JP2018041767A - 波形整形回路及びその製造方法とパルスパターン発生器 - Google Patents
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Abstract
【課題】各チップ部品とアースパターンとの間の寄生容量の発生を抑えて低減し、波形整形回路の性能の悪化を避ける。
【解決手段】波形整形回路1は、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、誘電体5の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、誘電体5の第二層5B上に第一層5A上のアースパターン4dとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される。チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路を、誘電体5の第一層5A上において接続パターン4b,4cを介して入出力パターン4aとアースパターン4dとの間に接続する。パターン4および誘電体5の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いてチップ部品2の下部に凹状の空洞部6を形成する。
【選択図】図1
【解決手段】波形整形回路1は、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、誘電体5の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、誘電体5の第二層5B上に第一層5A上のアースパターン4dとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される。チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路を、誘電体5の第一層5A上において接続パターン4b,4cを介して入出力パターン4aとアースパターン4dとの間に接続する。パターン4および誘電体5の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いてチップ部品2の下部に凹状の空洞部6を形成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、入力される信号の波形を整形して出力する波形整形回路及びその製造方法に関する。
従来、入力される信号の波形を整形して出力する波形整形回路として、例えば下記特許文献1に開示される等化フィルタが知られている。特許文献1の等化フィルタは、受動素子で構成された低域通過フィルタと、受動素子で構成された周波数特性の高域利得がステップ状に増加する高域利得はね上げ回路とを直列接続して構成される。
そして、特許文献1の等化フィルタでは、図2(a),(b)に示す回路の高域利得はね上げ回路を用いている。図2(a)の高域利得はね上げ回路は、入力端子21と出力端子22との間に抵抗RとコンデンサCとが並列に接続され、抵抗Rが高周波で短絡状態となり、ある高周波で減衰量を0にすることができる。図2(b)の高域利得はね上げ回路は、入力端子21と出力端子22との間に接続される抵抗Rの一方にインダクタLの一方が接続され、インダクタLの他方がアースに接続され、抵抗Rが高周波で開放状態となり、ある高周波で減衰量を0にすることができ、高域利得がステップ状に増加する周波数特性を得ることができる。
上述した特許文献1の等化フィルタでは、図2(a)の回路による高域利得はね上げ回路を採用すれば、抵抗Rとアースとの間、及びコンデンサCとアースとの間の寄生容量を小さくできる反面、十分な周波数特性が得られないという問題があった。
これに対し、図2(b)の回路による高域利得はね上げ回路を採用すれば、高域利得がステップ状に増加する周波数特性を得ることでき、十分な周波数特性を確保することができる。
ところで、各種ディジタル通信装置を被測定物とし、その性能評価の一つであるビット誤り率を測定する装置として誤り率測定装置が知られている。誤り率測定装置では、パルスパターン発生器が発生する既知のパターン信号を被測定物に入力し、被測定物から入力される被測定信号と既知のパターン信号とをビット単位で比較してビット誤り率を測定している。
その際、パルスパターン発生器が発生するパターン信号は、時間方向のジッタのずれ量が小さいこと、アイパターンの開口量が大きいこと、信号の立ち上がりや立ち下がりが急峻であることが望まれる。このため、パルスパターン発生器の後段には、パターン信号の出力波形を整形する波形整形回路が用いられる。
そこで、図2(b)の回路による高域利得はね上げ回路を上述したパルスパターン発生器の出力波形を整形する波形整形回路として安価に構成しようとした場合、図3に示すような多層構造のプリント基板31に対し、インダクタL及び抵抗Rをチップ部品32として実装することが考えられる。
図3のプリント基板31は、パターン33と誘電体34とが交互に複数積層された多層基板で構成され、図2(b)の回路における入力端子21と出力端子22との間の伝送線路となる入出力パターン33a、チップ部品32のインダクタLと抵抗Rとの間を接続する接続パターン33b、抵抗Rの他方が接続されるアースパターン33cが誘電体34の第一層34A上のパターン33の第一層33Aに形成される。なお、図示はしないが、誘電体34の第一層34A上のアースパターン33cは、誘電体34の第二層34B上のパターン33の第二装置33Bにベタ状に形成されたアースパターン33dとスルーホール接続される。
