CN104979375A - 一种显示基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，包括该显示基板的显示装置能够有效改善漏光以及光色干扰问题，该显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。一种显示基板，包括：透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层；所述像素界定层包括：反射层，所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状，用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧；在所述像素界定层所在区域内，从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。用于显示基板以及包括该显示基板的显示装置的制作。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示器具有反应速度快、对比度高、视角广等特点，被认为是下一代显示技术。
OLED显示器包括封装基板和衬底基板，衬底基板包括阵列排布的像素单元，如图1所示，每个像素单元包括红色子像素R、绿色子像素G和蓝色子像素B，每个子像素均包括阳极10、发光层20、阴极30，通常在相邻子像素之间形成有像素界定层40以防止相邻子像素的发光层发出的光互相影响。然而，像素界定层40一般由透光材料形成，则发光层发出的侧向光会射入相邻的子像素中，例如图1所示红色子像素R的发光层发出的侧向光21会射入相邻的绿色子像素G，这会导致漏光以及光色干扰，造成OLED显示器件的出光率和色纯度下降。
为解决上述问题，采用不透光材料形成像素界定层，然而，发明人发现不透光材料一般为具有低介电常数的材料，会造成元件的光电性质下降，同时，发光层发出的侧向光被该不透光的像素界定层吸收，仍造成OLED显示器件的出光率降低。因此现有技术中较少采用不透光材料形成像素界定层，那么，在采用透光材料形成像素界定层的情况下，解决漏光以及光色干扰，进而提高OLED显示器件的出光率和色纯度成了亟待解决的问题。
发明内容
本发明的实施例提供一种显示基板及其制作方法、显示装置，包括该显示基板的显示装置能够有效改善漏光以及光色干扰问题，该显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
一方面，提供了一种显示基板，该显示基板包括：透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层；所述像素界定层包括：反射层，所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状，用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧；在所述像素界定层所在区域内，从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。
另一方面，提供了一种显示装置，该显示装置包括上述所述的显示基板。
又一方面，提供了一种显示基板的制作方法，所述方法包括：在透明衬底上形成第一透明层，所述第一透明层在所述像素界定层所在区域形成凸起；在所述凸起上形成反射层；在所述透明衬底上对应所述凸起的位置处形成第一透明部，且所述第一透明部覆盖所述凸起以及所述反射层。
再一方面，提供了另一种显示基板的制作方法，所述方法包括：在透明衬底上形成第二透明层，所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成凹槽；在所述凹槽上形成反射层；在所述透明衬底上对应所述凹槽的位置处形成第二透明部，所述第二透明部的底部填充所述凹槽。
本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括透明衬底、形成在透明衬底上的像素界定层、位于像素界定层所限定的子像素区域中的发光层。像素界定层包括反射层，反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状；在像素界定层所在区域内，从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。这样，反射层可以将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧，从而改变这部分光的传播路径。一方面避免这部分光对相邻子像素形成光色干扰，另一方面这部分光重新射向显示基板的出光侧，使得这部分光再次得到有效利用，极大改善了漏光问题。将上述显示基板应用到显示装置中，显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中提供的一种OLED显示器的衬底基板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的另一种显示基板的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图；
图5为本发明实施例提供的另一种显示基板的制作方法的流程图。
附图标记：
10-阳极；20-发光层；201-发光层的下表面；202-发光层的上表面；21-侧向光；30-阴极；40-像素界定层；41-反射层；42-凸起；43-第一透明部；44-第二透明部；50-透明衬底；51-第一透明层；52-第二透明层。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
实施例一
