JP2020514779A - 表示基板の製造方法、表示基板および表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)別途に定義されない限り、本開示の実施例および図面において、同じ表記が同じ意味を示す。
(2)本開示の実施例の図面では、本実施例に関連する構造のみに関わり、他の構造は一般的な設計を参照することができる。
(3)明確にするために、本開示の実施例を説明するための図面において、層または領域が拡大される。例えば、層、膜、領域または基板のような要素が別の要素の「上にある」または「下にある」と述べられた場合、該要素は「直接的に」他の要素の「上にある」または「下にある」、また中間要素が存在してもよい。
201 ベース基板
210 画素領域ユニット
211 有効表示領域
212 周辺領域
220 スペーサ
221 接着材
222 ナノ粒子
230 画素限定層
240 カバーガラス
250 フリット
260 第1の領域
270 第2の領域
280 結合領域
310 ノズル
320 ノズル
330 ノズル
2221 カルシウムナノ粒子
2222 コバルトナノ粒子
2223 銀ナノ粒子
2670 画素領域
Claims (21)
- 画素領域を含み、前記画素領域は、アレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、前記画素ユニットの各々は、有効表示領域と、前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを有する表示基板の製造方法であって、
前記表示基板の製造方法は、
インクジェット印刷工程により前記周辺領域に複数のスペーサを形成する段階を含み、
前記スペーサは、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む、表示基板の製造方法。 - 前記スペーサに、多種類のナノ粒子をドーピングし、前記スペーサを形成する段階は、
複数のノズルを用いて前記周辺領域の複数箇所に前記スペーサを塗布する段階であって、前記ノズルの各々を用いて塗布した前記スペーサに一種類の前記ナノ粒子がドーピングされ、異なる前記ノズルを用いて塗布した前記スペーサに異なる前記ナノ粒子がドーピングされる段階を含む、請求項1に記載の表示基板の製造方法。 - 前記インクジェット印刷工程により前記周辺領域に前記スペーサを形成する前に、前記周辺領域の表面を処理することにより、交互に設置される親水性領域および疎水性領域を形成することをさらに含む、請求項1又は2に記載の表示基板の製造方法。
- 形成される前記スペーサにドーピングされた前記ナノ粒子は、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子のうちの少なくとも1つを含み、
前記画素領域は、それの中央部に位置する第1の領域および前記第1の領域を囲む第2の領域を含み、
前記表示基板は、前記第2の領域の外における第1の方向に伸びる第1の縁部に位置する結合領域をさらに含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の表示基板の製造方法。 - 前記スペーサを形成する段階は、
前記第1の領域および前記第2の領域にカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階であって、前記第2の領域に形成されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数が、前記第1の領域に形成されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より多い段階を含む、請求項4に記載の表示基板の製造方法。 - 前記スペーサを形成する段階は、
前記第1の領域および前記第2の領域に銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階を含む、請求項4又は5に記載の表示基板の製造方法。 - 前記スペーサを形成する段階は、
前記第1の領域および前記第2の領域にコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階であって、前記結合領域から離れた前記第2の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数が、前記第1の領域および前記結合領域に近い前記第2の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より少ない段階を含む、請求項4〜6のいずれか一項に記載の表示基板の製造方法。 - 形成される前記スペーサの高さは4μm以上である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の表示基板の製造方法。
- アレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、前記画素ユニットの各々は有効表示領域と前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素領域と、
前記周辺領域に配置された複数のスペーサと、を含み、
前記スペーサは、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む、表示基板。 - 前記複数のスペーサに多種類のナノ粒子がドーピングされ、前記スペーサ各々に一種類の前記ナノ粒子がドーピングされる、請求項9に記載の表示基板。
- 前記接着材は高粘度な熱硬化性材料であり、且つ前記接着材の粘度は10000〜100000Pa・sである、請求項9又は10に記載の表示基板。
- 前記ナノ粒子は前記接着材に均一に分布している、請求項9〜11のいずれか一項に記載の表示基板。
- 前記スペーサにドーピングされた前記ナノ粒子は、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子のうちの少なくとも一つを含む、請求項9〜12のいずれか一項に記載の表示基板。
- 前記画素領域は、それの中央部に位置する第1の領域と、前記第1の領域を囲む第2の領域とを含み、
前記表示基板は、前記第2の領域の外における第1の方向に伸びる第1の縁部に位置する結合領域をさらに含む、請求項13に記載の表示基板。 - 銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第1の領域および前記第2の領域に配置される、請求項14に記載の表示基板。
- カルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第1の領域および前記第2の領域に配置され、且つ前記第2の領域に配置されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数は、前記第1の領域に配置されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より多い、請求項14又は15に記載の表示基板。
- コバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第1の領域および前記第2の領域に配置され、且つ前記結合領域から離れた前記第2の領域に配置されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数は、前記第1の領域および前記結合領域に近い前記第2の領域に配置されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より少ない、請求項14〜16のいずれか一項に記載の表示基板。
- 前記第1の方向に沿った前記第1の領域の長さと前記第1の方向に沿った前記第2の領域の長さとの比の範囲は、0.5〜4である、請求項14〜17のいずれか一項に記載の表示基板。
- 前記ナノ粒子は、カルシウム、コバルトおよび銀ナノ粒子を含み、前記カルシウムナノ粒子のドーピング質量比は3%〜6%であり、前記銀ナノ粒子のドーピング質量比は8%〜12%であり、前記コバルトナノ粒子のドーピング質量比は8%〜12%である、請求項9〜18のいずれか一項に記載の表示基板。
- 前記ナノ粒子は、カルシウム、コバルトおよび銀ナノ粒子を含み、カルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数と、銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数と、コバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数との比は3:3:4である、請求項9〜18のいずれか一項に記載の表示基板。
- 請求項9〜20のいずれか一項に記載の表示基板を含む、表示装置。
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