JP2022524720A - カメラモジュールにおいて使用するためのポリマー組成物 - Google Patents

Abstract

液晶ポリマー及び無機フィラーを含むポリマーマトリクスを含むポリマー組成物を含むカメラモジュールが与えられる。液晶ポリマーは、ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含む。更に、ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒－１のせん断速度及び組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す。【選択図】図１

Description

[0001]本出願は、２０１９年３月２０日の出願日を有する米国仮特許出願第６２／８２１，０８６号；２０１９年８月１２日の出願日を有する米国仮特許出願第６２／８８５，３３８号；及び２０２０年２月２０日の出願日を有する米国仮特許出願第６２／９７８，８４９号（それらの全体が参照により本明細書に組み込まれる）の出願の利益を主張する。

[0002]カメラモジュール（又はコンポーネント）はしばしば、携帯電話、ラップトップコンピュータ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラなどにおいて使用されている。一般に、カメラモジュールは、レンズモジュール、及び対象物の画像を電気信号に変換するためのイメージセンサーを含む。レンズモジュールは、ハウジング内に配置することができ、１以上のレンズがその中に配置されたレンズバレルを含み得る。更に、カメラモジュールには、手ぶれによって生じる解像度の損失又はぼけを低減する光学的画像安定化（ＯＩＳ）のためのアクチュエータアセンブリを含ませることができる。アクチュエータアセンブリは、特定の信号を受け取った後にレンズモジュールを目標位置に移動させることによって機能する。移動中にレンズモジュールの適切な位置合わせを確実にするのを助けるために、多くのアクチュエータアセンブリはまた、望ましい方向にレンズモジュールを案内するのを助けるボールベアリングを含む。従来、これらのボールベアリングは、使用中に加えられる力に耐えるのに十分に強靱なセラミック材料から形成されている。しかしながら、ボールベアリングは、強靱である一方で、カメラモジュールの表面上に「くぼみ」を形成し、それがノイズを生起して性能に影響を与える可能性がある。

[0003]したがって、カメラモジュールにおいて使用した場合により良好な性能を示すことができる材料に対する必要性が存在する。

[0004]本発明の一実施形態によれば、液晶ポリマー及び無機フィラーを含むポリマーマトリクスを含むポリマー組成物を含むカメラモジュールが開示される。液晶ポリマーは、ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含む。更に、ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒^－１のせん断速度及び組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す。

[0005]本発明の他の実施形態によれば、カメラモジュールにおいて使用するためのポリマー組成物が開示される。組成物は、液晶ポリマーを含み、液晶ポリマーは、ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含む、約２０重量％～約７０重量％のポリマーマトリクス；約１重量％～約４０重量％の無機繊維；及び、約２重量％～約５０重量％の無機粒子；を含む。ポリマー組成物はまた、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒^－１のせん断速度及び前記組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す。

[0006]下記において、本発明の他の特徴及び態様をより詳細に示す。
[0007]当業者に対するそのベストモードを含む本発明の完全かつ実施可能な開示を、添付の図面に対する参照をを含む本明細書の残りの部分においてより詳細に示す。

[0008]図１は、本発明の一実施形態にしたがって形成することができるカメラモジュールの斜視図である。 [0009]図２は、本発明のカメラモジュールを含む電子機器の一実施形態の上面斜視図である。 [0010]図３は、図２に示す電子機器の底面斜視図である。

[0011]本議論は例示的な実施形態の説明にすぎず、本発明のより広い態様を限定する意図はないことが当業者によって理解される。
[0012]一般的に言えば、本発明は、カメラモジュールにおいて使用するためのポリマー組成物に関する。ポリマー組成物は、液晶ポリマーを含むポリマーマトリクス内に分散された無機繊維を含む。本発明者らは、無機繊維及び液晶ポリマーの特定の性質を選択的に制御することによって、得られる組成物が、それをカメラモジュールにおいてより容易に使用することを可能にする曲げ強さと硬度の独特の組み合わせを示すことができることを見出した。例えば、ポリマー組成物を小さい寸法を有する金型のキャビティ中に容易に流入させることができるように、ポリマー組成物の溶融粘度を十分に低くすることができる。１つの特定の実施形態においては、ポリマー組成物は、４００秒^－１の剪断速度において求めて約３０～約４００Ｐａ・秒、幾つかの実施形態においては約４０～約２５０Ｐａ・秒、幾つかの実施形態においては約５０～約２２０Ｐａ・秒、幾つかの実施形態においては約６０～約２００Ｐａ・秒の溶融粘度を有し得る。溶融粘度は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１４４３：２００５にしたがって、組成物の融点（例えば３０５℃）よりも１５℃高い温度において求めることができる。

[0013]従来は、かかる低い溶融粘度を有する組成物はまた、カメラモジュールにおいてそれらを使用するのを可能にするのに十分に良好な機械特性を有しないと考えられていた。しかしながら、本発明者らは、従来の考えに反して、本発明のポリマー組成物はなお優れた機械特性を達成することができることを見出した。例えば、本ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１７８：２０１０（ＡＳＴＭ－Ｄ７９０－１０と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めて約７，０００ＭＰａ以上、幾つかの実施形態においては約９，０００ＭＰａ以上、幾つかの実施形態においては約１０，０００ＭＰａ～約３０，０００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約１２，０００ＭＰａ～約２５，０００ＭＰａの曲げ弾性率を示し得る。本ポリマー組成物はまた、ＡＳＴＭ－Ｄ７８５－０８（スケールＭ）にしたがって求めて約２５以上、幾つかの実施形態においては約３５以上、幾つかの実施形態においては約４５以上、幾つかの実施形態においては約５５～約１００のロックウェル表面硬度を示し得る。更に、本明細書に記載の「ボールくぼみ」試験に供した場合に、本ポリマー組成物は、１．５ｍｍの直径及び７５グラムの重量を有する金属球を用いて求めて僅か約５０マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約４５マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約１～約４０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約２０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約１０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約５マイクロメートルのくぼみを示し得る。勿論、より小さい重量（例えば３５又は５０グラム）の球を用いて試験した場合に、本ポリマー組成物はまた、上記の範囲内のくぼみを示し得る。更に、本明細書に記載される「ミニドロップ」試験に供した場合に、本ポリマー組成物は、１．５ｍｍの直径及び５グラムの重量を有する金属球を用いて１５０ミリメートルの高さから２０，０００回の落下について求めて僅か約５０マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約４５マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約１～約４０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約２０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約１０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約５マイクロメートルのくぼみを示し得る。勿論、より少ない数の落下（例えば１０，０００回の落下）を用いて試験した場合に、本ポリマー組成物はまた、上記の範囲内のくぼみを示し得る。

[0014]本組成物はまた、ＩＳＯ試験番号１７９－１：２０１０（ＡＳＴＭ―Ｄ２５６－１０ｅ１と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めて約２ｋＪ／ｍ^２、幾つかの実施形態においては約４～約４０ｋＪ／ｍ^２、幾つかの実施形態においては約８～約３０ｋＪ／ｍ^２のシャルピーノッチ無し及び／又はノッチ付き衝撃強さを示し得る。本組成物はまた、約２０～約５００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約５０～約４００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約６０～約３５０ＭＰａの引張り強さ；約０．５％以上、幾つかの実施形態においては約０．８～約１５％、幾つかの実施形態においては約１～約１０％の引張破断歪み；及び／又は約５，０００ＭＰａ～約３０，０００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約７，０００ＭＰａ～約２５，０００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約１０，０００ＭＰａ～約２０，０００ＭＰａの引張弾性率も示し得る。引張特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．５２７－１：２０１２（ＡＳＴＭ－Ｄ６３８－１４と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めることができる。本組成物はまた、約４０～約５００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約５０～約４００ＭＰａ、幾つかの実施形態においては約１００～約３５０ＭＰａの曲げ強さ、及び／又は約０．５％以上、幾つかの実施形態においては約０．８％～約１５％、幾つかの実施形態においては約１％～約１０％の曲げ破断歪みも示し得る。曲げ特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７８：２０１０（ＡＳＴＭ－Ｄ７９０－１５ｅ２と技術的に同等）にしたがって２３℃において求めることができる。本組成物はまた、ＡＳＴＭ－Ｄ６４８－０７（ＩＳＯ試験番号７５－２：２０１３と技術的に同等）にしたがって１．８ＭＰａの規定荷重において測定して約１８０℃以上、幾つかの実施形態においては約１９０℃～約２８０℃の荷重撓み温度（ＤＴＵＬ）も示し得る。

[0015]良好な機械特性及び低い溶融粘度を有することに加えて、本発明の組成物は、それをカメラモジュールにおいてより容易に使用することを可能にする他の特性を有することが見出された。例えば、本ポリマー組成物は低い程度の表面摩擦を示すことができ、これによりガイドユニットの使用中にスキン層が剥離する程度を最小にすることができる。例えば、本ポリマー組成物は、ＶＤＡ－２３０－２０６：２００７にしたがって求めて約１．０以下、幾つかの実施形態においては約０．４以下、幾つかの実施形態においては約０．３５以下、幾つかの実施形態においては約０．１～約０．３の動摩擦係数を示し得る。また、摩耗深さは、ＶＤＡ－２３０－２０６：２００７にしたがって求めて約５００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約２００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約１００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約１０～約７０マイクロメートルであり得る。更に、本組成物はまた、特に静電防止フィラーを上記で議論したポリマー組成物内に含ませる場合には、優れた静電防止挙動も示し得る。かかる静電防止挙動は、ＩＥＣ－６００９３にしたがって求めて比較的低い表面及び／又は体積抵抗率によって特徴付けることができる。例えば、本組成物は、約１×１０^１５オーム以下、幾つかの実施形態においては約１×１０^１４オーム以下、幾つかの実施形態においては約１×１０^１０オーム～約９×１０^１３オーム、幾つかの実施形態においては約１×１０^１１～約１×１０^１３オームの表面抵抗率を示し得る。また、本組成物は、約１×１０^１５オーム・ｍ以下、幾つかの実施形態においては約１×１０^９オーム・ｍ～約９×１０^１４オーム・ｍ、幾つかの実施形態においては約１×１０^１０～約５×１０^１４オーム・ｍの体積抵抗率も示し得る。勿論、かかる静電防止挙動は決して必須ではない。例えば、幾つかの実施形態においては、本組成物は、約１×１０^１５オーム以上、幾つかの実施形態においては約１×１０^１６オーム以上、幾つかの実施形態においては約１×１０^１７オーム～約９×１０^３０オーム、幾つかの実施形態においては約１×１０^１８～約１×１０^２６オームのような比較的大きな表面抵抗率を示し得る。

[0016]ここで、本発明の種々の実施形態をより詳細に説明する。
Ｉ．ポリマー組成物
Ａ．ポリマーマトリクス
[0017]ポリマーマトリクスは、通常は、一般にポリマー組成物全体の約１５重量％～約８５重量％、幾つかの実施形態においては約２０重量％～約７５重量％、幾つかの実施形態においては約３０重量％～約５０重量％の量の１種類以上の液晶ポリマーを含む。金型の小さな空間を有効に満たすことを可能にする高い結晶化度を有する液晶ポリマーが特に好適である。液晶ポリマーは、一般に、棒状構造を有し、それらの溶融状態（例えば、サーモトロピックネマチック状態）で結晶挙動を示すことができる限りにおいて「サーモトロピック」として分類される。本ポリマー組成物において使用される液晶ポリマーは、通常は約２００℃以上、幾つかの実施形態においては約２２０℃～約３５０℃、幾つかの実施形態においては約２４０℃～約３００℃の融点を有する。融点は、当該技術において周知なように、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を使用して、例えばＩＳＯ試験番号１１３５７－３：２０１１（融点）によって求めることができる。かかるポリマーは、当該技術において公知なように、１以上のタイプの繰り返し単位から形成することができる。液晶ポリマーは、例えば、一般に次式（Ｉ）：