本发明实施例提供了一种显示基板，参考图2-3所示，该显示基板包括：透明衬底50、形成在透明衬底50上的像素界定层40、位于像素界定层40所限定的子像素区域中的发光层20；像素界定层40包括：反射层41，反射层41朝向显示基板的出光侧呈凸起状，用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧；在像素界定层所在区域内，从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。
上述显示基板中，本发明实施例对于发光层的材料不作限定，例如发光层的材料可以是有机电致发光型材料，当然还可以是其他类型的发光材料。当发光层的材料为有机电致发光型材料时，上述显示基板可以形成OLED显示装置。本发明实施例以及附图均以显示基板能够形成OLED显示装置为例进行说明。
上述显示基板中，本发明实施例对于显示基板的出光侧不作限定，具体的，参考图2所示，显示基板的出光侧可以是显示基板远离透明衬底50的表面，即显示基板的光从显示基板的上表面发出，该显示基板可以形成顶发射结构的OLED显示装置；当然，参考图3所示，显示基板的出光侧还可以是显示基板的下表面，即光从透明衬底50的下表面发出，该显示基板可以形成底发射结构的OLED显示装置。这里需要说明的是，本发明实施例以及附图中，显示基板的上表面指的是远离透明衬底的表面，若显示基板仅包含图2中的层结构，则显示基板的上表面是阴极30和像素界定层40所组成的表面。当然，图2所示的显示基板上还可以包含其他层，例如保护层，此时，显示基板的上表面为保护层的上表面；显示基板的下表面指的是透明衬底的下表面。
另外，反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状。具体的，例如，参考图2所示，显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面，则反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状即反射层可以是沿AA′方向呈凸起状；参考图3所示，显示基板的出光侧为显示基板的下表面，则反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状即反射层可以是沿BB′方向呈凸起状。
上述显示基板中，反射层用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧。本发明实施例对于反射层和发光层的相对位置不作具体限定，只要满足反射层可以将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧即可。具体的，反射层可以是凸出于发光层中远离显示基板的出光侧的发光面所在的平面，例如，参考图2所示，反射层41可以是沿AA′方向呈凸起状，且凸出于发光层20中远离显示基板的出光侧的发光面所在的平面，即反射层41凸出于发光层20的下表面201所在的平面，进一步可选的，反射层41还可以是凸出于发光层20的上表面202所在的平面以进一步提高反射率；参考图3所示，反射层41可以是沿BB′方向呈凸起状，且凸出于发光层20中远离显示基板的出光侧的发光面所在的平面，即反射层41凸出于发光层20的上表面202所在的平面，进一步可选的，反射层41还可以是凸出于发光层20的下表面201所在的平面以进一步提高反射率。这里需要说明的是，本发明实施例以及附图中，发光层的上表面指的是远离透明衬底的表面，发光层的下表面指的是靠近透明衬底的表面。
上述显示基板中，本发明实施例对于像素界定层所限定的子像素区域的层结构不作限定，例如参考图2和图3所示，该子像素区域还可以包括位于发光层20之上的阴极30以及位于发光层20之下的阳极10，阴极30和阳极10之间可以形成电场以驱动发光层20发光；当然，阴极30和阳极10的位置并不限定于此，例如，阴极30还可以位于发光层20之下、阳极10还可以位于发光层20之上，这里不作限定。
本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括透明衬底、形成在透明衬底上的像素界定层、位于像素界定层所限定的子像素区域中的发光层。像素界定层包括反射层，反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状；在像素界定层所在区域内，从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。这样，参考图2和3所示，反射层可以将发光层射向反射层的光21反射到显示基板的出光侧，从而改变这部分光的传播路径。一方面避免这部分光对相邻子像素形成光色干扰，另一方面这部分光重新射向显示基板的出光侧，使得这部分光再次得到有效利用，极大改善了漏光问题。将上述显示基板应用到显示装置中，显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。
可选的，为了提高反射率从而增强反射效果，上述显示基板中，反射层的材料为金属，例如可以是铜、铝、银等金属。当然，反射层的材料还可以是其他材料，只要具有反射光的特性即可。
下面基于显示基板的不同出光侧提供两个具体的实施例以更清楚的说明本发明实施例。
实施例二
本发明实施例提供了一种显示基板，参考图2所示，该显示基板包括：透明衬底50、形成在透明衬底50上的像素界定层40、位于像素界定层40所限定的子像素区域中的发光层20；像素界定层40包括：反射层41，反射层41朝向显示基板的出光侧呈凸起状，用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧；像素界定层40还包括：位于像素界定层40所在区域的凸起42，反射层41覆盖凸起42的全部或部分，以及位于反射层41之上的第一透明部43；显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面。
上述显示基板中，显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面，则该显示基板可以形成顶发射结构的OLED显示装置。
