傷性に優れた面を有するハードコート被
膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】赤外線吸収色素を用いた従来技術として
は、特開昭４９−３１７４８、特開昭５０−５１５４
９、特開昭５６−１３５５５１等では金属錯体化合物、
特開昭６２−９０３、特開平１−１７２４５８、特開平
４−８７７８、特開平４−１３６５４、特開平６−２５
６５４１等の各号公報ではアントラキノン化合物、特開
平３−６２８７８、特開平６−１９２５８４等の各号公
報ではフタロシアニン化合物、特開平２−４８６５、特
開平２−４３２６９等の各号公報ではナフタロシアニン
化合物等の赤外線吸収色素を用いて赤外線吸収フィルタ
ーを作製する方法が開示されているが、いずれの場合も
樹脂ベースのコーティング塗料、フィルムあるいは板で
あるため、表面硬度が低く傷つきやすい欠点がある。
は、特開昭４９−３１７４８、特開昭５０−５１５４
９、特開昭５６−１３５５５１等では金属錯体化合物、
特開昭６２−９０３、特開平１−１７２４５８、特開平
４−８７７８、特開平４−１３６５４、特開平６−２５
６５４１等の各号公報ではアントラキノン化合物、特開
平３−６２８７８、特開平６−１９２５８４等の各号公
報ではフタロシアニン化合物、特開平２−４８６５、特
開平２−４３２６９等の各号公報ではナフタロシアニン
化合物等の赤外線吸収色素を用いて赤外線吸収フィルタ
ーを作製する方法が開示されているが、いずれの場合も
樹脂ベースのコーティング塗料、フィルムあるいは板で
あるため、表面硬度が低く傷つきやすい欠点がある。
【０００３】さらに、フタロシアニン化合物やナフタロ
シアニン化合物を用いた赤外線吸収フィルターは、可視
光部分にも吸収帯を持つため色調の点からも問題があ
る。
シアニン化合物を用いた赤外線吸収フィルターは、可視
光部分にも吸収帯を持つため色調の点からも問題があ
る。
【０００４】また熱線遮断を目的とする窓材として、金
属酸化物を含有し、赤外線を吸収または反射する熱線吸
収ガラス、あるいは熱線反射ガラスが市販されており、
表面硬度の高いものが得られているが、金属酸化物の赤
外線吸収あるいは反射係数が小さいため、所望の赤外線
吸収あるいは反射量を得るためにはガラスを数ミリ以上
必要とし、そのため使用分野が限定される。また、金属
酸化物を含有するガラスは極めて高価であり、コスト的
な問題もある。
属酸化物を含有し、赤外線を吸収または反射する熱線吸
収ガラス、あるいは熱線反射ガラスが市販されており、
表面硬度の高いものが得られているが、金属酸化物の赤
外線吸収あるいは反射係数が小さいため、所望の赤外線
吸収あるいは反射量を得るためにはガラスを数ミリ以上
必要とし、そのため使用分野が限定される。また、金属
酸化物を含有するガラスは極めて高価であり、コスト的
な問題もある。
【０００５】一方、本発明のように赤外線吸収色素とし
て四角酸または四角酸系化合物を用いた赤外線吸収性ハ
ードコート塗料は従来知られていない。
て四角酸または四角酸系化合物を用いた赤外線吸収性ハ
ードコート塗料は従来知られていない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高い
赤外線吸収機能と表面強度に優れるハードコート被膜と
それを提供する塗料を提供することである。
赤外線吸収機能と表面強度に優れるハードコート被膜と
それを提供する塗料を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記のよ
うな課題を解決するために鋭意検討した結果、下記の構
成からなる本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、「赤外線吸収剤およびビヒクルとを主成分とするこ
とを特徴とする赤外線吸収性ハードコート被膜。」「赤
外線吸収剤が、化学式（Ａ）で表される四角酸あるいは
四角酸の誘導体であることを特徴とする前記ハードコー
ト被膜。
うな課題を解決するために鋭意検討した結果、下記の構
成からなる本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、「赤外線吸収剤およびビヒクルとを主成分とするこ
とを特徴とする赤外線吸収性ハードコート被膜。」「赤
外線吸収剤が、化学式（Ａ）で表される四角酸あるいは
四角酸の誘導体であることを特徴とする前記ハードコー
ト被膜。
【化２】 （式中Ｒａ、Ｒｂはアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカ
プト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基を有する炭
化水素基から選ばれた１種以上であり、Ｒａ、Ｒｂはそ
れぞれ同種であっても異種であってもよい。）」「ビヒ
クルがポリシロキサン化合物であることを特徴とする前
記ハードコート被膜。」「ビヒクルが下記化学式（Ｂ）
で表される有機ケイ素化合物、その加水分解物、および
その加水分解縮合化合物から選ばれる１種類以上の化合
物を含むことを特徴とする前記いずれかの赤外線吸収性
ハードコート被膜。 R1xR2ySi(R3)4-x-y 化学式（Ｂ） （式中、R1とR2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシア
ノ基を有する炭化水素基から選ばれた１種以上であり、
R1とR2はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。
R3は加水分解性基であり、xおよびyはそれぞれ０または
１である。）」「赤外線吸収性剤およびビヒクルとを含
有することを特徴とするハードコート用塗料。」「前記
化学式（Ａ）で表される四角酸あるいは四角酸の誘導体
および前記化学式（Ｂ）で表される有機ケイ素系化合
物、その加水分解物、およびその加水分解縮合物から選
ばれる少なくとも１種以上を含有することを特徴とする
ハードコート用塗料。」「透明性基板上に前記いずれか
のハードコート被膜が存在する光学物品。」からなる。
ル基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカ
プト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基を有する炭
化水素基から選ばれた１種以上であり、Ｒａ、Ｒｂはそ
れぞれ同種であっても異種であってもよい。）」「ビヒ
クルがポリシロキサン化合物であることを特徴とする前
記ハードコート被膜。」「ビヒクルが下記化学式（Ｂ）
で表される有機ケイ素化合物、その加水分解物、および
その加水分解縮合化合物から選ばれる１種類以上の化合
物を含むことを特徴とする前記いずれかの赤外線吸収性
ハードコート被膜。 R1xR2ySi(R3)4-x-y 化学式（Ｂ） （式中、R1とR2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシア
ノ基を有する炭化水素基から選ばれた１種以上であり、
R1とR2はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。
R3は加水分解性基であり、xおよびyはそれぞれ０または
１である。）」「赤外線吸収性剤およびビヒクルとを含
有することを特徴とするハードコート用塗料。」「前記
化学式（Ａ）で表される四角酸あるいは四角酸の誘導体
および前記化学式（Ｂ）で表される有機ケイ素系化合
物、その加水分解物、およびその加水分解縮合物から選
ばれる少なくとも１種以上を含有することを特徴とする
ハードコート用塗料。」「透明性基板上に前記いずれか
のハードコート被膜が存在する光学物品。」からなる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明のハードコート被膜は、赤
外線吸収性であって、具体的には波長８００ｎｍ以上、
１０００ｎｍ以下の全領域での光線透過率が２０％以
下、さらに１０％以下、さらに８％以下であることが好
ましい。
外線吸収性であって、具体的には波長８００ｎｍ以上、
１０００ｎｍ以下の全領域での光線透過率が２０％以
下、さらに１０％以下、さらに８％以下であることが好
ましい。
【０００９】本発明の被膜が含有する赤外線吸収剤とし
ては、フタロシアニン系、金属酸化物系微粉末、チオウ
レア化合物系、ビスチオウレア系化合物、四角酸系化合
物があげられる。なかでも四角酸または四角酸系化合物
が本発明では好ましく使用できる。四角酸系化合物は下
記化学式（Ａ）で表される化合物が好ましく用いられ
る。
ては、フタロシアニン系、金属酸化物系微粉末、チオウ
レア化合物系、ビスチオウレア系化合物、四角酸系化合
物があげられる。なかでも四角酸または四角酸系化合物
が本発明では好ましく使用できる。四角酸系化合物は下
記化学式（Ａ）で表される化合物が好ましく用いられ
る。
【化３】 式中Ｒａ、Ｒｂは水素、アルキル基、アルケニル基、ア
リール基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基を有す
る炭化水素基から選ばれた１種以上であり、Ｒａ、Ｒｂ
はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。より好
ましくは、Ｒａ、Ｒｂが水素、炭素数が１以上２０以下
のアルキル基、フェニル基から選ばれた１種以上であ
る。さらに好ましくは、Ｒａ、Ｒｂが水素、炭素数が１
以上１０以下のアルキル基、フェニル基から選ばれた１
種以上である。
リール基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メ
ルカプト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基を有す
る炭化水素基から選ばれた１種以上であり、Ｒａ、Ｒｂ
はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。より好
ましくは、Ｒａ、Ｒｂが水素、炭素数が１以上２０以下
のアルキル基、フェニル基から選ばれた１種以上であ
る。さらに好ましくは、Ｒａ、Ｒｂが水素、炭素数が１
以上１０以下のアルキル基、フェニル基から選ばれた１
種以上である。
【００１０】具体的には、四角酸、ジメチル四角酸、ジ
エチル四角酸、エチルメチル四角酸、ジプロピル四角
酸、ジフェニル四角酸が挙げられる。
エチル四角酸、エチルメチル四角酸、ジプロピル四角
酸、ジフェニル四角酸が挙げられる。
【００１１】また、赤外線吸収剤はビヒクル１００質量
部に対して０．１質量部以上５０質量部以下であること
が好ましく、より好ましくは１質量部以上３０質量部以
下、さらに好ましくは１０質量部以上２５質量部以下で
ある。赤外線吸収剤がビヒクル１００質量部に対して
０．１質量部より少ないと十分な赤外線吸収性能が得ら
れない。一方、ビヒクル１００質量部に対して５０質量
部より多い量を入れると、被膜硬度が不十分となり好ま
しくない。
部に対して０．１質量部以上５０質量部以下であること
が好ましく、より好ましくは１質量部以上３０質量部以
下、さらに好ましくは１０質量部以上２５質量部以下で
ある。赤外線吸収剤がビヒクル１００質量部に対して
０．１質量部より少ないと十分な赤外線吸収性能が得ら
れない。一方、ビヒクル１００質量部に対して５０質量
部より多い量を入れると、被膜硬度が不十分となり好ま
しくない。
【００１２】また、赤外線吸収剤は該膜重量に対して、
１重量％以上７０重量％以下であることが好ましく、よ
り好ましくは５重量％以上５０重量％以下、さらに好ま
しくは１５重量％以上３５重量％以下である。
１重量％以上７０重量％以下であることが好ましく、よ
り好ましくは５重量％以上５０重量％以下、さらに好ま
しくは１５重量％以上３５重量％以下である。
【００１３】本発明のビヒクル成分は、赤外線吸収剤を
分散可能ならしめる目的で用いられ、分散可能ならしめ
るものであれば特に限定されるものではないが、特に高
硬度であり透明性が良いものとしてケイ素化合物、なか
でも有機ケイ素化合物、さらになかでもシロキサン結合
を有するケイ素化合物、すなわちポリシロキサン化合物
が好ましく用いられる。ポリシロキサン化合物のなかで
も、架橋構造を有するものが好ましく使用される。有機
ケイ素化合物の中では、下記化学式式（Ｂ）で表される
有機ケイ素化合物、その加水分解物、その加水分解縮合
物または前記３種から選ばれる２種以上の混合物が好ま
しく用いられる。 R1xR2ySi(R3)4-x-y 化学式（Ｂ） （式中、R1とR2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシア
ノ基を有する炭化水素基から選ばれた１種以上であり、
R1とR2はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。
R3は加水分解性基であり、xとyは０または１である。） 化学式（Ｂ）で表される本発明のビヒクル成分を構成す
るR1基、R2基は、それぞれを構成する炭素数が１以上２
０以下が好ましく、より好ましくは１以上１０以下であ
る。R1基、R2基を構成する炭素数が２０より多いと被膜
強度が低下する傾向がある。
