JP2932785B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆるLOC(Lead
on Chip)構造を有する半導体装置、即ち、半導体チッ
プの素子形成面の上方にリードフレームのインナーリー
ドの先端部が位置するように、半導体チップとリードフ
レームとを固定し、半導体チップのボンディングパッド
とインナーリードの先端部とをワイヤボンディングした
上で、樹脂封止して構成される半導体装置に関する。
on Chip)構造を有する半導体装置、即ち、半導体チッ
プの素子形成面の上方にリードフレームのインナーリー
ドの先端部が位置するように、半導体チップとリードフ
レームとを固定し、半導体チップのボンディングパッド
とインナーリードの先端部とをワイヤボンディングした
上で、樹脂封止して構成される半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の半導体装置として、図6
にその一部を透視してなる斜視図、図7にその断面図
(図6のA−A線に沿った断面図)を示すようなものが
知られている。
にその一部を透視してなる斜視図、図7にその断面図
(図6のA−A線に沿った断面図)を示すようなものが
知られている。
【0003】図中、1は半導体チップ(LSIチッ
プ)、2は半導体チップ1の素子形成面、3はリードフ
レーム、4はリードフレーム3のインナーリード、5は
リードフレーム3の外部リード、6は半導体チップ1と
リードフレーム3とを固定する両面接着テープである。
プ)、2は半導体チップ1の素子形成面、3はリードフ
レーム、4はリードフレーム3のインナーリード、5は
リードフレーム3の外部リード、6は半導体チップ1と
リードフレーム3とを固定する両面接着テープである。
【0004】また、7はVcc電源用のインナーリード
中、特に、バスバーと呼ばれる部分、8はVss電源用の
インナーリード中、特に、バスバーと呼ばれる部分、9
はAu線からなるボンディングワイヤ、10はモールド
樹脂である。
中、特に、バスバーと呼ばれる部分、8はVss電源用の
インナーリード中、特に、バスバーと呼ばれる部分、9
はAu線からなるボンディングワイヤ、10はモールド
樹脂である。
【0005】このLOC構造の半導体装置は、主とし
て、4M〜16MビットのDRAMを搭載するパッケー
ジ技術として開発されてきたものであり、リードフレー
ム中、半導体チップを搭載するダイパッドと呼ばれる部
分をなくして、半導体チップの素子形成面上にインナー
リードを引き回すという構造を採用したものである。
て、4M〜16MビットのDRAMを搭載するパッケー
ジ技術として開発されてきたものであり、リードフレー
ム中、半導体チップを搭載するダイパッドと呼ばれる部
分をなくして、半導体チップの素子形成面上にインナー
リードを引き回すという構造を採用したものである。
【0006】また、特に、図6に示すLOC構造の半導
体装置は、従来、半導体チップに形成されていたアルミ
ニウム電源配線に代わって低インピーダンスのバスバー
7、8を設け、これらバスバー7、8を配線のように扱
い、複数の箇所で各周辺回路に対してワイヤボンディン
グする構造を採用し、電源に対する電気的特性の向上を
図っている。
体装置は、従来、半導体チップに形成されていたアルミ
ニウム電源配線に代わって低インピーダンスのバスバー
7、8を設け、これらバスバー7、8を配線のように扱
い、複数の箇所で各周辺回路に対してワイヤボンディン
グする構造を採用し、電源に対する電気的特性の向上を
図っている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ここに近年、DRAM
においては、多ビット化に伴い、図8に示すような出力
バッファ11が8個、16個、32個・・・というよう
に、その個数を増大させて搭載されるに至っている。
においては、多ビット化に伴い、図8に示すような出力
バッファ11が8個、16個、32個・・・というよう
に、その個数を増大させて搭載されるに至っている。
【0008】なお、12、13はインバータ、14、1
5はnMOS、16はボンディングパッド、17は外部
リード、18は外部負荷である。また、R1〜R3、L
1、C1〜C4は、ボンディングパッド16から外部リ
ード17に至る信号経路に存在する寄生インピーダンス
の抵抗成分、インダクタンス成分、容量成分を示してい
る。また、外部負荷18は、容量CL、抵抗R4、R
5、電流源J1、J2でモデル化したものを一例として
示している。
5はnMOS、16はボンディングパッド、17は外部
リード、18は外部負荷である。また、R1〜R3、L
1、C1〜C4は、ボンディングパッド16から外部リ
ード17に至る信号経路に存在する寄生インピーダンス
の抵抗成分、インダクタンス成分、容量成分を示してい
る。また、外部負荷18は、容量CL、抵抗R4、R
5、電流源J1、J2でモデル化したものを一例として
示している。
【0009】かかるDRAMにおいては、8個、16
個、32個・・・の出力バッファ11が同時にスイッチ
ングした場合に発生するノイズは、電源線のみで負担で
きるものではなく、その対策が求められていた。
個、32個・・・の出力バッファ11が同時にスイッチ
ングした場合に発生するノイズは、電源線のみで負担で
