JP7000335B2 - 表示基板の製造方法、表示基板および表示装置 - Google Patents

表示基板の製造方法、表示基板および表示装置 Download PDF

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Description

本願は２０１７年３月１７日に出願された中国特許出願第２０１７１０１６１６１０．３号に基づいて優先権を主張する。上記中国特許出願に開示された内容を引用し、本願の明細書に組み込ませる。
本発明の少なくとも一つの実施態様は、表示基板の製造方法、表示基板および表示装置に関する。
有機発光ダイオード（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ，ＯＬＥＤ）デバイスは、新型のフラットパネルディスプレイデバイスであり、全固体構造、高輝度、広視野角、高速応答、フレキシブルディスプレイなど利点を有する自発光型デバイスである。従って、有機発光ダイオードデバイスは、優れた競争力と発展の見通しを有する次世代のディスプレイ技術である。現在、中小型の有機発光ダイオード表示基板は、表示基板とカバープレートとの間隔を維持するスペーサを含み、スペーサの製造方法は塗布、露光及びエッチング工程を含み、前記工程が複雑である。
本発明の少なくとも一つの実施態様が表示基板の製造方法、表示基板および表示装置を提供する。該表示基板の製造方法は、インクジェット印刷工程（Ｉｎｋ Ｊｅｔ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ，ＩＪＰ）の精確な定位機能によりスペーサの定位塗布を実現し、スペーサの作製材料の利用率を向上させ、作製工程を簡略化することもできる。且つスペーサにナノ粒子がドーピングされることにより、吸湿、放熱、吸気などの表示装置の寿命を延ばす機能を実現できる。
本発明の少なくとも一つの実施態様が表示基板の製造方法を提供する。表示基板は画素領域を含み、画素領域はアレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、各画素ユニットは、有効表示領域と、前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを有する。前記製造方法は、インクジェット印刷工程により前記周辺領域に複数のスペーサを形成することを含み、スペーサは、接着材と、前記接着材中にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む。
例えば、スペーサに、多種類のナノ粒子がドーピングされ、スペーサを形成する段階は、複数のノズルを用いて周辺領域の複数箇所にスペーサを塗布する段階であって、前記ノズルの各々を用いて塗布した前記スペーサに一種類の前記ナノ粒子がドーピングされ、異なる前記ノズルを用いて塗布した前記スペーサに異なる前記ナノ粒子がドーピングされる段階を含む。
例えば、接着材は高粘度な熱硬化性材料であり、且つ前記接着材の粘度は１００００～１０００００Ｐａ・ｓである。
例えば、前記ナノ粒子は前記接着材に均一に分布している。
例えば、インクジェット印刷工程により周辺領域にスペーサを形成する前に、前記周辺領域の表面を処理することにより、交互に設置された親水性領域および疎水性領域を形成することをさらに含む。
例えば、形成されるスペーサにドーピングされたナノ粒子は、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子の少なくとも１つを含み、且つ画像領域は、それの中央部に位置する第１の領域および前記第１の領域を囲む第２の領域を含み、表示基板は、さらに第２の領域の外における第１の方向に伸びる第１の縁部に位置する結合領域を含む。
例えば、前記スペーサを形成する段階は、第１の領域および第２の領域にカルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサを形成する段階であって、第２の領域に形成されるカルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサの数は、第１の領域に形成されたカルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサの数より多い段階を含む。
例えば、スペーサを形成する段階は、第１の領域および第２の領域に銀ナノ粒子がドーピングされたスペーサを形成する段階を含む。
例えば、スペーサを形成する段階は、第１の領域および第２の領域にコバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサを形成する段階であって、結合領域から離れた第２の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数は、第１の領域および結合領域に近い第２の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数より少ない段階を含む。
例えば、第１の方向に沿った第１の領域の長さと第１の方向に沿った第２の領域の長さとの比の範囲は、０．５～４である。
例えば、形成されるスペーサの高さは４μｍ以上である。
本発明の少なくとも一つの実施態様が表示基板を提供する。該表示基板は画素領域及び画素領域に設置される複数のスペーサを含む。画素領域はアレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、各画素ユニットは有効表示領域と有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む。複数のスペーサは周辺領域に配置され、スペーサは接着材と接着材中にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む。
例えば、複数のスペーサに多種類のナノ粒子がドーピングされ、各々のスペーサに一種類のナノ粒子がドーピングされる。
例えば、接着材は高粘度な熱硬化性材料であり、且つ接着材の粘度は１００００～１０００００Ｐａ・ｓである。
例えば、ナノ粒子は接着材に均一に分布している。
例えば、スペーサにドーピングされたナノ粒子は、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子の少なくとも一つを含む。
例えば、画素領域は、それの中央部に位置する第１の領域と、第１の領域を囲む第２の領域とを含み、前記表示基板はさらに、第２の領域の外側の第１の方向に伸びる第１の縁部に位置する結合領域を含む。
例えば、銀ナノ粒子がドーピングされたスペーサは、第１の領域および第２の領域に配置される。
例えば、カルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサは、第１の領域および第２の領域に配置され、且つ第２の領域に配置されたカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数は第１の領域に配置されたカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より多い。
例えば、コバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサは、第１の領域および第２の領域に配置され、且つ結合領域から離れた第２の領域に配置されたコバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数は、第１の領域および結合領域に近い第２の領域に配置されたコバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数より少ない。
例えば、第１の方向に沿った第１の領域の長さと第１の方向に沿った第２の領域の長さとの比の範囲は、０．５～４である。