分散可能ならしめる目的で用いられ、分散可能ならしめ
るものであれば特に限定されるものではないが、特に高
硬度であり透明性が良いものとしてケイ素化合物、なか
でも有機ケイ素化合物、さらになかでもシロキサン結合
を有するケイ素化合物、すなわちポリシロキサン化合物
が好ましく用いられる。ポリシロキサン化合物のなかで
も、架橋構造を有するものが好ましく使用される。有機
ケイ素化合物の中では、下記化学式式（Ｂ）で表される
有機ケイ素化合物、その加水分解物、その加水分解縮合
物または前記３種から選ばれる２種以上の混合物が好ま
しく用いられる。 R1xR2ySi(R3)4-x-y 化学式（Ｂ） （式中、R1とR2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシア
ノ基を有する炭化水素基から選ばれた１種以上であり、
R1とR2はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。
R3は加水分解性基であり、xとyは０または１である。） 化学式（Ｂ）で表される本発明のビヒクル成分を構成す
るR1基、R2基は、それぞれを構成する炭素数が１以上２
０以下が好ましく、より好ましくは１以上１０以下であ
る。R1基、R2基を構成する炭素数が２０より多いと被膜
強度が低下する傾向がある。
【００１４】加水分解性基とは通常は、加水分解により
水酸基を生じる性質を有するものであり、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、カルボニルオキシ基、ケトキ
シメート基、アミノ基、水素原子、ハロゲン原子などが
例示される。
水酸基を生じる性質を有するものであり、アルコキシ
基、アルケニルオキシ基、カルボニルオキシ基、ケトキ
シメート基、アミノ基、水素原子、ハロゲン原子などが
例示される。
【００１５】具体的な化合物の例としては、メチルシリ
ケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、
ｉ−プロピルシケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ
−ブチルシリケートおよびｔ−ブチルシリケートなどの
テトラアルコキシシラン類、およびその加水分解物さら
にはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、３、３、３−トリフロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチル
トリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、ク
ロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエト
キシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプ
ロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェ
ノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシ
ラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β
グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
（３、４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキ
シシラン、（３、４−エポキシシクロヘキシル）メチル
トリエトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３、４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、
β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプ
ロポキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリブトキシシラン、β−（３、４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラ
ン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
フェノキシシラン、γ−（３、４−エポキシシクロヘキ
シル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３、４−エ
ポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、
δ−（３、４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメ
トキシシラン、δ−（３、４−エポキシシクロヘキシ
ル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシ
ラン、トリアシルオキシシラン、またはトリフェノキシ
シラン類、その加水分解物またはその加水分解縮合物、
およびジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメ
チルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシ
ラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシ
ラン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメ
チルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ
ルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジ
メトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエト
キシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジプロピキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、な
どジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン類、
その加水分解物またはその加水分解縮合物がその例であ
る。