きるものではなく、その対策が求められていた。
【0010】ここに、本来、信号が出力されるボンディ
ングパッドは、その位置について、信号が出力されるイ
ンナーリードは、その長さ、面積について、信号が入力
されるのみのボンディングパッドやインナーリード以上
の電気的特性上の配慮がなされるべきである。
ングパッドは、その位置について、信号が出力されるイ
ンナーリードは、その長さ、面積について、信号が入力
されるのみのボンディングパッドやインナーリード以上
の電気的特性上の配慮がなされるべきである。
【0011】即ち、信号が出力されるボンディングパッ
ド及びインナーリードは、図8に示すような寄生インピ
ーダンス成分R1〜R3、L1、C1〜C4が、できる
限り小さくなるように配慮すべきである。
ド及びインナーリードは、図8に示すような寄生インピ
ーダンス成分R1〜R3、L1、C1〜C4が、できる
限り小さくなるように配慮すべきである。
【0012】しかしながら、図6に示す従来のLOC構
造の半導体装置においては、信号が出力されるボンディ
ングパッド及びインナーリードを、信号が入力されるの
みのボンディングパッド及びインナーリードと同様に取
り扱い、信号が出力されるボンディングパッドを、信号
が入力されるのみのボンディングパッドと同様に半導体
チップ1の素子形成面2の長辺方向に沿った中央部に配
列させると共に、これに対応させて、信号が出力される
インナーリードの先端部を、信号が入力されるのみのイ
ンナーリードの先端部と同様に半導体チップ1の素子形
成面2の長辺方向に沿った中央部の上方に位置させてい
た。
造の半導体装置においては、信号が出力されるボンディ
ングパッド及びインナーリードを、信号が入力されるの
みのボンディングパッド及びインナーリードと同様に取
り扱い、信号が出力されるボンディングパッドを、信号
が入力されるのみのボンディングパッドと同様に半導体
チップ1の素子形成面2の長辺方向に沿った中央部に配
列させると共に、これに対応させて、信号が出力される
インナーリードの先端部を、信号が入力されるのみのイ
ンナーリードの先端部と同様に半導体チップ1の素子形
成面2の長辺方向に沿った中央部の上方に位置させてい
た。
【0013】このため、寄生インピーダンス成分R1〜
R3、L1、C1〜C4の値が大きくなり、多くの出力
バッファが同時にスイッチングした場合に発生するノイ
ズの低減化を図ることができないという問題点があると
共に、信号伝達に遅延が生じ、読出しの高速化を図るこ
とができないという問題点があった。
R3、L1、C1〜C4の値が大きくなり、多くの出力
バッファが同時にスイッチングした場合に発生するノイ
ズの低減化を図ることができないという問題点があると
共に、信号伝達に遅延が生じ、読出しの高速化を図るこ
とができないという問題点があった。
【0014】また、図6に示す従来のLOC構造の半導
体装置においては、図9に示すように、信号の経路19
が折れ線を描き、これがまた、高速化の妨げとなってい
た。なお、20はメモリセルアレイを分割してなるブロ
ック、4Aは信号が入力されるインナーリード、21A
は信号が入力されるボンディングパッド、21Bは信号
が出力されるボンディングパッド、4Bは信号が出力さ
れるインナーリード、である。
体装置においては、図9に示すように、信号の経路19
が折れ線を描き、これがまた、高速化の妨げとなってい
た。なお、20はメモリセルアレイを分割してなるブロ
ック、4Aは信号が入力されるインナーリード、21A
は信号が入力されるボンディングパッド、21Bは信号
が出力されるボンディングパッド、4Bは信号が出力さ
れるインナーリード、である。
【0015】本発明は、かかる点に鑑み、信号が出力さ
れるのみ又は信号が入出力されるボンディングパッドか
ら外部リードに至る信号経路の寄生インピーダンスを小
さくし、複数の出力バッファが同時にスイッチングした
場合に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化とを
図ることができると共に、信号経路を短縮し、この面か
らも高速化を図ることができるようにしたLOC構造の
半導体装置を提供することを目的とする。
れるのみ又は信号が入出力されるボンディングパッドか
ら外部リードに至る信号経路の寄生インピーダンスを小
さくし、複数の出力バッファが同時にスイッチングした
場合に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化とを
図ることができると共に、信号経路を短縮し、この面か
らも高速化を図ることができるようにしたLOC構造の
半導体装置を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図であり、図中、22は半導体チップ、23は半導体チ
ップ22の素子形成面、24は信号が入力されるのみの
ボンディングパッド、25は信号が出力されるのみ又は
信号が入出力されるボンディングパッド、26は信号が
入力されるのみのインナーリード、27は信号が出力さ
れるのみ又は信号が入出力されるインナーリード、2
8、29はボンディングワイヤである。
図であり、図中、22は半導体チップ、23は半導体チ
ップ22の素子形成面、24は信号が入力されるのみの
