JP2020529029A - 表示基板、表示装置及び表示基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2017年6月23日に中国特許庁に提出された中国特許出願201710485645.2の優先権を主張し、その全ての内容が援用により本出願に取り込まれる。
Claims (20)
- 表示基板であって、ベース基板と、前記ベース基板上の複数のサブピクセル領域を限定するためのピクセル限定層とを含み、
前記ピクセル限定層は、相対する第1の辺及び前記第1の辺の前記ベース基板から遠い側に位置する第2の辺を有し、
前記ピクセル限定層は、前記第1の辺と前記第2の辺の間に位置する、前記ベース基板に実質的に平行な平面に沿う第1の横断面を有し、
前記第1の横断面の前記ベース基板における正投影は、前記第1の辺及び前記第2の辺の前記ベース基板における正投影を実質的に覆うことを特徴とする表示基板。 - 前記ベース基板の表面に実質的に垂直且つ前記複数のサブピクセル領域の隣接する二つのサブピクセル領域の間の前記ピクセル限定層の延長方向に実質的に垂直な平面に沿う前記ピクセル限定層の第2の横断面は、実質的に逆台形の前記ベース基板から遠い側に位置する実質的に台形を含む形状を有することを特徴とする請求項1に記載の表示基板。
- 前記ピクセル限定層は、第1のサブ層と、前記第1のサブ層の前記ベース基板から遠い側に位置する第2のサブ層とを含み、
前記第1のサブ層は、前記ベース基板から近く且つ前記第2のサブ層から遠い第1の辺と、前記第2のサブ層から近く且つ前記ベース基板から遠い第5の辺と、前記第1の辺と前記第5の辺を連結する第3の辺とを有し、
前記第2のサブ層は、相対する第6の辺及び前記第6の辺の前記第1のサブ層から遠い側に位置する第2の辺と、前記第6の辺と前記第2の辺を連結する第4の辺とを有し、
前記第5の辺の前記ベース基板における正投影は、前記第1の辺及び前記第2の辺の前記ベース基板における正投影を実質的に覆い、
前記第6の辺の前記ベース基板における正投影は、前記第1の辺及び前記第2の辺の前記ベース基板における正投影を実質的に覆うことを特徴とする請求項1に記載の表示基板。 - 前記ベース基板の表面に実質的に垂直且つ前記複数のサブピクセル領域の隣接する二つのサブピクセル領域の間の前記ピクセル限定層の延長方向に実質的に垂直な平面に沿う前記第1のサブ層の横断面は、実質的に逆台形の形状を有し、
前記ベース基板の表面に実質的に垂直且つ前記複数のサブピクセル領域の隣接する二つのサブピクセル領域の間の前記ピクセル限定層の延長方向に実質的に垂直な平面に沿う前記第2のサブ層の横断面は、実質的に台形の形状を有することを特徴とする請求項3に記載の表示基板。 - 前記ピクセル限定層は、前記第1のサブ層と前記第2のサブ層の間に位置する光を遮断するための遮光サブ層を更に含み、
前記遮光サブ層は、前記第1のサブ層及び第2のサブ層の光透過率よりも低い光透過率を有することを特徴とする請求項3に記載の表示基板。 - 前記遮光サブ層の前記ベース基板における正投影は、前記第1の辺及び前記第2の辺の前記ベース基板における正投影を実質的に覆うことを特徴とする請求項5に記載の表示基板。
- 前記遮光サブ層の前記ベース基板における正投影は、前記第5の辺及び前記第6の辺の前記ベース基板における正投影と実質的に重なることを特徴とする請求項5に記載の表示基板。
- 前記ベース基板の表面に実質的に垂直且つ前記複数のサブピクセル領域の隣接する二つのサブピクセル領域の間の前記ピクセル限定層の延長方向に実質的に垂直な平面に沿う前記第1のサブ層の横断面は、実質的に逆台形の形状を有し、
前記ベース基板の表面に実質的に垂直且つ前記複数のサブピクセル領域の隣接する二つのサブピクセル領域の間の前記ピクセル限定層の延長方向に実質的に垂直な平面に沿う前記第2のサブ層の横断面は、実質的に台形の形状を有し、
実質的に前記第1の辺から前記第2の辺への方向に沿って延長される平面に沿う前記遮光サブ層の横断面は、実質的に長方形の形状を有することを特徴とする請求項5に記載の表示基板。 - 前記遮光サブ層は、前記第1のサブ層の厚さよりも小さく且つ前記第2のサブ層の厚さよりも小さい厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の表示基板。
- 前記第1のサブ層は、約0.5μm乃至約2.5μmの範囲にある厚さを有し、
前記第2のサブ層は、約0.5μm乃至約2.5μmの範囲にある厚さを有し、