（式中、
環Ｂは、置換又は非置換の６員アリール基（例えば、１，４－フェニレン又は１，３－フェニレン）、置換又は非置換の５又は６員アリール基に縮合している置換又は非置換の６員アリール基（例えば２，６－ナフタレン）、或いは置換又は非置換の５又は６員アリール基に結合している置換又は非置換の６員アリール基（例えば４，４－ビフェニレン）であり；
Ｙ_１及びＹ_２は、独立して、Ｏ、Ｃ（Ｏ）、ＮＨ、Ｃ（Ｏ）ＨＮ、又はＮＨＣ（Ｏ）である）
によって表される１種類以上の芳香族エステル繰り返し単位を含み得る。

[0018]通常は、Ｙ_１及びＹ_２の少なくとも１つはＣ（Ｏ）である。かかる芳香族エステル繰り返し単位の例としては、例えば、芳香族ジカルボン酸繰り返し単位（式Ｉにおいて、Ｙ_１及びＹ_２はＣ（Ｏ）である）、芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位（式Ｉにおいて、Ｙ_１はＯであり、Ｙ_２はＣ（Ｏ）である）、並びにこれらの種々の組み合わせを挙げることができる。

[0019]例えば、４－ヒドロキシ安息香酸； ４－ヒドロキシ－４’－ビフェニルカルボン酸； ２－ヒドロキシ－６－ナフトエ酸； ２－ヒドロキシ－５－ナフトエ酸； ３－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸； ２－ヒドロキシ－３－ナフトエ酸；４’－ヒドロキシフェニル－４－安息香酸；３’－ヒドロキシフェニル－４－安息香酸；４’－ヒドロキシフェニル－３－安息香酸など、並びにアルキル、アルコキシ、アリール及びそれらのハロゲン置換基、並びにそれらの組み合わせのような芳香族ヒドロキシカルボン酸から誘導される芳香族ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位を使用することができる。特に好適な芳香族ヒドロキシカルボン酸は、４－ヒドロキシ安息香酸（「ＨＢＡ」）及び６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸（「ＨＮＡ」）である。使用する場合、ヒドロキシカルボン酸（例えば、ＨＢＡ及び／又はＨＮＡ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約５０モル％以上、幾つかの実施形態においては約６０モル％以上、幾つかの実施形態においては約８０モル％～１００モル％を構成する。

[0020]テレフタル酸、イソフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルエーテル－４，４’－ジカルボン酸、１，６－ナフタレンジカルボン酸、２，７－ナフタレンジカルボン酸、４，４’－ジカルボキシビフェニル、ビス（４－カルボキシフェニル）エーテル、ビス（４－カルボキシフェニル）ブタン、ビス（４－カルボキシフェニル）エタン、ビス（３－カルボキシフェニル）エーテル、ビス（３－カルボキシフェニル）エタンなど、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジカルボン酸から誘導される芳香族ジカルボン酸繰り返し単位を用いることもできる。特に好適な芳香族ジカルボン酸としては、例えば、テレフタル酸（ＴＡ）、イソフタル酸（ＩＡ）、及び２，６－ナフタレンジカルボン酸（ＮＤＡ）を挙げることができる。使用する場合、芳香族ジカルボン酸（例えば、ＩＡ、ＴＡ、及び／又はＮＤＡ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約１モル％～約５０モル％、幾つかの実施形態においては約２モル％～約４０モル％、幾つかの実施形態においては約５モル％～約３０％を構成する。

[0021]また、ポリマー中において他の繰り返し単位を用いることもできる。例えば幾つかの実施形態においては、ヒドロキノン、レゾルシノール、２，６－ジヒドロキシナフタレン、２，７－ジヒドロキシナフタレン、１，６－ジヒドロキシナフタレン、４，４’－ジヒドロキシビフェニル（又は４，４’－ビフェノール）、３，３’－ジヒドロキシビフェニル、３，４’－ジヒドロキシビフェニル、４，４’－ジヒドロキシビフェニルエーテル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタンなど、並びにこれらのアルキル、アルコキシ、アリール、及びハロゲン置換体、並びにこれらの組み合わせのような芳香族ジオールから誘導される繰り返し単位を用いることができる。特に好適な芳香族ジオールとしては、例えばヒドロキノン（ＨＱ）及び４，４’－ビフェノール（ＢＰ）を挙げることができる。用いる場合には、芳香族ジオール（例えばＨＱ及び／又はＢＰ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約１モル％～約３０モル％、幾つかの実施形態においては約２モル％～約２５モル％、幾つかの実施形態においては約５モル％～約２０モル％を構成する。また、芳香族アミド（例えばアセトアミノフェン（ＡＰＡＰ））、及び／又は芳香族アミン（例えば、４－アミノフェノール（ＡＰ）、３－アミノフェノール、１，４－フェニレンジアミン、１，３－フェニレンジアミンなど）から誘導されるもののような繰り返し単位を用いることもできる。用いる場合には、芳香族アミド（例えばＡＰＡＰ）及び／又は芳香族アミン（例えばＡＰ）から誘導される繰り返し単位は、通常はポリマーの約０．１モル％～約２０モル％、幾つかの実施形態においては約０．５モル％～約１５モル％、幾つかの実施形態においては約１モル％～約１０モル％を構成する。また、種々の他のモノマー繰り返し単位をポリマー中に導入することができることも理解すべきである。例えば幾つかの実施形態においては、脂肪族又は脂環式ヒドロキシカルボン酸、ジカルボン酸、ジオール、アミド、アミンなどのような非芳香族モノマーから誘導される１以上の繰り返し単位をポリマーに含ませることができる。勿論、他の実施形態においては、ポリマーは、非芳香族（例えば脂肪族又は脂環式）モノマーから誘導される繰り返し単位を含まないという点で「全芳香族」であってよい。

[0022]必ずしも必須ではないが、液晶ポリマーは、ナフテン系ヒドロキシカルボン酸及びナフテン系ジカルボン酸、例えば、ナフタレン－２，６－ジカルボン酸（ＮＤＡ）、６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸（ＨＮＡ）、又はそれらの組み合わせから誘導される繰り返し単位を比較的高い含量で含む限りにおいて、「高ナフテン系」ポリマーであり得る。すなわち、ナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸（例えば、ＮＤＡ、ＨＮＡ、又はＨＮＡとＮＤＡの組み合わせ）から誘導される繰り返し単位の総量は、通常はポリマーの約１０モル％以上、幾つかの実施形態においては約１５モル％以上、幾つかの実施形態においては約２０モル％～約３５モル％である。多くの従来の「低ナフテン系」ポリマーとは異なり、得られる「高ナフテン系」ポリマーは、良好な熱及び機械特性を示すことができると考えられる。例えば、１つの特定の実施形態においては、液晶ポリマーは、４－ヒドロキシ安息香酸（ＨＢＡ）及び６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸（ＨＮＡ）、並びに種々の他の随意的な構成成分から誘導される繰り返し単位から形成することができる。４－ヒドロキシ安息香酸（ＨＢＡ）から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約５０モル％～約９０モル％、幾つかの実施形態においては約６０モル％～約８５モル％、幾つかの実施形態においては約６５モル％～約８０モル％を構成し得る。また、６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸（ＨＮＡ）から誘導される繰り返し単位は、ポリマーの約１０モル％～約５０モル％、幾つかの実施形態においては約１５モル％～約４０モル％、幾つかの実施形態においては約２０モル％～約３５モル％を構成し得る。

[0023]液晶ポリマーに加えて、所望の場合には、ポリマーマトリクスにおいて他のタイプのポリマーを使用することもできる。例えば一実施形態においては、ポリマーマトリクスに、半結晶質芳香族ポリマー（例えば、芳香族及び／又は半結晶質ポリアミド、ポリアリーレンスルフィド、芳香族ポリエステルなど）のような芳香族ポリマー、及び／又は非晶質ポリマー（例えば、ポリエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンオキシドなど）を含ませることができる。液晶ポリマーと組み合わせて芳香族ポリマーを使用する場合には、液晶ポリマーは、通常はポリマーマトリクスの約３０重量％～約８５重量％、幾つかの実施形態においては約４０重量％～約８０重量％、幾つかの実施形態においては約６０重量％～約７５重量％を構成し、一方で芳香族ポリマーは、ポリマーマトリクスの約１５重量％～約７０重量％、幾つかの実施形態においては約２０重量％～約６０重量％、幾つかの実施形態においては約２５重量％～約４０重量％を構成する。例えば、芳香族ポリマーは、ポリマー組成物全体の約１重量％～約５０重量％、幾つかの実施形態においては約５重量％～約４５重量％、幾つかの実施形態においては約１０重量％～約４０重量％を構成し得る。

[0024]芳香族ポリマーは、一般に、それらがポリマーの特定の性質に応じて比較的高いガラス転移温度及び／又は高い融点を有する点で「高性能」ポリマーとみなされる。したがって、かかる高性能ポリマーは、得られるポリマー組成物に相当な程度の耐熱性を与えることができる。例えば、芳香族ポリマーは、約１００℃以上、幾つかの実施形態においては約１２０℃以上、幾つかの実施形態においては約１４０℃～約３５０℃、幾つかの実施形態においては約１５０℃～約３２０℃のガラス転移温度を有し得る。芳香族ポリマーはまた、約２００℃以上、幾つかの実施形態においては約２２０℃～約３５０℃、幾つかの実施形態においては約２４０℃～約３００℃の融点を有し得る。ガラス転移温度及び融点は、当該技術において周知なように、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）を使用して、例えばＩＳＯ試験番号１１３５７－２：２０１３（ガラス転移温度）及び１１３５７－３：２０１１（融点）によって求めることができる。

[0025]例えば１つの特定の実施形態においては、ポリマー組成物中において半結晶質芳香族ポリエステルを使用することができる。かかる芳香族ポリエステルは、８～１４個の炭素原子を有する芳香族ジカルボン酸と少なくとも１種類のジオールとの縮合生成物であってよい。好適なジオールとしては、例えば、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオール、及び式：ＨＯ（ＣＨ_２）_nＯＨ（式中、ｎは２～１０の整数である）の脂肪族グリコールを挙げることができる。好適な芳香族ジカルボン酸としては、例えば、イソフタル酸、テレフタル酸、１，２－ジ（ｐ－カルボキシフェニル）エタン、４，４’－ジカルボキシジフェニルエーテルなど、並びにそれらの組み合わせを挙げることができる。また、１，４－、又は１，５－、或いは２，６－ナフタレンジカルボン酸におけるように、縮合環が存在していてもよい。かかる芳香族ポリエステルの特定の例としては、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（１，３－プロピレンテレフタレート）（ＰＰＴ）、ポリ（１，４－ブチレン２，６－ナフタレート）（ＰＢＮ）、ポリ（エチレン２，６－ナフタレート）（ＰＥＮ）、ポリ（１，４－シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）（ＰＣＴ）、並びに上記のコポリマー、誘導体、及び混合物が挙げられる。

[0026]更に、かかる芳香族ポリエステルの変性体又はコポリマーを使用することもできる。例えば一実施形態においては、変性酸又は変性ジオールを使用して、変性ポリエチレンテレフタレートポリマー及び／又は変性ポリブチレンテレフタレートポリマーを製造することができる。本明細書中において使用する「変性酸」及び「変性ジオール」の用語は、それぞれポリエステルの酸及びジオール繰り返し単位の一部を形成することができ、ポリエステルを変性して、その結晶化度を低下させることができるか、又はポリエステルを非晶質にすることができる化合物を規定するように意図される。勿論、ポリエステルは非変性で、変性酸又は変性ジオールを含まなくてもよい。いずれの場合においても、変性酸成分の例としては、イソフタル酸、フタル酸、１，３－シクロヘキサンジカルボン酸、１，４－シクロヘキサンジカルボン酸、２，６－ナフタリンジカルボン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、スベリン酸、１，１２－ドデカン二酸などを挙げることができるが、これらに限定されない。実際には、ジカルボン酸のジメチル、ジエチル、又はジプロピルエステルのようなその官能性酸誘導体を使用することがしばしば好ましい。これらの酸の無水物又は酸ハロゲン化物も、実用的な場合には使用することができる。変性ジオール成分の例としては、ネオペンチルグリコール、１，４－シクロヘキサンジメタノール、１，２－プロパンジオール、１，３－プロパンジオール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、１，４－ブタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、１，２－シクロヘキサンジオール、１，４－シクロヘキサンジオール、１，２－シクロヘキサンジメタノール、１，３－シクロヘキサンジメタノール、２，２，４，４－テトラメチル１，３－シクロブタンジオール、Ｚ，８－ビス（ヒドロキシメチルトリシクロ－［５．２．１．０］－デカン（ここで、Ｚは、３、４又は５を表す）；１，４－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、４，４’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ジフェニルエーテル［ビス－ヒドロキシエチルビスフェノールＡ］、４，４’－ビス（２－ヒドロキシエトキシ）ジフェニルスルフィド［ビス－ヒドロキシエチルビスフェノールＳ］、及び鎖中に１個以上の酸素原子を含むジオール、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどを挙げることができるが、これらに限定されない。一般に、これらのジオールは、２～１８個、幾つかの実施形態においては２～８個の炭素原子を含む。脂環式ジオールは、それらのシス又はトランス配置で、又は両方の形態の混合物として使用することができる。