ボンディングパッド、25は信号が出力されるのみ又は
信号が入出力されるボンディングパッド、26は信号が
入力されるのみのインナーリード、27は信号が出力さ
れるのみ又は信号が入出力されるインナーリード、2
8、29はボンディングワイヤである。
【0017】ここに、本発明によるLOC構造の半導体
装置は、ボンディングパッド中、信号が入力されるのみ
のボンディングパッド24は、素子形成面23の中央部
に形成し、信号が出力されるのみ又は信号が入出力され
るボンディングパッド25は、素子形成面23の周辺部
に形成するというものである。
装置は、ボンディングパッド中、信号が入力されるのみ
のボンディングパッド24は、素子形成面23の中央部
に形成し、信号が出力されるのみ又は信号が入出力され
るボンディングパッド25は、素子形成面23の周辺部
に形成するというものである。
【0018】したがって、また、インナーリード中、信
号が入力されるのみのインナーリード26は、その先端
部を、信号が入力されるのみのボンディングパッド24
の近傍に配置し、信号が出力されるのみ又は信号が入出
力されるインナーリード27は、その先端部を、信号が
出力されるのみ又は信号が入出力されるボンディングパ
ッド25の近傍に配置するというものである。
号が入力されるのみのインナーリード26は、その先端
部を、信号が入力されるのみのボンディングパッド24
の近傍に配置し、信号が出力されるのみ又は信号が入出
力されるインナーリード27は、その先端部を、信号が
出力されるのみ又は信号が入出力されるボンディングパ
ッド25の近傍に配置するというものである。
【0019】
【作用】本発明によれば、信号が出力されるのみ又は信
号が入出力されるインナーリード27の素子形成面23
とのオーバラップ部分を小さくすることができるので、
信号が出力されるのみ又は信号が入出力されるボンディ
ングパッド25から外部リードに至る信号経路の寄生イ
ンピーダンス成分を小さくすることができる。したがっ
て、複数の出力バッファが同時にスイッチングした場合
に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化とを図る
ことができる。
号が入出力されるインナーリード27の素子形成面23
とのオーバラップ部分を小さくすることができるので、
信号が出力されるのみ又は信号が入出力されるボンディ
ングパッド25から外部リードに至る信号経路の寄生イ
ンピーダンス成分を小さくすることができる。したがっ
て、複数の出力バッファが同時にスイッチングした場合
に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化とを図る
ことができる。
【0020】また、図1に信号経路30を示すように、
信号経路の折り返し部分を減らし、信号経路を短縮する
ことができる。したがって、この面からも高速化を図る
ことができる。
信号経路の折り返し部分を減らし、信号経路を短縮する
ことができる。したがって、この面からも高速化を図る
ことができる。
【0021】
【実施例】以下、図2〜図5を参照して、本発明の第1
実施例〜第4実施例について、本発明を64Mビットの
DRAMに適用した場合を例にして説明する。
実施例〜第4実施例について、本発明を64Mビットの
DRAMに適用した場合を例にして説明する。
【0022】第1実施例・・図2 図1は本発明の第1実施例の要部を示す平面図である。
図中、32はチップ本体、33はチップ本体32の素子
形成面、34〜41は8Mビットのブロック、42〜7
7はボンディングパッド、78〜103はインナーリー
ドである。
図中、32はチップ本体、33はチップ本体32の素子
形成面、34〜41は8Mビットのブロック、42〜7
7はボンディングパッド、78〜103はインナーリー
ドである。
【0023】また、RASバーはロウアドレス・ストロ
ーブ信号、CASバーはコラムアドレス・ストローブ信
号、WEバーは書込み制御信号、OEバーは読出し制御
信号、A0〜A11はアドレス信号、DQ0〜DQ7は
データ信号、Vcc、Vssは電源電圧を示している。
ーブ信号、CASバーはコラムアドレス・ストローブ信
号、WEバーは書込み制御信号、OEバーは読出し制御
信号、A0〜A11はアドレス信号、DQ0〜DQ7は
データ信号、Vcc、Vssは電源電圧を示している。
【0024】ここに、ボンディングパッド42〜77
中、ボンディングパッド43、46、51、57、6
2、69はVcc電源用のボンディングパッド、ボンディ
ングパッド42、48、54、59、65、68はVss
電源用のボンディングパッドである。
中、ボンディングパッド43、46、51、57、6
2、69はVcc電源用のボンディングパッド、ボンディ
ングパッド42、48、54、59、65、68はVss
電源用のボンディングパッドである。
【0025】また、ボンディングパッド44、45、4
7、49は制御信号入力用のボンディングパッド、ボン
ディングパッド50、52、53、55、56、58、
60、61、63、64、66、67はアドレス信号入
力用のボンディングパッド、ボンディングパッド70〜
77はデータ信号入出力用のボンディングパッドであ
る。
7、49は制御信号入力用のボンディングパッド、ボン
ディングパッド50、52、53、55、56、58、