上述显示基板中，本发明实施例对于第一透明部的材料不作限定，具体的，可以是由透明材料例如光可聚合树脂或热可聚合树脂等透光材料形成，这里不作具体限定，只要满足第一透明部是透明的即可。
上述显示基板中，反射层可以是覆盖凸起的全部，也可以是覆盖凸起的部分，这里不作限定，优选前者，这样可以增加反射率。本发明实施例以及附图均以反射层覆盖凸起的全部为例进行说明。
上述显示基板中，凸起可以有多种形成方法，这里不作限定。具体的，例如可以是单独形成凸起，还可以是在形成其他层结构的同时形成凸起。另外，本发明实施例对于凸起的大小、形状和材料也不作限定，具体可以根据实际情况而定。
本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括透明衬底、形成在透明衬底上的像素界定层、位于像素界定层所限定的子像素区域中的发光层。像素界定层包括反射层，反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状，用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧；在像素界定层所在区域内，从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。像素界定层还包括：位于像素界定层所在区域的凸起，反射层覆盖凸起的全部或部分，以及位于反射层之上的第一透明部；显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面。
这样，反射层可以将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧，从而改变这部分光的传播路径。一方面避免这部分光对相邻子像素形成光色干扰，另一方面这部分光重新射向显示基板的出光侧，使得这部分光再次得到有效利用，极大改善了漏光问题。将上述显示基板应用到显示装置中，显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。
可选的，为了方便制作，凸起的横截面可以为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形，本发明实施例以及附图均以凸起的横截面为半椭圆形为例进行说明。
可选的，参考图2所示，上述显示基板还包括：位于透明衬底50上的第一透明层51，凸起42形成在第一透明层51上、且与第一透明层51为一体结构。这样在形成第一透明层的同时可以形成凸起，减少了构图工艺次数，节约了成本。需要说明的是，本发明实施例对于第一透明层的用途和材料不作限定，例如第一透明层可以作为平坦层以利于后续形成其他层结构或者薄膜，当然还可以起到其他作用，具体可以根据实际情况而定。
实施例三
本发明实施例提供了一种显示基板，参考图3所示，该显示基板包括：透明衬底50、形成在透明衬底50上的像素界定层40、位于像素界定层40所限定的子像素区域中的发光层20；像素界定层40包括：反射层41，反射层41朝向显示基板的出光侧呈凸起状，用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧；显示基板还包括位于透明衬底50上的第二透明层52，第二透明层52在像素界定层40所在区域形成有凹槽，反射层41覆盖凹槽的全部或部分；像素界定层40还包括：位于反射层41之上的第二透明部44，第二透明部44的底部填充在凹槽内。该显示基板的出光侧为透明衬底的下表面。
上述显示基板中，显示基板的出光侧为透明衬底的下表面，则该显示基板可以形成底发射结构的OLED显示装置。
上述显示基板中，本发明实施例对于第二透明层的材料不作限定，具体的，可以是由透明材料例如光可聚合树脂或热可聚合树脂等透光材料形成，这里不作具体限定，只要满足第二透明层是透明的即可。另外，对于第二透明层的用途和材料不作限定，例如第二透明层可以作为平坦层以利于后续形成其他层结构或者薄膜，当然还可以起到其他作用，具体可以根据实际情况而定。
上述显示基板中，反射层可以是覆盖凹槽的全部，也可以是覆盖凹槽的部分，这里不作限定，优选前者，这样可以增加反射率。本发明实施例以及附图均以反射层覆盖凹槽的全部为例进行说明。
上述显示基板中，凹槽可以有多种形成方法，这里不作限定。具体的，例如可以是在形成其他层结构的同时形成凹槽。另外，本发明实施例对于凹槽的大小、形状和材料也不作限定，具体可以根据实际情况而定。
本发明的实施例提供了一种显示基板，该显示基板包括透明衬底、形成在透明衬底上的像素界定层、位于像素界定层所限定的子像素区域中的发光层。像素界定层包括反射层，反射层朝向显示基板的出光侧呈凸起状，用于将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧；在像素界定层所在区域内，从反射层到显示基板的出光侧的部分是透明的。显示基板还包括位于透明衬底上的第二透明层，第二透明层在像素界定层所在区域形成有凹槽，反射层覆盖凹槽的全部或部分；像素界定层还包括：位于反射层之上的第二透明部，第二透明部的底部填充在凹槽内。显示基板的出光侧为显示基板远离透明衬底的表面。
这样，反射层可以将发光层射向反射层的光反射到显示基板的出光侧，从而改变这部分光的传播路径。一方面避免这部分光对相邻子像素形成光色干扰，另一方面这部分光重新射向显示基板的出光侧，使得这部分光再次得到有效利用，极大改善了漏光问题。将上述显示基板应用到显示装置中，显示装置的出光率和色纯度均得到有效提高。
可选的，为了方便制作，凹槽的横截面可以为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形，本发明实施例以及附图均以凹槽的横截面为半椭圆形为例进行说明。
实施例四
本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置包括实施例一至三提供的任一项的显示基板。该显示装置可以为OLED显示器等显示器件以及包括这些显示器件的电视、数码相机、手机、平板电脑等任何具有显示功能的产品或者部件，该显示装置具有较高的出光率和色纯度。