[0027]芳香族ポリエステルが液晶ポリマーと反応する程度を最小にするのを助けるためには、ポリマー中のカルボキシル末端基の含量を、約１００ミリ当量／キログラム（ｍｅｑ／ｋｇ）以下、幾つかの実施形態においては約５０ｍｅｑ／ｋｇ以下、幾つかの実施形態においては約３０ｍｅｑ／ｋｇ以下のように比較的低く保つことが一般に望ましい。また、ポリマー中のヒドロキシル末端基の含量は、約１００ｍｅｑ／ｋｇ以下、幾つかの実施形態においては約５０ｍｅｑ／ｋｇ以下、幾つかの実施形態においては約３０ｍｅｑ／ｋｇ以下であることが一般に望ましい。カルボキシル及びヒドロキシル末端基の含量は、滴定法（例えば電位差測定法）のような任意の公知の技術によって求めることができる。

Ｂ．無機フィラー
[0028]上記に示したように、本ポリマー組成物は、ポリマーマトリクス内に分配された１種類以上の無機フィラーを含む。かかる１種類又は複数の無機フィラーは、通常はポリマーマトリクス１００重量部当たりの重量基準で約２０～約１００部、幾つかの実施形態においては約３５～約９０部、幾つかの実施形態においては約５０～約８０部を構成する。１種類又は複数の無機フィラーは、例えばポリマー組成物の約５重量％～約６０重量％、幾つかの実施形態においては約１０重量％～約５５重量％、幾つかの実施形態においては約２５重量％～約４０重量％を構成し得る。

[0029]ポリマー組成物において使用される１種類又は複数の無機フィラーの性質は、無機粒子、無機繊維（又はウィスカー）など、並びにそれらのブレンドのように変化し得る。通常は、ポリマー組成物において使用される無機フィラーは、組成物の機械的強度、接着強度、及び表面特性を改善するのを助けるために特定の硬度値を有し、これにより組成物がカメラモジュールの小さな部品を形成するのに独特に適していることを可能にする。例えば、硬度値は、モース硬度スケールに基づいて約２．０以上、幾つかの実施形態においては約２．５以上、幾つかの実施形態においては約３．０以上、幾つかの実施形態においては約３．０～約１１．０、幾つかの実施形態においては約３．５～約１１．０、幾つかの実施形態においては約４．５～約６．５であってよい。例えば幾つかの実施形態においては、本ポリマー組成物は無機粒子及び無機繊維のブレンドを含み得る。かかるブレンドを使用する場合、無機繊維は、ブレンドの約２５重量％～約７０重量％、幾つかの実施形態においては約３０重量％～約６０重量％、幾つかの実施形態においては約３５重量％～約５０重量％を構成し得る一方で、無機粒子は、ブレンドの約３０重量％～約７５重量％、幾つかの実施形態においては約４０重量％～約７０重量％、及び幾つかの実施形態においては約５０重量％～約６５重量％を構成し得る。無機繊維は、例えば、ポリマー組成物全体の約１重量％～約４０重量％、幾つかの実施形態においては約３重量％～約２５重量％、幾つかの実施形態においては約５重量％～約２０重量％を構成し得る一方で、無機粒子は、ポリマー組成物全体の約２重量％～約５０重量％、幾つかの実施形態においては約５重量％～約４０重量％、幾つかの実施形態においては約５重量％～約３０重量％、幾つかの実施形態においては約１０重量％～約３０重量％を構成し得る。

[0030]一般に、タルク、マイカ、シリカ（例えば非晶質シリカ）、アルミナ、ハロイサイト、カオリナイト、イライト、モンモリロナイト、バーミキュライト、パリゴルスカイト、パイロフィライト、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、珪酸アルミニウム、珪灰石のような天然及び／又は合成シリケート鉱物；硫酸塩、リン酸塩、リン酸塩、フッ化物、ホウ酸塩などから形成されるもののような任意の種々の異なるタイプの無機粒子を本ポリマー組成物において使用することができる。炭酸カルシウム（ＣａＣＯ_３；３．０のモース硬度）、炭酸水酸化銅（Ｃｕ_２ＣＯ_３（ＯＨ）_２；４．０のモース硬度）；フッ化カルシウム（ＣａＦＩ_２；４．０のモース硬度）；ピロリン酸カルシウム（Ｃａ_２Ｐ_２Ｏ_７；５．０のモース硬度）、無水リン酸二カルシウム（ＣａＨＰＯ_４；３．５のモース硬度）、水和リン酸アルミニウム（ＡｌＰＯ_４・２Ｈ_２Ｏ；４．５のモース硬度）；シリカ（ＳｉＯ_２；５．０～６．０のモース硬度）、カリウムアルミニウムシリケート（ＫＡｌＳｉ_３Ｏ_６；６のモース硬度）、ケイ酸銅（ＣｕＳｉＯ３・Ｈ_２Ｏ、５．０のモース硬度）；ホウケイ酸水酸化カルシウム（Ｃａ_２Ｂ_５ＳｉＯ_９（ＯＨ）_５；３．５のモース硬度）；アルミナ（ＡｌＯ_２；１０．０のモース硬度）；硫酸カルシウム（ＣａＳＯ_４；３．５のモース硬度）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ_４；３～３．５のモース硬度）、マイカ（２．５～５．３のモース硬度）など、並びにこれらの組合せのような所望の硬度値を有する粒子が特に好適である。例えば、マイカが特に好適である。一般に、例えば、モスコバイト（ＫＡｌ_２（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、バイオタイト（Ｋ（Ｍｇ，Ｆｅ）_３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、フロゴパイト（ＫＭｇ_３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、レピドライト（Ｋ（Ｌｉ，Ａｌ）_２～３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、グローコナイト（Ｋ，Ｎａ）（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）_２（Ｓｉ，Ａｌ）_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２）などをはじめとする任意の形態のマイカを使用することができる。モスコバイト系マイカが、本ポリマー組成物において使用するのに特に好適である。

[0031]幾つかの実施形態においては、硫酸バリウム及び／又は硫酸カルシウムの粒子のような無機粒子は、本質的に概して顆粒状又は球状である形状を有する可能性がある。かかる実施形態においては、粒子は、ＩＳＯ－１３３２０：２００９にしたがい、（例えばHoriba LA-960粒度分布分析器を用いて）レーザー回折技術を使用して求めて約０．５～約２０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１～約１５マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１．５～約１０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約２～約８マイクロメートルのメジアン径（例えば直径）を有し得る。他の実施形態においては、約４以上、幾つかの実施形態においては約８以上、幾つかの実施形態においては約１０～約５００のような比較的高いアスペクト比（例えば、平均直径を平均厚さで割ったもの）を有するマイカ粒子のようなフレーク状無機粒子を使用することも望ましい場合がある。かかる実施形態においては、粒子の平均直径は、例えば約５マイクロメートル～約２００マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約８マイクロメートル～約１５０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１０マイクロメートル～約１００マイクロメートルの範囲であってよい。また、平均厚さは、ＩＳＯ－１３３２０：２００９にしたがって（例えば、Horiba LA－９６０粒度分布分析器を使用し）レーザー回折技術を使用して求めて約２マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約５ナノメートル～約１マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約２０ナノメートル～約５００ナノメートルであってよい。無機粒子はまた、狭い寸法分布を有し得る。即ち、粒子の少なくとも約７０体積％、幾つかの実施形態においては粒子の少なくとも約８０体積％、幾つかの実施形態においては粒子の少なくとも約９０体積％が、上記の範囲内の寸法を有し得る。

[0032]また、好適な無機繊維としては、ネオシリケート、ソロシリケート、イノシリケート（例えば、珪灰石のようなカルシウムイノシリケート；トレモライトのようなカルシウムマグネシウムイノシリケート；アクチノライトのようなカルシウムマグネシウム鉄イノシリケート；アントフィライトのようなマグネシウム鉄イノシリケート；など）、フィロシリケート（例えば、パリゴルスカイトのようなアルミニウムフィロシリケート）、テクトシリケートなどのようなシリケート；硫酸カルシウムのような硫酸塩（例えば、脱水又は無水石膏）；ミネラルウール（例えば、ロックウール又はスラグウール）；などを由来とするものが挙げられる。Nyco MineralsからNyglos（登録商標）（例えば、Nyglos（登録商標）4W又はNyglos（登録商標）8）の商品名で商業的に入手できる珪灰石（４．５～５．０のモース硬度）のようなイノシリケート由来の繊維などの所望の硬度値を有する繊維が特に好適である。無機繊維は、約１～約３５マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約２～約２０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約３～約１５マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約７～約１２マイクロメートルのメジアン幅（例えば直径）を有していてよい。無機繊維はまた、狭い寸法分布を有していてよい。即ち、繊維の少なくとも約６０体積％、幾つかの実施形態においては繊維の少なくとも約７０体積％、幾つかの実施形態においては繊維の少なくとも約８０体積％が、上記の範囲内の寸法を有していてよい。理論によって限定されることは意図しないが、上記の寸法特性を有する無機繊維は、成形装置を通ってより容易に移動することができ、これによりポリマーマトリクス内の分布が増大し、表面欠陥の生成が最小になると考えられる。上記の寸法特性を有することに加えて、無機繊維はまた、得られるポリマー組成物の機械特性及び表面品質を更に向上させるのを助ける比較的高いアスペクト比（平均長さをメジアン幅で割った値）を有していてよい。例えば、無機繊維は、約２～約１００、幾つかの実施形態においては約２～約５０、幾つかの実施形態においては約３～約２０、幾つかの実施形態においては約４～約１５のアスペクト比を有していてよい。かかる無機繊維の体積平均長さは、例えば、約１～約２００マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約２～約１５０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約５～約１００マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１０～約５０マイクロメートルの範囲であってよい。

Ｃ．随意的な成分
ｉ.ガラス繊維
[0033]本発明の１つの有益な態様は、得られる部品の寸法安定性に悪影響を及ぼすことなく良好な機械的特性を達成することができることである。この寸法安定性を確実に維持することを助けるために、ポリマー組成物はガラス繊維のような従来の繊維状フィラーを実質的に含まないままであることが一般に望ましい。したがって、もし使用するとしても、ガラス繊維は、通常は、ポリマー組成物の約１０重量％以下、幾つかの実施形態においては約５重量％以下、幾つかの実施形態においては約０．００１重量％～約３重量％を構成する。

ｉｉ．耐衝撃性改良剤
[0034]所望であれば、ポリマー組成物の衝撃強度及び柔軟性を改良するのを助けるために、ポリマー組成物中において耐衝撃性改良剤を使用することができる。使用する場合、耐衝撃性改良剤は、通常は、ポリマーマトリクス１００重量部当たりの重量部で約０．１～約２０部、幾つかの実施形態においては約０．５～約１５部、幾つかの実施形態においては約１～約１０部を構成する。例えば、耐衝撃性改良剤は、ポリマー組成物の約０．１重量％～約１５重量％、幾つかの実施形態においては約０．２重量％～約１２重量％、及び幾つかの実施形態においては約０．５重量％～約１０重量％を構成し得る。