例えば、ナノ粒子は、カルシウム、コバルトおよび銀ナノ粒子を含み、カルシウムナノ粒子のドーピング質量比は、３％～６％であり、銀ナノ粒子のドーピング質量比は８％～１２％であり、コバルトナノ粒子のドーピング質量比は８％～１２％である。
例えば、ナノ粒子は、カルシウム、コバルトおよび銀ナノ粒子を含み、カルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサの数と、銀ナノ粒子がドーピングされたスペーサの数と、コバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数との比は３：３：４である。
本発明の少なくとも一つの実施態様が表示装置を提供する。該表示装置は本発明の実施態様で提供されているいずれか一種類の表示基板を含む。
本発明の実施態様の技術構成をより明確に説明するために、実施態様の図面について以下のように簡単に説明する。なお、以下に説明する図面は、本発明の一部の実施態様にしか関わっておらず、本発明を限定するものではない。
本発明の一つの実施態様で提供されるインクジェット印刷工程を用いて周辺領域の複数の特定の位置に複数のスペーサを形成することの模式図である。 本発明の一つの実施態様で提供される表示基板の断面図である。 本発明の一つの実施態様で提供される表示基板の平面模式図である。 図３ａに示される表示基板の一つ画素ユニットの平面模式図である。 本発明の一つの実施態様で提供される表示基板の平面模式図である。 本発明の一つの実施態様で提供される表示基板の平面模式図である。
本発明の実施態様の目的、技術構成、および効果をより明確にするように、以下に本発明の実施態様の図面を参照しがら、本発明の実施態様の技術構成について明確かつ完全に説明する。なお、以下に説明する実施態様は、本発明の一部の実施態様に過ぎず、すべての実施態様ではない。以下に説明する本発明の実施態様に基づき、創造的労力を要らない前提下で当業者が得られる他の実施態様は、本発明の保護範囲に属する。
別途に定義されない限り、本発明で用いられる技術用語または科学用語は、当業者にとって通常に理解される意味である。本発明において用いられる「第１」、「第２」および類似の用語は順序、数量または重要性を示すものではなく、異なる構成素子を区別するために用いられる。「含む」または「備える」などの類似な言葉は、この言葉の前の素子または物はこの言葉の後ろで挙げられた素子または物等を含むことを示すが、他の素子または物は除外されるわけではない。「上」、「下」、「左」、「右」等は、相対的な位置関係を示すために用いられるだけ、記載の対象の絶対位置が変更された場合には、該相対的な位置関係も対応的に変更されることがある。
研究において、本発明者らは、表示基板にスペーサを製造する工程が塗布、露光及びエッチング工程を含み、表示基板に垂直な高さが大きなスペーサを作製する場合、例えば、作製するスペーサの高さが４μｍ以上である場合、バッチで塗布する必要があり、且つ、マスクを用いた露光工程を追加する必要があることを見出した。また、表示基板の画素限定層にスペーサの製造材料を塗布する場合、全面に塗布する必要があり、材料の利用率が低くなる。
本発明の少なくとも一つの実施態様が表示装置の製造方法、表示基板および表示装置を提供する。該表示基板の製造方法は、画素領域を分割する段階であって、前記画素領域が、アレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、各画素ユニットが、有効表示領域と、有効表示領域の周辺に位置する周辺領域を含む段階と、インクジェット印刷工程により周辺領域に複数のスペーサを形成する段階であって、スペーサが、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む段階と、を含む。該表示基板の製造方法は、インクジェット印刷工程の精確な定位機能によりスペーサの定位塗布を実現し、スペーサ作製材料の利用率を向上させ、作製工程を簡略化することもできる。且つスペーサにナノ粒子がドーピングされることにより、吸湿、放熱、吸気などの表示装置の寿命を延ばす機能を実現できる。
以下に図面を組み合わせながら本発明の実施態様が提供している表示基板の製造方法、表示基板及び表示装置について説明する。
本実施例が表示基板の製造方法を提供する。該表示基板の製造方法の具体的な工程は、アレイ状に配列された複数の画素ユニットを形成して画素領域を形成する段階であって、各画素ユニットが、有効表示領域と、有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを有する段階と、インクジェット印刷工程により周辺領域に複数のスペーサを形成する段階とを含む。
例えば、表示基板は有機発光ダイオードの表示基板であり、表示基板に含まれる画素ユニットは赤色、緑色、青色（ＲＧＢ）などの画素ユニットであり、本実施態様では限定されない。有効表示領域の周辺に位置する周辺領域は非表示領域であり、例えば、画素限定層が周辺領域に設置され、即ち有効表示領域を囲む非表示領域には画素限定層が配置される。
なお、本実施例は、表示基板が有機発光ダイオードである表示基板を例として説明するが、本実施例はこれのみに限定されない。例えば、表示基板はアレイ基板やカラーフィルム基板等であってもよい。
例えば、インクジェット印刷工程（またはインクジェット印刷技術、Ｉｎｋ Ｊｅｔ Ｐｒｉｎｔｉｎｇ、ＩＪＰ）は、非接触、無圧力、プリントレス印刷技術である。これは、外力でインク滴または接着材などの溶液をノズルから押し出し、噴霧を堆積されて対応の位置に所望のパターンを形成する。従って、インクジェット印刷工程は、精確な定位機能を有し、需要に応じてインク滴や接着材などの溶液を特定の位置に吹き付けて所望のパターンを形成することができる。塗布、露光、エッチング工程で形成されたスペーサと比べて、本実施例ではインクジェット印刷工程により、スペーサの定位塗布を実現することができ、スペーサの製造材料の利用率を改善しながら、製造工程を簡略化することができる。
例えば、複数のスペーサを形成する前に、周辺領域の表面を処理し、交互に設置された親水性領域および疎水性領域を形成することにより、スペーサの形を制御する。
例えば、本実施例では交互に親水性処理と疎水性処理を行い、インクジェット印刷工程により周辺領域の特定の位置に噴霧された液体の接着材を加熱して硬化し、固定の形を有するスペーサを形成する。なお、液体の接着材が油性材料である場合、本実施例では、接着材の拡散を防ぐために接着材を疎水性領域に塗布するので、上記の「特定位置」は疎水性領域を指す。液体の接着材が親水性材料である場合、本実施例では、接着材の拡散を防ぐために接着材を親水性領域に塗布するので、上記の「特定位置」は親水性領域を指す。本実施例では限定されない。
例えば、画素限定層が周辺領域に配置され、画素限定層の表面が親水性を有する場合、すなわち、画素限定層が親水性有機物質で形成される場合、本実施例では画素限定層の表面の間隔に疎水性処理を行い、交互に配置された親水性領域と疎水性領域を形成する。
なお、交互に配置された親水性領域と疎水性領域は様々な形態を含む
例えば、親水性領域と疎水性領域が交互に配置された後、全体的にはアレイ状に配列される。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、親水性領域と疎水性領域が交互に配置された後、垂直（水平）ストリップ状に配列されてもよい。即ち、親水性領域と疎水性領域がストリップ状で順次に交互に配列される。
例えば、親水性領域と疎水性領域が交互に設置された形態は親水性領域と疎水性領域が交互に設置され、『回』の形で配列されてもよい。本実施例では限定されない。
例えば、周辺領域の表面を処理する段階は、周辺領域の表面をプラズマ表面処理工程で処理する段階を含む。本実施例ではこれのみに限定されない。他の工程で周辺領域の表面を処理することもできる。