实施例五
本发明实施例提供了一种如实施例二提供的显示基板的制作方法，参考图4所示，该方法包括：
S401、在透明衬底上形成第一透明层，第一透明层在像素界定层所在区域形成凸起。具体的，第一透明层可以作为平坦层以利于后续形成其他层结构或者薄膜。
S402、在凸起上形成反射层，具体的，反射层的材料为金属，例如可以是铜、铝、银等金属。
S403、在透明衬底上对应凸起的位置处形成第一透明部，且第一透明部覆盖凸起以及反射层。具体的，第一透明部的材料可以是光可聚合树脂或热可聚合树脂等透光材料。
可选的，第一透明层和凸起可以通过一次构图工艺形成，这样可以减少构图次数，节约成本。具体的，构图工艺是将薄膜形成包括至少一个图案的层的工艺，构图工艺通常包括：在薄膜上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，再利用显影液将需去除的光刻胶冲蚀掉，再刻蚀掉未覆盖光刻胶的薄膜部分，最后将剩下的光刻胶剥离。本发明所有实施例中，一次构图工艺是指经过一次曝光形成所需要的层结构工艺。
实施例六
本发明实施例提供了一种如实施例三提供的显示基板的制作方法，参考图5所示，该方法包括：
S501、在透明衬底上形成第二透明层，第二透明层在像素界定层所在区域形成凹槽。具体的，第二透明层的材料可以是光可聚合树脂或热可聚合树脂等透光材料，第二透明层可以作为平坦层以利于后续形成其他层结构或者薄膜。
S502、在凹槽上形成反射层，具体的，反射层的材料为金属，例如可以是铜、铝、银等金属。
S503、在透明衬底上对应凹槽的位置处形成第二透明部，第二透明部的底部填充凹槽。具体的，第二透明部的材料可以是光可聚合树脂或热可聚合树脂等透光材料。
可选的，第二透明层和凹槽可以通过一次构图工艺形成，这样可以减少构图次数，节约成本。具体的，构图工艺是将薄膜形成包括至少一个图案的层的工艺，构图工艺通常包括：在薄膜上涂覆光刻胶，利用掩膜板对光刻胶进行曝光，再利用显影液将需去除的光刻胶冲蚀掉，再刻蚀掉未覆盖光刻胶的薄膜部分，最后将剩下的光刻胶剥离。本发明所有实施例中，一次构图工艺是指经过一次曝光形成所需要的层结构工艺。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (12)
1.一种显示基板，包括：透明衬底、形成在所述透明衬底上的像素界定层、位于所述像素界定层所限定的子像素区域中的发光层；其特征在于，所述像素界定层包括：反射层，所述反射层朝向所述显示基板的出光侧呈凸起状，用于将所述发光层射向所述反射层的光反射到所述显示基板的出光侧；在所述像素界定层所在区域内，从所述反射层到所述显示基板的出光侧的部分是透明的。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的材料为金属。
3.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板的出光侧为所述显示基板远离所述透明衬底的表面；
所述像素界定层还包括：位于所述像素界定层所在区域的凸起，所述反射层覆盖所述凸起的全部或部分；以及位于所述反射层之上的第一透明部。
4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述凸起的横截面为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形。
5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：位于所述透明衬底上的第一透明层，所述凸起形成在所述第一透明层上、且与所述第一透明层为一体结构。
6.根据权利要求1或2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板的出光侧为所述透明衬底的下表面；所述显示基板还包括位于所述透明衬底上的第二透明层，所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成有凹槽，所述反射层覆盖所述凹槽的全部或部分；
所述像素界定层还包括：位于所述反射层之上的第二透明部，所述第二透明部的底部填充在所述凹槽内。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述凹槽的横截面为半椭圆形、半圆形、三角形或梯形。
8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的显示基板。
9.一种如权利要求3-5任一项所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
在透明衬底上形成第一透明层，所述第一透明层在所述像素界定层所在区域形成凸起；
在所述凸起上形成反射层；
在所述透明衬底上对应所述凸起的位置处形成第一透明部，且所述第一透明部覆盖所述凸起以及所述反射层。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一透明层和所述凸起通过一次构图工艺形成。
11.一种如权利要求6或7所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
在透明衬底上形成第二透明层，所述第二透明层在所述像素界定层所在区域形成凹槽；
在所述凹槽上形成反射层；
在所述透明衬底上对应所述凹槽的位置处形成第二透明部，所述第二透明部的底部填充所述凹槽。
12.根据权利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述第二透明层和所述凹槽通过一次构图工艺形成。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151014 |
|
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |