JP2018011047A - 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 254
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 11
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 6
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 abstract description 16
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 8
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005534 acoustic noise Effects 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/40—Structural combinations of fixed capacitors with other electric elements, the structure mainly consisting of a capacitor, e.g. RC combinations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G2/00—Details of capacitors not covered by a single one of groups H01G4/00-H01G11/00
- H01G2/02—Mountings
- H01G2/06—Mountings specially adapted for mounting on a printed-circuit support
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/008—Selection of materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/008—Selection of materials
- H01G4/0085—Fried electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
- H01G4/012—Form of non-self-supporting electrodes
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/228—Terminals
- H01G4/232—Terminals electrically connecting two or more layers of a stacked or rolled capacitor
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
- H01L21/3043—Making grooves, e.g. cutting
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2201/00—Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
- H05K2201/10—Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
- H05K2201/10007—Types of components
- H05K2201/10015—Non-printed capacitor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/341—Surface mounted components
- H05K3/3431—Leadless components
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
互いに異なる極性を有する内部電極の重なり面積を増加させて製品を小型化させながら、製品の容量を増加させることができる積層型キャパシタを提供する。
【解決手段】
本発明は、誘電体層、上記誘電体層を挟んで交互に配置される第1及び第2内部電極、及び対向する第1及び第2面に上記誘電体層が積層される第1方向に沿って設けられ、上記第1及び第2内部電極とそれぞれ接触する第1及び第2溝部を含むキャパシタ本体と、上記第1溝部及び上記第2溝部にそれぞれ形成され、上記第1内部電極及び上記第2内部電極とそれぞれ接続する第1及び第2ビア電極とを含む積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法を提供する。
【選択図】図1
Description
積層型キャパシタ
図1は、本発明の第1実施例による積層型キャパシタをひっくり返して概略的に示す分離斜視図であり、図2(a)及び(b)は、図1における第1及び第2内部電極をそれぞれ示す平面図であり、図3は、図1におけるキャパシタ本体の一側面図である。
図4は、図1の積層型キャパシタにおいて、溝部とビア電極の他の実施形態を示す分離斜視図である。
積層型キャパシタ
図9は、本発明の第2実施例による積層型キャパシタを概略的に示す斜視図であり、図10(a)及び(b)は、図9の積層型キャパシタにおいて、第1及び第2溝部が設けられる前の第1及び第2内部電極をそれぞれ示す平面図であり、図11は、図9において、第1及び第2ビア電極を除いたキャパシタ本体を示す斜視図である。
図15は、本発明の第2実施例による積層型キャパシタにおいて、第1及び第2ビア電極のさらに他の実施形態を示す斜視図であり、図16は、図15において、第1及び第2ビア電極を除いたキャパシタ本体を示す斜視図である。
図18を参照すると、本実施例による積層型キャパシタの実装基板は、積層型キャパシタ100が実装される基板311と、基板311の上面に互いに離隔して配置される第1及び第2電極パッド321、322とを含む。
