CN114830020B - 显示用基板及其制作方法、液晶显示面板 - Google Patents

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Abstract

公开一种显示用基板及其制作方法、液晶显示面板，显示用基板用作液晶显示面板的出光侧基板，其中，所述显示用基板包括：设置在所述衬底上的彩膜层；位于所述彩膜层远离所述衬底的一侧的至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与所述彩膜层接触设置第一覆盖层；至少一层光学补偿层，所述至少一层光学补偿层中的每层均位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，用于补偿从所述液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；隔垫物，所述隔垫物位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，并与所述至少一层覆盖层中的一者接触。

Description

显示用基板及其制作方法、液晶显示面板
技术领域
本公开涉及显示技术领域，具体涉及一种显示用基板及其制作方法、液晶显示面板。
背景技术
LCD(Liquid crystal display，液晶显示器)已经广泛应用于显示技术领域，但是，在液晶显示器中，会存在暗态漏光问题。
发明内容
本公开提出了一种显示用基板及其制作方法、液晶显示面板。
第一方面，公开提供一种显示用基板，用作液晶显示面板的出光侧基板，其中，所述显示用基板包括：
衬底；
设置在所述衬底上的彩膜层；
位于所述彩膜层远离所述衬底的一侧的至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与所述彩膜层接触设置第一覆盖层；
至少一层光学补偿层，所述至少一层光学补偿层中的每层均位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，用于补偿从所述液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；
隔垫物，所述隔垫物位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，并与所述至少一层覆盖层中的一者接触。
在一些实施例中，所述光学补偿层为固化的液晶膜，所述显示用基板还包括：
与所述光学补偿层一一对应的第一取向层，所述第一取向层位于相应的所述光学补偿层与所述第一覆盖层之间；
第二取向层；
其中，每层所述光学补偿层均位于所述第二取向层与所述第一取向层之间。
在一些实施例中，所述至少一层覆盖层还包括：
第二覆盖层，位于所述第二取向层与其相邻的所述光学补偿层之间；
其中，所述隔垫物与所述第二覆盖层接触设置，所述第二取向层至少覆盖所述隔垫物在第二覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域。
在一些实施例中，所述隔垫物与所述第一覆盖层接触设置，所述第一取向层至少覆盖所述隔垫物在第一覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域。
在一些实施例中，所述第二取向层与所述光学补偿层接触设置。
在一些实施例中，所述显示用基板还包括：黑矩阵，位于所述第一覆盖层与所述衬底之间。
第二方面，本公开实施例还提供一种显示用基板的制作方法，所述显示用基板用作液晶显示面板的出光侧基板，所述制作方法包括：
在衬底上形成彩膜层；
在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与所述彩膜层接触设置的第一覆盖层；
形成至少一层光学补偿层，所述至少一层光学补偿层中的每层均位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，用于补偿从所述液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；
形成隔垫物，所述隔垫物位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，并与所述至少一层覆盖层中的一者接触。
在一些实施例中，在形成隔垫物的步骤之前，还包括：
对所述第一覆盖层的表面进行等离子体处理；
形成与所述光学补偿层一一对应的第一取向层，每层所述第一取向层在形成相应的所述光学补偿层之前形成；
其中，形成每层所述光学补偿层的步骤包括：形成液晶材料层，并将其固化，以形成光学补偿层。
在一些实施例中，所述至少一层覆盖层还包括：第二覆盖层，位于所有的所述光学补偿层远离衬底的一侧；