60、61、63、64、66、67はアドレス信号入
力用のボンディングパッド、ボンディングパッド70〜
77はデータ信号入出力用のボンディングパッドであ
る。
【0026】また、インナーリード77〜103中、イ
ンナーリード84はVcc電源用のインナーリード、イン
ナーリード97はVss電源用のインナーリード、インナ
ーリード78、79、102、103は制御信号入力用
のインナーリードである。
ンナーリード84はVcc電源用のインナーリード、イン
ナーリード97はVss電源用のインナーリード、インナ
ーリード78、79、102、103は制御信号入力用
のインナーリードである。
【0027】また、インナーリード81、83、85、
87、89〜92、94、96、98、100はアドレ
ス信号入力用のインナーリード、インナーリード80、
82、86、88、93、95、99、101はデータ
信号入出力用のインナーリードである。
87、89〜92、94、96、98、100はアドレ
ス信号入力用のインナーリード、インナーリード80、
82、86、88、93、95、99、101はデータ
信号入出力用のインナーリードである。
【0028】即ち、この図2から明らかなように、この
第1実施例においては、Vcc電源用のボンディングパッ
ド43、46、51、57、62、69、Vss電源用の
ボンディングパッド42、48、54、59、65、6
8は、素子形成面33の長辺(長手)方向に沿った中央
部に形成されている。
第1実施例においては、Vcc電源用のボンディングパッ
ド43、46、51、57、62、69、Vss電源用の
ボンディングパッド42、48、54、59、65、6
8は、素子形成面33の長辺(長手)方向に沿った中央
部に形成されている。
【0029】したがって、これに対応させて、Vcc電源
用のインナーリード84及びVss電源用のインナーリー
ド97は、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った中央部の上方を延びる構成とされている。
用のインナーリード84及びVss電源用のインナーリー
ド97は、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った中央部の上方を延びる構成とされている。
【0030】また、制御信号入力用のボンディングパッ
ド44、45、47、49及びアドレス信号入力用のボ
ンディングパッド50、52、53、55、56、5
8、60、61、63、64、66、67も、素子形成
面33の長辺方向に沿った中央部に形成されている。
ド44、45、47、49及びアドレス信号入力用のボ
ンディングパッド50、52、53、55、56、5
8、60、61、63、64、66、67も、素子形成
面33の長辺方向に沿った中央部に形成されている。
【0031】したがって、これに対応させて、制御信号
入力用のインナーリード78、79、102、103及
びアドレス信号入力用のインナーリード81、83、8
5、87、89〜92、94、96、98、100は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った中央部の上方に位置する構成とされている。
入力用のインナーリード78、79、102、103及
びアドレス信号入力用のインナーリード81、83、8
5、87、89〜92、94、96、98、100は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った中央部の上方に位置する構成とされている。
【0032】また、データ信号入出力用のボンディング
パッド70〜77は、素子形成面33の長辺方向に沿っ
た周辺部に形成されている。したがって、また、これに
対応させて、データ信号入出力用のインナーリード8
0、82、86、88、93、95、99、101は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った周辺部の上方に位置する構成とされている。
パッド70〜77は、素子形成面33の長辺方向に沿っ
た周辺部に形成されている。したがって、また、これに
対応させて、データ信号入出力用のインナーリード8
0、82、86、88、93、95、99、101は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った周辺部の上方に位置する構成とされている。
【0033】ここに、この第1実施例では、ロウアドレ
スストローブ信号RASバー、コラムアドレスストロー
ブ信号CASバー、アドレス信号A0〜A11といった
入力信号が素子形成面33の長辺方向に沿った中央部の
回路群に取り込まれる。
スストローブ信号RASバー、コラムアドレスストロー
ブ信号CASバー、アドレス信号A0〜A11といった
入力信号が素子形成面33の長辺方向に沿った中央部の
回路群に取り込まれる。
【0034】この素子形成面33の長辺方向に沿った中
央部では、回路が集中していること、電源がバスバーに
より低インピーダンスであること等により、LOC構造
のメリットが活かされ、各ブロック34〜41に中央部
からアクセス指示が伝播される。
央部では、回路が集中していること、電源がバスバーに
より低インピーダンスであること等により、LOC構造