例えば、周辺領域の表面に物理蒸着法、化学蒸着法、水熱法、電着法などを用いてマイクロナノ構造を形成し、疎水効果等を得ることができる。
例えば、低温プラズマ処理は、乾式処理工程である。低温プラズマ表面処理工程により、周辺領域の特定の位置の表面に対し、物理的および化学的に修飾することができる。
例えば、画素限定層を周辺領域に設置し、画素限定層にスペーサを塗布する前に、よりよい塗布効果を得るため、低温プラズマシステムにおけるイオン、励起状態分子、ラジカルなどの様々な活性粒子と、画素限定層の表面の化合物との作用を利用することができる。
例えば、画素限定層の表面に酸素イオンを通すことにより、画素限定層の表面への親水化処理を行うことができ、即ち、酸素イオンと画素限定層の表面化合物との作用により親水性化合物を形成する。画素限定層の表面にフッ素イオンを通すことにより、画素限定層の表面への疎水化処理を行うことができ、即ち、フッ素イオンと画素限定層の表面化合物との作用により疎水性化合物を形成する。これにより、画素限定層の表面は、親水性領域と疎水性領域が交互に設置される表面となり、続いて塗布を行うことができる。本実施例では、画素限定層上にスペーサを形成することを例に挙げて説明するが、本実施例ではこれのみに限定されなく、例えば、周辺領域に設置された陰極層上にスペーサを形成することもできる。
例えば、形成されるスペーサの固定形状は、円柱状や直方体状などのブロック状または壁状であってもよい。本実施例ではこれのみに限定されない。
なお、一般的にスペーサを形成するための接着材と比べて、本実施例でスペーサを形成するための接着材は、高粘度な熱硬化性材料である。例えば、本実施例で使用される高粘度な熱硬化性材料は、エポキシ樹脂、ポリイミド、シリコーンなどを含んでもよい、上記材料をドーピングすることにより粘度を高める効果を得る。
例えば、本実施例で使用される接着材の粘度は、一般的にスペーサを形成するための接着材の粘度の１０～１００倍である。
例えば、本実施例で使用されるスペーサの粘度は１００００～１０００００Ｐａ・ｓである。本実施例ではこれのみに限定されない。周辺領域の特定の位置に塗布された高粘度な接着材は加熱で固化され、迅速に固定の形状を有するスペーサを形成する。従って、本実施例では、スペーサの形状の制御を実現し、工程を簡略し、材料の利用効率を向上させることができる。
なお、本実施例で提供されるスペーサは、接着材と、接着材中にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む。例えば、スペーサにドーピングされたナノ粒子は、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子等を含む。本実施例ではこれのみに限定されない。
例えば、スペーサに、多種類のナノ粒子がドーピングされ、インクジェット印刷工程によりスペーサを形成する段階は、複数のノズルを用いて周辺領域の複数箇所にスペーサを塗布し、且つ各ノズルを用いて塗布したスペーサに一種類の前記ナノ粒子がドーピングされ、異なるノズルを用いて塗布したスペーサに異なるナノ粒子がドーピングされる段階を含む。例えば、カルシウム、コバルト及び銀金属ナノ粒子等を含む。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、周辺領域の複数の位置を少なくとも１つのノズルを用いてスペーサを塗布することができ、且つ各ノズルを用いて塗布するスペーサは少なくとも１つのナノ粒子がドーピングされる。
例えば、図１はインクジェット印刷工程を用いて周辺領域の複数の特定の位置に複数のスペーサを形成する模式図である。図１に示されるように、表示基板２００には画素領域２６７０を含み、画素領域２６７０はそれの中央部に位置する第１の領域２６０及び第１の領域２６０を囲む第２の領域２７０を含み、表示基板２００は、さらに前記第２の領域２７０の外における第１の方向（即ち、Ｘ方向）に伸びる第１の縁部に位置する結合領域２８０を含む。結合領域２８０は図１中の位置およびサイズは模式的な例であり、即ち、結合領域２８０は第１の方向（即ち、Ｘ方向）に伸びる第１の縁部に位置するとは限らず、表示基板２００の第２の領域２７０の他の縁部に設置されてもよい。本実施例では限定されない。
なお、ここでの「第１の領域」とは、表示基板の中央部領域を指し、「第２の領域」とは、表示基板における第１の領域を囲む環状領域を指す。
例えば、図１に示されるように、ＡＢ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った第２の領域２７０の長さとの比の範囲は、０．５～４である。本実施例では前記内容を含むが、限定されない。ここで、「ＡＢ方向に沿った第２の領域２７０の長さ」とは、ＡＢ方向に沿い、第１の領域２６０の両側に位置する第２の領域２７０の長さの合計と意味する。
例えば、ＡＢ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った前記第２の領域２７０の長さとの比は、３：２又は２：３である。本実施例ではこれのみに限定されない。なお、本実施例では、ＡＢ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った第２の領域２７０の長さとの比の範囲は０．５～４であることに限定されない。例えば、Ｙ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＹ方向に沿った第２の領域２７０の長さとの比の範囲は、０．５～４である。
本実施例では三つのノズル３１０、３２０、３３０を用いて、周辺領域に設置される画素限定層２３０の特定位置にスペーサ２２０を塗布し、スペーサ２２０は接着材２２１及び接着材２２１にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子２２２を含む。
例えば、第１のノズル３１０をカルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされた接着材２２１の塗布に使用し、第２のノズル３２０をコバルトナノ粒子２２２２がドーピングされた接着材２２１の塗布に使用し、第３のノズル３３０を銀ナノ粒子２２２３がドーピングされた接着材２２１の塗布に使用する。なお、図１に示されるナノ粒子の分布の状況は、模式的な分布のみであり、本実施例ではこれのみに限定されない。実際な状況に応じて、ナノ粒子の分布状況を決めることができる。
本実施例では、ノズルにおける接着材に一種類のナノ粒子がドーピングされることを例に説明する。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。例えば、ノズルにおける接着材に少なくとも一種類のナノ粒子がドーピングされることであってもよく、且つノズルにおける接着材に多種類のナノ粒子がドーピングされる場合、各ナノ粒子のドーピング比を調節することができる。即ち、表示基板における異なる位置の需要に応じて、ノズルにおける接着材にドーピングされる各ナノ粒子のドーピング比を調節することができ、表示基板における異なる位置を塗布する。
本実施例では、インクジェット印刷工程に三つのノズル３１０、３２０、３３０を用いたスペーサ２２０を塗布することを例に説明する。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、一つ、二つ又はそれ以上のノズルを用いてスペーサを塗布し、ノズルの数はスペーサにドーピングされるナノ粒子の種類の数に応じて決める。
例えば、異なるノズルを用いて周辺領域の異なる位置にサペーサ２２０を塗布する。