110、210 キャパシタ本体
111、211 誘電体層
112、113 上部及び下部カバー領域
121、122 第1及び第2内部電極
121a、122a 第1及び第2溝部
121b、122b 第3及び第4溝部
131、132 第1及び第2外部電極
141、142 第1及び第2ビア電極
151、152 第1及び第2絶縁層
221、222 第1及び第2内部電極
221a、222a 第1及び第2本体部
221b、222b 第1及び第2リード部
231、232 第1及び第2溝部
241、242 第1及び第2ビア電極
311 基板
321、322 第1及び第2電極パッド
331、332 半田
Claims (29)
- 誘電体層、前記誘電体層を挟んで交互に配置される第1及び第2内部電極、及び対向する第1及び第2面に前記誘電体層が積層される第1方向に沿って設けられ、前記第1及び第2内部電極とそれぞれ接触する第1及び第2溝部を含むキャパシタ本体と、
前記第1溝部及び前記第2溝部にそれぞれ形成され、前記第1内部電極及び前記第2内部電極とそれぞれ接続する第1及び第2ビア電極とを含む、積層型キャパシタ。 - 前記キャパシタ本体の第1方向の第1面に互いに離隔して配置され、前記第1及び第2ビア電極とそれぞれ接続する第1及び第2外部電極をさらに含む、請求項1に記載の積層型キャパシタ。
- 前記第1及び第2外部電極が、前記キャパシタ本体の第1方向に第1面にのみ配置される、請求項2に記載の積層型キャパシタ。
- 前記キャパシタ本体に前記第1ビア電極の露出した部分をカバーするように形成される第1絶縁層と、
前記キャパシタ本体に前記第2ビア電極の露出した部分をカバーするように形成される第2絶縁層と、をさらに含む、請求項1から請求項3の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1及び第2溝部と前記第1及び第2ビア電極とをそれぞれ2個以上含む、請求項1から請求項4の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。
- 前記第1及び第2内部電極は、前記キャパシタ本体の第1方向と垂直な第2方向の第3及び第4面に露出し、
前記第1溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第3面に前記第1内部電極の第1端部が湾入部(recess)を有するように設けられ、
前記第2溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第4面に前記第2内部電極の第1端部が湾入部(recess)を有するように設けられ、
前記第1内部電極の第2方向に前記第1端部と対向する第2端部に前記第2溝部より大きく設けられる第3溝部と、前記第2内部電極の第2方向に前記第1端部と対向する第2端部に前記第1溝部より大きく設けられる第4溝部と、をさらに含む、請求項1から請求項5の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1内部電極は、前記キャパシタ本体の第1方向と垂直な第2方向の第3面に露出し、前記第2ビア電極と離隔するように前記キャパシタ本体の第2方向の第4面から離隔し、
前記第2内部電極は、前記キャパシタ本体の第2方向の第4面に露出し、前記第1ビア電極と離隔するように前記キャパシタ本体の第2方向の第3面から離隔し、
前記第1溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第3面に前記第1内部電極の第1端部が湾入部(recess)を有するように設けられ、
前記第2溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第4面に前記第2内部電極の第1端部が湾入部(recess)を有するように設けられる、請求項1から請求項6の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1及び第2内部電極は、前記キャパシタ本体の第1方向と垂直な第2方向の第3及び第4面から離隔し、
前記第1溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第3面に前記第1内部電極の第1端部が湾入部(recess)を有するように設けられ、
前記第2溝部は、前記キャパシタ本体の第2方向の第4面に前記第2内部電極の第2端部が湾入部(recess)を有するように設けられ、
前記第1内部電極の第2方向の他側のエッジは、前記第2ビア電極と離隔するように第2方向の一側のエッジより前記キャパシタ本体のエッジでさらに離隔し、
前記第1内部電極の第1端部が第1ビア電極から離隔するように、前記第1内部電極の第2端部から第4面までの距離が前記第1内部電極の第1端部から第3面までの距離より大きく、
前記第2内部電極の第2端部が第1ビア電極から離隔するように、前記第2内部電極の第2端部から第3面までの距離が前記第2内部電極の第1端部から第4面までの距離より大きい、請求項1から請求項7の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 誘電体層、前記誘電体層を挟んで交互に配置され、互いにオーバーラップする第1及び第2本体部、前記第1及び第2本体部でキャパシタ本体の実装面に露出して延長する第1及び第2リード部をそれぞれ含む第1及び第2内部電極、及び前記第1及び第2リード部が露出する実装面に前記誘電体層が積層される第1方向に沿って延長して設けられ、前記第1及び第2リード部とそれぞれ接触する第1及び第2溝部を含むキャパシタ本体と、
前記第1溝部及び前記第2溝部にそれぞれ形成され、前記第1リード部及び前記第2リード部とそれぞれ接続する第1及び第2ビア電極とを含む、積層型キャパシタ。 - 前記第1及び第2溝部が前記キャパシタ本体の実装面に設けられる、請求項9に記載の積層型キャパシタ。