のメリットが活かされ、各ブロック34〜41に中央部
からアクセス指示が伝播される。
【0035】この指示は、DRAMの場合、ワード線の
伝播遅延、センスアンプの活性信号の伝播遅延、コラム
アドレスの伝播遅延が伴ってチップ中央部からチップ周
辺部に向かって行われ、データ信号入出力用のボンディ
ングパッド70〜77の近傍にある出力バッファを経て
ボンディングパッド70〜77に到達し、データ信号入
出力用のインナーリード80、82、86、88、9
3、95、99、101を介して外部リードに至る。
伝播遅延、センスアンプの活性信号の伝播遅延、コラム
アドレスの伝播遅延が伴ってチップ中央部からチップ周
辺部に向かって行われ、データ信号入出力用のボンディ
ングパッド70〜77の近傍にある出力バッファを経て
ボンディングパッド70〜77に到達し、データ信号入
出力用のインナーリード80、82、86、88、9
3、95、99、101を介して外部リードに至る。
【0036】かかる第1実施例によれば、データ信号入
出力用のボンディングパッド70〜77は、素子形成面
33の長辺方向に沿った周辺部に形成され、また、これ
に対応させて、データ信号入出力用のインナーリード8
0、82、86、88、93、95、99、101は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った周辺部の上方に位置する構成とされているので、デ
ータ信号入出力用のインナーリード80、82、86、
88、93、95、99、101の素子形成面33との
オーバラップ部分を小さくすることができる。
出力用のボンディングパッド70〜77は、素子形成面
33の長辺方向に沿った周辺部に形成され、また、これ
に対応させて、データ信号入出力用のインナーリード8
0、82、86、88、93、95、99、101は、
それぞれ、その先端部が素子形成面33の長辺方向に沿
った周辺部の上方に位置する構成とされているので、デ
ータ信号入出力用のインナーリード80、82、86、
88、93、95、99、101の素子形成面33との
オーバラップ部分を小さくすることができる。
【0037】この結果、データ信号入出力用のボンディ
ングパッド70〜77から外部リードに至る信号経路の
寄生インピーダンス成分を小さくすることができ、各ブ
ロック34〜41の出力バッファが同時にスイッチング
した場合に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化
とを図ることができる。
ングパッド70〜77から外部リードに至る信号経路の
寄生インピーダンス成分を小さくすることができ、各ブ
ロック34〜41の出力バッファが同時にスイッチング
した場合に発生するノイズの低減化と、読出しの高速化
とを図ることができる。
【0038】また、この第1実施例によれば、信号経路
の折り返し部分を減らし、信号経路を短縮することがで
きるので、この面からも高速化を図ることができる。
の折り返し部分を減らし、信号経路を短縮することがで
きるので、この面からも高速化を図ることができる。
【0039】第2実施例・・図3 図3は、本発明の第2実施例の要部を示す平面図であ
る。この第2実施例は、出力バッファ部の電源のインピ
ーダンスを改善するものであり、この第2実施例が第1
実施例と異なる点は、素子形成面33の周辺部のブロッ
ク35、36の近傍にVcc電源用のボンディングパッド
104、105を形成すると共に、素子形成面33の周
辺部のブロック38、39の近傍にVss電源用のボンデ
ィングパッド106、107を形成している点であり、
その他については、第1実施例と同様に構成されてい
る。
る。この第2実施例は、出力バッファ部の電源のインピ
ーダンスを改善するものであり、この第2実施例が第1
実施例と異なる点は、素子形成面33の周辺部のブロッ
ク35、36の近傍にVcc電源用のボンディングパッド
104、105を形成すると共に、素子形成面33の周
辺部のブロック38、39の近傍にVss電源用のボンデ
ィングパッド106、107を形成している点であり、
その他については、第1実施例と同様に構成されてい
る。
【0040】第3実施例・・図4 図4は、本発明の第3実施例の要部を示す平面図であ
る。この第3実施例は、第2実施例以上に出力バッファ
部の電源のインピーダンスを改善するものであり、この
第3実施例が第2実施例と異なる点は、素子形成面33
の周辺部のブロック34、37、38、40、41(図
2、図3では図示するが、この図4では図示せず)の近
傍に、それぞれ、Vcc電源用のボンディングパッド10
8、115、116、111、112を形成すると共
に、素子形成面33の周辺部のブロック34、36、3
7、38、41(同じく、図2、図3では図示するが、
この図4では図示せず)の近傍に、それぞれ、Vss電源
用のボンディングパッド113、114、109、11
0、117を形成し、第2実施例(図3)が形成してい
るVcc電源用のボンディングパッド104及びVss電源
用のボンディングパッド106を削除している点であ
り、その他については、第2実施例と同様に構成されて
いる。
る。この第3実施例は、第2実施例以上に出力バッファ
部の電源のインピーダンスを改善するものであり、この
第3実施例が第2実施例と異なる点は、素子形成面33