例えば、スペーサ２２０に多種類のナノ粒子２２２をドーピングすることができ、本実施例ではスペーサ２２０にカルシウムナノ粒子２２２１、コバルトナノ粒子２２２２および銀ナノ粒子２２２３をドーピングすることを例として説明するが、本実施例ではこれのみに限定されない。また、吸湿、放熱、吸気などの効果を有する他のナノ粒子であってもよい。
例えば、スペーサ２２０の接着材にドーピングされるカルシウム（Ｃａ）ナノ粒子２２２１は、水蒸気及び酸素粒子を吸収する機能を有する。有機発光ダイオード表示基板が酸素粒子および水分に対して非常に敏感であるので、有機発光ダイオード表示基板の内部に酸素粒子や水分が浸入すると、黒点、ピンホール、電極酸化、有機材料化学反応などの欠陥を引き起こし、有機発光ダイオード表示基板の寿命に深刻な影響を与える。従って、本実施例では、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされた第１のノズル３１０を用いて、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２にスペーサ２２０を塗布する。例えば、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされる第１のノズル３１０を用いて、第２の領域２７０の周辺領域２１２に塗布されるスペーサ２２０の数は第１の領域２６０の周辺領域２１２に塗布されるスペーサ２２０の数より大きくすることより、水と酸素侵食の経路を延長する。即ち、カルシウムナノ粒子と水および酸素との化学反応により水と酸素を吸収し、微量の酸素粒子や水分の表示基板への侵食を防ぎ、間接的に表示基板の寿命を向上させることができる。
本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされる第１のノズル３１０を用いて、第２の領域２７０の周辺領域２１２にスペーサ２２０を塗布して、微量の酸素粒子や水分の表示基板への侵食を防ぐ効果を果たすこともできる。
なお、本実施例ではスペーサにカルシウムナノ粒子をドーピングすることに限定されなく、酸素粒子や水分を吸収する効果を果たす他のナノ粒子がドーピングされもいい。
例えば、スペーサにバリウム（Ｂａ）ナノ粒子、ジルコニウム（Ｚｒ）ナノ粒子またはチタン（Ｔｉ）ナノ粒子などの金属粒子をドーピングすることができる。
例えば、アクティブマトリクス有機発光ダイオードディスプレイ基板の製造する場合、薄膜トランジスタにカラーフィルムを製造し、カラーフィルムにインジウムスズ酸化物を堆積させ、白色有機発光ダイオードを製造する工程において、カラーフィルムにおける染料、色素、分散剤等の材料から放出された有機不純物ガス（アウトガス）は、薄膜トランジスタ素子に入り、薄膜トランジスタの生産率に影響を与え、表示基板の使用寿命を大幅に短縮させる。本実施例では、銀（Ａｇ）ナノ粒子２２２３がドーピングされる第３のノズル３３０を用いて、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２にスペーサ２２０を塗布する。即ち、表示基板２００の中央部及び中央部を囲む環状領域に銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０を塗布し、銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０は酸素と作用して酸素を吸収し、有機発光ダイオード表示基板に残留の有機不純物ガスを吸収することにより、有害物質を除去し、表示基板の寿命を延ばすことができる。
なお、本実施例では銀ナノ粒子をスペーサにドーピングすることに限定されなく、酸素粒子及び有機不純物ガスを吸収する効果を果たす他のナノ粒子であってもよい。
例えば、コバルト（Ｃｏ）ナノ粒子２２２２がドーピングされる第２のノズル３２０を用いて、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２にスペーサ２２０を塗布する。
例えば、コバルトナノ粒子２２２２がドーピングされる第２のノズル３２０を用いて、結合領域２８０から離れた第２の領域２７０に塗布されるスペーサ２２０の数は結合領域２８０に近い第２の領域２７０及び第１の領域２６０に塗布されるスペーサ２２０の数により少ない。即ち、結合領域２８０に近い第２の領域２７０にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２の数は他の位置にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２の数より多い。
例えば、第２の領域２７０における結合領域２８０に近い領域は、結合領域２８０と第１の領域２６０の間における第２の領域２７０を含む
例えば、第２の領域２７０における結合領域２８０に近い領域は、Ｙ方法に沿った画素領域２６７０のサイズにおいて結合領域２８０に近い１０％以内の領域を含み、本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
例えば、図１に示されるように、結合領域２８０がＸ方向に伸び、第２の領域２７０が環状領域であり、第２の領域２７０において結合領域２８０に近い領域は、環状第２の領域２７０において結合領域２８０に近く、Ｘ方向に伸びる領域の全体を含む。
例えば、コバルトナノ粒子２２２２がドーピングされる第２のノズル３２０を用いて、結合領域２８０に近い第２の領域２７０及び第１の領域２６０のみにスペーサ２２０を塗布することができる。即ち、結合領域２８０に近い位置及び表示基板２００の中央部にコバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０を塗布することができ、本実施例では限定されない。
一方、有機発光ダイオード表示基板は、封止工程で高いレーザ放射を受けるので、即ち、表示基板上にカバーボンディングを行う工程で、レーザビームにより、表示基板を封止するフリット（ｆｒｉｔ）を加熱して溶融し、即ち、カバーボンディングを行う工程で、表示基板は高いレーザ放射を受けるので、一定の熱を発生する。一方、有機発光ダイオード表示基板が照射する場合にも、対応の熱が発生し、表示基板の中央部及び結合（ｂｏｎｄｉｎｇ）領域の温度が明らかに上昇し、迅速に広がりにくい。本実施例では、スペーサ２２０の接着材２２１にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２は高い熱伝導率を有し、表示基板の中央部及び結合領域で発生した熱量を伝達し、即ち、コバルトナノ粒子２２２２は表示基板の熱をタイムリーに放出することにより、表示基板の通常の動作温度に確保することができる。
なお、本実施例ではスペーサにコバルトナノ粒子をドーピングすることに限定されず、熱量を吸収する効果を果たす他のナノ粒子であってもよい。例えば、スペーサにイリジウム（Ｉｒ）ナノ粒子等をドーピングすることができる。
例えば、本実施例では、順次に第１のノズル３１０を用いて第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２にカルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０を塗布し、第２のノズル３２０を用いて第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２にコバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０を塗布し、第３のノズル３３０を用いて第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２に銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０を塗布することができる。本実施例では塗布の順序を限定しなく、他の順序で塗布することができる。なお、本実施例では周辺領域にカルシウム、銀およびコバルトナノ粒子のスペーサを塗布することに限定されなく、周辺領域にカルシウム、銀およびコバルトナノ粒子の少なくとも一種類がドーピングされるスペーサを塗布することができる。