しかしながら、図3に示すようなプリント基板31を用いてチップ部品32である抵抗RとインダクタLを実装する場合には、チップ部品32を実装するためのパターン33(33a,33b,33c)が必要であり、このパターン33とチップ部品32の裏面からの誘電体34の第二層34B上のアースパターン33dとの間に寄生容量が発生してしまい、回路の特性を悪化させてしまうという問題を招く。この問題を解決するため、個々のチップ部品32を標準サイズより小さいものを用い、チップ部品32が実装されるパターン33の面積を小さくすることも可能であるが、十分な周波数特性を確保した上で寄生容量を低減するには限界があった。
そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、寄生容量の影響による特性の悪化を低減することができる波形整形回路及びその製造方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、本発明の請求項1に記載された波形整形回路は、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、前記誘電体の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、前記誘電体の第二層5B上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される波形整形回路1であって、
チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路が前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続され、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域がくり抜かれて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6が形成されたことを特徴とする。
チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路が前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続され、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域がくり抜かれて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6が形成されたことを特徴とする。
請求項2に記載された波形整形回路は、請求項1の波形整形回路において、
前記直列回路が前記インダクタLと前記抵抗RとコンデンサCからなることを特徴とする。
前記直列回路が前記インダクタLと前記抵抗RとコンデンサCからなることを特徴とする。
請求項3に記載された波形整形回路の製造方法は、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、前記誘電体の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、前記誘電体の第二層5B上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される波形整形回路1の製造方法であって、
チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路を、前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続するステップと、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6を形成するステップとを含むことを特徴とする。
チップ部品2からなるインダクタLおよび抵抗Rの直列回路を、前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続するステップと、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6を形成するステップとを含むことを特徴とする。
請求項4に記載された波形整形方法は、請求項3の波形整形方法において、
前記直列回路が前記インダクタLと前記抵抗RとコンデンサCからなることを特徴とする。
前記直列回路が前記インダクタLと前記抵抗RとコンデンサCからなることを特徴とする。
本発明によれば、チップ部品の下部に位置するパターンと誘電体の第二層以下の領域をくり抜いて形成される凹状の空洞部により、チップ部品の直下に位置するアースパターンを無くし、各チップ部品とアースパターンとの間の寄生容量の発生を抑えて低減することができ、波形整形回路の性能の悪化を避けることができる。
以下、本発明を実施するための形態について、添付した図面を参照しながら詳細に説明する。
本実施の形態の波形整形回路は、入力される信号の波形を整形して出力する回路である。特に、本実施の形態の波形整形回路は、例えば被測定物のビット誤り率を測定する際に、パターン発生器が出力する「0」,「1」の組み合わせからなるPRBS(Pseudo-random bit sequence:擬似ランダム・ビット・シーケンス)パターンなどの既知のパターン信号を入力として、その出力波形を整形する場合に好適に用いることができる。
図1に示すように、本実施の形態の波形整形回路1は、チップ部品2をプリント基板3上に実装して構成される。
チップ部品2は、図2(b)の回路による波形整形回路1をプリント基板3で実現する際の構成部品であり、図1に示すように、インダクタL(例えば15nH)のチップ部品2a、抵抗R(例えば150Ω)のチップ部品2b、コンデンサC(例えば0.1μF)のチップ部品2cを含み、例えば0.6mm×0.3mmの矩形状チップで構成される。
プリント基板3は、パターン4と誘電体5とが交互に複数積層された多層基板で構成される。
パターン4は、銅箔パターンからなり、信号を入出力する伝送線路となる入出力パターン、チップ部品を接続するための接続パターン、アースパターン、電源パターンなどを含む。