- 前記第1溝部は、前記第1リード部に形成される湾入部を含み、前記第2溝部は、前記第2リード部に形成される湾入部を含む、請求項10に記載の積層型キャパシタ。
- 前記第1及び第2溝部は、前記キャパシタ本体の角が湾入部を有するように設けられる、請求項11に記載の積層型キャパシタ。
- 誘電体層、前記誘電体層を挟んで交互に配置される第1及び第2内部電極を含むキャパシタ本体と、
前記キャパシタ本体内に部分的に内蔵(embedded)され、前記第1及び第2内部電極とそれぞれ電気的に接続する第1及び第2ビア電極とを含み、
前記キャパシタ本体の第1外面、前記キャパシタ本体によって露出する第1ビア電極の外面のうち少なくとも一つ、及び前記キャパシタ本体によって露出する前記第2ビア電極の外面が互いに同一平面上に位置する、積層型キャパシタ。 - 前記キャパシタ本体の第1外面と前記キャパシタ本体によって露出する第1ビア電極の外面が互いに同一平面上に位置し、
前記キャパシタ本体の第2外面と前記キャパシタ本体によって露出する第1ビア電極の外面が互いに同一平面上に位置し、
前記キャパシタ本体の第1外面と第2外面が一方向において互いに対向する、請求項13に記載の積層型キャパシタ。 - 前記キャパシタ本体の第1面及び第2面を互いに接続する前記キャパシタ本体の実装面に互いに離隔して配置され、前記第1及び第2ビア電極とそれぞれ電気的に接続する第1及び第2外部電極をさらに含む、請求項14に記載の積層型キャパシタ。
- 前記キャパシタ本体の第1外面と前記キャパシタ本体によって露出する第1ビア電極の外面をカバーする第1絶縁層と、
前記キャパシタ本体の第2外面と前記キャパシタ本体によって露出する第2ビア電極の外面をカバーする第2絶縁層とをさらに含む、請求項14または請求項15に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1内部電極が、前記キャパシタ本体の第1及び第2外面に露出し、前記第2ビア電極から離隔し、
前記第2内部電極が、前記キャパシタ本体の第1及び第2外面に露出し、前記第1ビア電極から離隔する、請求項14から請求項16の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1内部電極が、前記キャパシタ本体の第1外面に露出し、前記キャパシタ本体の第2外面及び前記第2ビア電極から離隔し、
前記第2内部電極が、前記キャパシタ本体の第2外面に露出し、前記キャパシタ本体の第1外面及び前記第1ビア電極から離隔する、請求項14から請求項17の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記第1及び第2内部電極が前記キャパシタ本体の第1及び第2外面から離隔し、
前記第1内部電極から前記キャパシタ本体の第1外面までの距離が前記第1内部電極から前記キャパシタ本体の第2外面までの距離より小さく、
前記第2内部電極から前記キャパシタ本体の第2外面までの距離が前記第2内部電極から前記キャパシタ本体の第1外面までの距離より小さい、請求項14から請求項18の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。 - 前記キャパシタ本体の第1外面及び前記キャパシタ本体によって露出する前記第1ビア電極の外面と前記キャパシタ本体によって露出する前記第2ビア電極の外面が互いに同一平面上に位置する、請求項13から請求項19の何れか一項に記載の積層型キャパシタ。
- 前記第1及び第2ビア電極の外面が、前記キャパシタ本体によって露出し、前記キャパシタ本体の第1外面のみと互いに同一平面上に位置する、請求項20に記載の積層型キャパシタ。
- 前記キャパシタ本体の第2外面と前記キャパシタ本体によって露出する前記第1ビア電極の他の外面が互いに同一平面上に位置し、
前記キャパシタ本体の第3外面と前記キャパシタ本体によって露出する前記第2ビア電極の他の外面が互いに同一平面上に位置し、
前記キャパシタ本体の第1外面が前記キャパシタ本体の第2及び第3外面と互いに接続する、請求項20または請求項21に記載の積層型キャパシタ。 - 上面に第1及び第2電極パッドを有する基板と、
前記基板上に実装される請求項1から請求項22のいずれか一項に記載の積層型キャパシタと、を含む、積層型キャパシタの実装基板。 - 一つ又はそれ以上の誘電体層、前記誘電体層を挟んで交互に積層される複数の第1及び第2内部電極を含む積層型本体を形成する段階と、
前記複数の第1及び第2内部電極が複数の孔に露出するように前記積層型本体を貫通する複数の孔(hole)を形成する段階と、
前記複数の孔を導電性材料で充填する段階と、
前記導電性材料が充填された複数の孔を通過するパス(path)に沿って前記積層型本体を切断して複数のキャパシタ本体を形成する段階と、を含む、積層型キャパシタの製造方法。 - 前記切断した後のそれぞれのキャパシタ本体は、導電性材料がそれぞれの前記キャパシタ本体に部分的に内蔵された第1ビア電極及び第2ビア電極を含み、前記第1及び第2内部電極とそれぞれ電気的に接続する、請求項24に記載の積層型キャパシタの製造方法。
- それぞれの前記キャパシタ本体において、前記第1ビア電極及び前記第2ビア電極が切断によって形成されるそれぞれの前記キャパシタ本体の同一の面に露出する、請求項25に記載の積層型キャパシタの製造方法。
- それぞれの前記キャパシタ本体において、前記第1ビア電極と前記第2ビア電極が切断によって形成されるそれぞれの前記キャパシタ本体の異なる面に露出する、請求項25または請求項26に記載の積層型キャパシタの製造方法。
- 前記複数のキャパシタ本体を形成する段階後に、
導電性材料で第1及び第2外部電極を形成し、前記第1及び第2外部電極が導電性材料を介して前記第1及び第2内部電極と電気的に接続する段階をさらに含む、請求項24から請求項27の何れか一項に記載の積層型キャパシタの製造方法。 - キャパシタ本体の前記第1及び第2内部電極が切断によって露出し、