例えば、カルシウムナノ粒子は吸水後に膨張し変色しやすくなるので、接着材におけるカルシウムナノ粒子のドーピングの質量比が低い。即ち、スペーサの接着材にドーピングされるカルシウムナノ粒子のドーピングの質量比はコバルトまたは銀ナノ粒子のドーピングの質量比より低い。
例えば、カルシウムナノ粒子のドーピングの質量比は３％～６％であり、即ち、スペーサ質量全体に占めるカルシウムナノ粒子の質量比は３％～６％である。本実施態様では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
例えば、銀ナノ粒子／コバルトナノ粒子のドーピングの質量比は８％～１２％であり、即ち、スペーサ質量全体に占める銀ナノ粒子／コバルトナノ粒子の質量比は８％～１２％である。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。なお、各金属ナノ粒子のドーピングの質量比は実際の表示基板の需要に応じて調整することができる。
例えば、カルシウムナノ粒子がドーピングされたスペーサの数と、銀ナノ粒子がドーピングされたスペーサの数と、コバルトナノ粒子がドーピングされたスペーサの数との比は３：３：４である。本実施例では限定されない。表示基板が水蒸気、酸素粒子、有機不純物ガスなどの影響を受けることに応じて、周辺領域の各位置にドーピングされたナノ粒子の種類と割合を決定する。
例えば、本実施例で製造したスペーサの高さは４μｍ以上である。例えば、スペーサの高さは４～１０μｍである。本実施態様ではこれのみに限定されない。本実施例で高さは４μｍ以上のスペーサを製造する場合、通常の塗布、露光及びエッチング工程等で製造した高さは４μｍ以上のスペーサと比べて、バッチで塗布する必要及びマスク露光の工程を添加する必要もなく、即ち、工程プロセスを省略し、コストを節約できる。
例えば、接着材にドーピングされるナノ粒子は接着材に均一に分布されることを確保することにより、吸湿、放熱、吸気などの効果を果たし、表示基板の寿命を延長することができる。
例えば、本実施例で異なるノズルに含まれる接着材は同じ接着材であってもよい。
例えば、異なるナノ粒子がドーピングされる異なるノズルを用いて周辺領域の異なる特定の位置を塗布する場合、各ノズルに含まれる接着材は同じ接着材であるので、周辺領域の異なる位置に塗布される接着材はシームレスな拡散接触を実現することができる。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、異なるノズルが異なる種類の接着材を含むことができる。
例えば、本実施例では画素限定層を形成した後、発光層を形成する前にスペーサを製造してもよいし、発光層を形成した後にスペーサを製造してもよい。本実施例では限定されない。
例えば、図２は本実施例で提供される表示基板の製造方法で製造される表示基板の断面図である。図２に示されるように、ベース基板２０１上に複数の画素ユニットが形成され、例えば、赤色（Ｒ）の画素ユニット、緑色（Ｇ）の画素ユニット、青色（Ｂ）の画素ユニット等を含むことができる。本実施態様でこれのみに限定されない。画素ユニットは、有効表示領域２１１と、有効表示領域２１１を囲む周辺領域とを含み、前記周辺領域は非表示領域である。
例えば、画素限定層２３０は周辺領域に設置され、本実施例でこれのみに限定されない。
例えば、周辺領域に複数のスペーサ２２０を形成した後、カバープレート２４０を表示基板とマッチして表示基板を形成する。
例えば、表示基板をフリット（ｆｒｉｔ）封止法で封止し、即ち、窒素雰囲気中で有機発光ダイオード表示基板における表示基板とカバーガラス２４０の周囲の封止領域にフリット２５０を充填し、レーザビームを用いて、移動しながらフリットを加熱し、溶融したフリット２５０が表示基板とカバーガラス２４０との間に密封された封止接続を形成する。
例えば、フリット２５０は無機酸化物などの材料を用いることができる。本実施例は、フリット封止法を用いて表示基板を封止することに限定されなく、例えば、シール（ｓｅａｌ）等により表示基板を封止してもよい。
本実施例は表示基板を提供する。図３ａは表示基板の平面模式図を示す。図３ａに示されるように、該表示基板２００は、画素領域２６７０と、画素領域２６７０の特定の位置に分布された複数のスペーサ２２０とを含む。画素領域２６７０はアレイ状に配列される複数の画素領域ユニット２１０を含む。画素領域２６７０はそれの中央部に位置する第１の領域２６０と、前記第１の領域２６０を囲む第２の領域２７０とを含み、表示基板２００はさらに、前記第２の領域２７０の外における第１の方向（即ち、Ｘ方向）に伸びる第１の縁部に位置する結合（ｂｏｎｄｉｎｇ）領域２８０を含む。結合領域２８０が図１における位置およびサイズは模式的な例であり、即ち、結合領域２８０は第１の方向に伸びる第１の縁部に位置するとは限らず、表示基板２００の第２の領域２７０の外における他の縁部に設置されてもよい。本実施例では限定されない。
なお、ここで「第１の領域」とは、表示基板の中央部領域を指し、「第２の領域」とは、第１の領域を囲む表示基板の環状領域を指す。
例えば、図１に示されるように、ＡＢ方向に沿った前記第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った前記第２の領域２７０の長さとの比の範囲は、０．５～４である。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。ここで、「ＡＢ方向に沿った第２の領域２７０の長さ」とは、ＡＢ方向に沿い、第１の領域２６０の両側に位置する第２の領域２７０の長さの合計を意味する。例えば、ＡＢ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った前記第２の領域２７０の長さとの比は、３：２又は２：３である。本実施例ではこれのみに限定されない。なお、本実施例でＡＢ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＡＢ方向に沿った第２の領域２７０の長さとの比の範囲は、０．５～４であるとは限らない。例えば、Ｙ方向に沿った第１の領域２６０の長さとＹ方向に沿った第２の領域２７０の長さとの比の範囲は、０．５～４である。
例えば、図３ｂは表示基板の画素ユニットの平面模式図である。図３ｂに示されるように、表示基板の各画素ユニット２１０は有効表示領域２１１と、有効表示領域２１１を囲む周辺領域２１２とを含み、前記周辺領域２１２は非表示領域である。複数のスペーサ２２０は周辺領域２１２の複数の特定位置に設置される。
例えば、周辺領域２１２は画素限定層２３０を含み、複数のスペーサ２２０は画素限定層２３０に設置されてもよい。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。例えば、複数のスペーサは周辺領域のカソード層上に設置されてもよい。
なお、本実施例では、表示基板が有機発光ダイオードである表示基板を例として説明する。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、表示基板は、アレイ基板やカラーフィルム基板等であってもよい。
例えば、複数のスペーサ２２０を形成する前に、交互に設置された親水性領域および疎水性領域を形成するように周辺領域２１２の表面を処理することにより、スペーサ２２０の形を制御する。
例えば、本実施例では、プラズマ表面処理工程等で周辺領域２１２の特定位置の表面を処理した後、インクジェット印刷工程により疎水性領域と親水性領域にスペーサ２２０を形成するための接着材２２１を塗布することにより、固定の形状を有するスペーサ２２０を形成する。なお、接着材が油性材料である場合、本実施例では、接着材の拡散を防ぐために接着材を疎水性領域に塗布するので、上記の「特定位置」は疎水性領域を指す。前記接着材が親水性材料である場合、本実施例では、接着材の拡散を防ぐために接着材を親水性領域に塗布するので、上記の「特定位置」は親水性領域を指す。本発明の実施態様では前記内容を限定しない。本実施例では、インクジェット印刷工程の精確な定位機能によりスペーサの定位塗布を実現し、スペーサの作製材料の利用率を向上させ、作製工程を簡略化することもできる。
なお、本実施例で提供されるスペーサは、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含む
例えば、図３ａに示されるように、スペーサ２２０にドーピングされるナノ粒子はカルシウム（Ｃａ）ナノ粒子２２２１、コバルト（Ｃｏ）ナノ粒子２２２２および銀（Ａｇ）ナノ粒子２２２３を含む。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。本実施例ではスペーサに多種類のナノ粒子がドーピングされることにより、吸湿、放熱、吸気など効果を実現し、表示装置の寿命を延ばす機能を実現することができる。
例えば、本実施例では複数のスペーサ２２０に多種類のナノ粒子がドーピングされる場合、各スペーサ２２０に一種類のナノ粒子がドーピングされることを例として説明する。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。例えば、各々のスペーサに多種類のナノ粒子がドーピングされる場合、各ナノ粒子のドーピング質量比を調節することができる。即ち、表示基板における異なる位置の需要に応じて、接着材にドーピングされる各ナノ粒子ドーピング質量比を調節することができる。
なお、本実施例はスペーサにドーピングされるナノ粒子はカルシウムナノ粒子、コバルトナノ粒子および銀ナノ粒子を含むことを例として説明したが、本実施例ではこれのみに限定されない。また、カルシウムナノ粒子、コバルトナノ粒子および銀ナノ粒子の一つのみ含んでもよく、又は任意二種類のナノ粒子の組み合わせを含んでいい。
例えば、スペーサ２２０の接着材２２１にドーピングされるカルシウム（Ｃａ）ナノ粒子２２２１は、水分及び酸素粒子を吸収する機能を有する。有機発光ダイオード表示基板が酸素粒子および水分に対して非常に敏感であるので、有機発光ダイオード表示基板の内部に酸素や水分が浸入すると、黒点、ピンホール、電極酸化、有機材料化学反応などの欠陥を引き起こし、有機発光ダイオード表示基板の寿命に深刻な影響を与える。従って、本実施例では、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０を用いて、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２に位置する複数の特定位置に塗布する。例えば、第２の領域２７０の周辺領域２１２に設置されるカルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０の数を第１の領域２６０の周辺領域２１２に設置されるカルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０の数より大きくすることより、水と酸素侵食の経路を延長する。即ち、カルシウムナノ粒子と水及び酸素との化学反応により水と酸素を吸収し、微量の酸素粒子や水分が表示基板への侵食を防ぎ、間接的に表示基板の寿命を向上させることができる。本実施例は、これのみに限定されない。例えば、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０を第２の領域２７０の周辺領域２１２のみに設置することにより、微量の酸素粒子や水分が表示基板への侵食を防ぐこともできる。
なお、本実施例ではスペーサにカルシウムナノ粒子をドーピングすることに限定されなく、酸素粒子や水分を吸収する効果を果たす他のナノ粒子であってもよい。例えば、スペーサにバリウム（Ｂａ）ナノ粒子、ジルコニウム（Ｚｒ）ナノ粒子またはチタン（Ｔｉ）ナノ粒子などの金属粒子をドーピングすることができる。
例えば、アクティブマトリクス有機発光ダイオードディスプレイ基板の製造する場合、薄膜トランジスタにカラーフィルムを製造し、カラーフィルムにインジウムスズ酸化物を堆積し、白色有機発光ダイオードを製造する工程において、カラーフィルムにおける染料、色素、分散剤等の材料から放出された有機不純物ガス（アウトガス）は、薄膜トランジスタ素子に入り、薄膜トランジスタの生産率に影響を与え、表示基板の使用寿命を大幅に短縮する。本実施例では、銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０を、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２に位置する複数の特定位置に塗布する。即ち、表示基板２００の中央部及び中央部を囲む環状領域に銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０を設置し、酸素と作用して酸素を吸収し、また有機発光ダイオード表示基板に残留の有機不純物ガスを吸収することにより、有害物質を除去し、表示基板の寿命を延ばすことができる。
なお、本実施例ではスペーサに銀ナノ粒子をドーピングするに限定されなく、酸素粒子及び有機不純物ガスを吸収する効果を果たす他のナノ粒子であってもよい。
例えば、コバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０を、第１の領域２６０及び第２の領域２７０の周辺領域２１２に塗布する。
例えば、結合領域２８０から離れた第２の領域２７０に設置されるコバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０の数は結合領域２８０に近い第２の領域２７０及び第１の領域２６０に設置されるスペーサ２２０の数により少ない。即ち、結合領域２８０に近い第２の領域２７０にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２の数は他の位置にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２の数より多い。
例えば、第２の領域２７０における結合領域２８０に近い領域は、結合領域２８０と第１の領域２６０の間における第２の領域２７０を含む
例えば、第２の領域２７０における結合領域２８０に近い領域は、Ｙ方法に沿った画素領域２６７０のサイズにおいて、結合領域２８０に近い１０％以内の領域を含み、本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
例えば、図３ａに示されるように、結合領域２８０がＸ方向に伸び、第２の領域２７０が環状領域であり、第２の領域２７０において結合領域２８０に近い領域は、環状第２の領域２７０において、結合領域２８０に近く、Ｘ方向に伸びる領域の全体を含む。
例えば、結合領域２８０に近い第２の領域２７０及び第１の領域２６０のみに、コバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０を設置してもよい。即ち、表示基板２００の中央部及び結合領域２８０に近い位置のみにコバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０を設置することができ、本実施態様ではこれのみに限定されない。
