JP2018528165A

JP2018528165A - 置換ベンゾトリアゾールフェノール

Info

Publication number: JP2018528165A
Application number: JP2018500572A
Authority: JP
Inventors: エー．ヴォルプ，ケリー; イー．シュルツ，ネイサン; ビー．リ，ファミング
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Current assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2015-07-07
Filing date: 2016-06-30
Publication date: 2018-09-27
Anticipated expiration: 2036-06-30
Also published as: KR102636758B1; US20180186757A1; JP6975705B2; CA2991412A1; EP3319947B1; BR112018000412A2; KR20180026522A; EP3319947A1; US10919867B2; CN108026054A; CN108026054B; WO2017007672A1

Abstract

フェノール水酸基に対してオルト位及び／又はフェノール水酸基に対してパラ位のいずれか又は両方に置換基を有するベンゾトリアゾールフェノールを、無置換ベンゾトリアゾールフェノールからカップリング反応によって調製することができる。オルト置換基は、単純なアルコキシ又はアミノ基であってもよく、又はオルト置換基は、ベンゾトリアゾールフェノールを別のベンゾトリアゾールフェノール基に連結している連結基であってもよい。

Description

本開示は、置換フェノール化合物、保護された置換フェノール化合物、並びに置換フェノール化合物及び保護された置換フェノール化合物を調製する方法に関する。

フェノールは、芳香族炭化水素基に直接結合した水酸基を有する化合物の分類である。フェノール類は、フェノール基を含有する化合物のことを称するが、多種多様なものが知られている。フェノール類は、植物によって天然に生成されるものもあれば、様々な化学的用途のために合成により設計されたものもある。

フェノール類の分類の１つは、２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール又はベンゾトリアゾールフェノールである。ベンゾトリアゾールフェノールは、紫外線吸収剤の重要な分類の１つであり、場合によっては、可視域も吸収することができる。こうした化合物は、材料中で添加剤として使用されることが多く、ベンゾトリアゾールフェノール構造の重合性置換基を介してポリマー構造中に組み込むこともできる。多くのビスベンゾトリアゾリルフェノール化合物が、米国特許第５，９２２，８８２号（Ｍｏｒｉ，ｅｔａｌ．）に記述されている。

ベンゾトリアゾールフェノール自体の有用性に加えて、ベンゾトリアゾールフェノールはまた、シントンとして使用して、これもまた有用なベンゾトリアゾールフェノレート塩を形成することができる。例えば欧州特許第３５１，７３２号において、種々のベンゾトリアゾールフェノレート塩の使用は、ポリエステルポリマー組成物において高い結晶化速度をもたらすために必須の成分として使用されている。

様々な用途に、及びベンゾトリアゾールフェノレート塩のシントンとして、置換ベンゾトリアゾールフェノールが依然として必要である。

ベンゾトリアゾールフェノール化合物、保護されたベンゾトリアゾールフェノール化合物、並びにベンゾトリアゾールフェノール化合物及び保護されたベンゾトリアゾールフェノール化合物を調製する方法が、本明細書で開示されている。

本明細書に開示されている実施形態には、式Ｉの構造：

［式中、Ｒ^１が水素原子を含む場合、Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又はアリールオキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、又は
Ｒ^１が−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）基、又は−ＳｉＲ^２０ _３基を含む場合、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基は、アルキル基であり、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を有する、置換又は無置換ベンゾトリアゾールフェノールを含む組成物が含まれる。

いくつかの実施形態では、組成物は、式ＩＩの構造：

［式中、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を有する。

一般構造式ＩＩＩ又は式ＩＶ：

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｒ^１が水素原子を含む場合、Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又はアリールオキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、又は
Ｒ^１が−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）基、又は−ＳｉＲ^２０ _３基を含む場合、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基はアルキル基であり、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］、又は

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を有する、保護された置換又は無置換ベンゾトリアゾールフェノールもまた開示されている。

置換ベンゾトリアゾールフェノールを調製する方法であって、式ＩＩＩ：

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｒ^１は、ハロゲン原子、トリフラート基、トシラート基、又はスルホネート基から選択される脱離基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］の保護されたフェノール化合物を準備する工程と、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ［式中、Ｒ^２１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、Ｚは、アルキル基若しくはアリール基、又は単結合を含み、
Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含む］の化合物を準備する工程と、少なくとも１種のパラジウム−ホスフィン錯体を含むパラジウム系触媒を準備する工程と、少なくとも１種の塩基を準備する工程と、少なくとも１種の溶媒を準備する工程と、式ＩＩＩの保護されたフェノール化合物、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物、パラジウム系触媒、少なくとも１種の塩基、及び少なくとも１種の溶媒を混合して、反応混合物を形成する工程と、反応混合物を少なくとも１００℃の温度まで加熱して、カップリング反応を起こす工程と、を含む、方法もまた本明細書において開示されている。

有用なフェノール類の分類の１つは、２−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール又はベンゾトリアゾールフェノールである。ベンゾトリアゾールフェノールは、紫外線吸収剤の重要な分類の１つであり、場合によっては、可視域も吸収することができる。こうした化合物は、材料、特にポリマー材料中で添加剤として使用されることが多く、またシントンとして使用して、これもまた材料、特にポリマー材料において添加剤として有用であるベンゾトリアゾールフェノレート塩を調製することができる。

様々な特性を有し、ベンゾトリアゾールフェノレート塩を調製するために使用することができる置換ベンゾトリアゾールフェノールが、本明細書において開示されている。更に、フェノール性−ＯＨ基が保護されている、すなわち、−ＯＰ基（式中、Ｐは保護基である）である、保護された置換ベンゾトリアゾールフェノールもまた開示されている。カップリング反応を使用して置換ベンゾトリアゾールフェノールを調製する方法もまた開示されている。

用語「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」は、「少なくとも１つの」と互換的に使用され、記載される要素のうちの１つ以上を意味する。

用語「アルキル」は、飽和炭化水素であるアルカンのラジカルである１価の基を指す。アルキルは、直鎖状、分枝状、環状、又はこれらの組み合わせであってよく、典型的には、１〜２０個の炭素原子を有する。いくつかの実施形態では、アルキル基は、１〜１８個、１〜１２個、１〜１０個、１〜８個、１〜６個、又は１〜４個の炭素原子を含む。アルキル基の例としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル（ｔ−ブチル）、ｎ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、及びエチルヘキシルが挙げられるが、これらに限定されない。

用語「アルケニル」は、少なくとも１個の炭素−炭素二重結合を有する炭化水素であるアルケンのラジカルである１価の基を指す。アルケニルは、直鎖状、分枝状、環状、又はこれらの組み合わせであってよく、典型的には、２〜２０個の炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、アルケニルは、２〜１８個、２〜１２個、２〜１０個、４〜１０個、４〜８個、２〜８個、２〜６個、又は２〜４個の炭素原子を含む。例示的アルケニル基としては、エテニル、ｎ−プロペニル、及びｎ−ブテニルが挙げられる。

用語「ヘテロ原子置換（された）」は、ヘテロ原子を含むアルキル、アリール又は別の基を指す。これらのヘテロ原子は、ペンダント原子、例えばハロゲンであってもよく、又は鎖状原子、例えば窒素、酸素、ホウ素、若しくは硫黄などであってもよい。

本明細書で使用する用語「ハロゲン」又は「ハロゲン原子」は、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素を指す。

用語「アルコキシ」は、一般構造−Ｏ−Ｒ（式中、Ｒはアルキル基である）を有する基を指す。用語「アリールオキシ」は、一般構造−Ｏ−Ｒ（式中、Ｒはアリール基である）を有する基を指す。場合によっては、用語アルコキシは、総称として使用されて、アルコキシ基とアリールオキシ基の両方を表す。

用語「アリール」は、結合又は縮合していてもよい１〜５個の環を含む基である芳香族炭素環基を意味する。アリール基は、アルキル基又はヘテロアルキル基で置換されていてもよい。アリール基の例としては、フェニル基、ナフタレン基、及びアントラセン基が挙げられる。

用語「室温」及び「周囲温度」は、互換的に使用され、２０℃〜２５℃の範囲の温度を意味する。

本明細書で使用される用語「保護基」は、一般式−ＯＰ（式中、Ｏは酸素原子である）のＰ部分を指す。保護基は、当技術分野においてよく知られている様々な技術によって、水素原子で置き換えて水酸基−ＯＨを形成することができる反応性基である。保護基の例は、下記及び実施例の項に記述されている。