ケート、エチルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、
ｉ−プロピルシケート、ｎ−ブチルシリケート、ｓｅｃ
−ブチルシリケートおよびｔ−ブチルシリケートなどの
テトラアルコキシシラン類、およびその加水分解物さら
にはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリ
アセトキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビ
ニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリ
エトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリアセト
キシシラン、３、３、３−トリフロロプロピルトリメト
キシシラン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプト
プロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−
アミノプロピルトリメトキシシラン、β−シアノエチル
トリエトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、ク
ロロメチルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエト
キシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、
グリシドキシメチルトリエトキシシラン、α−グリシド
キシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチ
ルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメ
トキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシ
ラン、α−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
α−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル
トリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリプ
ロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキ
シエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリフェ
ノキシシラン、α−グリシドキシブチルトリメトキシシ
ラン、α−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、β
グリシドキシブチルトリメトキシシラン、β−グリシド
キシブチルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシブチ
ルトリメトキシシラン、グリシドキシブチルトリエトキ
シシラン、δ−グリシドキシブチルトリメトキシシラ
ン、δ−グリシドキシブチルトリエトキシシラン、
（３、４−エポキシシクロヘキシル）メチルトリメトキ
シシラン、（３、４−エポキシシクロヘキシル）メチル
トリエトキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリプロポキシシラン、β−（３、４−
エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、
β−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリプ
ロポキシシラン、β−（３、４−エポキシシクロヘキシ
ル）エチルトリブトキシシラン、β−（３、４−エポキ
シシクロヘキシル）エチルトリメトキシエトキシシラ
ン、β−（３、４エポキシシクロヘキシル）エチルトリ
フェノキシシラン、γ−（３、４−エポキシシクロヘキ
シル）プロピルトリメトキシシラン、γ−（３、４−エ
ポキシシクロヘキシル）プロピルトリエトキシシラン、
δ−（３、４−エポキシシクロヘキシル）ブチルトリメ
トキシシラン、δ−（３、４−エポキシシクロヘキシ
ル）ブチルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシ
ラン、トリアシルオキシシラン、またはトリフェノキシ
シラン類、その加水分解物またはその加水分解縮合物、
およびジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメ
トキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメ
チルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシ
ラン、ジメチルジアセトキシシラン、γ−メタクリルオ
キシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリル
オキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピ
ルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシ
ラン、メチルビニルジエトキシシラン、グリシドキシメ
チルメチルジメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ
ルジエトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジ
メトキシシラン、α−グリシドキシエチルメチルジエト
キシシラン、β−グリシドキシエチルメチルジメトキシ
シラン、β−グリシドキシエチルメチルジエトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、α−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、β−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジプトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジフェノキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルエチルジプロピキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルビニルジメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、な
どジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン類、
その加水分解物またはその加水分解縮合物がその例であ
る。
【００１６】これらの有機ケイ素化合物は１種類又は２
種類以上の混合で使用することも可能である。特に染色
性付与の目的も有する場合にはエポキシ基、グリシドキ
シ基を分子内に含む有機ケイ素化合物の使用が好適であ
る。
種類以上の混合で使用することも可能である。特に染色
性付与の目的も有する場合にはエポキシ基、グリシドキ
シ基を分子内に含む有機ケイ素化合物の使用が好適であ
る。
【００１７】これらの有機ケイ素化合物はキュア温度を
下げ、硬化をより進行させるためには加水分解して使用
することが好ましい。
下げ、硬化をより進行させるためには加水分解して使用
することが好ましい。
【００１８】加水分解は純水または塩酸、酢酸あるいは
硫酸などの酸性水溶液を添加、撹拌することによって反
応に至る。さらに純水、あるいは酸性水溶液の添加量を
調節することによって加水分解の度合いをコントロール
することも容易に可能である。加水分解に際しては、化
学式（Ｂ）の−R3基と等モル以上、３倍モル以下の純水
または酸性水溶液の添加が硬化促進の点で特に好まし
い。
硫酸などの酸性水溶液を添加、撹拌することによって反
応に至る。さらに純水、あるいは酸性水溶液の添加量を
調節することによって加水分解の度合いをコントロール
することも容易に可能である。加水分解に際しては、化
学式（Ｂ）の−R3基と等モル以上、３倍モル以下の純水
または酸性水溶液の添加が硬化促進の点で特に好まし
い。
【００１９】加水分解に際しては、アルコール等が生成
してくるので、無溶媒で加水分解することが可能である
が、加水分解をさらに均一に行う目的で有機ケイ素化合
物と溶媒を混合した後、加水分解を行うことも可能であ
る。また目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱
および／または減圧下に適当量除去して使用することも
可能であるし、その後に適当な溶媒を添加することも可
能である。これらの溶媒としては、アルコール、エステ
ル、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙
げられる。またこれらの溶媒は必要に応じて２種以上の
混合溶媒として使用することも可能である。また、目的
に応じて加水分解反応を促進し、さらに予備縮合を抑え
るために加水分解温度を室温以下に下げて行うことも可
能であることは言うまでもない。
してくるので、無溶媒で加水分解することが可能である
が、加水分解をさらに均一に行う目的で有機ケイ素化合
物と溶媒を混合した後、加水分解を行うことも可能であ
る。また目的に応じて加水分解後のアルコール等を加熱
および／または減圧下に適当量除去して使用することも
可能であるし、その後に適当な溶媒を添加することも可
能である。これらの溶媒としては、アルコール、エステ
ル、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはト
ルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素などの溶媒が挙
げられる。またこれらの溶媒は必要に応じて２種以上の
混合溶媒として使用することも可能である。また、目的
に応じて加水分解反応を促進し、さらに予備縮合を抑え
るために加水分解温度を室温以下に下げて行うことも可
能であることは言うまでもない。
【００２０】このようなケイ素化合物を使用する場合、
基材上に膜を形成せしめると通常は、加水分解縮合反応
が起き、ポリシロキサン化合物を生じ、この場合、ビヒ
クル成分となる。
基材上に膜を形成せしめると通常は、加水分解縮合反応
が起き、ポリシロキサン化合物を生じ、この場合、ビヒ
クル成分となる。
【００２１】本発明の被膜は特に塗布膜厚をなんら限定
されるべきものではないが、０．１μｍ〜１ｍｍの範
囲、さらに０．２〜０．５mmの範囲が通常利用できる。
されるべきものではないが、０．１μｍ〜１ｍｍの範
囲、さらに０．２〜０．５mmの範囲が通常利用できる。
【００２２】本発明の被膜が被覆される材料としては、
種々のプラスチック基板、無機ガラス基板、アルミ基板
やセラミックス基板などが使用可能である。その代表的
な物として、ポリ（ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート）樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチル
（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル、ポリプロピ
レン、セルロース系樹脂、ガラス等の透明基板などが用
いられる。これらの基板はその用途、目的に応じ表面の
カップリング剤処理、プライマー剤の塗布、あるいは化
学的な酸、アルカリによる処理、物理的な各種処理を施
して用いることも好ましく行われる。このような基板の
うち透明性基板上に上記ハードコート被覆が存在するこ
とによって光学物品とすることもできる。光学物品とし
て使用される場合、光学物品の光線透過率が、波長５０
０ｎｍにおいて、７０％以上、さらには８０％以上であ
ることが好ましく、また波長９００ｎｍにおいて、２０
％以下、さらに１０％以下、さらに８％以下であること
が好ましい。
種々のプラスチック基板、無機ガラス基板、アルミ基板
やセラミックス基板などが使用可能である。その代表的
な物として、ポリ（ジエチレングリコールビスアリルカ
ーボネート）樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチル
（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル、ポリプロピ
レン、セルロース系樹脂、ガラス等の透明基板などが用
いられる。これらの基板はその用途、目的に応じ表面の
カップリング剤処理、プライマー剤の塗布、あるいは化
学的な酸、アルカリによる処理、物理的な各種処理を施
して用いることも好ましく行われる。このような基板の
うち透明性基板上に上記ハードコート被覆が存在するこ
とによって光学物品とすることもできる。光学物品とし
て使用される場合、光学物品の光線透過率が、波長５０