[0035]例えば幾つかの実施形態においては、耐衝撃性改良剤は、１種類以上のα－オレフィンから誘導されるオレフィン性モノマー単位を含むポリマーであってよい。かかるモノマーの例としては、例えば、２～２０個の炭素原子、通常は２～８個の炭素原子を有する直鎖及び／又は分枝α－オレフィンが挙げられる。具体例としては、エチレン、プロピレン、１－ブテン；３－メチル－１－ブテン；３，３－ジメチル－１－ブテン；１－ペンテン；１以上のメチル、エチル、又はプロピル置換基を有する１－ペンテン；１以上のメチル、エチル、又はプロピル置換基を有する１－ヘキセン；１以上のメチル、エチル、又はプロピル置換基を有する１－ヘプテン；１以上のメチル、エチル、又はプロピル置換基を有する１－オクテン；１以上のメチル、エチル、又はプロピル置換基を有する１－ノネン；エチル、メチル、又はジメチル置換１－デセン；１－ドデセン；及びスチレンが挙げられる。特に望ましいα－オレフィンモノマーは、エチレン及びプロピレンである。オレフィンポリマーは、当該技術において公知の他のモノマー単位を含むコポリマーの形態であってよい。例えば、別の好適なモノマーとしては、アクリル及びメタクリルモノマー、並びにその塩又はエステル、例えばアクリレート及びメタクリレートモノマーを包含する「（メタ）アクリル」モノマーを挙げることができる。かかる（メタ）アクリルモノマーの例としては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ－プロピルアクリレート、ｉ－プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、s－ブチルアクリレート、ｉ－ブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、ｎ－アミルアクリレート、ｉ－アミルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ｎ－ヘキシルアクリレート、２－エチルブチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、ｎ－デシルアクリレート、メチルシクロヘキシルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、２－ヒドロキシエチルメタクリレート、ｎ－プロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、ｉ－プロピルメタクリレート、ｉ－ブチルメタクリレート、ｎ－アミルメタクリレート、ｎ－ヘキシルメタクリレート、ｉ－アミルメタクリレート、ｓ－ブチルメタクリレート、ｔ－ブチルメタクリレート、２－エチルブチルメタクリレート、メチルシクロヘキシルメタクリレート、シンナミルメタクリレート、クロチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロペンチルメタクリレート、２－エトキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレートなど、及びこれらの組み合わせを挙げることができる。例えば一実施形態においては、耐衝撃性改良剤は、エチレンメタクリル酸コポリマー（ＥＭＡＣ）であってよい。使用する場合、モノマー成分の相対割合は選択的に制御することができる。例えば、α－オレフィンモノマーは、コポリマーの約５５重量％～約９５重量％、幾つかの実施形態においては約６０重量％～約９０重量％、幾つかの実施形態においては約６５重量％～約８５重量％を構成し得る。他のモノマー成分（例えば、（メタ）アクリルモノマー）は、コポリマーの約５重量％～約３５重量％、幾つかの実施形態においては約１０重量％～約３２重量％、幾つかの実施形態においては約１５重量％～約３０重量％を構成し得る。

[0036]他の好適なオレフィンコポリマーは、平均して分子当たり２以上のエポキシ官能基を含むという点で「エポキシ官能化」されたものであってよい。コポリマーはまた、エポキシ官能性モノマー単位を含み得る。かかる単位の一例は、エポキシ官能性（メタ）アクリルモノマー成分である。例えば、好適なエポキシ官能性（メタ）アクリルモノマーとしては、グリシジルアクリレート及びグリシジルメタクリレートのような１，２－エポキシ基を含むものを挙げることができるが、これらに限定されない。他の好適なエポキシ官能性モノマーとしては、アリルグリシジルエーテル、グリシジルエチルアクリレート、及びグリシジルイタコネートが挙げられる。また、所望の分子量を達成するのを助けるために、他の好適なモノマーを使用することもできる。例えば１つの特定の実施形態においては、コポリマーは、エポキシ官能性（メタ）アクリルモノマー成分、α－オレフィンモノマー成分、及び非エポキシ官能性（メタ）アクリルモノマー成分から形成されるターポリマーであってよい。コポリマーは、例えばポリ（エチレン－ｃｏ－ブチルアクリレート－ｃｏ－グリシジルメタクリレート）であってよい。使用する場合、１種類又は複数のエポキシ官能性（メタ）アクリルモノマーは、通常は、コポリマーの約１重量％～約２０重量％、幾つかの実施形態においては約２重量％～約１５重量％、幾つかの実施形態においては約３重量％～約１０重量％を構成する。

ｉｉｉ．エポキシ樹脂
[0037]幾つかの実施形態においては、例えばポリマー組成物の形成中に芳香族ポリマー（例えば、液晶ポリマー及び半結晶質芳香族ポリエステル）のブレンドが一緒に反応する程度を最小にするために、エポキシ樹脂を使用することもできる。使用する場合、エポキシ樹脂は、通常は、ポリマーマトリクス１００部当たりの重量基準で約０．０１～約５部、幾つかの実施形態においては約０．０５～約４部、幾つかの実施形態においては約０．１～約２部を構成する。例えば、エポキシ樹脂は、ポリマー組成物の約０．０１重量％～約５重量％、幾つかの実施形態においては約０．１重量％～約４重量％、幾つかの実施形態においては約０．３重量％～約２重量％を構成し得る。

[0038]エポキシ樹脂は、ポリマー組成物中において使用するのに特に有効であり得る特定のエポキシ当量を有する。即ち、エポキシ当量は、一般に、ＡＳＴＭ－Ｄ１６５２－１１ｅ１にしたがって求めて約２５０～約１，５００、幾つかの実施形態においては約４００～約１，０００、幾つかの実施形態においては約５００～約８００グラム／グラム当量である。エポキシ樹脂はまた、通常は、平均して分子あたり少なくとも約１．３、幾つかの実施形態においては約１．６～約８、幾つかの実施形態においては約３～約５のエポキシド基を含む。エポキシ樹脂はまた、通常は、２５℃の温度においてＡＳＴＭ－Ｄ４４５－１５にしたがって求めて、約１センチポアズ～約２５センチポアズ、幾つかの実施形態においては２センチポアズ～約２０センチポアズ、幾つかの実施形態においては約５センチポアズ～約１５センチポアズのような比較的低い動粘度を有する。室温（２５℃）においては、エポキシ樹脂はまた、通常は約５０℃～約１２０℃、幾つかの実施形態においては約６０℃～約１１０℃、幾つかの実施形態においては約７０℃～約１００℃の融点を有する固体又は半固体材料である。

[0039]エポキシ樹脂は、飽和又は不飽和、直鎖又は分岐、脂肪族、脂環式、芳香族、又は複素環式であってよく、オキシランとの反応を実質的に妨害しない置換基を有していてよい。好適なエポキシ樹脂としては、例えば、エピクロロヒドリンを、場合によりアルカリ反応条件下で少なくとも１．５個の芳香族ヒドロキシル基を含むヒドロキシル化合物と反応させることによって調製されるグリシジルエーテル（例えばジグリシジルエーテル）が挙げられる。多官能性化合物が特に好適である。例えば、エポキシ樹脂は、二価フェノールのジグリシジルエーテル、水素化二価フェノールのジグリシジルエーテル、三価フェノールのトリグリシジルエーテル、水素化三価フェノールのトリグリシジルエーテルなどであってよい。二価フェノールのジグリシジルエーテルは、例えば、エピハロヒドリンと二価フェノールとを反応させることによって形成することができる。好適な二価フェノールの例としては、例えば、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）；２，２－ビス－４－ヒドロキシ－３－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）プロパン；１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン；１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）イソブタン；ビス（２－ヒドロキシ－１－ナフチル）メタン；１，５－ジヒドロキシナフタレン；１，１－ビス（４－ヒドロキシ－３－アルキルフェニル）エタンなどが挙げられる。好適な二価フェノールはまた、フェノールとホルムアルデヒドのようなアルデヒドとの反応から得ることもできる（例えば、ビスフェノールＦ）。かかる多官能性エポキシ樹脂の商業的に入手できる例としては、８６２、８２８、８２６、８２５、１００１、１００２、１００９、ＳＵ３、１５４、１０３１、１０５０、１３３、及び１６５の名称でHexionから入手可能なEpon（登録商標）樹脂を挙げることができる。他の好適な多官能性エポキシ樹脂は、Huntsmanから商品名Araldite（登録商標）（例えば、Araldite（登録商標）ECN-1273及びAraldite（登録商標）ECN-1299）で入手可能である。

ｉｖ．静電防止フィラー
[0040]成形操作、輸送、回収、組み立て等の間に静電荷を生成する傾向を減少させるのを助けるために、ポリマー組成物中において静電防止フィラーを使用することもできる。かかるフィラーは、使用する場合、通常はポリマーマトリクス１００重量部当たりの重量基準で約０．１～約２０部、幾つかの実施形態においては約０．２～約１０部、幾つかの実施形態においては約０．５～約５部を構成する。例えば、静電防止フィラーは、ポリマー組成物の約０．１重量％～約１０重量％、幾つかの実施形態においては約０．２重量％～約８重量％、幾つかの実施形態においては約０．５重量％～約４重量％を構成し得る。

[0041]その静電防止特性を改良するのを助けるために、一般にポリマー組成物中において任意の種々の静電防止フィラーを使用することができる。好適な静電防止フィラーの例としては、例えば、金属粒子（例えばアルミニウムフレーク）、金属繊維、炭素粒子（例えば、黒鉛、膨張黒鉛、黒鉛、グラフェン、カーボンブラック、黒鉛化カーボンブラックなど）、カーボンナノチューブ、炭素繊維などを挙げることができる。例えば一実施形態においては、静電防止フィラーはイオン液体であってよい。かかる材料の１つの利点は、静電防止剤であることに加えて、イオン液体は溶融加工中に液体形態で存在することもでき、これにより、ポリマーマトリクス内でより均一にブレンドすることができることである。これにより、電気的接続性が改善され、それにより、組成物がその面から静電荷を迅速に放散する能力が向上する。イオン液体は、一般に、液晶ポリマーと共に溶融処理した場合に液体の形態となることができるように十分に低い溶融温度を有する塩である。例えば、イオン液体の溶融温度は、約４００℃以下、幾つかの実施形態においては約３５０℃以下、幾つかの実施形態においては約１℃～約１００℃、幾つかの実施形態においては約５℃～約５０℃であってよい。塩は、カチオン種及び対イオンを含む。カチオン種は、「カチオン中心」として少なくとも１つのヘテロ原子（例えば、窒素又はリン）を有する化合物を含む。かかるヘテロ原子化合物の例としては、例えば、以下の構造：

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は、独立して、水素；置換又は非置換のＣ_１～Ｃ_１０アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル等）；置換又は非置換のＣ_３～Ｃ_１４シクロアルキル基（例えば、アダマンチル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロオクチル、シクロヘキセニル等）；置換又は非置換のＣ_１～Ｃ_１０アルケニル基（例えば、エチレン、プロピレン、２－メチルプロピレン、ペンチレン等）；置換又は非置換のＣ_２～Ｃ_１０アルキニル基（例えば、エチニル、プロピニル等）；置換又は非置換のＣ_１～Ｃ_１０アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ－プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ－ブトキシ、ｔ－ブトキシ、ｓｅｃ－ブトキシ、ｎ－ペントキシ等）；置換又は非置換のアシルオキシ基（例えば、メタクリロキシ、メタクリロキシエチル等）；置換又は非置換のアリール基（例えばフェニル）；置換又は非置換のヘテロアリール基（例えば、ピリジル、フラニル、チエニル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリル、イミダゾリル、イソキサゾリル、ピロリル、ピラゾリル、ピリダジニル、ピリミジニル、キノリル等）；などからなる群から選択される）
を有する第四級オニウムが挙げられる。例えば１つの特定の実施形態においては、カチオン種は、構造：Ｎ^＋Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｒ^４（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、及び／又はＲ^３は、独立してＣ_１～Ｃ_６アルキル（例えば、メチル、エチル、ブチル等）であり、Ｒ^４は、水素又はＣ_１～Ｃ_４アルキル基（例えばメチル又はエチル）である）を有するアンモニウム化合物であってよい。例えば、カチオン成分は、トリブチルメチルアンモニウム（Ｒ^１、Ｒ^２、及びＲ^３はブチルであり、Ｒ^４はメチルである）であってよい。