特に指示のない限り、本明細書及び特許請求の範囲で使用する加工寸法（feature size）、量、及び物理的特性を表す全ての数は、全ての場合において、「約」という用語により修飾されていると理解すべきである。したがって、そうでない旨が示されない限り、記載されている数字は、本明細書に開示されている教示を使用した所望の特性に応じて変わり得る近似値である。

本開示の置換ベンゾトリアゾールフェノールは、下記の式Ｉに示す一般構造を有する：

式Ｉにおいて、Ｒ^１及びＲ^３のうちの少なくとも１つは、置換基、すなわち、水素原子以外の基を含む。多くの実施形態では、Ｒ^１とＲ^３の両方が置換基を含む。下記でより詳細に記述するように、いくつかの実施形態では、Ｒ^１は置換されておらず、すなわちＲ^１は水素原子を含み、多くの別の実施形態では、Ｒ^１は置換基又は別の連結したベンゾトリアゾールフェノール基である。

Ｒ^１が置換されていない（すなわち水素原子である）実施形態では、Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又はアリールオキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。一実施形態では、Ｒ^１は、水素原子を含み、Ｒ^３は、４個の炭素原子を有するアルコキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子を含む。

幅広い実施形態において、Ｒ^１は置換基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^１は、ハロゲン原子、又は−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）、若しくは−ＳｉＲ^２０ _３を含む基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄、若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄、若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基は、アルキル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。これらの実施形態のそれぞれは、下記により詳細に記述する。

いくつかの実施形態では、Ｒ^１は、比較的小さい置換基、ベンゾトリアゾールフェノール基準分子と比較して小さい分子量及び／又は立体的嵩高さのものを含む。別の実施形態では、Ｒ^１基は、ベンゾトリアゾールフェノール基準分子と同等のサイズ及び／又は立体的嵩高さである、実は、酸素、窒素ベース、又は硫黄ベースの連結基によってベンゾトリアゾールフェノール基準分子に連結した別のベンゾトリアゾールフェノールである、置換基である。Ｒ^１が比較的小さい置換基を含む第１のタイプの例をまず述べる。

いくつかの実施形態では、Ｒ^１はハロゲン原子を含む。好適なハロゲン原子としては、フッ素、臭素、塩素及びヨウ素が挙げられる。臭素（Ｂｒ）及び塩素（Ｃｌ）は特に好適である。

Ｒ^１が−Ｏ−Ｒ^９基を含むいくつかの実施形態では、Ｒ^９は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、又はアリール基を含む。これらの実施形態の多くでは、Ｒ^３もまた置換基であり、典型的にはＲ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である。

いくつかの実施形態では、Ｒ^９は、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を含み、特定の一実施形態では、Ｒ^９は、４個の炭素原子を有するアルキル基を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。

別の実施形態では、Ｒ^９は、置換フェニル基を含むアリール基を含む。いくつかの特定の実施形態では、Ｒ^９は、３−メチルフェニル基又は４−メチルフェニル基を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。

別の実施形態の群では、Ｒ^１は−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０基を含む。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒ^９は、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、又はアリール基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^１０は独立して、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を含む。これらの実施形態の多くでは、Ｒ^３もまた置換基であり、典型的にはＲ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である。

一実施形態では、Ｒ^９とＲ^１０の両方が水素原子を含む。別の実施形態では、Ｒ^９は、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、又は４−アルキル置換フェニル基を含むアリール基を含み、このアルキル置換基は、１〜６個の炭素原子を有し、Ｒ^１０は、水素原子を含む。

特定の一実施形態では、Ｒ^９は、１個の炭素原子を有するアルキル基（メチル基）を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。特定の一実施形態では、Ｒ^９は、６個の炭素原子を有するアルキル基を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。更に別の特定の実施形態では、Ｒ^９は、４−アルキル置換フェニル基を含み、このアルキル置換基は６個の炭素原子を有し（すなわち、この基は４−ヘキシルフェニル基を含む）、Ｒ^１０は、水素原子を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。

別の特定の実施形態では、Ｒ^１は、−Ｂ（ＯＨ）_２基を含み、別の実施形態では、Ｒ^１は、−Ｂ（−Ｏ−Ｃ（Ｍｅ）_２−Ｃ（Ｍｅ）_２−Ｏ−）を含み、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基である。

別の特定の実施形態では、Ｒ^１は、−ＳｉＲ^２０ _３基を含み、Ｒ^２０は、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を含み、いくつかの実施形態では、Ｒ^２０は、３個の炭素原子を含み、典型的にはＲ^２０はイソプロピル基を含む。

前述のように、別の実施形態では、Ｒ^１基は、ベンゾトリアゾールフェノール基準分子と同等のサイズ及び／又は立体的嵩高さである、実は、酸素、窒素ベース、又は硫黄ベースの連結基によってベンゾトリアゾールフェノール基準分子に連結した別のベンゾトリアゾールフェノールである、置換基である。この第２のタイプの化合物の例は、下記式ＩＩ：

［式中、Ｒ^１基は、−Ｘ−Ｒ^９基であり、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−｛式中、Ｓ（Ｏ）はスルフィニル基Ｓ＝Ｏである｝を含む連結基であり、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含む］で表される。これらの実施形態のＲ^９基は、基準のベンゾトリアゾールフェノール基と同じであっても異なっていてもよい別のベンゾトリアゾールフェノール基である。これらの実施形態では、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。

式ＩＩの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、又は１〜３個の炭素原子を含むアルキル基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

特定の一実施形態では、Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

別の特定の実施形態では、Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、１個の炭素原子を有するアルキル基（メチル基）を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＩの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｏ−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

特定の一実施形態では、Ｘは、−Ｏ−連結基を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＩの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｓ（Ｏ）−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

特定の一実施形態では、Ｘは、−Ｓ（Ｏ）−連結基を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＩの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｓ−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

特定の一実施形態では、Ｘは、−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

一連の保護されたベンゾトリアゾールフェノールもまた本明細書において開示されている。これらの化合物は、フェノール水酸基（−ＯＨ）の水素原子が保護基で置き換えられたもの（−ＯＰ）である。典型的には、これらの保護基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基である。典型的には、保護されたベンゾトリアゾールフェノールは、フェノールの調製において中間体として単離される。保護基（Ｐ）を除去して、水酸基を生成し、フェノールを調製することができる。

反応性フェノール水酸基を保護するために保護基を使用することは、当技術分野においてよく知られている。反応性フェノール水酸基との副反応を防ぐために、保護基を使用して、化学合成中にフェノール水酸基を保護することができる。更に、保護されたベンゾトリアゾールフェノールを単離し、使用前に所望のフェノールに変換することが時に望ましいことがある。

前述のベンゾトリアゾールフェノール化合物の実質的に全てに関して、対応する保護されたベンゾトリアゾールフェノール化合物を調製及び／又は単離することができる。これらの化合物は、下記の一般式、式ＩＩＩ及び式ＩＶによって表すことができる：

式ＩＩＩにおいて、Ｒ^１及びＲ^３のうちの少なくとも１つは、置換基、すなわち、水素原子以外の基を含む。多くの実施形態では、Ｒ^１とＲ^３の両方が置換基を含む。下記でより詳細に記述するように、いくつかの実施形態では、Ｒ^１は置換されておらず、すなわちＲ^１は水素原子を含み、多くの別の実施形態では、Ｒ^１は置換基又は別の連結したベンゾトリアゾールフェノール基である。

式ＩＩＩにおいて、Ｐ基は保護基である。典型的には、保護基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む。いくつかの実施形態では、Ｐは、アルキル基、典型的にはメチル基を含む。別の実施形態では、Ｐは、−ＣＨ_２ＯＣＨ_３基などの置換アルキル基を含む。更に別の実施形態では、Ｐは、−Ｓｉ（（ｉ−Ｐｒ）_３（式中、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基である）などのシリル基を含む。

幅広い実施形態において、Ｒ^１は置換基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^１は、ハロゲン原子、又は−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、
−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）、若しくは−ＳｉＲ^２０ _３を含む基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄、若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄、若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基は、アルキル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。これらの実施形態のそれぞれは、下記により詳細に記述する。

いくつかの実施形態では、Ｒ^１は、比較的小さい置換基、ベンゾトリアゾールフェノール基準分子と比較して小さい分子量及び／又は立体的嵩高さのものを含む。別の実施形態では、Ｒ^１基は、ベンゾトリアゾールフェノール基準分子と同等のサイズ及び／又は立体的嵩高さである、実は、酸素又は窒素ベースの連結基によってベンゾトリアゾールフェノール基準分子に連結した別のベンゾトリアゾールフェノールである、置換基である。Ｒ^１が比較的小さい置換基を含む第１のタイプの例をまず述べる。