前記遮光サブ層は、前記第1のサブ層の厚さの約1/10乃至約1/5の厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の表示基板。 - 前記第1のサブ層、前記遮光サブ層及び前記第2のサブ層の各々は、フォトレジスト材料を含むことを特徴とする請求項5に記載の表示基板。
- 前記複数のサブピクセル領域内の有機層を更に含み、
前記複数のサブピクセル領域の各々内の前記有機層は、前記遮光サブ層の側面が、前記有機層により実質的に覆われるような厚さを有することを特徴とする請求項5に記載の表示基板。 - 前記有機層の前記ベース基板から近い側に位置する第1の電極と、前記有機層の前記ベース基板から遠い側に位置する第2の電極とを更に含み、
前記第2の電極は、前記有機層及び前記第2のサブ層に直接接触するが、前記遮光サブ層に直接接触しないことを特徴とする請求項12に記載の表示基板。 - 請求項1乃至13のいずれか1項に記載の表示基板を含む表示装置。
- 表示基板の製造方法であって、ベース基板上に複数のサブピクセル領域を限定するためのピクセル限定層を形成するステップを含み、
前記ピクセル限定層は、相対する第1の辺及び前記第1の辺の前記ベース基板から遠い側に位置する第2の辺を有するように形成され、
前記ピクセル限定層は、前記第1の辺と前記第2の辺の間に位置する、前記ベース基板の表面に実質的に平行な平面に沿う第1の横断面を有するように形成され、
前記ピクセル限定層は、前記第1の横断面の前記ベース基板における正投影が、前記第1の辺及び前記第2の辺の前記ベース基板における正投影を実質的に覆うように形成されることを特徴とする方法。 - 前記ピクセル限定層を形成するステップは、
前記ベース基板上に第1のフォトレジスト材料層を形成するステップと、
前記第1のフォトレジスト材料層の前記ベース基板から遠い側に遮光フォトレジスト材料層を形成するステップと、
前記遮光フォトレジスト材料層の前記ベース基板から遠い側に第2のフォトレジスト材料層を形成するステップと、
前記第1のフォトレジスト材料層、前記遮光フォトレジスト材料層及び前記第2のフォトレジスト材料層をパターニングすることにより、前記第1のサブ層、前記遮光サブ層及び前記第2のサブ層を形成するステップと
を含むことを特徴とする請求項15に記載の方法。 - 前記第1のフォトレジスト材料層、前記遮光フォトレジスト材料層及び前記第2のフォトレジスト材料層をパターニングするステップは、
前記第1のフォトレジスト材料層から前記遮光フォトレジスト材料層への方向に沿って照射される光を用いて前記第1のフォトレジスト材料層及び前記遮光フォトレジスト材料層を露光するステップと、
前記第2のフォトレジスト材料層から前記遮光フォトレジスト材料層への方向に沿って照射される光を用いて前記第2のフォトレジスト材料層及び前記遮光フォトレジスト材料層を露光するステップと、
前記第1のフォトレジスト材料層、前記第2のフォトレジスト材料層及び前記遮光フォトレジスト材料層を現像することにより、前記第1のサブ層、前記第2のサブ層及び前記遮光サブ層を形成するステップと
を含むことを特徴とする請求項16に記載の方法。 - 前記第1のフォトレジスト材料層を露光するステップと、前記第2のフォトレジスト材料層を露光するステップとは、同一のマスク板を用いて実行されることを特徴とする請求項17に記載の方法。
- 表示基板であって、ベース基板と、前記ベース基板上の複数のサブピクセル領域を限定するためのピクセル限定層とを含み、
前記ピクセル限定層は、前記ベース基板上の第1のサブ層と、前記第1のサブ層の前記ベース基板から遠い側に位置する光を遮断するための遮光サブ層とを含み、
前記遮光サブ層は、前記第1のサブ層の光透過率よりも低い光透過率を有することを特徴とする表示基板。 - 請求項19の表示基板の製造方法であって、
ベース基板上に複数のサブピクセル領域を限定するためのピクセル限定層を形成するステップを含み、
前記ピクセル限定層を形成するステップは、
前記ベース基板上に第1のサブ層を形成するステップと、
前記第1のサブ層の前記ベース基板から遠い側に光を遮断するための遮光サブ層を形成するステップと
を含み、
前記遮光サブ層は、前記第1のサブ層の光透過率よりも低い光透過率を有するように形成されることを特徴とする方法。
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