の周辺部のブロック34、37、38、40、41(図
2、図3では図示するが、この図4では図示せず)の近
傍に、それぞれ、Vcc電源用のボンディングパッド10
8、115、116、111、112を形成すると共
に、素子形成面33の周辺部のブロック34、36、3
7、38、41(同じく、図2、図3では図示するが、
この図4では図示せず)の近傍に、それぞれ、Vss電源
用のボンディングパッド113、114、109、11
0、117を形成し、第2実施例(図3)が形成してい
るVcc電源用のボンディングパッド104及びVss電源
用のボンディングパッド106を削除している点であ
り、その他については、第2実施例と同様に構成されて
いる。
【0041】第4実施例・・図5 図5は、本発明の第4実施例の要部を示す平面図であ
る。この第4実施例は、短辺(幅)方向に沿った中央部
にVcc電源用のボンディングパッド43、69、Vss電
源用のボンディングパッド42、68、制御信号入力用
のボンディングパッド44、45、47、49及びアド
レス信号入力用のボンディングパッド50、52、5
3、55、56、58、60、61、63、64、6
6、67を形成すると共に、素子形成面33の短辺方向
に沿った周辺部にデータ信号入出力用のボンディングパ
ッド70〜77に形成したものである。
る。この第4実施例は、短辺(幅)方向に沿った中央部
にVcc電源用のボンディングパッド43、69、Vss電
源用のボンディングパッド42、68、制御信号入力用
のボンディングパッド44、45、47、49及びアド
レス信号入力用のボンディングパッド50、52、5
3、55、56、58、60、61、63、64、6
6、67を形成すると共に、素子形成面33の短辺方向
に沿った周辺部にデータ信号入出力用のボンディングパ
ッド70〜77に形成したものである。
【0042】したがって、これに対応させて、Vcc電源
用のインナーリード84は、その先端部が素子形成面3
3の短辺方向に沿った中央部の上方を延びる構成とされ
ている。
用のインナーリード84は、その先端部が素子形成面3
3の短辺方向に沿った中央部の上方を延びる構成とされ
ている。
【0043】また、制御信号入力用のインナーリード7
8、79、102、103及びアドレス信号入力用のイ
ンナーリード81、83、85、87、89〜92、9
4、96、98、100は、その先端部が素子形成面3
3の短辺方向に沿った中央部の上方に位置するように構
成されている。
8、79、102、103及びアドレス信号入力用のイ
ンナーリード81、83、85、87、89〜92、9
4、96、98、100は、その先端部が素子形成面3
3の短辺方向に沿った中央部の上方に位置するように構
成されている。
【0044】また、データ信号入出力用のインナーリー
ド80、82、86、88、93、95、99、101
は、その先端部が素子形成面33の短辺方向に沿った周
辺部の上方に位置するように構成されている。
ド80、82、86、88、93、95、99、101
は、その先端部が素子形成面33の短辺方向に沿った周
辺部の上方に位置するように構成されている。
【0045】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、信号が
出力されるのみ又は信号が入出力されるインナーリード
の素子形成面とのオーバラップ部分を小さくすることが
できるので、信号が出力されるのみ又は信号が入出力さ
れるボンディングパッドから外部リードに至る信号経路
の寄生インピーダンス成分を小さくすることができ、複
数の出力バッファが同時にスイッチングした場合に発生
するノイズの低減化と、読出しの高速化とを図ることが
できると共に、信号経路の折り返し部分を減らし、信号
経路を短縮し、この面からも、読出しの高速化を図るこ
とができる。
出力されるのみ又は信号が入出力されるインナーリード
の素子形成面とのオーバラップ部分を小さくすることが
できるので、信号が出力されるのみ又は信号が入出力さ
れるボンディングパッドから外部リードに至る信号経路
の寄生インピーダンス成分を小さくすることができ、複
数の出力バッファが同時にスイッチングした場合に発生
するノイズの低減化と、読出しの高速化とを図ることが
できると共に、信号経路の折り返し部分を減らし、信号
経路を短縮し、この面からも、読出しの高速化を図るこ
とができる。
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】本発明の第1実施例の要部を示す平面図であ
る。
る。
【図3】本発明の第2実施例の要部を示す平面図であ
る。
る。
【図4】本発明の第3実施例の要部を示す平面図であ
る。
る。
【図5】本発明の第4実施例の要部を示す平面図であ
る。
る。
【図6】従来のLOC構造を有する半導体装置を示す斜
視図である。
視図である。
【図7】図6のA−A線に沿った断面図である。
【図8】図6に示す従来のLOC構造を有する半導体装
置が有する問題点を説明するための回路図である。
置が有する問題点を説明するための回路図である。
【図9】図6に示す従来のLOC構造を有する半導体装
置が有する問題点を説明するための平面図である。
置が有する問題点を説明するための平面図である。