別の実施形態の群では、Ｒ^１は−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０基を含む。これらの実施形態のいくつかでは、Ｒ^９は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、又はアリール基を含む。これらの実施形態では、Ｒ^１０は独立して、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を含む。これらの実施形態の多くでは、Ｒ^３もまた置換基であり、典型的にはＲ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である。

いくつかの実施形態では、Ｒ^９は、１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、又は3−アルキル置換フェニル基を含むアリール基を含み、このアルキル置換基は、１〜６個の炭素原子を有し、Ｒ^１０は、水素原子を含む。

［式中、Ｒ^１基は、−Ｘ−Ｒ^９基であり、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−｛式中、Ｓ（Ｏ）はスルフィニル基Ｓ＝Ｏであり、Ｓ（Ｏ）_２はスルホニル基Ｏ＝Ｓ＝Ｏである｝を含む連結基であり、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含む］で表される。これらの実施形態のＲ^９基は、基準のベンゾトリアゾールフェノール基と同じであっても異なっていてもよい別のベンゾトリアゾールフェノール基である。これらの実施形態では、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。

式ＩＶにおいて、Ｐ基は保護基である。典型的には、保護基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む。いくつかの実施形態では、Ｐは、アルキル基、典型的にはメチル基を含む。別の実施形態では、Ｐは、−ＣＨ_２ＯＣＨ_３基などの置換アルキル基を含む。更に別の実施形態では、Ｐは、−Ｓｉ（（ｉ−Ｐｒ）_３（式中、ｉ−Ｐｒはイソプロピル基である）などのシリル基を含む。

式ＩＶの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、又は１〜３個の炭素原子を含むアルキル基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＶの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｏ−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＶの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｓ（Ｏ）−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＶの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｓ（Ｏ）_２−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

特定の一実施形態では、Ｘは、−Ｓ（Ｏ）_２−連結基を含み、Ｒ^３及びＲ^１６基は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基であり、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

式ＩＶの化合物のいくつかの実施形態では、Ｘは、−Ｓ−連結基を含む。これらの実施形態では典型的には、Ｒ^３及びＲ^１６基は置換基であり、Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む。典型的には、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は、水素原子である。

カップリング反応によって置換ベンゾトリアゾールフェノール化合物を調製する方法もまた、本明細書において開示されている。クロスカップリング反応は、長年にわたって研究され使用されてきた。炭素−炭素結合形成は、最も研究されているクロスカップリングの形態であるが、炭素以外の求核的カップリングパートナーは１９９０年代まで発見されなかった。Ｂｕｃｈｗａｌｄ及びＨａｒｔｗｉｇは、炭素−ヘテロ原子カップリングを飛躍的に進歩させたが、その範囲は、特に立体障害のある（hindered）かつ／又は非活性化型の基質では、非常に限定されたままであり得る。ベンゾトリアゾールフェノールは、ハライドに対してオルト位に位置する立体的に障害された置換水酸基のために、かつまた金属触媒の不活性化をもたらすベンゾトリアゾール基のキレート作用のために、クロスカップリングを行うには特に難しい基質である。

ベンゾトリアゾールのオルト位にヘテロ原子を導入するためにクロスカップリング方法を利用する第１の例が、本明細書において開示されている。更に、クロスカップリングを使用せずに、ヘテロ原子連結基を用いてビス−ベンゾトリアゾールフェノールを合成している。

本方法は、下記に詳細に記述されている反応物だけでなく、少なくとも１種の溶媒、少なくとも１種の塩基、及び少なくとも１種のパラジウム系触媒も含む、反応混合物を調製する工程を含む。この反応混合物を少なくとも１００℃の温度まで加熱して、カップリング反応を起こす。

置換ベンゾトリアゾールフェノールを調製する方法は、式ＩＩＩ：

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｒ^１は、ハロゲン原子、トリフラート基、トシラート基、又はスルホネート基から選択される脱離基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］の保護されたフェノール化合物を準備する工程と、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ［式中、Ｒ^２１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、Ｚは、アルキル基若しくはアリール基、又は単結合を含み、
Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含む］の化合物を準備する工程と、少なくとも１種のパラジウム−ホスフィン錯体を含むパラジウム系触媒を準備する工程と、少なくとも１種の塩基を準備する工程と、少なくとも１種の溶媒を準備する工程と、式ＩＩＩの保護されたフェノール化合物、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物、パラジウム系触媒、少なくとも１種の塩基、及び少なくとも１種の溶媒を混合する工程と、それらをカップリング反応において反応させる工程と、を含む。次に、Ｐ基を除去して、−ＯＰ基を−ＯＨ基で置き換えてフェノール官能性を形成させ、上記の置換ベンゾトリアゾールフェノールをもたらす。

いくつかの実施形態では、Ｐ基は、アルキル基のシリル基である。いくつかの特定の実施形態では、Ｐ基は、メチル基又はトリアルキルシリル基である。

任意の好適な基を脱離基Ｒ^１として使用することができる。いくつかの実施形態では、脱離基Ｒ^１は、ハロゲン原子を含む。臭素原子は特に好適な脱離基であるが、別のハロゲン、特に塩素もまた好適であり得る。

各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。典型的には、これらの基の少なくとも１つは置換基を含み、この基は、水素原子以外の原子又は基であることを意味する。いくつかの実施形態では、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８基は、水素原子であり、Ｒ^３基は、置換基、典型的にはアルキル基を含む。いくつかの特定の実施形態では、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基を含む。

幅広い種類の、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物を使用して、式ＩＩＩの化合物とカップリングさせることができる。いくつかの実施形態では、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物は比較的単純な化合物であるが、別の実施形態では、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物は式ＩＩＩの化合物と同じような構造及び複雑さである。

一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの比較的単純な化合物の例は、Ｘが−Ｏ−であり、Ｒ^２１−Ｚ−基がアルキル基、又は置換芳香族基を含むものである。これらの実施形態では、Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ化合物はアルコール又はフェノールである。そのようなＲ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ化合物の例は、Ｒ^２１が水素原子であり、Ｚが−Ｈ_２Ｃ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基であり、Ｘが−Ｏ−である、Ｈ_３Ｃ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＯＨ（ｎ−ブタノール）である。別の例は、Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ化合物が３−メチルフェノール又は４−メチルフェノールなどの置換フェノールとなるような、Ｒ^２１−Ｚ−が置換芳香環であるものである。

一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの比較的単純な化合物の別の例は、Ｘが−ＮＲ^１０−であり、Ｒ^１０が水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、Ｒ^２１−Ｚ−基がアルキル基、又は置換芳香族基を含むものである。そのようなＲ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ化合物の例は、Ｒ^２１が水素原子であり、Ｚが−ＣＨ_２−基であり、Ｘが−ＮＲ^１０−であり、Ｒ^１０が水素原子を含むＨ_３Ｃ−ＮＨ_２（メチルアミン）、及びＲ^２１が水素原子であり、Ｚが−Ｈ_２Ｃ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−基であり、Ｘが−ＮＲ^１０−であり、Ｒ^１０が水素原子であるＨ_３Ｃ−Ｈ_２Ｃ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＮＨ_２（ヘキシルアミン）である。別の例は、Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ化合物が、４−ヘキシルアニリンなどの置換アニリンとなるような、Ｒ^２１−Ｚ−が置換芳香環であるものである。

本開示の方法はまた、一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物が、式ＩＩＩａ：

［式中、Ｒ^１は、−ＸＨ基を含み、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］により示されるより複雑な構造を含む実施形態も含む。

各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。典型的には、これらの基の少なくとも１つは置換基を含み、この基は、水素原子以外の原子又は基であることを意味する。いくつかの実施形態では、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８基は、水素原子であり、Ｒ^３基は、置換基、典型的にはアルキル基を含む。いくつかの特定の実施形態では、Ｒ^３は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基を含む。いくつかの特定の実施形態では、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子又はメチル基を含む。

本開示の方法の代替の実施形態では、一般式Ｒ^２１−Ｚ−ＸＨの化合物は、ＮＨ_３を含み、カップリング反応は、式ＩＶ：

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］の化合物を形成する第２のカップリング反応を含む。このカップリング反応では、２つの式ＩＩＩの化合物が、−ＮＨ−連結基を介して連結される。

各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む。典型的には、これらの基の少なくとも２つは置換基を含み、この基は、水素原子以外の原子又は基であることを意味する。いくつかの実施形態では、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７基は水素原子であり、Ｒ^３及びＲ^１６基は、置換基、典型的にはアルキル基を含む。いくつかの特定の実施形態では、Ｒ^３及びＲ^１６は、８個の炭素原子を有するアルキル基、典型的にはイソオクチル基を含む。

反応混合物の他の成分については、少なくとも１種の溶媒、少なくとも１種の塩基、及び少なくとも１種のパラジウム系触媒、幅広い種類の好適な材料が有用である。好適な溶媒の例としては、ヘキサン、ヘプタン、トルエン又はベンゼンなどの炭化水素溶媒；ジオキサン又はＴＨＦ（テトラヒドロフラン）などのエーテル；ジクロロメタン又はクロロホルムなどのハロゲン化溶媒；及び酢酸エチルなどのアセテート；水又は水とアルコール（ｔｅｒｔ−ブタノールなど）などの１種以上の水と相溶性の溶媒を含む水性溶媒；及びこれらの混合物が挙げられる。好適な塩基の例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムエトキシド、又はナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシドなどの金属水酸化物又はアルコキシド；炭酸カリウム若しくは炭酸セシウム、又はリン酸カリウムなどの金属炭酸塩及びリン酸塩；ｎ−ブチルリチウム、又はリチウムヘキサメチルジシラザンなどのリチウム塩；水素化ナトリウム；トリエチルアミンなどの有機アミン塩基；などを含む多様な無機又は有機塩基が挙げられる。パラジウム系触媒は、パラジウム−ホスフィン錯体を含む。パラジウム−ホスフィン錯体は典型的には、パラジウム系触媒前駆体と少なくとも１種のホスフィン配位子の組み合わせによって、ｉｎｓｉｔｕで発生させる。好適なパラジウム系触媒前駆体及び好適なホスフィン配位子の例は、実施例の項により詳細に記述されている。特に好適なパラジウム系触媒前駆体としては、酢酸パラジウム、アリルパラジウムクロリド、及びトリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウムが挙げられる。特に好適なホスフィン配位子としては、全てＳｔｒｅｍから入手可能な、２−（ジシクロヘキシルホスフィノ）−２’，４’，６’−トリ−ｉ−プロピル−１，１’−ビフェニル（ＸＰｈｏｓ）；２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）−３−メトキシ−６−メチル−２’−４’−６’−トリ−ｉ−プロピル−１，１’−ビフェニル（ＲｏｃｋＰｈｏｓ）；及び２−（ジ−ｔ−ブチルホスフィノ）−３，６−ジメトキシ−２’，４’，６’−トリ−ｉ−プロピル−１，１’−ビフェニル（ｔ−ｂｕＢｒｅｔｔＰｈｏｓ）が挙げられる。

カップリング反応において形成される化合物は、保護されたフェノール基（すなわち−ＯＰ基）を含む。カップリング反応を行った後、保護基Ｐは、よく知られた脱保護反応に従って除去し水素原子で置き換えて、フェノール官能性を形成して、本開示の置換ベンゾトリアゾールフェノール化合物を形成することができる。

これらの置換ベンゾトリアゾールフェノール化合物のそれぞれの調製に関する説明は、下記の実施例の項に詳細に記述されている。

これらの実施例は、単に例示のために過ぎず、添付の特許請求の範囲を限定することを意図するものではない。実施例及び本明細書のその他の箇所における全ての部、百分率、比などは、特に断りのない限り、重量による。溶媒はＡｌｆａＡｅｓａｒ（ＣｈｅｍＳｅａｌグレード）であり、更に精製することなく使用した。分離、単離、クロマトグラフィー、及び他の一般的用途に使用した溶媒は、ＥＭＤ（ＯｍｎｉｓｏｌｖＧｒａｄｅ）から入手した。

実施例全体にわたって、以下の省略形を使用する：Ｍ＝モル；ｍｉｎ＝分；ｈ＝時間；ｅｑｕｉｖ＝当量；×＝回数；ｇ＝グラム；ｍｇ＝ミリグラム；ｍｍｏｌ＝ミリモル；Ｌ＝リットル；ｍＬ＝ミリリットル；ｒｔ＝室温；ａｑ＝水溶液；
材料。

以下は、使用した市販の材料及び試薬の表である。

開示されている化合物の構造式
下記の表は、本出願で開示されており、下記に示す合成で調製される化合物に関する構造式の概要を示す。この表は、分かりやすくするためだけに添えられており、網羅的なものではない。

下記の実施例において、Ｂｉｏｔａｇｅ，Ｉｎｃ．（Ｃｈａｒｌｏｔｔｅｓｖｉｌｌｅ，Ｖｉｒｇｉｎｉａ，ＵＳＡ）から入手可能なＩＳＯＬＥＲＡシステムを使用して、自動化フラッシュクロマトグラフィー（ＡＦＣ）を行った。これらの精製のために、ＢｉｏｔａｇｅＳＮＡＰＵｌｔｒａシリカカラムを、ヘキサン／酢酸エチル勾配混合物とともに使用した。

全ての中間体及び生成物は、５００ＭＨｚＢｒｕｋｅｒ製の機器で^１Ｈ及び^１３Ｃ核磁気共鳴（ＮＭＲ）を使用して確認した。場合によっては、ＨＲＭＳも入手した。

本開示の化合物を調製するために従った一般的な反応スキームＩを、下記に示す。具体的な詳細は、各実施例に示す。

一般的な反応スキームＩ．

パートＡ：クロスカップリング。保護されたフェノールＡを、パラジウム又は銅触媒を用いたクロスカップリング条件に曝した。具体的な反応条件については、各個々の実施例を参照されたい。

パラジウム触媒反応（Ｂｕｃｈｗａｌｄ−Ｈａｒｔｗｉｇクロスカップリング）：Ｂｕｃｈｗａｌｄ、Ｈａｒｔｗｉｇ、及び共同研究者らは、パラジウム触媒及び嵩高いホスフィン配位子を使用してハロゲン化アリールをヘテロ原子に変換することができる変換を、文献で報告している。以下の市販の配位子（Ｂｕｃｈｗａｌｄにより開発された）が、ヘテロ原子がオルト位に導入されたベンゾトリアゾールフェノール類似体（化合物Ｂを参照）を合成するために使用されてきた。これらの配位子はまた、パラジウム触媒とすでに錯体形成された、触媒前駆体と呼ばれるものを購入することもできる。

銅触媒反応（Ｃｈａｎ−Ｅｖａｎｓ−Ｌａｍカップリング）：銅もまた、アリールボロン酸とフェノール、アニリン、又はアリールチオールとの間のクロスカップリング反応を行うために使用することができる。これは、Ｋｕｒｔｉ，Ｌ．；Ｃｚａｋｏ．ＳｔｒａｔｅｇｉｃＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｏｆＮａｍｅｄＲｅａｃｔｉｏｎｓｉｎＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，１^ｓｔｅｄ．Ｂｕｒｌｉｎｇｔｏｎ：ＭＡ，２００５，ｐｐ．４６４〜４６５に記載されているように、Ｕｌｌｍａｎｎ縮合の改良法と考えられる。この反応は、銅塩に関して化学量論的であり、通常は周囲条件下で行われる。

パートＢ：メチルエーテルの脱保護。メトキシエーテルベンゾトリアゾール（Ｂ，Ｐ＝Ｍｅ）をジクロロメタン（０．１Ｍ）中に溶解し、Ｎ_２下で撹拌しながら−７８℃まで冷却した。三臭化ホウ素（保護フェノールに対して１当量）を滴下添加し、反応混合物をゆっくりと室温まで温めた。反応終了時（ＴＬＣにより分析）、水を滴下添加し、混合物を１０ｍｉｎ撹拌した。有機層を分離し、水層をＤＣＭで抽出した（２×）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ_３飽和水溶液及びブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４又はＭｇＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。残渣を精製（ＳｉＯ_２）して、７８〜９８％の収率で生成物を得た。

実施例１
２−（３−ブロモ−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール（１）の合成。

パートＡ：臭素化。２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（１００ｇ、３０９ｍｍｏｌ）を、スターラーバーを入れた１Ｌ丸底フラスコに入れ、クロロホルム（５００ｍＬ）中に溶解した。これに、１，３−ジブロモ−５，５−ジメチルヒダントイン（ＤＢＤＭＨ）（４５．９５ｇ、１６１ｍｍｏｌ）を添加し、混合物をｒｔで終夜撹拌した。その後、混合物を濾過し、濃縮して暗赤色の残渣を得た。ジクロロメタン／エタノールから残渣を再結晶させて、白色の結晶を得た。母液を複数回再結晶させて、純粋な生成物１１３ｇ（９１％収率）を得た。

パートＢ：メチル化。パートＡの反応生成物を、スターラーバーを入れた１Ｌ丸底フラスコに入れ、アセトニトリル（４００ｍＬ）中に溶解した。炭酸カリウム（２０．７０ｇ、１５０ｍｍｏｌ）、その後、ヨードメタン（３．３ｍＬ、５２．５ｍｍｏｌ）を添加した。混合物をｒｔで終夜撹拌した。その後、反応混合物を部分的に濃縮し、酢酸エチルで希釈し、セライトで濾過した。溶液を濃縮し、粘稠なベージュ色の油状物を得たが、これは時間が経つにつれて最終的には凝固して、生成物２０．８ｇ（定量的収率）を得た。

実施例２
２−（３−ブロモ−２−（メトキシメトキシ）−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾールの合成

この手順は、ＯｒｇａｎｉｃＳｙｎｔｈｅｓｉｓ，２００７，８４，１０２に記載されているものと同様である。１ドラムバイアルにマグネチックスターラーバーを入れ、ジメトキシメタン（０．３３ｍＬ、３．７２ｍｍｏｌ）、トルエン（１ｍＬ）及びＺｎＢｒ_２（０．１ｍｇ）を入れる。塩化アセチル（０．２６ｍＬ、３．７２ｍｍｏｌ）をゆっくりと滴下添加した。２ｈ後、反応混合物を０℃まで冷却し、ジイソプロピルエチルアミン（０．５４ｍＬ、３．１ｍｍｏｌ）を反応混合物にゆっくりと添加した。次にフェノールを添加し（１ｇ、２．４８ｍｍｏｌ）、混合物を終夜撹拌する。溶液を酢酸エチル（１ｍＬ）で希釈し、ＮＨ_４Ｃｌ飽和水溶液（１ｍＬ）を添加し、混合物の撹拌を１０ｍｉｎ続ける。有機層を分離し、ブラインで洗浄し、乾燥し、濾過し、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して、蒸発後にベージュ色の固体を得た（０．９９ｇ、８９％収率）。

実施例３
２−（３−クロロ−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾールの合成。

パートＡ：塩素化。２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール（２ｇ、６．１８ｍｍｏｌ）を、スターラーバーを入れた２００ｍＬ丸底フラスコに入れ、アセトニトリル（６５ｍＬ）中に溶解した。これに、Ｎ−クロロスクシンイミド（ＮＣＳ）（０．９０８ｇ、６．８０２ｍｍｏｌ）を添加し、混合物を終夜還流させた。その後、混合物をｒｔまで冷却し、１０％Ｎａ_２Ｓ_２Ｏ_３水溶液でクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出した。合わせた有機層を乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過し、濃縮して、ベージュ色の固体を定量的収率で得た。更に精製は行わなかった。

パートＢ：メチル化。パートＡの反応生成物（１．５ｇ、４．１９ｍｍｏｌ）を、スターラーバーを入れた１００ｍＬ丸底フラスコに入れ、アセトニトリル（５０ｍＬ）中に溶解した。炭酸カリウム（１．７３８ｇ、１２．５７ｍｍｏｌ）、続いてヨードメタン（０．２７ｍＬ、４．４０ｍｍｏｌ）を添加した。混合物をｒｔで終夜撹拌した。その後、反応混合物を部分的に濃縮し、酢酸エチルで希釈し、セライトで濾過し、濃縮し、ＡＦＣで精製した。ベージュ色の油状物を単離したが、これは時間が経つにつれて最終的には凝固して、生成物０．９６ｇ（６２％）を得た。

実施例４
３−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れたバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（５．１０ｇ、１２．２４ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（２．０６ｇ、３６．７２ｍｍｏｌ）、ｔ−ＢｕＢｒｅｔｔＰｈｏｓ配位子（３０ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）、及びｔ−ＢｕＢｒｅｔｔＰｈｏｓＰｄ触媒前駆体（４０．６ｍｇ、０．０６ｍｍｏｌ）を入れた。バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。１，４−ジオキサン（２４ｍＬ）及び脱イオン水（４．４ｍＬ）を添加し、反応混合物を１００℃で終夜撹拌した。その後、反応物をＥｔＯＡｃで希釈し、１０％ａｑＨＣｌで酸性化し、更に１０ｍｉｎ撹拌した。その後、有機層を分離し、水層をＥｔＯＡｃで抽出した（２×）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ_３飽和水溶液、ブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過し、濃縮して、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製された残渣を得た。ベージュ色のガラス状の固体を単離した（３．５７ｇ、８３％収率）。

実施例５
２−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ブトキシ−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバー及び活性化４Åモレキュラーシーブをそれぞれ備えた、３つの火炎乾燥した４０−ドラムバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（４．１７９ｇ、１０．０４ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（４．９１ｇ、１５．０６ｍｍｏｌ）、アリルパラジウムクロリドダイマー（１８．４ｍｇ、０．５ｍｏｌ％）、及びＲｏｃｋＰｈｏｓ配位子（２３．４ｍｇ、０．５ｍｏｌ％）を入れた。各バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた（３×）。トルエン（１０ｍＬ）、続いて無水ｎ−ブタノール（１．８ｍＬ、２０．０８ｍｍｏｌ）を各バイアルに添加した。ＣｈｅｍＧｌａｓｓ反応ブロックにバイアルをセットし、１００℃まで７２ｈ加熱した。その後、反応混合物を合わせ、セライトで濾過し、濃縮した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで粗残渣を精製して、淡黄色の固体を得た（９．８０ｇ、７９％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製した後、遊離フェノールをベージュ色の固体として単離した（８．５０ｇ、８５％収率）。

実施例６
２−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（ｍ−トリルオキシ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバー及び活性化４Åモレキュラーシーブをそれぞれ備えた、２つの火炎乾燥した４０−ドラムバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（４．１６ｇ、１０ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（４．２５ｇ、２０ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）（４５ｍｇ、２ｍｏｌ％）、及びＲｏｃｋＰｈｏｓ配位子（９３ｍｇ、２ｍｏｌ％）を入れた。各バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた（３×）。トルエン（１０ｍＬ）、続いてｍ−クレゾール（１．３ｍＬ、１２ｍｍｏｌ）を各バイアルに添加した。ＣｈｅｍＧｌａｓｓ反応ブロックにバイアルをセットし、１００℃まで１６ｈ加熱した。その後、反応混合物を合わせ、セライトで濾過し、濃縮した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで粗残渣を精製して、ベージュ色の固体を得た（７．０７ｇ、８０％収率。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製した後、遊離フェノールをベージュ色の固体として単離した（６．５０ｇ、９８％収率）。

実施例７
２−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（ｐ−トリルオキシ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れたバイアルに、実施例４の反応生成物（６１ｍｇ、０．１７２６ｍｍｏｌ）、ｐ−トリルボロン酸（２３．５ｍｇ、０．１７２６ｍｍｏｌ）、酢酸銅（ＩＩ）（３１．３ｍｇ、０．１７２６ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（０．０７２ｍＬ、０．５１７７ｍｍｏｌ）、及びジクロロメタン（１．７ｍＬ）を入れた。バイアルを穏やかな空気流下に置き、ｒｔで終夜撹拌した。その後、混合物をジクロロメタンで希釈し、セライトで濾過し、濃縮し、精製して黄色の泡状物（５３．４ｍｇ、７０％収率）を得た。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、遊離フェノールをベージュ色の固体として単離した（４８ｍｇ、９９％収率）。

実施例８

パートＡ．スターラーバーを入れたオーブン乾燥したＳｃｈｌｅｎｋフラスコに、４Åモレキュラーシーブ、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２３．３７ｍｍｏｌ、２．２５ｇ）、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３（０．３３ｍｍｏｌ、３０６ｍｇ）、ＸＰｈｏｓ（０．８３ｍｍｏｌ、３９８ｍｇ）及び実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１６．６９ｍｍｏｌ、６．９５ｇ）を加えた。次に、フラスコを排気し、Ｎ_２をフラッシュし（３×）、ジオキサン中のアンモニア（０．５Ｍ、１００ｍＬ）をカニューレで添加した。Ｓｃｈｌｅｎｋフラスコを閉じ、１３０℃に１６ｈ加熱した。その後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、濾過し、濃縮した。粗油状物を、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して、ベージュ色の固体を得、これをパートＢ（一般的反応スキームＩ）で続けて使用した。下記の実施例１４に記述しているダイマーに加えて、第２の化合物も単離され、これはモノアニリン（０．７９ｇ、１３％収率）と特定された。この化合物を、標準的な脱保護条件（パートＢ、一般的な反応スキームＩ）に供し、遊離フェノールを黄色の固体として単離した（０．６７ｇ、８５％収率）。

実施例９
２−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（メチルアミノ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れた火炎乾燥したバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（４１６ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（２０ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ配位子（２０ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２８８ｍｇ、３ｍｍｏｌ）、及びメチルアミン塩酸塩（２０３ｍｇ、３ｍｍｏｌ）を入れた。バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。ジオキサン（５ｍＬ）を添加し、反応物を１３０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、ＥｔＯＡｃで希釈し、セライトで濾過した。残渣をＡＦＣで精製した。白色の固体を単離した（３２５ｍｇ、８９％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、遊離フェノールを黄色の固体として得た（１８０ｍｇ、７８％収率）。

実施例１０
２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−６−（ヘキシルアミノ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れた３つの火炎乾燥したバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１．６６ｇ、４ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（７３．３ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ配位子（９５．３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（５３８ｍｇ、５．６ｍｍｏｌ）、及び１−ヘキシルアミン（０．７４ｍＬ、５．６ｍｍｏｌ）を入れた。バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。ジオキサン（２０ｍＬ）を添加し、反応物を１３０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、合わせ、ＥｔＯＡｃで希釈し、セライトで濾過した。残渣をＡＦＣで精製した。ベージュ色の固体を単離した（３．８８ｇ、７４％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、黄色の固体として遊離フェノールを得た（３．３２、８８％収率）。

実施例１１
２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−６−（（４−ヘキシルフェニル）アミノ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れた３つの火炎乾燥したバイアルに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１．６６ｇ、４ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（７３．３ｍｇ、０．０８ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ配位子（９５．３ｍｇ、０．２ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（５３８ｍｇ、５．６ｍｍｏｌ）、及び４−ヘキシルアニリン（１ｍＬ、５．６ｍｍｏｌ）を入れた。バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。ジオキサン（２０ｍＬ）を添加し、反応物を１３０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、合わせ、ＥｔＯＡｃで希釈し、セライトで濾過した。残渣をＡＦＣで精製した。ベージュ色の固体を単離した（３．８８ｇ、７４％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、黄色の固体として遊離フェノールを得た（４．６７ｇ、９６％収率）。

実施例１２
２−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（（トリイソプロピルシリル）オキシ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

パートＡ．標準的な手順に従って、トリイソプロピルクロロシラン（ＴＩＰＳ−Ｃｌ）を用いて、実施例１の反応生成物をシリル化した。

パートＢ．スターラーバーを入れ、Ｎ_２を充満させた丸底フラスコに、パートＡの反応生成物（１．５７ｇ、２．８１ｍｍｏｌ）を入れた。ＴＨＦ（２０ｍＬ）を添加し、フラスコを−７８℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウム（１．８ｍＬ、２．８１ｍｍｏｌ）を添加し、混合物をゆっくりとｒｔまで温め、３ｈ撹拌した。その後、飽和塩化アンモニウムで反応をクエンチし、生成物をＥｔＯＡｃで抽出した（３×）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、乾燥し、濾過した。ＡＦＣによって粗残渣を精製して、無色の固体（０．７４ｇ、５５％収率）を得た。

実施例１３
（３−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）ボロン酸の合成

スターラーバーを入れた火炎乾燥した丸底フラスコに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１．９３６ｍｍｏｌ、０．８０６ｇ）を入れ、Ｎ_２下で−７８℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ、１．３３ｍＬ）をゆっくりと添加した。１０ｍｉｎ後、トリメチルボレート（０．２８ｍＬ、２．５１７ｍｍｏｌ）を滴下添加した。混合物を−７８℃で１．５ｈ、その後０℃で１ｈ撹拌した。その後、混合物を１０％ａｑＨＣｌ（１ｍＬ）でクエンチし、１０ｍｉｎ撹拌を続けた後、酢酸エチルで希釈した。有機層を分離し、水層を抽出した（２×）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、乾燥し、濾過した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで粗残渣を精製して、象牙色の固体を得た（０．４５１ｇ、６１％収率）。

実施例１４
６，６’−アザンジイルビス（２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

パートＡ．スターラーバーを入れたオーブン乾燥したＳｃｈｌｅｎｋフラスコに、４Åモレキュラーシーブ、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（２３．３７ｍｍｏｌ、２．２５ｇ）、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３（０．３３ｍｍｏｌ、３０６ｍｇ）、ＸＰｈｏｓ（０．８３ｍｍｏｌ、３９８ｍｇ）及び実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１６．６９ｍｍｏｌ、６．９５ｇ）を加えた。次に、フラスコを排気し、Ｎ_２をフラッシュし（３×）、ジオキサン中のアンモニア（０．５Ｍ、１００ｍＬ）をカニューレで添加した。Ｓｃｈｌｅｎｋフラスコを閉じ、１３０℃に１６ｈ加熱した。その後、反応混合物をＥｔＯＡｃで希釈し、濾過し、濃縮した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで粗油状物を精製して、ベージュ色の固体を得た。

パートＢ．パートＡの生成物をジクロロメタン（１５０ｍＬ）中に溶解し、Ｎ_２下で撹拌しながら−７８℃まで冷却した。三臭化ホウ素（１７．１０ｍｍｏｌ、１．６ｍＬ）を滴下添加し、反応混合物をゆっくりとｒｔまで温めた。反応終了時（ＴＬＣにより分析）、水を滴下添加し、混合物を１０ｍｉｎ撹拌した。有機層を分離し、水層をＤＣＭで抽出した（２×）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ_３飽和水溶液及びブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４又はＭｇＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。熱アセトンから残渣を再結晶させて、黄色の結晶性固体を得た（３．３８ｇ、（１）から６１％収率）。

実施例１５
６，６’−（メチルアザンジイル）ビス（２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

パートＡ．実施例１４、パートＡの反応生成物（１２．７９ｍｍｏｌ、８．８ｇ）を、ジメチルホルムアミド（１２０ｍＬ）中に溶解し、これに、Ｎ_２流下でｒｔにて、水素化ナトリウム（１４．０７ｍｍｏｌ、０．５６ｇ）を添加した。混合物を１０ｍｉｎ撹拌し、次に、ヨードメタン（１４．０７ｍｍｏｌ、０．８８ｍＬ）を添加し、撹拌を更に２ｈ続けた。塩化アンモニウム飽和水溶液で反応をクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出した（３×）。合わせた有機層を水、次いでブラインで洗浄し、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥し、濾過し、濃縮した。更に精製は行わなかった。

パートＢ．パートＢの生成物をジクロロメタン（１５０ｍＬ）中に溶解し、Ｎ_２下で撹拌しながら−７８℃まで冷却した。三臭化ホウ素（１７．１０ｍｍｏｌ、１．６ｍＬ）を滴下添加し、反応混合物をゆっくりとｒｔまで温めた。反応終了時（ＴＬＣにより分析）、水を滴下添加し、混合物を１０ｍｉｎ撹拌した。有機層を分離し、水層をＤＣＭで抽出した（２×）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ_３飽和水溶液及びブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４又はＭｇＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。熱アセトンから残渣を再結晶させて、黄色の結晶性固体を得た（６．７４ｇ、（１）から６０％収率）。

実施例１６
６，６’−オキシビス（２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

パートＡ．標準的な手順を使用して、実施例４の反応生成物をトリフラート化した（triflated）。化合物３−（２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール−２−イル）−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル＝トリフルオロメタンスルホネートを形成するため：

パートＢ．次に、パートＡの反応生成物（０．９９ｍｍｏｌ、４８２ｍｇ）を、実施例４の反応生成物（０．９９ｍｍｏｌ、３５１ｍｇ）、リン酸カリウム（１．９９ｍｍｏｌ、４２１ｍｇ）及びモレキュラーシーブと一緒に、火炎乾燥したバイアルに入れた。次にバイアルを排気し、Ｎ_２を流し（３×）、トルエン（１０ｍＬ）を添加した。反応混合物を１３０℃で７２ｈ撹拌した。その後、混合物を冷却し、濾過し、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して、白色の固体として（５）を得た（７３ｍｇ、１１％収率）。実施例１４、パートＢの手順に従って、琥珀色の結晶性固体として生成物を得た（０．０５２ｇ、７６％収率）。

実施例１７
６，６’−スルフィニルビス（２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

文献の手順（ＯｒｇＬｅｔｔ，１９９９，１，１８９）を使用して、実施例１８の６，６’−チオビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）を酸化した。６，６’−チオビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）（７．３９ｍｍｏｌ、５．０ｇ）を、スカンジウムトリフラート（０．７４ｍｍｏｌ、３６４ｍｇ）及び過酸化水素・尿素付加物（８．５ｍｍｏｌ、８２０ｍｇ）とともに、エタノール（５ｍＬ）中に溶解した。反応物を８０℃で終夜撹拌し、白色の沈澱物を濾過し、水及びエタノールで洗浄した。スルホキシド：スルホンの２：１混合物を単離した（４．１８ｇ、８１％収率）。

代替の手順もまた使用することができる。実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（１２ｍｍｏｌ、５．０ｇ）を、Ｎ_２下でＴＨＦ中に溶解し、−７８℃まで冷却した。ｎ−ブチルリチウム（１．６Ｍ、７．９ｍＬ）をゆっくりと添加し、反応物を３０ｍｉｎ撹拌した。その後、塩化チオニル（５．８８ｍｍｏｌ、０．４３ｍＬ）を添加し、反応物をｒｔまでゆっくりと温めた。２ｈ後、飽和塩化アンモニウムで反応をクエンチし、生成物を酢酸エチルで抽出した（３×）。合わせた有機層をブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過した。フラッシュカラムクロマトグラフィーで粗生成物を精製して、白色の固体を得た（１．２ｇ、２８％収率）。実施例１４、パートＢの手順に従って、琥珀色の結晶性固体として生成物を得た（０．７３ｇ、６３％収率）。

実施例１８
６，６’−チオビス（２−（２Ｈ−ベンゾ［ｄ］［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

スターラーバーを入れた火炎乾燥バイアルに、３−ブロモ−２−メトキシ−５−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェニル）−２Ｈ−１，２，３−ベンゾトリアゾール（０．４１６ｇ、１ｍｍｏｌ）、チオ酢酸カリウム（０．０５７ｇ、０．５ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（０．０２３ｇ、０．０２５ｍｍｏｌ）、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（０．０２８ｇ、０．０５ｍｍｏｌ）及びリン酸カリウム（０．１２７ｇ、０．６ｍｍｏｌ）を入れた。次にバイアルを排気し、Ｎ_２を流し（３×）、トルエン（０．５ｍＬ）及びアセトン（０．２５ｍＬ）を添加した。反応混合物を１３０℃で７２ｈ撹拌した。その後、混合物を冷却し、濾過し、フラッシュカラムクロマトグラフィーで精製して、白色の固体として５を得た（０．２４０ｇ、６８％収率）。実施例１０、パートＢの手順に従って、白色の固体として生成物を得た（０．２３０ｇ、９９％収率）。

前述の一般的な反応スキームＩとは異なる特別な反応を使用して、下記の実施例１９に示す通りフェノール−１９を調製した。

実施例１９

標準的なジアゾ化手順（ＷＯ０８１３１９２１；Ｂｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．２０１０，２０，４１９３〜４１９５）に従って上記のジアゾ化合物を合成し、その後、還元的環化を行ってフェノール−１９を得た。

実施例２０
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）アミノ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れた２５０ｍＬのＳｃｈｌｅｎｋフラスコに、実施例１で調製したベンゾトリアゾール１（２０．０ｇ、４８．０３ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（１．０４ｇ、１．１４ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ配位子（１．３５ｇ、２．７５ｍｍｏｌ）、ナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（７．６３ｇ、７９．４ｍｍｏｌ）、及び３，５−ビス（トリフルオロメチル）アニリン（８ｍＬ、５１．３６ｍｍｏｌ）を入れた。Ｓｃｈｌｅｎｋフラスコを排気し、Ｎ_２を再び充満させた。ジオキサン（２００ｍＬ）を添加し、反応物を１３０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、ＥｔＯＡｃで希釈し、セライトで濾過し、濃縮した。残渣をＡＦＣで精製した。褐色の固体を単離した（２６．８ｇ、９８％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、黄色の固体として遊離フェノールを得た（２１．３ｇ、８２％収率）。

実施例２１
２−（２Ｈ−トリアゾール−２−イル）−６−（（４−（パーフルオロオクチル）フェニル）アミノ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーをそれぞれ入れた、２つの火炎乾燥した４０−ドラムバイアルに、実施例８、パートＡの生成物（１．１６２ｇ、３．３０ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−４−（ヘプタデカフルオロオクチル）ベンゼン（２．０ｇ、３．３０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（６０．４ｍｇ、０．０６６ｍｍｏｌ）、ＸＰｈｏｓ配位子（８０ｍｇ、０．１６３ｍｍｏｌ）、及びナトリウムｔｅｒｔ−ブトキシド（４４４ｍｇ、４．６２ｍｍｏｌ）を入れた。各バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。ジオキサン（２０ｍＬ）を各バイアルに添加し、ＣｈｅｍＧｌａｓｓ反応ブロックにバイアルをセットし、１３０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、ＥｔＯＡｃで希釈し、合わせ、セライトで濾過し、濃縮した。残渣をＡＦＣで精製した。褐色の固体を単離した（４．４１ｇ、７９％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、黄色の固体として遊離フェノールを得た（３．４１ｇ、７９％収率）。

実施例２２
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（ｐ−トリルチオ）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノールベンゾトリアゾール

スターラーバーを入れた火炎乾燥したバイアルに、２−（２Ｈ−ベンゾ［１，２，３］トリアゾール−２−イル）−６−ブロモ−４−（２，４−ジメチルペンタン−２−イル）フェノール（２．８８ｇ、６．９２ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（０．３１７ｇ、０．３４６ｍｍｏｌ）、１，１’ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン（０．３８３ｇ、０．６９２ｍｍｏｌ）、リン酸カリウム（１．７６ｇ、８．３０ｍｍｏｌ）、及び４−メチルベンゼンチオールトルエン（１．０３１ｇ、８．３０ｍｍｏｌ）を入れた。バイアルにセプタムキャップをはめ、排気し、Ｎ_２を再び充満させた。トルエン（１４ｍＬ）を添加し、反応物を１１０℃まで１６ｈ加熱した。その後、混合物をｒｔまで冷却し、合わせ、ＥｔＯＡｃで希釈し、セライトで濾過した。残渣をＡＦＣで精製した。ベージュ色の固体を単離した（３．０９ｇ、９７％収率）。パートＢ（一般的な反応スキームＩ）に従って、象牙色の固体として遊離フェノールを得た（２．７０ｇ、９０％収率）。

実施例２３
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（ｐ−トリルスルフィニル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

以下は、文献の手順を改変した（ＯｒｇＬｅｔｔ．２００３，５，２３５）。スターラーバーを入れたバイアルに、実施例２２のアリールスルフィド（１．２ｇ、２．６９ｍｍｏｌ）を加えた。エタノール（７ｍＬ）及び過酸化水素（３０％、１．５ｍＬ）を添加し、混合物にＮ_２を数分間バブリングした。スカンジウムトリフラート（０．２６５ｇ、０．５３９ｍｍｏｌ）を添加し、混合物をｒｔで終夜撹拌させておいた。その後、Ｈ_２Ｏ（２ｍＬ）で反応をクエンチし、濾過した。ＡＦＣで濾液を精製し、白色の固体を得た（０．７６４ｇ、６１％収率）。母液から再結晶させて更に０．１６７ｇの生成物を得、合計０．９３１ｇの生成物を得た（７５％収率）。

実施例２４
２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−トシル−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール

スターラーバーを入れたバイアル中で、実施例２２のアリールスルフィド（１．５ｇ、３．３６６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１７ｍＬ）中に溶解した。ｍ−クロロ過安息香酸５０ｗｔ％（２．５６ｇ、７．４０ｍｍｏｌ）を添加し、ＴＬＣによる終了まで反応物を撹拌した。次に、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液で反応をクエンチし、有機層を分離し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。ＥｔＯＡｃで洗浄し濾過して、これを精製した。白色の固体を得た（１．３４ｇ、８３％収率）。