一方、有機発光ダイオード表示基板は、封止工程で高いレーザ放射を受けるので、即ち、表示基板にカバーボンディングを行う工程で、レーザビームにより、表示基板を封止するためのフリット（ｆｒｉｔ）を加熱して溶融する。即ち、カバーボンディングを行う工程で、表示基板が高いレーザ放射を受けるので、一定の熱が発生する。一方、有機発光ダイオード表示基板が照射する場合にも、対応の熱量が発生し、表示基板の中央部及び結合（ｂｏｎｄｉｎｇ）領域の温度が明らかに上昇し、迅速に広がりにくい。本実施例では、スペーサ２２０の接着材２２１にドーピングされるコバルトナノ粒子２２２２は高い熱伝導率を有し、表示基板の中央部及び結合（ｂｏｎｄｉｎｇ）領域で発生した熱量を伝達し、即ち、コバルトナノ粒子２２２２は表示基板の熱をタイムリーに伝達することには有利であり、表示基板の通常の動作温度を確保する。
なお、本実施例ではスペーサにコバルトナノ粒子がドーピングされることに限定しなく、熱量を吸収する効果を果たす他のナノ粒子がドーピングされもいい。例えば、スペーサにイリジウム（Ｉｒ）ナノ粒子等をドーピングすることができる。
例えば、カルシウムナノ粒子２２２１は吸水後に膨張して変色しやすくなるので、接着材２２１にカルシウムナノ粒子２２２１のドーピングの質量比が低い。即ち、接着材２２１にドーピングされるカルシウムナノ粒子２２２１のドーピングの質量比はコバルトナノ粒子２２２２または銀ナノ粒子２２２３のドーピングの質量比より低い。
例えば、カルシウムナノ粒子２２２１のドーピングの質量比は３％～６％であり、即ち、スペーサ２２０質量全体に占めるカルシウムナノ粒子２２２１の質量比は３％～６％である。本実施態様では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
例えば、銀ナノ粒子２２２３／コバルトナノ粒子２２２２のドーピングの質量比は８％～１２％であり、即ち、スペーサ質量全体に占める銀ナノ粒子２２２３／コバルトナノ粒子２２２２の質量比は８％～１２％である。本実施態様では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
なお、各金属なの粒子のドーピングの質量比は実際な表示基板の需要に応じて調整することができる。
例えば、カルシウムナノ粒子２２２１がドーピングされたスペーサ２２０の数と、銀ナノ粒子２２２３がドーピングされたスペーサ２２０の数と、コバルトナノ粒子２２２２がドーピングされたスペーサ２２０の数との比は３：３：４程度である。本実施態様では前記内容を含むが、これのみに限定されない。表示基板が水分、酸素粒子、有機不純物ガスなどの影響を受けることを考慮に入れ、周辺領域の各位置にドーピングされたナノ粒子の種類と比を決定する。なお、本実施例では、周辺領域にカルシウム、銀とコバルトナノ粒子がドーピングされるスペーサを設置することに限定されなく、周辺領域にカルシウム、銀とコバルトナノ粒子の少なくとも一つをドーピングするスペーサを設置することでもよい。
例えば、本実施例で提供されるスペーサ２２０の高さは４μｍ以上である。例えば、スペーサ２２０の高さは４～１０μｍであり、本実施例では前記内容を限定しない。
例えば、ナノ粒子がドーピングされた接着材２２１は、高粘度な熱硬化性材料である。例えば、本実施例に使用される高粘度な熱硬化性材料は、エポキシ樹脂、ポリイミド、シリコーンなどを含み、上記の材料をドーピングすることにより粘度を高める効果を得る。
例えば、本実施例に使用される接着材の粘度は一般的にスペーサを形成する接着材の粘度の１０～１００倍である。
例えば、この実施例で使用されるスペーサの粘度は１００００～１０００００Ｐａ・ｓである。本実施例ではこれのみに限定されない。周辺領域の特定の位置に塗布された高粘度な接着材は加熱により固化され、固定の形状を有するスペーサを迅速に形成することができるので、本実施例では、スペーサの形状の制御を実現し、工程を省略し、材料の利用効率を向上させることができる。
例えば、接着材２２１にドーピングされるナノ粒子は前記接着材２２１に均一に分布することを確保することにより、吸湿、放熱、吸気などの効果を実現し、表示基板の寿命を延長することができる。
例えば、本実施例で異なるナノ粒子がドーピングされる接着材２２１は同じ接着材であってもよい。
例えば、周辺領域２１２の異なる特定位置に異なるナノ粒子がドーピングされる接着材２２１を塗布する場合、接着材２２１は同じ接着材であるので、周辺領域２１２の異なる特定の位置に塗布される接着材２２１はシームレスな拡散接触を実現することができる。
例えば、図３ａと４ｂに示されるように、本実施例で周辺領域２１２の異なる特定位置に異なるナノ粒子がドーピングされる同じ接着材２２１を塗布し、同じ接着材はシームレスな拡散接触を実現できるので、有効表示領域２１１を囲む連続なスペーサ２２０を形成する。本実施態様では前記内容を含むが、これのみに限定されない。
例えば、図４ａは本発明の一つの実施態様で提供される表示基板の平面模式図である。図４ａに示されるように、例えば、交互に設置された親水性領域および疎水性領域を形成するように周辺領域２１２の表面を処理した後、特定の位置に塗布され且つ同じ接着材２２１を有するスペーサ２２０が図に示されるようなブロック状なスペーサに形成する。本実施例ではこれのみに限定されない。図４ａは模式的な例である。
例えば、図４ｂは本発明の一つの実施例で提供される表示基板の平面模式図である。図４ｂに示されるように、周辺領域２１２におけるＹ方法に沿って設置されるスペーサ２２０は同じ接着材２２１で形成される。即ち、シームレスな拡散して、有効表示領域２１１におけるＹ方向に伸びるストリップ状なスペーサ２２０を形成させることができる。本実施例では前記内容を含むが、これのみに限定されない。例えば、周辺領域２１２におけるＸ方向に沿って設置されるスペーサ２２０は同じ接着材２２１で形成されてもよく、他の特定の位置に同じ接着材２２１で形成されるスペーサ２２０を設置してもよい。
例えば、異なるナノ粒子がドーピングされる接着材は異なる接着材であってもよい。周辺領域の異なる特定の位置に異なるナノ粒子がドーピングされる異なる接着材を塗布する場合、スペーサにシームレスな拡散接触の現象が起こらない。本実施例ではこれのみに限定されない。例えば、多種類のナノ粒子がドーピングされる接着材で使用される接着材が完全に同じではなく、即ち、一部分的に多種類のナノ粒子がドーピングされる接着材は同じ接着材を使用し、他の部分は異なる接着材を使用する。従って、これによりストリップ状なスペーサ及びブロック状なスペーサを形成することが可能である。
本実施例では表示装置を提供する。該表示装置は上記いずれかのナノ粒子がドーピングされるスペーサを有する表示基板を含む。該表示装置は作業中に吸湿、放熱、吸気などの機能を有し、表示装置の寿命を延ばす。
例えば、該表示装置は、液晶ディスプレイ装置、ＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ Ｌｉｇｈｔ－Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ、有機発光ダイオード）表示装置などの表示デバイス及び該表示装置を含むテレビ、デジタルカメラ、携帯電話、腕時計、タブレットコンピュータ、ノートパソコン、ナビゲータなどのような表示機能を有する製品または部品とすることができる。本実施例ではこれのみに限定されない。
注意すべき点がいくつかある：
（１）別途に定義されない限り、本開示の実施例および図面において、同じ表記が同じ意味を示す。
（２）本開示の実施例の図面では、本実施例に関連する構造のみに関わり、他の構造は一般的な設計を参照することができる。
（３）明確にするために、本開示の実施例を説明するための図面において、層または領域が拡大される。例えば、層、膜、領域または基板のような要素が別の要素の「上にある」または「下にある」と述べられた場合、該要素は「直接的に」他の要素の「上にある」または「下にある」、また中間要素が存在してもよい。
以上、本開示の具体的な実施例のみであり、本発明の保護範囲はこれのみに限定されない。本分野の技術に詳しい当業者は本開示に開示された技術範囲内で、簡単に考えられる変形又は交替のいずれも本開示の保護範囲以内に含まれる。よって、本開示の保護範囲は特許請求の範囲に準じるべきである。