[0042]カチオン種に対する好適な対イオンとしては、例えば、ハロゲン（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等）；スルフェート又はスルホネート（例えば、硫酸メチル、硫酸エチル、硫酸ブチル、硫酸ヘキシル、硫酸オクチル、ハイドロジェンスルフェート、メタンスルホネート、ドデシルベンゼンスルホネート、ドデシルスルフェート、トリフルオロメタンスルホネート、ヘプタデカフルオロオクタンスルホネート、ナトリウムドデシルエトキシスルフェート等）；スルホスクシネート；アミド（例えばジシアンアミド）；イミド（例えば、ビス（ペンタフルオロエチル－スルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチル）イミド等）；ボレート（例えば、テトラフルオロボレート、テトラシアノボレート、ビス［オキサラト］ボレート、ビス［サリチラト］ボレート等）；ホスフェート又はホスフィネート（例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ジエチルホスフェート、ビス（ペンタフルオロエチル）ホスフィネート、トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、トリス（ノナフルオロブチル）トリフルオロホスフェート等）；アンチモネート（例えばヘキサフルオロアンチモネート）；アルミネート（例えばテトラクロロアルミネート）；脂肪酸カルボキシレート（例えば、オレエート、イソステアレート、ペンタデカフルオロオクタノエート等）；シアネート；アセテート；など、並びに上記の任意のものの組み合わせを挙げることができる。液晶ポリマーとの相溶性を改善するのを助けるために、イミド、脂肪酸カルボキシレート等のような本来概して疎水性の対イオンを選択することが望ましい場合がある。特に好適な疎水性対イオンとしては、例えば、ビス（ペンタフルオロエチルスルホニル）イミド、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）イミド、及びビス（トリフルオロメチル）イミドを挙げることができる。

ｖ.トライボロジー剤(tribological formulation)
[0043]また、通常は、ポリマー組成物中において使用される１種類又は複数の芳香族ポリマー１００部当たり約１～約３０部、幾つかの実施形態においては約２～約１５部、幾つかの実施形態においては約４～約１２部の量のトライボロジー剤も、ポリマー組成物中において使用することができる。例えば、トライボロジー剤は、ポリマー組成物の約１重量％～約３０重量％、幾つかの実施形態においては約２重量％～約２５重量％、及び幾つかの実施形態においては約４重量％～約１０重量％を構成し得る。

[0044]トライボロジー剤には、内部潤滑性を改善し、他の表面に接触する組成物の摩耗及び摩擦特性を強化するのにも役立つシロキサンポリマーを含ませることができる。かかるシロキサンポリマーは、通常は組成物中において使用される１種類又は複数の芳香族ポリマー１００部当たり約０．１～約２０部、幾つかの実施形態においては約０．４～約１０部、幾つかの実施形態においては約０．５～約５部を構成する。トライボロジー剤において、任意の種々のシロキサンポリマーを使用することができる。シロキサンポリマーは、例えば、主鎖中に式：
Ｒ_ｒＳｉＯ_{（４－ｒ／２）}
（式中、
Ｒは、独立して水素又は置換若しくは非置換の炭化水素基であり、
ｒは、０、１、２、又は３である）
を有するシロキサン単位を含む任意のポリマー、コポリマー、又はオリゴマーを包含し得る。

[0045]好適な基Ｒの幾つかの例としては、例えば、場合によって置換されているアルキル、アリール、アルキルアリール、アルケニル、又はアルキニル、或いはシクロアルキル基が挙げられ、これらはヘテロ原子が介在していてもよく、すなわち炭素鎖又は環中に１つ又は複数のヘテロ原子を含んでいてもよい。好適なアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル及びｔｅｒｔ－ペンチル基、ヘキシル基（例えばｎ－ヘキシル）、ヘプチル基（例えばｎ－ヘプチル）、オクチル基（例えばｎ－オクチル）、イソオクチル基（例えば２，２，４－トリメチルペンチル基）、ノニル基（例えばｎ－ノニル）、デシル基（例えばｎ－デシル）、ドデシル基（例えばｎ－ドデシル）、オクタデシル基（例えばｎ－オクタデシル）などを挙げることができる。また、好適なシクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基などを挙げることができ；好適なアリール基としては、フェニル、ビフェニル、ナフチル、アントリル、及びフェナントリル基を挙げることができ；好適なアルキルアリール基としては、はｏ－、ｍ－、又はｐ－トリル基、キシリル基、エチルフェニル基などを挙げることができ；好適なアルケニル又はアルキニル基としては、ビニル、１－プロペニル、１－ブテニル、１－ペンテニル、５－ヘキセニル、ブタジエニル、ヘキサジエニル、シクロペンテニル、シクロペンタジエニル、シクロヘキセニル、エチニル、プロパルギル、１－プロピニルなどを挙げることができる。置換炭化水素基の例は、ハロゲン化アルキル基（例えば、３－クロロプロピル、３，３，３－トリフルオロプロピル、及びペルフルオロヘキシルエチル）、及びハロゲン化アリール基（例えば、ｐ－クロロフェニル、及びｐ－クロロベンジル）である。１つの特定の実施形態においては、シロキサンポリマーは、Ｓｉ原子の少なくとも７０モル％に結合したアルキル基（例えばメチル基）、及び場合によってはＳｉ原子の０．００１～３０モル％に結合したビニル及び／又はフェニル基を含む。シロキサンポリマーはまた、好ましくは主としてジオルガノシロキサン単位から構成される。ポリオルガノシロキサンの末端基は、トリアルキルシロキシ基、特にトリメチルシロキシ基、又はジメチルビニルシロキシ基であってよい。しかしながら、これらのアルキル基の１つ以上が、ヒドロキシ基、又はメトキシ又はエトキシ基のようなアルコキシ基で置換されていることもあり得る。シロキサンポリマーの特に好適な例としては、例えば、ジメチルポリシロキサン、フェニルメチルポリシロキサン、ビニルメチルポリシロキサン、及びトリフルオロプロピルポリシロキサンが挙げられる。

[0046]シロキサンポリマーはまた、ポリマーのシロキサンモノマー単位の少なくとも一部の上に、ビニル基、ヒドロキシル基、ヒドリド、イソシアネート基、エポキシ基、酸基、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、及びプロポキシ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ、及びオクタノイルオキシ）、ケトキシメート基（例えば、ジメチルケトキシム、メチルケトキシム、及びメチルエチルケトキシム）、アミノ基（例えば、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、及びブチルアミノ）、アミド基（例えば、Ｎ－メチルアセトアミド、及びＮ－エチルアセトアミド）、酸アミド基、アミノ－オキシ基、メルカプト基、アルケニルオキシ基（例えば、ビニルオキシ、イソプロペニルオキシ、及び１－エチル－２－メチルビニルオキシ）、アルコキシアルコキシ基（例えば、メトキシエトキシ、エトキシエトキシ、及びメトキシプロポキシ）、アミノオキシ基（例えば、ジメチルアミノオキシ、及びジエチルアミノオキシ）、メルカプト基などの１以上のような反応性官能基を含んでいてもよい。

[0047]その特定の構造にかかわらず、シロキサンポリマーは比較的高い分子量を有していてよく、これによりそれがポリマー組成物の表面に移動又は拡散する傾向が減少し、したがって相分離の可能性が更に最小になる。例えば、シロキサンポリマーは、通常は、約１００，０００グラム／モル以上、幾つかの実施形態においては約２００，０００グラム／モル以上、幾つかの実施形態においては約５００，０００グラム／モル～約２，０００，０００グラム／モルの重量平均分子量を有する。シロキサンポリマーはまた、約１０，０００センチストークス以上、幾つかの実施形態においては約３０，０００センチストークス以上、幾つかの実施形態においては約５０，０００～約５００，０００センチストークスのような比較的高い動粘度を有していてもよい。

[0048]所望であれば、シリカ粒子（例えばヒュームドシリカ）をシロキサンポリマーと組み合わせて用いて、組成物中に分散するその能力の向上を助けることもできる。かかるシリカ粒子は、例えば、約５ナノメートル～約５０ナノメートルの粒径、約５０平方メートル／グラム（ｍ^２／ｇ）～約６００ｍ^２／ｇの表面積、及び／又は約１６０キログラム／立方メートル（ｋｇ／ｍ^３）～約１９０ｋｇ／ｍ^３の密度を有していてよい。使用する場合には、シリカ粒子は、通常はシロキサンポリマー１００重量部を基準とする重量基準で約１～約１００部、幾つかの実施形態においては約２０～約６０部を構成する。一実施形態においては、シリカ粒子は、シロキサンポリマーと混合した後に、この混合物をポリマー組成物に加えることができる。例えば、超高分子量ポリジメチルシロキサン及びヒュームドシリカを含む混合物をポリマー組成物中に導入することができる。かかる予め形成された混合物は、Wacker Chemie, AGからGenioplast（登録商標）ペレットSとして入手できる。

[0049]トライボロジー剤にはまた、得られるポリマー組成物が低い摩擦と良好な耐摩耗性との良好な組合せを達成するのを助けることができる他の成分を含ませることもできる。例えば一実施形態においては、トライボロジー剤は、シロキサンポリマーと組み合わせてフッ素化添加剤を使用することができる。理論によって限定されることは意図しないが、フッ素化添加剤は、中でも、より良好な金型充填性、内部潤滑、離型性など与えることなどによって組成物の加工性を改善することができると考えられる。使用する場合、シロキサンポリマーに対するフッ素化添加剤の重量比は、通常は約０．５～約１２、幾つかの実施形態においては約０．８～約１０、幾つかの実施形態においては約１～約６である。例えば、フッ素化添加剤は、組成物中において使用される１種類又複数の芳香族ポリマー１００部当たり約０．１～約２０部、幾つかの実施形態においては約０．５～約１５部、幾つかの実施形態においては約１～約１０部を構成し得る。

[0050]特定の実施形態においては、フッ素化添加剤には、水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換された炭化水素骨格ポリマーを含むフルオロポリマーを含ませることができる。骨格ポリマーはポリオレフィン性であってよく、フッ素置換の不飽和オレフィンモノマーから形成することができる。フルオロポリマーは、かかるフッ素置換モノマーのホモポリマー、又はフッ素置換モノマーのコポリマー、或いはフッ素置換モノマーと非フッ素置換モノマーの混合物であってよい。フッ素原子に加えて、フルオロポリマーは、塩素及び臭素原子のような他のハロゲン原子で置換されていてもよい。本発明において使用するためのフルオロポリマーを形成するのに好適な代表的なモノマーは、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、ペルフルオロエチルビニルエーテル、ペルフルオロメチルビニルエーテル、ペルフルオロプロピルビニルエーテルなど、並びにそれらの混合物である。好適なフルオロポリマーの具体例としては、ポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルキルビニルエーテル、ポリ（テトラフルオロエチレン－ｃｏ－ペルフルオロアルキルビニルエーテル）、フッ素化エチレン－プロピレンコポリマー、エチレン－テトラフルオロエチレンコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなど、並びにそれらの混合物が挙げられる。