在形成所述第一取向层之前，还包括：利用第一溶液对所述第一覆盖层的表面进行冲洗；
形成隔垫物的步骤包括：
对所述第二覆盖层的表面进行等离子体处理；
在所述第二覆盖层的表面形成隔垫物材料层；
对所述隔垫物材料层进行曝光，并利用所述第一溶液对曝光后的隔垫物材料层进行显影，以形成所述隔垫物的图形；
形成隔垫物的步骤之后还包括：
形成第二取向层，所述第二取向层至少覆盖所述隔垫物在所述第二覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域。
在一些实施例中，形成隔垫物的步骤包括：
在所述第一覆盖层的表面形成隔垫物材料层；
对所述隔垫物材料层进行曝光，并利用第一溶液对曝光后的隔垫物材料层进行显影，以形成所述隔垫物的图形；
其中，所述第一取向层在形成所述隔垫物之后形成，所述第一取向层至少覆盖所述隔垫物在第一覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域；
形成隔垫物的步骤之后还包括：在所有的所述光学补偿层远离所述衬底的一侧形成第二取向层。
在一些实施例中，形成所述第二取向层的步骤与形成其中一层光学补偿层的步骤紧邻，以使所述第二取向层与所述光学补偿层接触。
在一些实施例中，在形成彩膜层之前，还包括：
形成黑矩阵，所述黑矩阵位于所述第一覆盖层与所述衬底之间。
第三方面，本公开实施例还提供一种液晶显示面板，其包括上述实施例中的显示用基板。
附图说明
附图是用来提供对本公开的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本公开，但并不构成对本公开的限制。在附图中：
图1为相关技术中的一种液晶显示面板的示意图。
图2为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的示意图。
图3为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的示意图。
图4为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的制作方法的具体流程图。
图5A至图5G为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的制作过程示意图。
图6为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的制作方法的具体流程图。
图7A至图7F为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的制作过程示意图。
具体实施方式
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
这里用于描述本公开的实施例的术语并非旨在限制和/或限定本公开的范围。例如，除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。应该理解的是，本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。除非上下文另外清楚地指出，否则单数形式“一个”、“一”或者“该”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则所述相对位置关系也可能相应地改变。
在液晶显示器中，普遍会存在暗态漏光问题。其中，在ADS(Advanced SuperDimension Switch，高级超维场转换技术)型液晶显示器、IPS(In-Plane Switching，平面转换)型液晶显示器中，暗态漏光问题会比较严重。
图1为相关技术中的一种液晶显示面板的示意图，如图1所示，液晶显示面板包括对盒设置的阵列基板1和彩膜基板2、以及位于阵列基板1与彩膜基板2之间的液晶层3。阵列基板1远离彩膜基板2的一侧设置有下偏光片4，彩膜基板2远离阵列基板1的一侧设置有上偏光片5。在进行显示时，还需要设置背光源为液晶显示面板提供光线，背光源的光线发射的光线依次经过下偏光片4、阵列基板1、液晶层3、彩膜基板2和上偏光片5后射出。
以ADS型液晶显示面板为例，液晶层3中的液晶在初始状态下处于水平状态，在不加电压的情况下，液晶对于光线没有扭曲作用，因此，经过液晶层3后的光线的偏振方向与上偏光片5的透光轴的方向垂直，光线无法透过上偏光片5，从而使液晶显示面板处于暗态；在加电压的情况下，液晶层3中的液晶发生旋转，以对光线进行扭曲，从而改变了光线的偏振方向，使得光线可以通过上偏光片5射出，进而显示画面，此时，液晶显示面板处于亮态。