０ｎｍにおいて、７０％以上、さらには８０％以上であ
ることが好ましく、また波長９００ｎｍにおいて、２０
％以下、さらに１０％以下、さらに８％以下であること
が好ましい。
【００２３】次に本発明の被膜を形成するのに有用な塗
料について説明する。本発明の塗料は赤外線吸収剤およ
びビヒクル原料を含有する。赤外線吸収剤としては前述
のものが例示され、またビヒクル原料としては、前述の
膜を構成するビヒクル成分として説明したものが例示さ
れる。さらに、本発明の塗料では溶剤を含有することも
有用である。
料について説明する。本発明の塗料は赤外線吸収剤およ
びビヒクル原料を含有する。赤外線吸収剤としては前述
のものが例示され、またビヒクル原料としては、前述の
膜を構成するビヒクル成分として説明したものが例示さ
れる。さらに、本発明の塗料では溶剤を含有することも
有用である。
【００２４】本発明の塗料において、溶剤以外の成分に
おいて、赤外線吸収剤１〜７０重量％、ビヒクル原料が
４０〜９９重量％の範囲にあることが好ましい。
おいて、赤外線吸収剤１〜７０重量％、ビヒクル原料が
４０〜９９重量％の範囲にあることが好ましい。
【００２５】本発明の被膜形成時に使用される塗料に
は、硬化促進、低温硬化等を可能とする目的で各種の硬
化剤が併用可能である。
は、硬化促進、低温硬化等を可能とする目的で各種の硬
化剤が併用可能である。
【００２６】これら硬化剤の具体的な例としては、各種
エポキシ樹脂硬化剤、各種の有機酸およびそれらの酸無
水物、窒素含有有機化合物、各種金属錯化合物あるいは
金属アルコキシドさらにはアルカリ金属の有機カルボン
酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げられる。これらの硬化
剤は２種以上混合して使用することも可能である。これ
らの硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、
コーティング後の被膜の着色性防止の点から、とくに下
記に示すアルミニウムキレート化合物が有効である。
エポキシ樹脂硬化剤、各種の有機酸およびそれらの酸無
水物、窒素含有有機化合物、各種金属錯化合物あるいは
金属アルコキシドさらにはアルカリ金属の有機カルボン
酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げられる。これらの硬化
剤は２種以上混合して使用することも可能である。これ
らの硬化剤の中でも本発明の目的には、塗料の安定性、
コーティング後の被膜の着色性防止の点から、とくに下
記に示すアルミニウムキレート化合物が有効である。
【００２７】ここでいうアルミニウムキレート化合物と
は、例えば化学式（Ｃ）で示されるアルミニウムキレー
ト化合物である。 ＡｌＸnＹ3-n 化学式（Ｃ） ただし式中ＸはＯＬ（Ｌは低級アルキル基）、Ｙは化学
式Ｍ1ＣＯＣＨ2ＣＯＭ2（Ｍ1、Ｍ2はいずれも低級アル
キル基）で示される化合物に由来する配位子および化学
式Ｍ3ＣＯＣＨ2ＣＯＯＭ4（Ｍ3、Ｍ4はいずれも低級ア
ルキル基）で示される化合物に由来する配位子から少な
くとも１つ選ばれる配位子であり、ｎは０、１または２
である。
は、例えば化学式（Ｃ）で示されるアルミニウムキレー
ト化合物である。 ＡｌＸnＹ3-n 化学式（Ｃ） ただし式中ＸはＯＬ（Ｌは低級アルキル基）、Ｙは化学
式Ｍ1ＣＯＣＨ2ＣＯＭ2（Ｍ1、Ｍ2はいずれも低級アル
キル基）で示される化合物に由来する配位子および化学
式Ｍ3ＣＯＣＨ2ＣＯＯＭ4（Ｍ3、Ｍ4はいずれも低級ア
ルキル基）で示される化合物に由来する配位子から少な
くとも１つ選ばれる配位子であり、ｎは０、１または２
である。
【００２８】本発明の硬化剤として特に有用な化学式
（Ｃ）で示されるアルミニウムキレート化合物として
は、各種の化合物を挙げられるが、組成物への溶解性、
安定性、硬化触媒としての効果などの観点から特に好ま
しいのは、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセト
ネート、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチ
ルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−ｉｓｏ−プロ
ポキシド−モノメチルアセトアセテートなどである本発
明の塗布される被膜の塗布手段としては、印毛塗り、浸
積塗り、ロール塗り、スプレー塗装、スピン塗装、流し
塗りなどの通常行われる塗布方法が容易に使用可能であ
る。
（Ｃ）で示されるアルミニウムキレート化合物として
は、各種の化合物を挙げられるが、組成物への溶解性、
安定性、硬化触媒としての効果などの観点から特に好ま
しいのは、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミ
ニウムビスエチルアセトアセテートモノアセチルアセト
ネート、アルミニウム−ジ−ｎ−ブトキシド−モノエチ
ルアセトアセテート、アルミニウム−ジ−ｉｓｏ−プロ
ポキシド−モノメチルアセトアセテートなどである本発
明の塗布される被膜の塗布手段としては、印毛塗り、浸
積塗り、ロール塗り、スプレー塗装、スピン塗装、流し
塗りなどの通常行われる塗布方法が容易に使用可能であ
る。
【００２９】特に本発明においては、赤外線吸収剤を均
一に分散させるために塗料をあらかじめ撹拌することが
好ましい。撹拌方法としては単純な撹拌棒による撹拌も
可能であるし、循環濾過を行いつつ、撹拌を兼ねる方法
も本発明には好ましいものである。
一に分散させるために塗料をあらかじめ撹拌することが
好ましい。撹拌方法としては単純な撹拌棒による撹拌も
可能であるし、循環濾過を行いつつ、撹拌を兼ねる方法
も本発明には好ましいものである。
【００３０】本発明における被膜の膜厚はとくに限定さ
れるものではない。しかし、接着強度の保持、硬度、被
膜の透明性と赤外線吸収性などの点から０．５μｍ以上
２０μｍの間で好ましく用いられる。特に好ましくは
０．７μｍ以上１５μｍ以下である。また、塗料の塗布
にあたっては作業性、被膜厚さ調製などから各種溶剤に
より希釈して用いられるが、希釈溶剤としては例えば
水、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、ハロゲ
ン化炭化水素あるいはトルエンなどの芳香族系溶媒など
が目的に応じて種々使用可能であり、必要に応じて混合
溶媒を使用することも可能である。
れるものではない。しかし、接着強度の保持、硬度、被
膜の透明性と赤外線吸収性などの点から０．５μｍ以上
２０μｍの間で好ましく用いられる。特に好ましくは