[0051]フッ素化添加剤にはフルオロポリマーのみを含ませることができ、又はポリマー組成物内に均一に分散するその能力を助けるもののような他の成分を含ませることができる。例えば一実施形態においては、フッ素化添加剤に、複数の担体粒子と組み合わせてフルオロポリマーを含ませることができる。例えばかかる実施形態においては、フルオロポリマーを担体粒子上に被覆することができる。タルク（Ｍｇ_３Ｓｉ_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、ハロイサイト（Ａｌ_２Ｓｉ_２Ｏ_５（ＯＨ）_４）、カオリナイト（Ａｌ_２Ｓｉ_２Ｏ_５（ＯＨ）_４）、イライト（（Ｋ，Ｈ_３Ｏ）（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）_２（Ｓｉ，Ａｌ）_４Ｏ_１０［（ＯＨ）_２，（Ｈ_２Ｏ）］、モンモリロナイト（Ｎａ，Ｃａ）_０．３３（Ａｌ，Ｍｇ）_２Ｓｉ_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２・ｎＨ_２Ｏ）、バーミキュライト（（ＭｇＦｅ，Ａｌ）_３（Ａｌ，Ｓｉ）_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２・４Ｈ_２Ｏ）、パリゴルスカイト（（Ｍｇ，Ａｌ）_２Ｓｉ_４Ｏ_１０（ＯＨ）・４（Ｈ_２Ｏ））、パイロフィライト（Ａｌ_２Ｓｉ_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、マイカ、珪藻土、珪灰石などのようなシリケート粒子が、この目的のために特に好適である。例えば、マイカは本発明において用いるのに特に好適な鉱物である可能性がある。地質学的存在状態における相当な相違を有する幾つかの化学的に異なるマイカ種が存在するが、全て実質的に同じ結晶構造を有する。本明細書において用いる「マイカ」という用語は、モスコバイト（ＫＡｌ_２（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、バイオタイト（Ｋ（Ｍｇ，Ｆｅ）_３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、フロゴパイト（ＫＭｇ_３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、レピドライト（Ｋ（Ｌｉ，Ａｌ）_２～３（ＡｌＳｉ_３）Ｏ_１０（ＯＨ）_２）、グローコナイト（Ｋ，Ｎａ）（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）_２（Ｓｉ，Ａｌ）_４Ｏ_１０（ＯＨ）_２）など、並びにこれらの組み合わせのような任意のこれらの種を総称的に包含すると意図される。担体粒子は、約５～約５０マイクロメートル、幾つかの実施形態においては約１０～２０マイクロメートルの平均粒径を有し得る。所望の場合には、担体粒子はまた、その厚さに対する長軸の比が２以上であるという点で、板状粒子の形状であってもよい。

ｖｉ．他の添加剤
[0052]また、滑剤、熱伝導性フィラー、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、難燃剤、垂れ防止添加剤、成核剤（例えば窒化ホウ素）、並びに特性及び加工性を高めるために添加される他の材料のような広範囲の更なる添加剤をポリマー組成物中に含ませることもできる。例えば、実質的に分解することなく液晶ポリマーの加工条件に耐えることができる滑剤を、ポリマー組成物中において用いることができる。かかる滑剤の例としては、脂肪酸エステル、その塩、エステル、脂肪酸アミド、有機ホスフェートエステル、及びエンジニアリングプラスチック材料の処理において滑剤として通常用いられているタイプの炭化水素ワックス、並びにこれらの混合物が挙げられる。好適な脂肪酸は、通常は、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸、モンタン酸、オクタデカン酸、パリナリン酸などのように、約１２～約６０個の炭素原子の骨格炭素鎖を有する。好適なエステルとしては、脂肪酸エステル、脂肪アルコールエステル、ワックスエステル、グリセロールエステル、グリコールエステル、及びコンプレックスエステルが挙げられる。脂肪酸アミドとしては、脂肪酸第１級アミド、脂肪酸第２級アミド、メチレン及びエチレンビスアミド、並びにアルカノールアミド、例えば、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、オレイン酸アミド、Ｎ，Ｎ’－エチレンビスステアラミドなどが挙げられる。また、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムなどのような脂肪酸の金属塩；パラフィンワックス、ポリオレフィン及び酸化ポリオレフィンワックス、並びに微結晶質ワックスなどの炭化水素ワックス；も好適である。特に好適な滑剤は、ステアリン酸の酸、塩、又はアミド、例えばペンタエリトリトールテトラステアレート、カルシウムステアレート、又はＮ，Ｎ’－エチレンビスステアラミドである。用いる場合には、１種類又は複数の滑剤は、通常は、ポリマー組成物の約０．０５重量％～約１．５重量％、幾つかの態様においては約０．１重量％～約０．５重量％（重量基準）を構成する。

ＩＩ．形成
[0053]ポリマー組成物の成分（例えば、１種類又複数の液晶ポリマー、１種類又複数の無機フィラーなど）は、溶融加工又は一緒にブレンドすることができる。成分は、バレル（例えば円筒形のバレル）内に回転可能に取り付けられてその中に収容されている少なくとも１つのスクリューを含み、スクリューの長さに沿って供給セクション、及び供給セクションから下流に位置する溶融セクションを画定する押出機に、別々か又は組み合わせて供給することができる。押出機は、一軸又は二軸押出機であってよい。スクリューの速度は、所望の滞留時間、剪断速度、溶融加工温度などを達成するように選択することができる。例えば、スクリュー速度は、約５０～約８００回転／分（ｒｐｍ）、幾つかの実施形態においては約７０～約１５０ｒｐｍ、幾つかの実施形態においては約８０～約１２０ｒｐｍの範囲であってよい。また、溶融ブレンド中のみかけ剪断速度は、約１００秒^－１～約１０，０００秒^－１、幾つかの実施形態においては約５００秒^－１～約５０００秒^－１、幾つかの実施形態においては約８００秒^－１～約１２００秒^－１の範囲であってよい。みかけせん断速度は、４Ｑ／πＲ^３（式中、Ｑはポリマー溶融体の体積流量（ｍ^３／秒）であり、Ｒはそれを通って溶融ポリマーが流れる毛細管（例えば押出機ダイ）の半径（ｍ）である）に等しい。

ＩＩＩ．カメラモジュール
[0054]上記に示したように、本発明のポリマー組成物はカメラモジュールにおいて使用することができる。通常は、カメラモジュールは、１以上のレンズを含むレンズモジュールがその中に配置されているハウジングを含む。しかしながら、カメラモジュールの特定の構造は、当業者に公知なように変更することができる。

[0055]例えば図１を参照すると、ハウジング内に含まれるレンズモジュール１２０を含み、レンズモジュール１２０はレンズホルダー１２３に結合されたレンズバレル１２１を含むカメラモジュール１００の一実施形態が示されている。レンズバレル１２１は、対象物を結像させるための複数のレンズを光学軸方向１でその中に収容することができるように、中空の円筒形状を有していてよい。レンズバレル１２１は、レンズホルダー１２３内に与えられた中空キャビティ中に挿入され、レンズバレル１２１及びレンズホルダー１２３は、締結具（例えばネジ）、接着剤などによって互いに結合することができる。レンズバレル１２１を含むレンズモジュール１２０は、アクチュエータアセンブリ１５０によって、（例えばオートフォーカスのために）光学軸方向１において移動可能であってよい。例えば示されている実施形態においては、アクチュエータアセンブリ１５０には、レンズモジュール１２０を光学軸方向１に移動させるように構成されている磁性体１５１及びコイル１５３を含ませることができる。磁性体１５１はレンズホルダー１２３の一方の側の上に取り付けることができ、コイル１５３は磁性体１５１に面するように配置することができる。コイル１５３は、基材１５５上に取り付けることができ、これは次に、コイル１５３が磁性体１５１に面するようにハウジング１３０に取り付けることができる。アクチュエータアセンブリ１５０には、基材１５５上に取り付けられ、制御入力信号に応じてアクチュエータアセンブリ１５０を駆動するための信号（例えば電流）を出力する駆動装置１６０を含ませることができる。アクチュエータアセンブリ１５０は、信号を受け取り、レンズモジュール１２０を光学軸方向１において移動させる駆動力を生成することができる。所望の場合、光学軸方向１におけるレンズモジュール１２０の移動距離を制限するために、ハウジング１３０上にストッパー１４０を取り付けることもできる。更に、シールドケース１１０（例えば金属）をハウジング１３０に結合させて、ハウジング１３０の外表面を被包して、これによりカメラモジュール１００の駆動中に発生する電磁波を遮断することもできる。

[0056]アクチュエータアセンブリにはまた、レンズモジュールの移動を導くのを助けるためにハウジングとレンズモジュールとの間に配置されるガイドユニットを含ませることもできる。１つ又は複数のばね、１つ又は複数のボールベアリング、静電力発生器、油圧力発生器などのような当該技術において公知の任意の種々のガイドユニットを使用することができる。例えば、レンズモジュールに作用し、それを所望の光学軸方向に導く予荷重を生成するバネを使用することができる。或いは、図１に示される実施形態において示されるように、ボールベアリング１７０をアクチュエータアセンブリ１５０のガイドユニットとして機能させることができる。より具体的には、ボールベアリング１７０をレンズホルダー１２３の外表面及びハウジング１３０の内表面と接触させて、レンズモジュール１２０の光学軸方向１における移動を導くことができる。即ち、ボールベアリング１７０をレンズホルダー１２３とハウジング１３０との間に配置することができ、転動によってレンズモジュール１２０の光学軸方向の移動を導くことができる。この目的のために、一般に、２以上、幾つかの実施形態においては３～２０、幾つかの実施形態においては４～１２のような任意の数のボールベアリング１７０を使用することができる。ボールベアリング１７０は、間隙を有しているか又は互いに接触していてよく、また、光学軸方向１に対して垂直な方向に積層することもできる。ボールベアリング１７０の寸法は、当業者に公知なように変更することができる。例えば、ボールベアリングは、約８００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約６００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約４００マイクロメートル以下、幾つかの実施形態においては約５０～約２００マイクロメートルの平均寸法（例えば直径）を有し得る。

[0057]特に、本発明のポリマー組成物は、カメラモジュールの任意の種々の部品において使用することができる。例えば再び図１を参照すると、本ポリマー組成物を使用して、ガイドユニット（例えばボールベアリング１７０）、ハウジング１３０、レンズバレル１２１、レンズホルダー１２３、基材１５５、ストッパー１４０、シールドケース１１０、及び／又はカメラモジュールの任意の他の部分の全部又は一部を形成することができる。これとは関係なく、１つ又は複数の所望の部品は、種々の異なる技術を使用して形成することができる。好適な技術としては、例えば、射出成形、低圧射出成形、押出圧縮成形、ガス射出成形、フォーム射出成形、低圧ガス射出成形、低圧フォーム射出成形、ガス押出圧縮成形、フォーム押出圧縮成形、押出成形、フォーム押出成形、圧縮成形、フォーム圧縮成形、ガス圧縮成形などを挙げることができる。例えば、その中でポリマー組成物を射出することができる金型を含む射出成形システムを使用することができる。インジェクター内部の時間は、ポリマーマトリクスが早期に固化しないように制御及び最適化することができる。サイクル時間に達して、バレルが排出のために満杯になった時点で、ピストンを使用して組成物を金型キャビティに射出することができる。圧縮成形システムを使用することもできる。射出成形と同様に、ポリマー組成物の所望の物品への成形も金型内で行われる。組成物は任意の公知の技術を使用して、例えば自動化ロボットアームによって取り上げることによって圧縮金型中に配置することができる。金型の温度は、固化を可能にするために、所望の時間、ポリマーマトリクスの固化温度以上に維持することができる。次に、成形品を融点より低い温度にすることによって、成形品を固化させることができる。得られた生成物を離型することができる。それぞれの成形プロセスに関するサイクル時間は、ポリマーマトリクスに適合するように、十分な結合を達成するように、及びプロセス全体の生産性を高めるように調整することができる。

[0058]得られるカメラモジュールは、当該技術において公知な広範囲の電子機器において、例えば携帯電子機器（例えば、携帯電話、携帯コンピュータ、タブレット、時計など）、コンピュータ、テレビ、自動車部品などにおいて使用することができる。１つの特定の実施形態においては、本ポリマー組成物は、無線通信機器（例えば携帯電話）において一般的に使用されるもののようなカメラモジュールにおいて使用することができる。例えば図２～３を参照すると、カメラモジュール１００を含む電子機器２（例えば電話）の一実施形態が示されている。示すように、カメラモジュール１００のレンズを、開口部２ｂを通して電子機器２の外部に曝露して、外部の対象物を撮像することができる。また、カメラモジュール１００を、特定用途向け集積回路２ｃに電気的に接続して、ユーザの選択に応じて制御動作を実行することができる。