本例では、図2(b)の回路による波形整形回路1をプリント基板3で実現するため、図1に示すように、入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが誘電体5の第一層(最上層)5A上のパターン4の第一層4Aに形成される。そして、図1の奥行き方向に延出する入出力パターン4aと図1の左側の接続パターン4bとの間にインダクタLのチップ部品2aを搭載して接続し、接続パターン4bと図1の右側の接続パターン4cとの間に抵抗Rのチップ部品2bを搭載して接続し、接続パターン4cとアースパターン4dとの間にコンデンサCのチップ部品2cを搭載して接続する。また、図示はしないが、誘電体5の第一層5A上のアースパターン4dは、誘電体5の第一層5Aと第二層5Bとの間のパターン4の第二層4Bに形成されるベタ状のアースパターン4eとスルーホール接続される。これにより、入力端子21と出力端子22を接続する伝送線路(入出力パターン4a)とアース(アースパターン4e)との間にインダクタL、抵抗R、コンデンサCの直列回路が接続され、図2(b)の回路による波形整形回路1が構成される。
なお、図1では、多層基板からなるプリント基板3として、パターン4および誘電体5を第三層4C,5Cまで示しており、パターン4および誘電体5の第四層以下の構成については省略している。
そして、プリント基板3には、誘電体5の第一層5Aを介してチップ部品2の下部に凹状の空洞部6が形成される。空洞部6は、誘電体5の第一層5Aにおいて、チップ部品2が実装される領域の下部に位置するパターン4および誘電体5の第二層4B,5B以下を例えばドリルなどの工具を用いてくり抜いて除去することにより形成される。これにより、チップ部品2(2a,2b,2c)の直下に位置するアースパターン4eが無くなり、各チップ部品2a,2b,2cとアースパターン4eとの間の寄生容量の発生を抑えて低減することができる。その結果、ジッタが小さくなり、波形整形回路1の性能の悪化を避けることができる。
ここで、上述した効果を検証するため、本実施の形態の波形整形回路1(図1の空洞部6:有り)と比較用の波形整形回路(図1の空洞部6:無し)とを作製した。そして、PRBS7のパターン信号を伝送速度30Gbit/sで入力し、接続用の同軸ケーブルの周波数特性が持つロス分を考慮した出力からジッタのピーク幅の測定を行った。
その結果、本実施の形態の波形整形回路1におけるジッタのピーク幅は737fs、比較用の波形整形回路におけるジッタのピーク幅は900fsとなり、ジッタのピーク幅が小さくなる結果が得られた。
ところで、上述した図1の実施の形態では、入力信号の直流成分をカットするためのコンデンサCのチップ部品2cがプリント基板3に実装されているが、入力される信号に直流成分が乗っていない場合には、コンデンサCのチップ部品2cを省くことができる。この場合、図1において、インダクタLのチップ部品2aと抵抗Rのチップ部品2bの直列回路を入出力パターン4aとアースパターン4dとの間に接続パターン4bを介して接続する。そして、誘電体5の第一層5Aにおいて、インダクタLのチップ部品2aと抵抗Rのチップ部品2bが実装される領域の下部に位置するパターン4および誘電体5の第二層4B,5B以下をくり抜いて凹状の空洞部6を形成する。
以上、本発明に係る波形整形回路及びその製造方法の最良の形態について説明したが、この形態による記述及び図面により本発明が限定されることはない。すなわち、この形態に基づいて当業者等によりなされる他の形態、実施例及び運用技術などはすべて本発明の範疇に含まれることは勿論である。
1 波形整形回路
2 チップ部品
2a インダクタLのチップ部品
2b 抵抗Rのチップ部品
2c コンデンサCのチップ部品
3 プリント基板
4 パターン
4A パターンの第一層
4B パターンの第二層
4C パターンの第三層
4a 入出力パターン
4b,4c 接続パターン
4d,4e アースパターン
5 誘電体
5A 誘電体の第一層
5B 誘電体の第二層
5C 誘電体の第三層
6 空洞部
21 入力端子
22 出力端子
31 プリント基板
32 チップ部品
33 パターン
33A パターンの第一層
33B パターンの第二層
33a 入出力パターン
33b 接続パターン
33c,33d アースパターン
34 誘電体
34A 誘電体の第一層
34B 誘電体の第二層
2 チップ部品
2a インダクタLのチップ部品
2b 抵抗Rのチップ部品
2c コンデンサCのチップ部品
3 プリント基板
4 パターン
4A パターンの第一層
4B パターンの第二層
4C パターンの第三層
4a 入出力パターン
4b,4c 接続パターン
4d,4e アースパターン
5 誘電体
5A 誘電体の第一層
5B 誘電体の第二層
5C 誘電体の第三層
6 空洞部
21 入力端子
22 出力端子
31 プリント基板
32 チップ部品
33 パターン
33A パターンの第一層
33B パターンの第二層
33a 入出力パターン
33b 接続パターン
33c,33d アースパターン
34 誘電体
34A 誘電体の第一層
34B 誘電体の第二層
本発明は、入力される信号の波形を整形して出力する波形整形回路及びその製造方法と、波形整形回路にて出力波形を整形するためのパターン信号を発生するパルスパターン発生器に関する。
そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、寄生容量の影響による特性の悪化を低減することができる波形整形回路及びその製造方法とパルスパターン発生器を提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、本発明の請求項1に記載された波形整形回路は、パルスパターン発生器が発生するパターン信号を被測定物に入力し、該被測定物から入力される被測定信号と前記パターン信号とをビット単位で比較してビット誤り率を測定する誤り率測定装置に適用され、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、前記誘電体の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、前記誘電体の第二層5B上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される波形整形回路1であって、
チップ部品2からなるインダクタLと抵抗RとコンデンサCの直列回路が前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続され、
前記パターン信号の時間方向のジッタのずれ量を小さくするために、前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域がくり抜かれて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6が形成されたことを特徴とする。
チップ部品2からなるインダクタLと抵抗RとコンデンサCの直列回路が前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続され、
前記パターン信号の時間方向のジッタのずれ量を小さくするために、前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域がくり抜かれて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6が形成されたことを特徴とする。
請求項2に記載されたパルスパターン発生器は、請求項1の波形整形回路にて波形整形されるパターン信号を発生することを特徴とする。
請求項3に記載された波形整形回路の製造方法は、パルスパターン発生器が発生するパターン信号を被測定物に入力し、該被測定物から入力される被測定信号と前記パターン信号とをビット単位で比較してビット誤り率を測定する誤り率測定装置に適用され、パターン4と誘電体5とが交互に積層され、前記誘電体の第一層5A上に入出力パターン4a、接続パターン4b,4c、アースパターン4dが形成され、前記誘電体の第二層5B上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン4eが形成された多層基板からなるプリント基板3に実装される波形整形回路1の製造方法であって、
チップ部品2からなるインダクタLと抵抗RとコンデンサCの直列回路を、前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続するステップと、
前記パターン信号の時間方向のジッタのずれ量を小さくするために、前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6を形成するステップとを含むことを特徴とする。
チップ部品2からなるインダクタLと抵抗RとコンデンサCの直列回路を、前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続するステップと、
前記パターン信号の時間方向のジッタのずれ量を小さくするために、前記パターンおよび前記誘電体の第二層4B,5B以下の領域をくり抜いて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部6を形成するステップとを含むことを特徴とする。
Claims (4)
- パターン(4)と誘電体(5)とが交互に積層され、前記誘電体の第一層(5A)上に入出力パターン(4a)、接続パターン(4b,4c)、アースパターン(4d)が形成され、前記誘電体の第二層(5B)上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン(4e)が形成された多層基板からなるプリント基板(3)に実装される波形整形回路(1)であって、
チップ部品(2)からなるインダクタ(L)および抵抗(R)の直列回路が前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続され、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層(4B,5B)以下の領域がくり抜かれて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部(6)が形成されたことを特徴とする波形整形回路。 - 前記直列回路が前記インダクタ(L)と前記抵抗(R)とコンデンサ(C)からなることを特徴とする請求項1記載の波形整形回路。
- パターン(4)と誘電体(5)とが交互に積層され、前記誘電体の第一層(5A)上に入出力パターン(4a)、接続パターン(4b,4c)、アースパターン(4d)が形成され、前記誘電体の第二層(5B)上に前記第一層上のアースパターンとスルーホール接続されるベタ状のアースパターン(4e)が形成された多層基板からなるプリント基板(3)に実装される波形整形回路(1)の製造方法であって、
チップ部品(2)からなるインダクタ(L)および抵抗(R)の直列回路を、前記誘電体の第一層上に前記接続パターンを介して前記入出力パターンと前記アースパターンとの間に接続するステップと、
前記パターンおよび前記誘電体の第二層(4B,5B)以下の領域をくり抜いて前記チップ部品の下部に凹状の空洞部(6)を形成するステップとを含むことを特徴とする波形整形回路の製造方法。 - 前記直列回路が前記インダクタ(L)と前記抵抗(R)とコンデンサ(C)からなることを特徴とする請求項3記載の波形整形方法。
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