０．７μｍ以上１５μｍ以下である。また、塗料の塗布
にあたっては作業性、被膜厚さ調製などから各種溶剤に
より希釈して用いられるが、希釈溶剤としては例えば
水、アルコール、エステル、エーテル、ケトン、ハロゲ
ン化炭化水素あるいはトルエンなどの芳香族系溶媒など
が目的に応じて種々使用可能であり、必要に応じて混合
溶媒を使用することも可能である。
【００３１】本発明における各成分の分散方法としては
単純な撹拌羽根使用による撹拌も可能であるが、さらに
分散状態を良好にする意味からペイントコンディショナ
ー、サンドミル、三本ロール、ボールミル、ホモミキサ
ー、ホモジナイザーなどが好ましく使用される。再現性
などの点からホモミキサー、ホモジナイザーが最も好ま
しく使用される。
単純な撹拌羽根使用による撹拌も可能であるが、さらに
分散状態を良好にする意味からペイントコンディショナ
ー、サンドミル、三本ロール、ボールミル、ホモミキサ
ー、ホモジナイザーなどが好ましく使用される。再現性
などの点からホモミキサー、ホモジナイザーが最も好ま
しく使用される。
【００３２】また、分散状態を安定に保ち、被膜全体を
安定に保ち、被膜全体の均一性を改良する目的から各種
界面活性剤の添加も好ましく適用され、シリコーン系界
面活性剤、フッ素系界面活性剤、有機界面活性剤などが
使用される。
安定に保ち、被膜全体の均一性を改良する目的から各種
界面活性剤の添加も好ましく適用され、シリコーン系界
面活性剤、フッ素系界面活性剤、有機界面活性剤などが
使用される。
【００３３】これらの塗料から被膜を形成するにはこれ
らの塗料を含有する塗液を塗布後、加熱および／または
加熱と光照射によって硬化させる。
らの塗料を含有する塗液を塗布後、加熱および／または
加熱と光照射によって硬化させる。
【００３４】加熱温度は選択される化合物、作業条件に
よっても異なるが６０℃以上３００℃以下、好ましくは
８０℃以上２００℃以下が用いられる。これより低温度
では硬化が不十分であり、高温度ではクラック、被膜の
分解などの不都合が生ずる。
よっても異なるが６０℃以上３００℃以下、好ましくは
８０℃以上２００℃以下が用いられる。これより低温度
では硬化が不十分であり、高温度ではクラック、被膜の
分解などの不都合が生ずる。
【００３５】本発明によって得られる透明成形品は、被
膜によって赤外線吸収し、かつ高硬度表面を有するため
耐磨耗性に優れており、プラズマディスプレイ前面板な
どの各種ディスプレイ前面板に好ましく適用できる。
膜によって赤外線吸収し、かつ高硬度表面を有するため
耐磨耗性に優れており、プラズマディスプレイ前面板な
どの各種ディスプレイ前面板に好ましく適用できる。
【００３６】本発明の赤外線吸収性ハードコート被膜が
被覆された光学材料は、特にＣＲＴやプラズマディスプ
レイ等の前面板あるいはショケース等のディスプレイ前
面板、建造物、車、船舶、航空機等の窓材として利用で
きる。
被覆された光学材料は、特にＣＲＴやプラズマディスプ
レイ等の前面板あるいはショケース等のディスプレイ前
面板、建造物、車、船舶、航空機等の窓材として利用で
きる。
【００３７】
【実施例】本発明をさらに明瞭に説明するために次に実
施例を挙げる。
施例を挙げる。
【００３８】（実施例１） （１）シラン加水分解物の調製 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン２３３．
０ｇを１０℃に冷却し、撹拌しながら０．０１規定塩酸
水溶液５３．３ｇを徐々に滴下し、滴下終了後、室温に
てさらに３０分撹拌をつづけシラン加水分解物を得た。
０ｇを１０℃に冷却し、撹拌しながら０．０１規定塩酸
水溶液５３．３ｇを徐々に滴下し、滴下終了後、室温に
てさらに３０分撹拌をつづけシラン加水分解物を得た。
【００３９】（２）塗料の調製 前記シラン加水分解物に、アセチルアセトン３．６ｇ、
界面活性剤としてフッ素系ノニオン界面活性剤３．８
ｇ、アルミニウムアセチルアセトネート１８ｇを添加し
十分に撹拌した。さらに赤外線吸収剤として四角酸（化
学式Ｄ★）３０ｇを添加し、ホモジナイザーによる分散
を行い塗料とした。
界面活性剤としてフッ素系ノニオン界面活性剤３．８
ｇ、アルミニウムアセチルアセトネート１８ｇを添加し
十分に撹拌した。さらに赤外線吸収剤として四角酸（化
学式Ｄ★）３０ｇを添加し、ホモジナイザーによる分散
を行い塗料とした。
【００４０】（３）赤外線吸収性ハードコート被膜の形
成 前項の塗料を厚み３ｍｍの平板状ポリメチルメタクリレ
ート基板にスピンナーを使用して塗布した。その後、８
０℃／１２分の予備硬化を行い、さらに、１３０℃／２
時間加熱キュアを行い約１０μｍの厚みとなる赤外線吸
収材およびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの加水分解縮合物のビヒクルからなる赤外線吸収性ハ
ードコート被膜を有する成形品を得た。
成 前項の塗料を厚み３ｍｍの平板状ポリメチルメタクリレ
ート基板にスピンナーを使用して塗布した。その後、８
０℃／１２分の予備硬化を行い、さらに、１３０℃／２
時間加熱キュアを行い約１０μｍの厚みとなる赤外線吸
収材およびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの加水分解縮合物のビヒクルからなる赤外線吸収性ハ
ードコート被膜を有する成形品を得た。
【００４１】（４）赤外線吸収性能評価 前項（３）で得られた赤外線吸収性ハードコート被膜が
形成された成形品の光線透過率を分光光度計を用いて測
定した。結果を表１に示す。
形成された成形品の光線透過率を分光光度計を用いて測
定した。結果を表１に示す。
【００４２】（５）被膜硬度測定 耐磨耗性、耐擦傷性の指標として、前項（３）で得られ
た赤外線吸収性ハードコート被膜について、鉛筆硬度試
験を行い、その結果を表１に示した。表中、３Ｈ、４Ｈ
等の記載は鉛筆硬度を示す。
た赤外線吸収性ハードコート被膜について、鉛筆硬度試
験を行い、その結果を表１に示した。表中、３Ｈ、４Ｈ
等の記載は鉛筆硬度を示す。
【００４３】（実施例２）赤外線吸収剤として四角酸５
０gを用いた以外は実施例１と同様にして行った。結果
を表１に示す。
０gを用いた以外は実施例１と同様にして行った。結果
を表１に示す。
【００４４】（実施例３）赤外線吸収剤としてジフェニ
ル四角酸３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行
った。結果を表１に示す。
ル四角酸３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行