[0059]本発明は以下の実施例を参照することにより、より良く理解することができる。
試験方法
[0060]摩擦及び摩耗： SSP-03機を使用し、ＶＤＡ－２３０－２０６：２００７（スティックスリップ試験）にしたがって求める平均動摩擦係数（無次元）によって、試料によって発生する摩擦の程度を特徴付けることができる。また、ＶＤＡ－２３０－２０６：２００７にしたがって、試験試料の摩耗の程度を求めることもできる。より詳しくは、ポリマー生成物を使用して、射出成形プロセスによってボール形状の試験片及びプレート形状の試験片を調製する。ボール試験片は直径０．５インチである。プレート試験片は、引張棒材の２つの端部領域を切断することによって、ＩＳＯ引張棒材の中央部から得られる。プレート試験片を試料ホルダー上に固定し、ボール試験片を、１５０ｍｍ／秒及び１５Ｎの力でプレート試験片と接触させて移動させる。１０００サイクル後、動摩擦係数が得られる。摩耗の深さは、摩耗したボール領域の直径を測定することによって、ボール試験片から得られる。磨耗領域の直径に基づいて、ボール試験片の磨耗深さを計算して求める。

[0061]溶融粘度：溶融粘度（Ｐａ・秒）は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１４４３：２００５にしたがい、Dynisco LCR 7001毛細管流量計を用いて、４００秒^－１の剪断速度、及び融点よりも１５℃高い温度（例えば３０５℃）において求めることができる。流量計のオリフィス（ダイ）は、１ｍｍの直径、２０ｍｍの長さ、２０．１のＬ／Ｄ比、及び１８０°の入口角を有していた。バレルの直径は９．５５ｍｍ＋０．００５ｍｍであり、ロッドの長さは２３３．４ｍｍであった。

[0062]融点：融点（Ｔｍ）は、当該技術において公知なように示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によって求めることができる。融点は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１１３５７－２：２０１３によって求められる示差走査熱量測定（ＤＳＣ）ピーク融解温度である。ＤＳＣ手順においては、TA-Q2000装置上で行うＤＳＣ測定を用いて、ＩＳＯ標準規格１０３５０に示されているように試料を２０℃／分で加熱及び冷却した。

[0063]荷重撓み温度（ＤＴＵＬ）：荷重撓み温度は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．７５－２：２０１３（ＡＳＴＭ－Ｄ６４８－０７と技術的に同等）にしたがって求めることができる。より詳しくは、８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの厚さ、及び４ｍｍの幅を有する試験片試料を、規定荷重（最大外繊維応力）が１．８メガパスカルである沿層方向３点曲げ試験にかけることができる。試験片をシリコーン油浴中に降下させることができ、そこで０．２５ｍｍ（ＩＳＯ試験Ｎｏ．７５－２：２０１３に関しては０．３２ｍｍ）歪むまで温度を２℃／分で上昇させる。

[0064]引張弾性率、引張応力、及び引張伸び：引張特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．５２７：２０１２（ＡＳＴＭ－Ｄ６３８－１４と技術的に同等）にしたがって試験することができる。８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの厚さ、及び４ｍｍの幅を有する同じ試験片試料について、弾性率及び強度の測定を行うことができる。試験温度は２３℃であってよく、試験速度は１又は５ｍｍ／分であってよい。

[0065]曲げ弾性率、曲げ応力、及び曲げ伸び：曲げ特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７８：２０１０（ＡＳＴＭ－Ｄ７９０－１０と技術的に同等）にしたがって試験することができる。この試験は６４ｍｍの支持材スパンに関して行うことができる。試験は、未切断のＩＳＯ－３１６７多目的棒材の中央部分について行うことができる。試験温度は２３℃であってよく、試験速度は２ｍｍ／分であってよい。

[0066]ノッチ無し及びノッチ付きシャルピー衝撃強さ：シャルピー特性は、ＩＳＯ試験Ｎｏ．１７９－１：２０１０（ＡＳＴＭ－Ｄ２５６－１０，方法Ｂと技術的に同等）にしたがって試験することができる。この試験は、タイプ１の試験片寸法（８０ｍｍの長さ、１０ｍｍの幅、及び４ｍｍの厚さ）を用いて行うことができる。ノッチ付き衝撃強さを試験する場合には、ノッチはタイプＡのノッチ（０．２５ｍｍの底半径）であってよい。試験片は、一枚歯フライス盤を用いて多目的棒材の中央部分から切り出すことができる。試験温度は２３℃であってよい。

[0067]ロックウェル硬さ：ロックウェル硬さは材料の押し込み抵抗性の指標であり、ＡＳＴＭ－Ｄ７８５－０８（スケールＭ）にしたがって求めることができる。試験は、まず規定の小荷重を用いて鋼球圧子を材料の表面中に押し込むことによって行う。次に、荷重を規定の大荷重に増加させ、減少させて元の小荷重に戻す。ロックウェル硬さは、圧子の深さの正味の増加分の指標であり、貫入量を目盛分割で割った値を１３０から減じることによって計算される。

[0068]表面／体積抵抗率：表面及び体積抵抗率の値は、一般にＩＥＣ－６００９３（ＡＳＴＭ－Ｄ２５７－０７と同等）にしたがって求められる。この手順によると、標準試験片（例えば１メートル立方）を２つの電極の間に配置する。電圧を６０秒間印加し、抵抗を測定する。表面抵抗率は、電位勾配（Ｖ／ｍ）と単位電極長さあたりの電流（Ａ／ｍ）との商であり、概して絶縁材料の表面に沿った漏れ電流に対する抵抗を表す。電極の４つの端が正方形を画定するので、商において長さは約分されて表面抵抗率はΩで報告されるが、Ω／スクエアのより説明的な単位を見ることも通常的である。体積抵抗率もまた、電流密度に対する材料において電流に平行な電位勾配の比として求められる。ＳＩ単位においては、体積抵抗率は１メートル立方の材料の対向面の間の直流抵抗（Ω・ｍ）に数値的に等しい。

[0069]ボールへこみ試験：物理的な力に耐える材料の能力を試験するために、「ボールへこみ」試験を行うことができる。より具体的には、試料組成物を、４０ｍｍの幅及び長さ並びに２ｍｍの厚さを有する試験片に射出成形することができる。０．２ｍｍのような他の厚さも試験することができる。形成したら、金属ボール（直径１．５ｍｍ）を、試験片の上面から１０ｃｍ又は１５ｃｍの距離から１回落下させることができる。３５グラム、５０グラム、及び７５グラムのような種々のボール重量を試験することができる。ボールが試験片に接触した後、Keyence製の画像測定センサーを使用して、試験片中に形成されたへこみの深さ及び直径を測定する。

[0070]ミニドロップ試験：物理的な力に耐える材料の能力を試験するための別の技術は、「ミニドロップ」試験である。より具体的には、試料組成物を、４０ｍｍの幅及び長さ並びに２ｍｍの厚さを有する試験片に射出成形することができる。０．２ｍｍのような他の厚さも試験することができる。形成したら、金属ボール（直径１．５ｍｍ、５グラム）を、試験片の上面から１５０ｍｍの距離から何度も（例えば１０，０００又は２０，０００回）落下させることができる。その後、Keyence製の画像測定センサーを使用して、試験片中に形成されたへこみの深さ（マイクロメートル）を測定する。

実施例１
[0071]種々の割合の液晶ポリマー（ＬＣＰ）、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、マイカ（C-4000）、タルク（Flextalc(登録商標）815）、エチレンメタクリル酸コポリマー（EMAC（登録商標）SP-2260）、窒化ホウ素、第１のエポキシ樹脂（Araldite（登録商標）ECN-1299、エポキシ樹脂１）、第２のエポキシ樹脂（Epon（登録商標）1009F、エポキシ樹脂２）、黒色顔料、滑剤（Licowax（商標）PED-521）、及び種々の酸化防止安定剤（AO-1010及びAO-126）から試料１～５を形成する。ＰＣＴポリマーは、０．６２の固有粘度を有する。試料２においては、ＬＣＰポリマー（ＬＣＰ－１）は、７９．３モル％のＨＢＡ、２０モル％のＨＮＡ、及び０．７モル％のＴＡから形成される（Ｔｍ＝３２５℃）。試料３においては、ＬＣＰポリマー（ＬＣＰ－２）は、７３モル％のＨＢＡ及び２７モル％のＨＮＡから形成される（Ｔｍ＝２８０℃）。試料４においては。ＬＣＰポリマー（ＬＣＰ－３）は、６０モル％のＨＢＡ、４．２５モル％のＨＮＡ、１７．８７５モル％のＢＰ、及び１７．８７５モル％のＴＡから形成される（Ｔｍ＝３６０℃）。最後に、試料５においては。ＬＣＰポリマー（ＬＣＰ－４）は、４２．８６モル％のＨＢＡ、８．５７モル％のＴＡ、２８．５７モル％のＨＱ、及び２０モル％のＮＤＡから形成される（Ｔｍ＝３００℃）。配合は、１８ｍｍ一軸押出機を使用して行った。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0072]試料１～５を、熱及び機械特性について試験した。結果を下表２に示す。

実施例２
[0073]種々の割合の上記記載のＬＣＰ－２、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、マイカ（C-4000）、タルク（Flextalc(登録商標）815）、エチレンメタクリル酸コポリマー（EMAC（登録商標）SP-2260）、窒化ホウ素、第１のエポキシ樹脂（Araldite（登録商標）ECN-1299、エポキシ樹脂１）、第２のエポキシ樹脂（Epon（登録商標）1009F、エポキシ樹脂２）、黒色顔料、滑剤（Licowax（商標）PED-521）、イオン液体（FC-4400）、及び種々の酸化防止安定剤（AO-1010及びAO-126）から試料６～９を形成する。ＰＣＴポリマーは、０．６２の固有粘度を有する。配合は、１８ｍｍ一軸押出機を使用して行った。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0074]試料７～８を機械特性について試験した。結果を下表４に示す。

実施例３
[0075]種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１、ＬＣＰ－２、ＬＣＰ－３、又はＬＣＰ－４）、ポリシクロヘキシレンジメチレンテレフタレート（ＰＣＴ）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、マイカ（C-4000）、タルク（Flextalc(登録商標）815）、エチレンメタクリル酸コポリマー（EMAC（登録商標）SP-2260）、窒化ホウ素、第１のエポキシ樹脂（Araldite（登録商標）ECN-1299、エポキシ樹脂１）、第２のエポキシ樹脂（Epon（登録商標）1009F、エポキシ樹脂２）、黒色顔料、滑剤（Licowax（商標）PED-521）、イオン液体（FC-4400）、及び種々の酸化防止安定剤（AO-1010及びAO-126）から試料１０～１３を形成する。ＰＣＴポリマーは、０．６２の固有粘度を有する。配合は、１８ｍｍ一軸押出機を使用して行った。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0076]試料１０～１３を機械特性について試験した。結果を下表６に示す。

実施例４
[0077]種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１及びＬＣＰ－２）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、マイカ、エチレン／ｎ－ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレートターポリマー（Elvaloy（登録商標）PTW）、超高分子量シロキサンポリマー（Genioplast（登録商標）ペレットS）、ポリエチレン、及び／又はイオン液体（FC-4400）から試料１４～１６を形成する。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0078]試料１４～１６を機械特性について試験した。結果を下表８に示す。

実施例５
[0079]種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１及びＬＣＰ－２）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、硫酸バリウム、エチレン／ｎ－ブチルアクリレート／グリシジルメタクリレートターポリマー（Elvaloy（登録商標）PTW）、及び／又はイオン液体（FC-4400）から試料１７～２０を形成する。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0080]試料１７～２０を機械特性について試験した。結果を下表１０に示す。

実施例６
[0081]種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１及びＬＣＰ－２）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、無水硫酸バリウム、イオン液体（FC-4400）、及び黒色顔料から試料２１～２２を形成する。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0082]試料２１～２２を機械特性について試験した。結果を下表１２に示す。

実施例７
[0083]種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１及びＬＣＰ－２）から試料２３～２６を形成し、種々の割合の液晶ポリマー（上記記載のＬＣＰ－１及びＬＣＰ－２）、珪灰石繊維（Nyglos（登録商標）4W）、非晶質シリカ（１．７μｍのメジアン粒径）、エチレン、アクリル酸エステル、及びグリシジルメタクリレートのターポリマー（Lotarder（登録商標）AX8900）、超高分子量シロキサンポリマー（Genioplast（登録商標）ペレットS）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、硫酸カルシウム、及びマイカから試料１４～１６を形成する。試料をプラーク（６０ｍｍ×６０ｍｍ）に射出成形して部品を形成する。