由于阵列基板1和彩膜基板2的衬底一般多采用玻璃制成，而玻璃对光线具有双折射作用，那么，当液晶显示面板处于暗态时，光线经过阵列基板1后发生双折射现象，导致光线的偏振状态发生轻微变化；之后，光线经过液晶层3后再次发生双折射现象，其相位延迟量进一步增大，偏振状态变化明显。这样，从液晶层3射出的光线的偏振方向与上偏光片5的透光轴的方向不再保持垂直，导致一部分光线会透过上偏光片5，进而导致液晶显示面板出现暗态漏光的不良问题。尤其在液晶显示面板受到挤压等外力时，不良问题更加严重。
图2为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的示意图，显示用基板用作液晶显示面板的出光侧基板，例如，显示用基板用作液晶显示面板的彩膜基板。如图2所示，显示用基板包括：衬底11、彩膜层12、至少一层覆盖层OC、至少一层光学补偿层13、多个隔垫物14。
其中，衬底11可以采用例如玻璃等硬质材料制成，也可以采用例如聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯等柔性的有机材料制成。在本公开的一些示例中，衬底11为玻璃衬底。
彩膜层12设置在衬底11上，彩膜层12包括多个色阻块，色阻块的颜色可以为红色、绿色、或蓝色。可选地，衬底11上还设置有黑矩阵BM，相邻色阻块在衬底11上的正投影被黑矩阵BM在衬底11上的正投影间隔开。
覆盖层OC设置衬底11上，每层覆盖层OC均位于彩膜层12远离衬底11的一侧，覆盖层OC可以采用树脂等有机材料制成。其中，衬底11上的覆盖层OC包括第一覆盖层OC1。例如，覆盖层OC的数量为一层，则该层覆盖层OC即为第一覆盖层OC1；或者，覆盖层OC的数量为多层，则多层覆盖层OC中最靠近衬底11的一者为第一覆盖层OC1。第一覆盖层OC1与彩膜层12接触设置，起到平坦化的作用。
每层光学补偿层13均位于第一覆盖层OC1远离衬底11的一侧，用于补偿从液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；
隔垫物14位于第一覆盖层OC1远离衬底11的一侧，并与其中一层覆盖层OC接触。例如，覆盖层OC的数量为一层，隔垫物14与第一覆盖层OC1接触；或者覆盖层OC的数量为多层，隔垫物14可以与第一覆盖层OC1接触，也可以与第一覆盖层OC1之外的其他覆盖层OC接触。
隔垫物14可以采用有机材料制成，例如，该有机材料为聚酰亚胺、聚碳酸酯、聚丙烯酸酯、聚醚酰亚胺等。隔垫物14用于维持显示用基板与阵列基板之间的间隙。
在本公开实施例中，衬底11上设置有光学补偿层13，这样，当显示用基板作为液晶显示面板中的出光侧基板时，光线经过阵列基板、液晶层而射向显示用基板，光学补偿层13能够补偿从液晶层射出的光线的相位延迟，从而使光线经过阵列基板、液晶层和光学补偿层后，其总的相位延迟接近或等于某一预设值(例如，该预设值可以为靠近可见光波段的中点值，例如，在530nm)，进而使光线达到预设的偏振状态，从而在液晶显示面板处于暗态时，基本上所有的光线不能射出显示用基板，从而改善暗态漏光的问题。
另外，在本公开实施例中，隔垫物14与其中一层覆盖层OC接触，这样，在通过曝光、显影的方式制作隔垫物14时，显影液可以改善覆盖层OC的表面的浸润性，从而使后续在覆盖层OC表面涂覆有机溶液(例如，用于制作取向层的取向液)时，该有机溶液的接触角减小，进而使有机溶液能够在覆盖层表面扩散得更均匀，有利于提高成膜的均一性。
在一些实施例中，光学补偿层13包括+A补偿层，+A补偿层满足：nx1＞ny1＝nz1，其中，nx1为+A补偿层在其面内的x轴方向上的折射率；ny1为+A补偿膜在其面内的y轴方向上的折射率，y轴与x轴垂直；nz1为+A补偿膜在其厚度方向上的折射率。+A补偿层为固化的液晶膜，液晶膜中的液晶分子的取向(即，液晶分子的长轴方向)基本相同。为了使液晶分子沿相同方向进行取向，如图2所示，在本公开实施例中，显示用基板还包括：第一取向层PI1，第一取向层PI1与光学补偿层13一一对应，第一取向层PI1位于相应的光学补偿层13与第一覆盖层OC1之间，且第一取向层PI1与相应的光学补偿层13相接触。另外，显示用基板还包括第二取向层PI2，每层光学补偿层13均位于第二取向层PI2与第一取向层PI1之间，第二取向层PI2用于对液晶显示面板的液晶层进行配向。
在另一些实施例中，光学补偿层13包括+C补偿层，或者包括+A与+C补偿层的组合。其中，+C补偿层满足：nz2＞ny2＝nx2，其中，nx2为+C补偿层在其面内的x轴方向上的折射率；ny2为+C补偿层在其面内的y轴方向上的折射率，y轴与x轴垂直；nz2为+C补偿层在其厚度方向上的折射率。+C补偿层同样为固化的液晶膜。对于各光学补偿层13的材料、厚度、液晶分子取向可以根据实际需要调整，只要满足补偿需要即可。