った。結果を表１に示す。
【００４５】（実施例４）赤外線吸収剤としてジエチル
四角酸３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行っ
た。結果を表１に示す。
四角酸３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行っ
た。結果を表１に示す。
【００４６】（実施例５）実施例１において、アルミニ
ウムアセチルアセトネートを除いた以外は実施例１と同
様して行った。結果を表１に示す。
ウムアセチルアセトネートを除いた以外は実施例１と同
様して行った。結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
【００４８】（比較例１）実施例１において四角酸を除
いた以外は、実施例１と同様にして行った。結果を表１
に示す。表１に示すように、四角酸を用いない場合は赤
外線吸収作用が得られず、好ましくない。
いた以外は、実施例１と同様にして行った。結果を表１
に示す。表１に示すように、四角酸を用いない場合は赤
外線吸収作用が得られず、好ましくない。
【００４９】（比較例２）赤外線吸収剤としてフタロシ
アニン３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行っ
た。結果を表１に示す。表１に示すように、フタロシア
ニン３０ｇでは、赤外線吸収性能が不十分であり、且つ
可視光も吸収するため着色し、好ましくない。
アニン３０gを用いた以外は実施例１と同様にして行っ
た。結果を表１に示す。表１に示すように、フタロシア
ニン３０ｇでは、赤外線吸収性能が不十分であり、且つ
可視光も吸収するため着色し、好ましくない。
【００５０】
【発明の効果】本発明の赤外線吸収性ハードコート被膜
は、優れた赤外線吸収性能を有し、さらには耐磨耗性、
耐擦傷にも優れた面を提供するものである。本発明の赤
外線吸収性ハードコート被膜を用いるとＣＲＴやプラズ
マディスプレー等の前面版のように、高い表面硬度と赤
外線吸収性が同時に要求される場合、好適である。
は、優れた赤外線吸収性能を有し、さらには耐磨耗性、
耐擦傷にも優れた面を提供するものである。本発明の赤
外線吸収性ハードコート被膜を用いるとＣＲＴやプラズ
マディスプレー等の前面版のように、高い表面硬度と赤
外線吸収性が同時に要求される場合、好適である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 CA04 CA12 2K009 AA15 BB14 CC42 DD02 4J038 DL031 EA011 JA34 NA11 NA19 PC03
Claims (7)
- 【請求項１】赤外線吸収剤およびビヒクルからなること
を特徴とする赤外線吸収性ハードコート被膜。 - 【請求項２】赤外線吸収剤が、化学式（Ａ）で表される
四角酸あるいは四角酸の誘導体であることを特徴とする
請求項１記載の赤外線吸収性ハードコート被膜。 【化１】 （式中Ｒａ、Ｒｂはアルキル基、アルケニル基、アリー
ル基、エポキシ基、グリシドキシ基、アミノ基、メルカ
プト基、メタクリルオキシ基およびシアノ基を有する炭
化水素基から選ばれた１種以上であり、Ｒａ、Ｒｂはそ
れぞれ同種であっても異種であってもよい。） - 【請求項３】ビヒクルがポリシロキサン化合物であるこ
とを特徴とする請求項１または２記載のハードコート被
膜。 - 【請求項４】 ビヒクルが下記化学式（Ｂ）で表される
有機ケイ素化合物、その加水分解物、およびその加水分
解縮合化合物から選ばれる１種類以上の化合物を含むこ
とを特徴とする請求項１〜２のいずれか記載の赤外線吸
収性ハードコート被膜。 R1xR2ySi(R3)4-x-y 化学式（Ｂ） （式中、R1とR2は各々アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基、ハロゲン基、エポキシ基、グリシドキシ基、ア
ミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基およびシア
ノ基を有する炭化水素基から選ばれた１種以上であり、
R1とR2はそれぞれ同種であっても異種であってもよい。
R3は加水分解性基であり、xおよびyはそれぞれ０または
１である。） - 【請求項５】赤外線吸収性剤およびビヒクルとを含有す
ることを特徴とするハードコート用塗料。 - 【請求項６】前記化学式（Ａ）で表される四角酸あるい
は四角酸の誘導体および前記化学式（Ｂ）で表される有
機ケイ素系化合物、その加水分解物、およびその加水分
解縮合物から選ばれる少なくとも１種以上を含有するこ
とを特徴とするハードコート用塗料。 - 【請求項７】透明性基板上に請求項１〜３いずれかのハ
ードコート被膜が存在する光学物品。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11013036A JP2000212480A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 |
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| JP11013036A JP2000212480A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 |
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|---|---|
| JP2000212480A true JP2000212480A (ja) | 2000-08-02 |
Family
ID=11821905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11013036A Pending JP2000212480A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | 赤外線吸収性ハ―ドコ―ト被膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000212480A (ja) |
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-
1999
- 1999-01-21 JP JP11013036A patent/JP2000212480A/ja active Pending
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