[0084]試料２３～２６を機械特性について試験した。結果を下表１４に示す。

[0085]本発明のこれら及び他の修正及び変形は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、当業者によって実施することができる。更に、種々の実施形態の複数の態様は、全体的に又は部分的に交換することができることを理解すべきである。更に、当業者であれば、上記の記載は単に例示の目的であり、添付の特許請求の範囲に更に記載される発明を限定することは意図しないことを認識する。

[0004]本発明の一実施形態によれば、液晶ポリマーを含むポリマーマトリクス及び無機フィラーを含むポリマー組成物を含むカメラモジュールが開示される。液晶ポリマーは、ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含む。更に、ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒^－１のせん断速度及び組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す。

Claims (54)

1. 液晶ポリマー及び無機フィラーを含むポリマーマトリクスを含むポリマー組成物を含むカメラモジュールであって、前記液晶ポリマーは、前記ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含み、更に前記ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒^－１のせん断速度及び前記組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す上記カメラモジュール。
2. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号１７８：２０１０にしたがって２３℃において求めて約７，０００ＭＰａ以上の曲げ弾性率を示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
3. 前記ポリマー組成物が、ＡＳＴＭ－Ｄ７８５－０８（スケールＭ）にしたがって求めて約２５以上のロックウェル表面硬度を示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
4. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号１７９－１：２０１０にしたがって２３℃において求めて約２ｋＪ／ｍ^２のシャルピーノッチ無し衝撃強さを示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
5. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号５２７：２０１２にしたがって求めて、約２０～約５００ＭＰａの引張強さ、約０．５％以上の引張破断歪み、及び／又は約５，０００ＭＰａ～約３０，０００ＭＰａの引張弾性率を示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
6. 前記ポリマー組成物が、ＶＤＡ－２３０－２０６：２００７にしたがって求めて約１．０以下の動摩擦係数及び／又は約５００マイクロメートル以下の摩耗深さを示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
7. 前記ポリマーマトリクスが、前記ポリマー組成物の約２０重量％～約７０重量％を構成する、請求項１に記載のカメラモジュール。
8. 前記液晶ポリマーが約２００℃以上の融点を有する、請求項１に記載のカメラモジュール。
9. 前記液晶ポリマーがヒドロキシカルボン酸から誘導される１以上の繰り返し単位を含み、前記ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位が前記ポリマーの約５０モル％以上を構成する、請求項１に記載のカメラモジュール。
10. 前記液晶ポリマーが、４－ヒドロキシ安息香酸、６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸、又はそれらの組み合わせから誘導される繰り返し単位を含む、請求項９に記載のカメラモジュール。
11. 前記液晶ポリマーが、前記ポリマーの約５０モル％～約９０モル％の量の４－ヒドロキシ安息香酸から誘導される繰り返し単位を含み、前記ポリマーの約１０モル％～約５０モル％の量の６－ヒドロキシ－２－ナフト酸から誘導される繰り返し単位を含む、請求項１０に記載のカメラモジュール。
12. 前記液晶ポリマーが、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、ヒドロキノン、４，４’－ビフェノール、アセトアミノフェン、４－アミノフェノール、又はそれらの組み合わせから誘導される繰り返し単位を更に含む、請求項１０に記載のカメラモジュール。
13. 前記ポリマー組成物が、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）、ポリ（１，３－プロピレンテレフタレート）、ポリ（１，４－ブチレン２，６－ナフタレート）、ポリ（エチレン２，６－ナフタレート）、ポリ（１，４－シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、上記のいずれかの誘導体、又はそれらの組合せを含む半結晶質ポリエステルを更に含む、請求項８に記載のカメラモジュール。
14. 前記液晶ポリマーが前記ポリマー組成物の約１５重量％～約８５重量％を構成し、前記半結晶質ポリエステルが前記ポリマー組成物の約１重量％～約５０重量％を構成する、請求項１３に記載のカメラモジュール。
15. 無機フィラーが前記ポリマーマトリクス１００重量部当たり約２０～約１００重量部を構成する、請求項１に記載のカメラモジュール。
16. 前記無機フィラーが、モース硬度スケールに基づいて約２．０以上の硬度値を有する、請求項１に記載のカメラモジュール。
17. 前記無機フィラーが、無機粒子、無機繊維、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
18. 前記無機粒子が約０．５～約２０マイクロメートルのメジアン径を有する、請求項１７に記載のカメラモジュール。
19. 前記無機粒子が、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、シリカ、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１７に記載のカメラモジュール。
20. 前記無機粒子が、約４以上のアスペクト比を有するフレーク形状の粒子である、請求項１７に記載のカメラモジュール。
21. 前記無機粒子がマイカを含む、請求項１７に記載のカメラモジュール。
22. 前記無機繊維が珪灰石繊維を含む、請求項１７に記載のカメラモジュール。
23. 前記ポリマー組成物が無機粒子と無機繊維のブレンドを含み、前記無機繊維が前記ポリマー組成物の約１重量％～約４０重量％を構成し、前記無機粒子が前記ポリマー組成物の約２重量％～約５０重量％を構成する、請求項１に記載のカメラモジュール。
24. 前記ポリマー組成物がガラス繊維を概して含まない、請求項１に記載のカメラモジュール。
25. 前記ポリマー組成物が耐衝撃性改良剤を含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
26. 前記耐衝撃性改良剤がオレフィンポリマーを含む、請求項２５に記載のカメラモジュール。
27. 前記オレフィンポリマーが（メタ）アクリル酸モノマー単位を含むコポリマーである、請求項２５に記載のカメラモジュール。
28. 前記ポリマー組成物が静電防止フィラーを含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
29. 前記ポリマー組成物が、トライボロジー剤、滑剤、熱伝導性フィラー、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、難燃剤、垂れ防止添加剤、成核剤、又はそれらの組み合わせを含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
30. 前記カメラモジュールが、
    １以上のレンズを含むレンズモジュールがその中に配置されているハウジング；及び
    場合により、前記レンズモジュールを光学軸方向に駆動するように構成されるアクチュエータアセンブリ；
    を含み；
    前記ハウジング、レンズモジュール、アクチュエーターアセンブリ、又はそれらの組み合わせの少なくとも一部が前記ポリマー組成物を含む、請求項１に記載のカメラモジュール。
31. 前記アクチュエーターアセンブリが前記ハウジングと前記レンズモジュールとの間に配置されたガイドユニットを含み、前記ガイドユニットは、ばね、ボールベアリング、静電力発生器、油圧力発生器、又はそれらの組み合わせを含む、請求項３０に記載のカメラモジュール。
32. 前記ガイドユニットの少なくとも一部が前記ポリマー組成物を含む、請求項３１に記載のカメラモジュール。
33. 前記ガイドユニットがボールベアリングを含む、請求項３１に記載のカメラモジュール。
34. 前記ボールベアリングが約８００マイクロメートル以下の平均径を有する、請求項３３に記載のカメラモジュール。
35. 前記ポリマー組成物が、１．５ｍｍの直径及び７５グラムの重量を有する金属球を１５ミリメートルの高さから落下させて前記ポリマー組成物と接触させた際に約５０マイクロメートル以下のくぼみを示す、請求項１に記載のカメラモジュール。
36. 請求項１に記載のカメラモジュールを含む電子機器。
37. 前記機器が無線通信機器である、請求項３６に記載の電子機器。
38. カメラモジュールにおいて使用するためのポリマー組成物であって、前記組成物は、
    液晶ポリマーを含み、前記液晶ポリマーは、前記ポリマーの約１０モル％以上の量のナフテン系ヒドロキシカルボン酸及び／又はジカルボン酸から誘導される繰り返し単位を含む、約２０重量％～約７０重量％のポリマーマトリクス；
    約１重量％～約４０重量％の無機繊維；及び
    約２重量％～約５０重量％の無機粒子；
    を含み；
    前記ポリマー組成物は、ＩＳＯ試験番号１１４４３：２００５にしたがい、４００秒^－１のせん断速度及び前記組成物の融点よりも１５℃高い温度で求めて約３０～約４００Ｐａ・秒の溶融粘度を示す上記ポリマー組成物。
39. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号１７８：２０１０にしたがって２３℃において求めて約７，０００ＭＰａ以上の曲げ弾性率を示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
40. 前記ポリマー組成物が、ＡＳＴＭ－Ｄ７８５－０８（スケールＭ）にしたがって求めて約２５以上のロックウェル表面硬度を示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
41. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号１７９－１：２０１０にしたがって２３℃において求めて約２ｋＪ／ｍ^２のシャルピーノッチ無し衝撃強さを示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
42. 前記ポリマー組成物が、ＩＳＯ試験番号５２７：２０１２にしたがって求めて、約２０～約５００ＭＰａの引張強さ、約０．５％以上の引張破断歪み、及び／又は約５，０００ＭＰａ～約３０，０００ＭＰａの引張弾性率を示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
43. 前記液晶ポリマーがヒドロキシカルボン酸から誘導される１以上の繰り返し単位を含み、前記ヒドロキシカルボン酸繰り返し単位が前記ポリマーの約５０モル％以上を構成する、請求項３８に記載のポリマー組成物。
44. 前記液晶ポリマーが、４－ヒドロキシ安息香酸、６－ヒドロキシ－２－ナフトエ酸、又はそれらの組み合わせから誘導される繰り返し単位を含む、請求項４３に記載のポリマー組成物。
45. 前記液晶ポリマーが、前記ポリマーの約５０モル％～約９０モル％の量の４－ヒドロキシ安息香酸から誘導される繰り返し単位を含み、前記ポリマーの約１０モル％～約５０モル％の量の６－ヒドロキシ－２－ナフト酸から誘導される繰り返し単位を含む、請求項４４に記載のポリマー組成物。
46. 前記液晶ポリマーが、テレフタル酸、イソフタル酸、２，６－ナフタレンジカルボン酸、ヒドロキノン、４，４’－ビフェノール、アセトアミノフェン、４－アミノフェノール、又はそれらの組み合わせから誘導される繰り返し単位を更に含む、請求項４５に記載のポリマー組成物。
47. 前記ポリマー組成物が、ポリ（エチレンテレフタレート）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）、ポリ（１，３－プロピレンテレフタレート）、ポリ（１，４－ブチレン２，６－ナフタレート）、ポリ（エチレン２，６－ナフタレート）、ポリ（１，４－シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、上記のいずれかの誘導体、又はそれらの組合せを含む半結晶質ポリエステルを更に含む、請求項３８に記載のポリマー組成物。
48. 前記無機粒子が、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、又はそれらの組み合わせを含む、請求項３８に記載のポリマー組成物。
49. 前記無機繊維が珪灰石繊維を含む、請求項３８に記載のポリマー組成物。
50. 前記ポリマー組成物がガラス繊維を含まない、請求項３８に記載のポリマー組成物。
51. 前記ポリマー組成物が、トライボロジー剤、耐衝撃性改良剤、エポキシ樹脂、静電防止フィラー、滑剤、熱伝導性フィラー、顔料、酸化防止剤、安定剤、界面活性剤、ワックス、難燃剤、垂れ防止添加剤、成核剤、又はそれらの組み合わせを含む、請求項３８に記載のポリマー組成物。
52. 前記ポリマー組成物が、１．５ｍｍの直径及び７５グラムの重量を有する金属球を１５ミリメートルの高さから落下させて前記ポリマー組成物と接触させた際に約５０マイクロメートル以下のくぼみを示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
53. 前記ポリマー組成物が、１．５ｍｍの直径及び５グラムの重量を有する金属球を１５０ミリメートルの高さから落下させて前記ポリマー組成物と１０，０００回接触させた際に約５０マイクロメートル以下のくぼみを示す、請求項３８に記載のポリマー組成物。
54. 前記ボールベアリングが約８００マイクロメートル以下の平均径を有する、請求項３８に記載のポリマー組成物。

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