22 半導体チップ 23 素子形成面 24 信号が入力されるのみのボンディングパッド 25 信号が出力されるのみ又は信号が入出力されるボ
ンディングパッド 26 信号が入力されるのみのインナーリード 27 信号が出力されるのみ又は信号が入出力されるイ
ンナーリード 28 ボンディングワイヤ 29 ボンディングワイヤ 30 信号経路
ンディングパッド 26 信号が入力されるのみのインナーリード 27 信号が出力されるのみ又は信号が入出力されるイ
ンナーリード 28 ボンディングワイヤ 29 ボンディングワイヤ 30 信号経路
Claims (2)
- 【請求項1】信号入力用ボンディングパッドを半導体チ
ップの中央部に設け、信号出力用ボンディングパッド又
は信号入出力用ボンディングパッドの何れか一方又はそ
の双方を半導体チップの周辺部に設けて、前記それぞれ
のボンディングパッドの対応するインナーリードの先端
部を前記それぞれのボンディングパッドの近傍に配置し
たことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項2】電源用ボンディングパッドを半導体チップ
の中央部又は周辺部の何れか一方又はその双方に設け、
前記電源用ボンディングパッドが配置された位置に沿っ
て前記電源用ボンディングパッドのインナーリードを設
けたことを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3241045A JP2932785B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 半導体装置 |
EP92402587A EP0533589B1 (en) | 1991-09-20 | 1992-09-21 | A semiconductor device |
KR1019920017207A KR960003767B1 (ko) | 1991-09-20 | 1992-09-21 | 반도체 장치 |
DE69226742T DE69226742T2 (de) | 1991-09-20 | 1992-09-21 | Halbleitervorrichtung |
US08/536,674 US5648680A (en) | 1991-09-20 | 1995-09-29 | Lead-on-chip semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3241045A JP2932785B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0582703A JPH0582703A (ja) | 1993-04-02 |
JP2932785B2 true JP2932785B2 (ja) | 1999-08-09 |
Family
ID=17068492
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3241045A Expired - Fee Related JP2932785B2 (ja) | 1991-09-20 | 1991-09-20 | 半導体装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5648680A (ja) |
EP (1) | EP0533589B1 (ja) |
JP (1) | JP2932785B2 (ja) |
KR (1) | KR960003767B1 (ja) |
DE (1) | DE69226742T2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2677737B2 (ja) * | 1992-06-24 | 1997-11-17 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US5384487A (en) * | 1993-05-05 | 1995-01-24 | Lsi Logic Corporation | Off-axis power branches for interior bond pad arrangements |
JPH0799213A (ja) * | 1993-06-09 | 1995-04-11 | At & T Corp | 集積回路チップ |
GB2312988A (en) * | 1996-05-10 | 1997-11-12 | Memory Corp Plc | Connecting a semiconductor die to a carrier |
KR0179924B1 (ko) * | 1996-06-14 | 1999-03-20 | 문정환 | 버텀리드 반도체 패키지 |
KR100248792B1 (ko) * | 1996-12-18 | 2000-03-15 | 김영환 | 단일층 세라믹 기판을 이용한 칩사이즈 패키지 반도체 |
JP3036498B2 (ja) * | 1997-12-08 | 2000-04-24 | 日本電気株式会社 | 半導体パッケージ |
US6268643B1 (en) * | 1997-12-22 | 2001-07-31 | Texas Instruments Incorporated | Lead frame device for delivering electrical power to a semiconductor die |