実施例２５
６，６’−スルホニルビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

実施例２４と同様にして、６，６’−スルホニルビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）を合成した。スターラーバーを入れたフラスコ中で、実施例１８のアリールスルフィド（４．５ｇ、６．６ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（３３ｍＬ）中に溶解した。ｍ−クロロ過安息香酸５０ｗｔ％（７．４０ｍｍｏｌ、５．０５ｇ）を添加し、ＴＬＣによる終了まで反応物を撹拌した。次に、ＮａＨＣＯ_３飽和水溶液で反応をクエンチし、有機層を分離し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４）、濾過し、濃縮した。ＥｔＯＡｃで洗浄し濾過して、これを精製した。白色の固体を得た（２．９ｇ、６２％収率）。

実施例２６
６，６’−（オクタデシルアザンジイル）ビス（２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イル）フェノール）

パートＡ．実施例１４、パートＡの反応生成物（４．０ｇ、５．８１ｍｍｏｌ）を、ジメチルホルムアミド（６０ｍＬ）中に溶解し、これに、Ｎ_２流下でｒｔにて水素化ナトリウム（６．４０ｍｍｏｌ、２５６ｍｇ）を添加した。混合物を１０ｍｉｎ撹拌し、次に、１−ヨードオクタデカン（６．４０ｍｍｏｌ、２．４３ｇ）を添加し、撹拌を更に２ｈ続けた。塩化アンモニウム飽和水溶液で反応をクエンチし、ＥｔＯＡｃで抽出した（３×）。合わせた有機層を水、次いでブラインで洗浄し、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥し、濾過し、濃縮した。更に精製は行わなかった。

パートＢ．パートＡの生成物をジクロロメタン（４０ｍＬ）中に溶解し、Ｎ_２下で撹拌しながら−７８℃の温度まで冷却した。三臭化ホウ素（１２．２０ｍｍｏｌ、１．２ｍＬ）を滴下添加し、反応混合物をゆっくりとｒｔまで温めた。反応終了時（ＴＬＣにより分析）、水を滴下添加し、混合物を１０ｍｉｎ撹拌した。有機層を分離し、水層をＤＣＭで抽出した（２×）。合わせた有機層をＮａＨＣＯ_３飽和水溶液及びブラインで洗浄し、乾燥し（Ｎａ_２ＳＯ_４又はＭｇＳＯ_４）、濾過し、濃縮して、粘性のある油状物を得た（５．１６ｇ、９７％収率）。

Claims

式Ｉの構造：

［式中、Ｒ^１が水素原子を含む場合、Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又はアリールオキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、又は
Ｒ^１が−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）基、又は−ＳｉＲ^２０ _３基を含む場合、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基はアルキル基であり、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を有する置換ベンゾトリアゾールフェノールを含む組成物。
Ｒ^１は、−Ｏ−Ｒ^９基を含み、Ｒ^９は、
１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、又は
アリール基を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^９は、
１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、又は
置換フェニル基を含むアリール基を含む、請求項２に記載の組成物。
Ｒ^１は、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０基を含み、
Ｒ^９は、水素原子、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基、又はアリール基を含み、
Ｒ^１０は、水素原子又は１〜６個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^９は、
１〜６個の炭素原子を有するアルキル基、又は
３−アルキル置換フェニル基を含むアリール基を含み、前記アルキル置換基は、１〜６個の炭素原子を有し、
Ｒ^１０は、水素原子を含む、請求項４に記載の組成物。
Ｒ^１は、水素原子を含み、Ｒ^３は、４個の炭素原子を含むアルコキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子を含む、請求項１に記載の組成物。
Ｒ^１は、−Ｏ−Ｒ^９基を含み、Ｒ^９は、４個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項２に記載の組成物。
Ｒ^１は、−Ｏ−Ｒ^９基を含み、Ｒ^９は、３−メチルフェニル基、又は４−メチルフェニル基を含むアリール基を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項２に記載の組成物。
Ｒ^１は、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０基を含み、Ｒ^９は、１個の炭素原子を有するアルキル基、又は６個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
Ｒ^１０は、水素原子を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項４に記載の組成物。
Ｒ^１は、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０基を含み、Ｒ^９は、アルキル置換フェニル基を含むアリール基を含み、前記アルキル置換基は、１〜２０個の炭素原子を有し、
Ｒ^１０は、水素原子を含み、
Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基である、請求項４に記載の組成物。
前記アルキル置換フェニル基は、４−ヘキシルフェニル基を含む、請求項１０に記載の組成物。
式ＩＩの構造：

［式中、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）_２−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を含む、請求項１に記載の組成物。
Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、１〜３個の炭素原子を含むアルキル基を含み、
Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素を有するアルキル基を含む、請求項１２に記載の組成物。
Ｘは、−Ｏ−連結基を含み、
Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含む、請求項１２に記載の組成物。
Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、
Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む、請求項１２に記載の組成物。
Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、メチル基を含み、
Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む、請求項１２に記載の組成物。
Ｘは、−Ｏ−連結基を含み、
Ｒ^３及びＲ^１６はそれぞれ、１〜２０個の炭素原子を有するアルキル基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む、請求項１２に記載の組成物。
一般構造式ＩＩＩ又は式ＩＶ：

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｒ^１が水素原子を含む場合、Ｒ^３は、１〜２０個の炭素原子を含むアルコキシ基又はアリールオキシ基を含み、各Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、又は
Ｒ^１が−Ｏ−Ｒ^９、−Ｎ−Ｒ^９Ｒ^１０、−Ｂ（ＯＲ^１８）（ＯＲ^１９）基、又は−ＳｉＲ^２０ _３基を含む場合、Ｒ^９は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又は１つ以上の酸素、窒素、硫黄若しくはリン原子を含むヘテロ原子含有基を含むか、又はＲ^９及びＲ^１０は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^１８及びＲ^１９は独立して、水素原子、アルキル基、アリール基であるか、又はＲ^１８及びＲ^１９は結合している原子と一緒に複素環構造を形成し、各Ｒ^２０基はアルキル基であり、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］、
又は

［式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］を含む、保護された置換ベンゾトリアゾールフェノールを含む組成物。
Ｐは、メチル基、−ＣＨ_２ＯＣＨ_３基、又は−Ｓｉ（（ｉ−Ｐｒ）_３基を含み、ｉ−Ｐｒは、イソプロピル基である、請求項１８に記載の組成物。
置換ベンゾトリアゾールフェノールを調製する方法であって、
式ＩＩＩ：

（式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｒ^１は、ハロゲン原子、トリフラート基、トシラート基、又はスルホネート基から選択される脱離基を含み、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む）の保護されたフェノール化合物を準備する工程と、
一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈ
［式中、Ｒ^２１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含み、
Ｚは、アルキル基若しくはアリール基、又は単結合を含み、
Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含む］を有する化合物を準備する工程と、
少なくとも１種のパラジウム−ホスフィン錯体を含むパラジウム系触媒を準備する工程と、
少なくとも１種の塩基を準備する工程と、
少なくとも１種の溶媒を準備する工程と、
前記式ＩＩＩの保護されたフェノール化合物、前記一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物、前記パラジウム系触媒、前記少なくとも１種の塩基、及び前記少なくとも１種の溶媒を混合して、反応混合物を形成する工程と、
前記反応混合物を少なくとも１００℃の温度まで加熱して、カップリング反応を起こす工程と、を含む、方法。
前記一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物は、Ｘが−Ｏ−、又は−、−ＮＲ^１０−である化合物を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、前記Ｒ^２１−Ｚ−基は、アルキル基、又は置換芳香族基を含む、請求項２０に記載の方法。
前記一般式Ｒ^２１−Ｚ−Ｘ−Ｈの化合物は、式ＩＩＩａ：

［式中、Ｒ^１は、−ＸＨ基を含み、Ｘは、−Ｏ−、−ＮＲ^１０−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子、アルキル基、又はアリール基を含み、
Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、及びＲ^８は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む］の化合物を含む、請求項２０に記載の方法。
Ｒ^１は、−ＯＨ基を含む、請求項２２に記載の方法。
前記一般式Ｒ^２１−Ｚ−ＸＨの化合物は、ＮＨ_３を含み、前記カップリング反応は、式ＩＶ：

（式中、Ｐ基は、アルキル、置換アルキル、又はシリル基を含む保護基であり、
Ｘは、−ＮＲ^１０−連結基を含み、Ｒ^１０は、水素原子を含み、各Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、及びＲ^１７は独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン原子を含む）の化合物を形成する第２のカップリング反応を含む、請求項２０に記載の方法。
前記保護基Ｐを水素原子と置き換える工程を更に含む、請求項２０に記載の方法。