需要说明的是，图2中以第一取向层PI1和光学补偿层13均为一层为例进行示意说明，当然，第一取向层PI1和光学补偿层13也可以均为多层，此时，多层第一取向层PI1和多层光学补偿层13均位于第一覆盖层OC1和第二取向层PI2之间，且多层第一取向层PI1和多层光学补偿层13交替设置。以第一取向层PI1与其对应的光学补偿层13作为补偿膜层组，则相邻两个补偿膜层组之间可以接触，也可以被其他膜层间隔开。
在一些实施例中，覆盖层OC的数量为多层，该多层覆盖层OC除了包括上述第一覆盖层OC1之外，还包括第二覆盖层OC2，该第二覆盖层OC2位于第二取向层PI2以及与第二取向层PI2相邻的光学补偿层13之间。
其中，与第二取向层PI2相邻的光学补偿层13是指，该光学补偿层13与第二取向层PI2之间没有其他的光学补偿层13，而并不表示光学补偿层13与第二取向层PI2一定接触。
可选地，如图2所示，隔垫物14与第二覆盖层OC2接触设置，第二取向层PI2至少覆盖隔垫物14在第二覆盖层OC2上的接触区域以外的至少部分区域。因此，第二覆盖层OC2上未被隔垫物14所覆盖的区域中，至少部分被第二取向层PI2所覆盖。其中，隔垫物14与第二覆盖层OC2的材料可以相同，也可以不同。当隔垫物14与第二覆盖层OC2的材料相同时，隔垫物14与第二覆盖层OC2可以采用同一次构图工艺同步形成。
在图2所示的显示用基板的制作过程中，可以先形成黑矩阵BM和彩膜层12，之后形成第一覆盖层OC1，并对第一覆盖层OC1进行等离子处理、以及利用第一溶液对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗；之后，依次形成第一取向层PI1、光学补偿层13和第二覆盖层OC2。例如，第一溶液为氢氧化钾溶液。通过对第一覆盖层OC1进行等离子处理，可以去除第一覆盖层OC1表面的杂质，起到对第一覆盖层OC1的清洁作用，并改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，这样，在第一覆盖层OC1上涂覆用于形成第一取向层PI1的取向液时，有利于减小取向液的接触角。利用第一溶液对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗，可以进一步改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，从而在涂覆取向液时，使得取向液的接触角进一步减小，进而使取向液能够在第一覆盖层OC1表面扩散得更均匀，有利于提高成膜的均一性。
形成第二覆盖层OC2之后，依次形成隔垫物14和第二取向层PI2。其中，形成隔垫物14的具体过程可以包括：对第二覆盖层OC2进行等离子体处理，之后，形成隔垫物材料层，并对隔垫物材料层进行曝光、显影，从而得到隔垫物14的图形。其中，对第二覆盖层OC2进行的等离子体处理，至少可以去除第二覆盖层OC2表面的杂质，从而使隔垫物材料层与第二覆盖层OC2紧密接触，提高形成的隔垫物的稳定性。
图3为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的示意图，与图2相类似地，在图3所示的显示用基板中，同样包括彩膜层12、至少一层覆盖层OC、至少一层光学补偿层13和多个隔垫物14。与图2所不同的是，在图3中，覆盖层OC的数量为一层，即第一覆盖层OC1。每层光学补偿层13均位于第一覆盖层OC1远离衬底11的一侧，用于补偿从液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟。隔垫物14位于第一覆盖层OC1远离衬底11的一侧，并与第一覆盖层OC1接触。
另外，与图2相同的，在图3中，显示用基板还包括第一取向层PI1和第二取向层PI2，第一取向层PI1与光学补偿层13一一对应，第一取向层PI1位于相应的光学补偿层13与第一覆盖层OC1之间，且与相应的光学补偿层13接触。第一取向层PI1至少覆盖隔垫物14在第一覆盖层OC1上的接触区域之外的至少部分区域。因此，第一覆盖层OC1上未被隔垫物14所覆盖的区域中，至少部分被第一取向层PI1所覆盖。光学补偿层13均位于第二取向层PI2与第一覆盖层OC1之间。第一覆盖层OC1与衬底11之间还可以设置黑矩阵BM。
如图3所示，第二取向层PI2与光学补偿层13接触。需要说明的是，图3中仅示意性地表示出光学补偿层13和第一取向层PI1均为一层的情况，但并不构成对本公开的限制，例如，光学补偿层13和第一取向层PI1可以均为多层，此时，第一取向层PI1与光学补偿层13在第一覆盖层OC1与第二取向层PI2之间交替设置，第二取向层PI2与最远离衬底11的光学补偿层13接触。
在图3所示的显示用基板的制作过程中，可以先形成黑矩阵BM和彩膜层12，之后形成第一覆盖层OC1。之后，对第一覆盖层OC1进行等离子体处理，以至少去除第一覆盖层OC1表面的杂质；之后，形成隔垫物材料层，并对隔垫物材料层进行曝光、显影，从而得到隔垫物14的图形。之后，依次形成第一取向层PI1、光学补偿层13、第二取向层PI2。其中，在对隔垫物材料层进行显影的过程中，显影液(例如，氢氧化钾溶液)会将部分区域的隔垫物材料层去除，并对第一覆盖层OC1进行冲洗，从而改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，这样，在形成第一取向层PI1时，用于形成第一取向层PI1的取向液能够在第一覆盖层OC1上更均匀地分散开，从而提高第一取向层PI1的成膜均匀性。
和图2相比，图3所示的显示用基板的结构更简单，无需额外增加工艺步骤来对覆盖层OC进行处理，工艺更简单，有利于提高产能。
本公开实施例还提供一种上述显示用基板的制作方法，该制作方法包括：
S0、在衬底上形成彩膜层。
S1、在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与彩膜层接触设置的第一覆盖层。
S2、形成至少一层光学补偿层，至少一层光学补偿层中的每层均位于第一覆盖层远离衬底的一侧，用于补偿从液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟。例如，光学补偿层包括+A膜。
S3、形成隔垫物，隔垫物位于第一覆盖层远离衬底的一侧，并与其中一层覆盖层接触。
需要说明的是，覆盖层可以为一层，也可以为多层；当覆盖层为一层时，该层覆盖层即为第一覆盖层；当覆盖层为多层时，多层覆盖层中的一者为第一覆盖层。还需要说明的是，上述步骤S1～S3之间的先后顺序并无特点限定，例如，当覆盖层为多层时，其中一层覆盖层可以在所有的光学补偿层形成之前形成，也可以在所有的光学补偿层形成之后形成。
图4为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的制作方法的具体流程图，图5A至图5G为本公开的一些实施例中提供的显示用基板的制作过程示意图，其中，以覆盖层包括第一覆盖层和第二覆盖层，且光学补偿层为一层为例进行说明。
如图4至图5G所示，该制作方法包括：
S11、如图5A所示，在衬底11上形成黑矩阵BM和彩膜层12。
S12、如图5B所示，形成第一覆盖层OC1，其中，第一覆盖层OC1可以采用树脂材料制成。
由于树脂材料层的表面在未经过处理的情况下，浸润性较差，因此，后续涂覆取向液时，取向液在树脂材料层表面的接触角较大，导致后续形成的取向液在树脂材料层表的扩散不均匀。因此，在步骤S12之后，进行以下步骤S13。
S13、对第一覆盖层OC1的表面进行处理，以改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，减小后续涂覆的取向液在第一覆盖层OC1表面的接触角。例如，步骤S13可以包括：对第一覆盖层OC1的表面进行等离子体处理，并利用第一溶液对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗，该第一溶液可以作为后续形成隔垫物时的显影液。示例性地，第一溶液为氢氧化钾溶液。
其中，通过对第一覆盖层OC1进行等离子处理，可以去除第一覆盖层OC1表面的杂质，起到对第一覆盖层OC1的清洁作用，并改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，这样，后续在第一覆盖层OC1上涂覆用于形成第一取向层PI1的取向液时，有利于减小该取向液的接触角。利用第一溶液对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗，可以进一步改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，从而在涂覆取向液时，使得取向液的接触角进一步减小，进而使取向液能够在第一覆盖层OC1表面扩散得更均匀，有利于提高成膜的均一性。
在步骤S13之后，进行以下步骤：
S14、如图5C所示，形成第一取向层PI1。例如，步骤S14可以包括：涂覆取向液，对取向液进行固化，形成待取向的膜层；之后对待取向的膜层进行取向(例如，摩擦取向或光取向)，得到第一取向层PI1。
S15、如图5D所示，形成光学补偿层13。可选地，步骤S15包括：在第一取向层PI1上形成液晶材料层，并将其固化，以形成光学补偿层13。
需要说明的是，第一取向层PI1和光学补偿层13均可以为多层，此时，步骤S14和步骤S15可以交替进行，从而形成多层第一取向层PI1和多层第二取向层PI2，其中，第一取向层PI1和光学补偿层13一一对应，且每层第一取向层PI1在形成相应的光学补偿层13之前形成。
S16、如图5E所示，形成第二覆盖层OC2，该第二覆盖层OC2位于所有的光学补偿层13远离所述衬底11的一侧。第二覆盖层OC2可以采用树脂层。
S17、如图5F所示，形成多个隔垫物14，隔垫物14与第二覆盖层OC2接触设置。
可选地，该步骤S17包括：对第二覆盖层OC2的表面进行等离子体处理；之后，在第二覆盖层OC2的表面形成隔垫物材料层，之后对隔垫物材料层进行曝光，并利用上述第一溶液对曝光后的隔垫物材料层进行显影，以得到隔垫物14的图形。
其中，对第二覆盖层OC2进行等离子体处理的目的至少在于，去除第二覆盖层OC2表面的杂质，从而使隔垫物材料层与第二覆盖层OC2紧密接触，提高形成的隔垫物14的稳定性。
另外，在对隔垫物材料层进行显影时，第一溶液会将部分区域的隔垫物材料层去除，并对第二覆盖层OC2进行冲洗，从而改善第二覆盖层OC2表面的浸润性，这样，在后续形成第二取向层PI2时，用于形成第二取向层PI2的溶液能够在第二覆盖层OC2上更均匀地分散开，从而提高第二取向层PI2的成膜均匀性。
S18、如图5G所示，形成第二取向层PI2，第二取向层PI2位于第二覆盖层OC2远离衬底11的一侧，第二取向层PI2至少覆盖隔垫物14在第二覆盖层OC2上的接触区域以外的至少部分区域。例如，步骤S18可以包括：涂覆取向液，对取向液进行固化，形成待取向的膜层；之后对待取向的膜层进行取向(例如，摩擦取向或光取向)，得到第二取向层PI2。
图6为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的制作方法的具体流程图，图7A至图7F为本公开的另一些实施例中提供的显示用基板的制作过程示意图，其中，以覆盖层包括第一覆盖层OC1，且光学补偿层13为一层为例进行说明。
如图6至图7F所示，该制作方法包括：
S21、如图7A所示，在衬底11上形成黑矩阵BM和彩膜层12。
S22、如图7B所示，形成第一覆盖层OC1，其中，第一覆盖层OC1可以采用树脂材料制成。
S23、对第一覆盖层OC1的表面进行等离子体处理。对第一覆盖层OC1进行等离子体处理之后，至少可以去除第一覆盖层OC1表面的杂质，从而使后续形成的隔垫物材料层与第一覆盖层OC1紧密接触，提高形成的隔垫物的稳定性。
S24、如图7C所示，形成多个隔垫物14，隔垫物14位于第一覆盖层OC1远离衬底11的一侧，并与第一覆盖层OC1接触设置。
可选地，该步骤S24包括：在第一覆盖层OC1的表面形成隔垫物材料层，之后对隔垫物材料层进行曝光，并利用第一溶液对曝光后的隔垫物材料层进行显影，以得到隔垫物14的图形。示例性地，第一溶液为氢氧化钾溶液。同时，通过使用第一溶液冲洗，可以进一步改善第一覆盖层OC1表面的浸润性，从而在涂覆取向液时，使得取向液的接触角进一步减小，进而使取向液能够在第一覆盖层OC1表面扩散得更均匀，有利于提高成膜的均一性。
S25、如图7D所示，形成第一取向层PI1，例如，步骤S25可以包括：涂覆取向液，对取向液进行固化，形成待取向的膜层；之后对待取向的膜层进行取向(例如，摩擦取向或光取向)，得到第一取向层PI1。第一取向层PI1至少覆盖隔垫物14在第一覆盖层OC1上的接触区域以外的至少部分区域。
由于在形成隔垫物14的过程中，第一溶液会对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗，从而改善第一覆盖层OC1的浸润性，减小取向液的接触角，从而使取向液扩散得更均匀，提高第一取向层PI1的成膜均匀性。
S26、如图7E所示，形成光学补偿层13。例如，步骤S26包括：形成液晶材料层，并将其固化，以形成光学补偿层13。其中，液晶材料层可以涂覆在第一取向层PI1上。
S27、如图7F所示，形成第二取向层PI2，该第二取向层PI2位于所有的光学补偿层13远离衬底11的一侧。例如，步骤S27可以包括：涂覆取向液，对取向液进行固化，形成待取向的膜层；之后对待取向的膜层进行取向(例如，摩擦取向或光取向)，得到第二取向层PI2。
步骤S27与步骤S26紧邻，以使第二取向层PI2与光学补偿层13接触。当光学补偿层13有多层时，则形成第二取向层PI2的步骤与其中一层光学补偿层13的步骤紧邻。
通过上述制作过程可以看出，在图4至图5G所示的制作方法中，需要对膜层进行两次等离子体处理，以及利用第一溶液对膜层进行两次处理(即，冲洗和显影)；而在图6至图7F所示的制作方法中，在形成隔垫物14时，第一溶液会对第一覆盖层OC1的表面进行冲洗，因此，无需额外对第一覆盖层OC1进行处理，即，图6至图7F所示的制作方法中，对膜层进行了一次等离子体处理，以及利用第一溶液对膜层进行了一次处理(即，显影)，与图4至图5G所示的制作方法相比，图6至图7F所示的制作方法的工艺过程更加简单，有利于提高产能。
本公开实施例还提供一种液晶显示面板，其包括阵列基板和上述实施例中的显示用基板，阵列基板与显示用基板相对设置，阵列基板与显示用基板之间还设置有液晶层。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本公开的原理而采用的示例性实施方式，然而本公开并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本公开的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本公开的保护范围。

Claims (7)

1.一种显示用基板，用作液晶显示面板的出光侧基板，其中，所述显示用基板包括：
衬底；
设置在所述衬底上的彩膜层；
位于所述彩膜层远离所述衬底的一侧的至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与所述彩膜层接触设置第一覆盖层；
至少一层光学补偿层，所述至少一层光学补偿层中的每层均位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，用于补偿从所述液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；
隔垫物，所述隔垫物位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧；
其中，所述光学补偿层为固化的液晶膜，所述显示用基板还包括：
与所述光学补偿层一一对应的第一取向层，所述第一取向层位于相应的所述光学补偿层与所述第一覆盖层之间；
第二取向层；其中，每层所述光学补偿层均位于所述第二取向层与所述第一取向层之间；
所述隔垫物与所述第一覆盖层接触设置，所述第一取向层至少覆盖所述隔垫物在第一覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域；
其中，所述第一覆盖层的材料满足：与氢氧化钾溶液接触后，所述第一覆盖层表面对PI取向液的浸润性能够提高。
2.根据权利要求1所述的显示用基板，其中，所述第二取向层与所述光学补偿层接触设置。
3.根据权利要求1至2中任一所述的显示用基板，其中，所述显示用基板还包括：黑矩阵，位于所述第一覆盖层与所述衬底之间。
4.一种显示用基板的制作方法，所述显示用基板用作液晶显示面板的出光侧基板，所述制作方法包括：
在衬底上形成彩膜层；
在所述彩膜层远离所述衬底的一侧形成至少一层覆盖层，所述至少一层覆盖层包括与所述彩膜层接触设置的第一覆盖层；
形成至少一层光学补偿层，所述至少一层光学补偿层中的每层均位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧，用于补偿从所述液晶显示面板的液晶层射出的光线的相位延迟；
形成隔垫物，所述隔垫物位于所述第一覆盖层远离所述衬底的一侧；
在形成隔垫物的步骤之前，还包括：
对所述第一覆盖层的表面进行等离子体处理；
形成与所述光学补偿层一一对应的第一取向层，每层所述第一取向层在形成相应的所述光学补偿层之前形成；
其中，形成每层所述光学补偿层的步骤包括：形成液晶材料层，并将其固化，以形成光学补偿层；
形成隔垫物的步骤包括：
在所述第一覆盖层的表面形成隔垫物材料层；
对所述隔垫物材料层进行曝光，并利用第一溶液对曝光后的隔垫物材料层进行显影，以形成所述隔垫物的图形；所述第一覆盖层的材料满足：与所述隔垫物制作过程中所采用的显影液接触后，所述第一覆盖层表面对取向液的浸润性能够提高；
其中，所述第一取向层在形成所述隔垫物之后形成，所述第一取向层至少覆盖所述隔垫物在第一覆盖层上的接触区域以外的至少部分区域；
形成隔垫物的步骤之后还包括：在所有的所述光学补偿层远离所述衬底的一侧形成第二取向层。
5.根据权利要求4所述的制作方法，其中，形成所述第二取向层的步骤与形成其中一层光学补偿层的步骤紧邻，以使所述第二取向层与所述光学补偿层接触。
6.根据权利要求4至5中任一项所述的制作方法，其中，在形成彩膜层之前，还包括：
形成黑矩阵，所述黑矩阵位于所述第一覆盖层与所述衬底之间。
7.一种液晶显示面板，其包括权利要求1至3中任一项所述的显示用基板。
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Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1379272A (zh) * 2001-03-30 2002-11-13 松下电器产业株式会社 液晶显示装置
JP2004170724A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Sharp Corp 液晶表示装置の製造方法
JP2005003750A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd 柱状体を有する位相差制御板
US6975379B2 (en) * 2003-06-24 2005-12-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd Liquid crystal display panel and method of fabricating the same
CN103197472A (zh) * 2013-03-19 2013-07-10 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶面板的制备方法
CN108089377A (zh) * 2018-02-13 2018-05-29 京东方科技集团股份有限公司 一种水平电场型的显示面板、其制作方法及显示装置
CN108303830A (zh) * 2018-02-13 2018-07-20 京东方科技集团股份有限公司 一种水平电场型的显示面板、其制作方法及显示装置
CN108630829A (zh) * 2017-03-17 2018-10-09 京东方科技集团股份有限公司 显示面板的制作方法、显示面板及显示装置
CN109791326A (zh) * 2016-09-29 2019-05-21 夏普株式会社 液晶显示装置的设计方法、液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置
CN110275338A (zh) * 2018-03-13 2019-09-24 夏普株式会社 液晶显示装置
CN111025781A (zh) * 2019-12-12 2020-04-17 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN111293147A (zh) * 2020-02-19 2020-06-16 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示用基板及其制备方法、显示装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100652045B1 (ko) * 2001-12-21 2006-11-30 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1379272A (zh) * 2001-03-30 2002-11-13 松下电器产业株式会社 液晶显示装置
JP2004170724A (ja) * 2002-11-20 2004-06-17 Sharp Corp 液晶表示装置の製造方法
JP2005003750A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Dainippon Printing Co Ltd 柱状体を有する位相差制御板
US6975379B2 (en) * 2003-06-24 2005-12-13 Lg.Philips Lcd Co., Ltd Liquid crystal display panel and method of fabricating the same
CN103197472A (zh) * 2013-03-19 2013-07-10 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶面板的制备方法
CN109791326A (zh) * 2016-09-29 2019-05-21 夏普株式会社 液晶显示装置的设计方法、液晶显示装置的制造方法及液晶显示装置
CN108630829A (zh) * 2017-03-17 2018-10-09 京东方科技集团股份有限公司 显示面板的制作方法、显示面板及显示装置
CN108089377A (zh) * 2018-02-13 2018-05-29 京东方科技集团股份有限公司 一种水平电场型的显示面板、其制作方法及显示装置
CN108303830A (zh) * 2018-02-13 2018-07-20 京东方科技集团股份有限公司 一种水平电场型的显示面板、其制作方法及显示装置
CN110275338A (zh) * 2018-03-13 2019-09-24 夏普株式会社 液晶显示装置
CN111025781A (zh) * 2019-12-12 2020-04-17 武汉华星光电技术有限公司 液晶显示面板
CN111293147A (zh) * 2020-02-19 2020-06-16 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示用基板及其制备方法、显示装置

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