US6049136A (en) * | 1998-06-03 | 2000-04-11 | Hewlett-Packard Company | Integrated circuit having unique lead configuration |
DE10126310B4 (de) * | 2001-05-30 | 2006-05-18 | Infineon Technologies Ag | Leiterplattenvorrichtung, deren Verwendung und Halbleiterspeichervorrichtung |
TW530525B (en) * | 2001-07-27 | 2003-05-01 | Via Tech Inc | Method of disposing buffer and its chip |
US7489026B2 (en) | 2006-10-31 | 2009-02-10 | Freescale Semiconductor, Inc. | Methods and apparatus for a Quad Flat No-Lead (QFN) package |
JP7241763B2 (ja) * | 2018-09-06 | 2023-03-17 | 三菱電機株式会社 | パワー半導体装置およびその製造方法、ならびに電力変換装置 |
US11502014B2 (en) * | 2018-09-19 | 2022-11-15 | Rohm Co., Ltd. | Semiconductor device |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1238119A (en) * | 1985-04-18 | 1988-06-14 | Douglas W. Phelps, Jr. | Packaged semiconductor chip |
EP0204177A1 (de) * | 1985-05-31 | 1986-12-10 | Siemens Aktiengesellschaft | Anschlussanordnung für einen integrierten Halbleiterschaltkreis |
KR880014671A (ko) * | 1987-05-27 | 1988-12-24 | 미다 가쓰시게 | 수지로 충진된 반도체 장치 |
US4796078A (en) * | 1987-06-15 | 1989-01-03 | International Business Machines Corporation | Peripheral/area wire bonding technique |
KR0158868B1 (ko) * | 1988-09-20 | 1998-12-01 | 미다 가쓰시게 | 반도체장치 |
US5151559A (en) * | 1991-05-02 | 1992-09-29 | International Business Machines Corporation | Planarized thin film surface covered wire bonded semiconductor package |
-
1991
- 1991-09-20 JP JP3241045A patent/JP2932785B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-09-21 DE DE69226742T patent/DE69226742T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-21 EP EP92402587A patent/EP0533589B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-21 KR KR1019920017207A patent/KR960003767B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-09-29 US US08/536,674 patent/US5648680A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69226742T2 (de) | 1999-01-14 |
KR930006889A (ko) | 1993-04-22 |
KR960003767B1 (ko) | 1996-03-22 |
JPH0582703A (ja) | 1993-04-02 |
DE69226742D1 (de) | 1998-10-01 |
EP0533589B1 (en) | 1998-08-26 |
US5648680A (en) | 1997-07-15 |
EP0533589A1 (en) | 1993-03-24 |
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Legal Events
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