２００ 表示基板
２０１ ベース基板
２１０ 画素領域ユニット
２１１ 有効表示領域
２１２ 周辺領域
２２０ スペーサ
２２１ 接着材
２２２ ナノ粒子
２３０ 画素限定層
２４０ カバーガラス
２５０ フリット
２６０ 第１の領域
２７０ 第２の領域
２８０ 結合領域
３１０ ノズル
３２０ ノズル
３３０ ノズル
２２２１ カルシウムナノ粒子
２２２２ コバルトナノ粒子
２２２３ 銀ナノ粒子
２６７０ 画素領域

Claims (18)

  1. 画素領域を含み、前記画素領域は、アレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、前記画素ユニットの各々は、有効表示領域と、前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを有する表示基板の製造方法であって、
    前記表示基板の製造方法は、
    インクジェット印刷工程により前記周辺領域に複数のスペーサを形成する段階を含み、
    前記スペーサは、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含み、
    前記スペーサに、多種類のナノ粒子をドーピングし、前記スペーサを形成する段階は、
    複数のノズルを用いて前記周辺領域の複数箇所に前記スペーサを塗布する段階であって、前記ノズルの各々を用いて塗布した前記スペーサに一種類の前記ナノ粒子がドーピングされ、異なる前記ノズルを用いて塗布した前記スペーサに異なる前記ナノ粒子がドーピングされる段階を含み、
    前記スペーサにドーピングされた前記ナノ粒子は、カルシウムナノ粒子、コバルトナノ粒子及び銀ナノ粒子の金属ナノ粒子を含む、表示基板の製造方法。
  2. 前記インクジェット印刷工程により前記周辺領域に前記スペーサを形成する前に、前記周辺領域の表面を処理することにより、交互に設置される親水性領域および疎水性領域を形成することをさらに含む、請求項１に記載の表示基板の製造方法。
  3. 前記画素領域は、それの中央部に位置する第１の領域および前記第１の領域を囲む第２の領域を含み、
    前記表示基板は、前記第２の領域の外における第１の方向に伸びる第１の縁部に位置する結合領域をさらに含む、請求項１又は２に記載の表示基板の製造方法。
  4. 前記スペーサを形成する段階は、
    前記第１の領域および前記第２の領域に前記カルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階であって、前記第２の領域に形成されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数が、前記第１の領域に形成されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より多い段階を含む、請求項３に記載の表示基板の製造方法。
  5. 前記スペーサを形成する段階は、
    前記第１の領域および前記第２の領域に前記銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階を含む、請求項３又は４に記載の表示基板の製造方法。
  6. 前記スペーサを形成する段階は、
    前記第１の領域および前記第２の領域に前記コバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサを形成する段階であって、前記結合領域から離れた前記第２の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数が、前記第１の領域および前記結合領域に近い前記第２の領域に形成されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より少ない段階を含む、請求項３～５のいずれか一項に記載の表示基板の製造方法。
  7. 形成される前記スペーサの高さは４μｍ以上である、請求項１～６のいずれか一項に記載の表示基板の製造方法。
  8. アレイ状に配列された複数の画素ユニットを含み、前記画素ユニットの各々は有効表示領域と前記有効表示領域の周辺に位置する周辺領域とを含む画素領域と、
    前記周辺領域に配置された複数のスペーサと、を含み、
    前記スペーサは、接着材と、前記接着材にドーピングされた少なくとも一種類のナノ粒子とを含み、
    前記複数のスペーサに多種類のナノ粒子がドーピングされ、前記スペーサの各々に一種類の前記ナノ粒子がドーピングされ、
    前記スペーサにドーピングされた前記ナノ粒子は、カルシウムナノ粒子、コバルトナノ粒子及び銀ナノ粒子の金属ナノ粒子を含む、表示基板。
  9. 前記接着材は高粘度な熱硬化性材料であり、且つ前記接着材の粘度は１００００～１０００００Ｐａ・ｓである、請求項８に記載の表示基板。
  10. 前記ナノ粒子は前記接着材に均一に分布している、請求項８又は９に記載の表示基板。
  11. 前記画素領域は、それの中央部に位置する第１の領域と、前記第１の領域を囲む第２の領域とを含み、
    前記表示基板は、前記第２の領域の外における第１の方向に伸びる第１の縁部に位置する結合領域をさらに含む、請求項８～１０のいずれか一項に記載の表示基板。
  12. 前記銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第１の領域および前記第２の領域に配置される、請求項１１に記載の表示基板。
  13. 前記カルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第１の領域および前記第２の領域に配置され、且つ前記第２の領域に配置されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数は、前記第１の領域に配置されるカルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より多い、請求項１１又は１２に記載の表示基板。
  14. 前記コバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサは、前記第１の領域および前記第２の領域に配置され、且つ前記結合領域から離れた前記第２の領域に配置されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数は、前記第１の領域および前記結合領域に近い前記第２の領域に配置されるコバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数より少ない、請求項１１～１３のいずれか一項に記載の表示基板。
  15. 前記第１の方向に沿った前記第１の領域の長さと前記第１の方向に沿った前記第２の領域の長さとの比の範囲は、０．５～４である、請求項１１～１４のいずれか一項に記載の表示基板。
  16. 前記カルシウムナノ粒子のドーピング質量比は３％～６％であり、前記銀ナノ粒子のドーピング質量比は８％～１２％であり、前記コバルトナノ粒子のドーピング質量比は８％～１２％である、請求項８～１５のいずれか一項に記載の表示基板。
  17. カルシウムナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数と、銀ナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数と、コバルトナノ粒子がドーピングされた前記スペーサの数との比は３：３：４である、請求項８～１５のいずれか一項に記載の表示基板。
  18. 請求項８～１７のいずれか一項に記載の表示基板を含む、表示装置。
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