それぞれのキャパシタ本体の露出した第1及び第2内部電極をカバーする一つ又はそれ以上の絶縁層を形成する段階をさらに含む、請求項24から請求項28の何れか一項に記載の積層型キャパシタの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022064156A JP2022082766A (ja) | 2016-07-14 | 2022-04-07 | 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2016-0089312 | 2016-07-14 | ||
KR1020160089312A KR20180007865A (ko) | 2016-07-14 | 2016-07-14 | 적층형 커패시터 및 그 실장 기판 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022064156A Division JP2022082766A (ja) | 2016-07-14 | 2022-04-07 | 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018011047A true JP2018011047A (ja) | 2018-01-18 |
Family
ID=60941285
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017107036A Pending JP2018011047A (ja) | 2016-07-14 | 2017-05-30 | 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 |
JP2022064156A Pending JP2022082766A (ja) | 2016-07-14 | 2022-04-07 | 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022064156A Pending JP2022082766A (ja) | 2016-07-14 | 2022-04-07 | 積層型キャパシタ及びその実装基板並びにその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10553364B2 (ja) |
JP (2) | JP2018011047A (ja) |
KR (2) | KR20180007865A (ja) |
CN (1) | CN107622873B (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6838547B2 (ja) * | 2017-12-07 | 2021-03-03 | 株式会社村田製作所 | コイル部品およびその製造方法 |
CN109256286A (zh) * | 2018-09-10 | 2019-01-22 | 株洲宏达陶电科技有限公司 | 工字形四端瓷介电容器的制备方法 |
KR102527705B1 (ko) | 2018-10-10 | 2023-05-02 | 삼성전기주식회사 | 적층 세라믹 전자부품 |
JP7092052B2 (ja) * | 2019-01-23 | 2022-06-28 | 株式会社村田製作所 | 積層セラミックコンデンサ |
JP7179634B2 (ja) * | 2019-02-07 | 2022-11-29 | 株式会社東芝 | コンデンサ及びコンデンサモジュール |
CN113424280B (zh) * | 2019-02-13 | 2023-01-03 | 京瓷Avx元器件公司 | 包括导电通路的多层陶瓷电容器 |
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-
2016
- 2016-07-14 KR KR1020160089312A patent/KR20180007865A/ko not_active Application Discontinuation
-
2017
- 2017-05-15 US US15/595,070 patent/US10553364B2/en active Active
- 2017-05-30 JP JP2017107036A patent/JP2018011047A/ja active Pending
- 2017-07-12 CN CN201710565066.9A patent/CN107622873B/zh active Active
-
2022
- 2022-04-07 JP JP2022064156A patent/JP2022082766A/ja active Pending
-
2023
- 2023-06-07 KR KR1020230072913A patent/KR20230093188A/ko not_active IP Right Cessation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107622873B (zh) | 2021-01-05 |
CN107622873A (zh) | 2018-01-23 |
US20180019064A1 (en) | 2018-01-18 |
KR20180007865A (ko) | 2018-01-24 |
JP2022082766A (ja) | 2022-06-02 |
US10553364B2 (en) | 2020-02-04 |
KR20230093188A (ko) | 2023-06-27 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200516 |
|
A977 | Report on retrieval |
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|
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