JP2016039634A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体装置は、第1ノード、第2ノード、第1段乃至第n段(nは2以上の整数)の蓄電素子、および第1段乃至第n段のスイッチを有する。第1段乃至第n段の蓄電素子の容量は互いに異なり、第1段乃至第n段の蓄電素子は、第1ノードと第2ノード間に電気的に並列に接続され、第k段(kは1以上n以下の整数)の蓄電素子の第1端子は、第k段のスイッチを介して第1ノードと電気的に接続され、第1段乃至第n段のスイッチは、それぞれ、第1乃至第n信号によって導通状態が制御される。
【選択図】図1
Description
半導体装置の一例として、D−Aコンバータ(DAC)について説明する。
図1は、DACの構成例を示すブロック図である。図1に示すDAC1は、nビット(nは2以上の整数)のデジタル信号D[n−1:0]を、Ioutに変換する機能を有する。Ioutはアナログ電流であり、DAC1の出力電流である。DAC1は、バッテリブロック10、スイッチ(SW)ブロック20、および回路ブロック35を有する。
回路ブロック35は負荷30、スイッチ31、スイッチ32、およびスイッチ33を有する。ノードN1はDAC1の出力ノードとして機能する。ノードN1から電流(アナログ信号)Ioutが出力される。ノードN3には低電源電圧GNDが入力される。ノードN4には電圧VCRが入力される。VCRは、バッテリブロック10を充電するための充電電圧である。GNDは、VCRよりも低い電圧であり、例えば接地電位、または0Vとすればよい。
スイッチブロック20はn段のスイッチSW1を有する。スイッチブロック20には、信号D[n−1:0]が入力される。信号D[k]はSW1[k]の導通状態を制御する機能を有する。図1の例では、D[k]の値が”0”のとき、対応するスイッチSW1[k]が非導通状態となり、D[k]の値が”1”のとき、スイッチSW1[k]が導通状態となる。
バッテリブロック10は、n種類の電流IB0―IBn−1を供給するための電流源として機能する。バッテリブロック10は、n段のバッテリ(BT0−BTn−1)を有する。BT0−BTn−1は充電が可能な蓄電素子である。BT0−BTn−1の起電力は等しく、BT0−BTn−1の容量は互いに異なる。例えば、DAC1をバイナリ型とする場合は、BT0−BTn−1の容量を2の累乗で重みづけすればよく、BTkの容量はBT0の2k倍である。バッテリブロック10が放電状態であり、かつSW1[0]−SW1[nー1]が導通状態のとき、BT0の出力電流がIB0であれば、BTkの出力電流IBkはIB0の2k倍となる。
nが3である場合を例に、DAC1の動作を説明する。D[2:0]が”000”であればIout=0×IB2+0×IB1+0×IB0であり、0アンペアである。D[2:0]が”001”であれば、Iout=0×IB2+0×IB1+1×IB0=IB0となる。D[2:0]が”010”であれば、Iout=0×IB2+1×IB1+0×IB0=2IB0となる。D[2:0]が”011”であれば、Iout=0×IB2+1×IB1+1×IB0=3IB0となる。
バッテリブロック10を充電する際は、スイッチ31およびスイッチ32を非導通状態にし、スイッチ33を導通状態にして回路ブロック35を充電状態にして、電圧VCRをノードN2に供給する。この時、例えば、スイッチブロック20では、n段のスイッチSW1[0]−SW1[n−1]を導通状態にして、n段のバッテリ(BT0−BTn−1)を全て充電するようにしてもよい。あるいは、バッテリブロック10のデジタルーアナログ変換動作で放電された段のバッテリのみを充電するようにしてもよい。このような充電は、例えば、処理するデジタル信号D[n−1:0]が入力されている状態のまま、回路ブロック35を充電状態にすることで、行うことができる。バッテリブロック10において充電が必要なバッテリのみに充電することで、充電に要するエネルギーを削減できる。
図2にDAC1のより具体的な回路構成例を示す。図2に示すDAC2は、スイッチ31−33、およびスイッチSW1がn型トランジスタで構成されている回路に相当する。
スイッチブロック22はn個のトランジスタM1を有する。トランジスタM1[0]−M1[n−1]のゲートには、それぞれ、信号D[0]−D[n―1]が入力される。トランジスタM1をp型トランジスタしてもよい。この場合、信号D[0]−D[n―1]が入力される配線にそれぞれ、インバータ回路を設け、信号D[0]−D[n―1]の反転信号をトランジスタM1[0]−M1[n−1]のゲートに入力すればよい。
回路ブロック42は、回路ブロック35のスイッチ31−33をn型トランジスタとした回路に相当する。図2は、トランジスタM31のゲートと、トランジスタM32には異なる信号が入力される例を示している。トランジスタM31のゲートには信号CE1が入力され、トランジスタM32のゲートには信号CE2が入力される。トランジスタM33のゲートには信号CEB2が入力される。信号CEB2は、信号CE2の反転信号である。このような構成により、アナログ信号の出力のタイミングを適宜変更することが可能となる。もちろん、トランジスタM31のゲートに信号CE2を入力するようにしてもよい。また、トランジスタM33に信号CEB2とは異なる信号を入力し、トランジスタM33の導通状態の制御をトランジスタM31、M32の導通状態の制御と独立して行うようにしてもよい。
図3に示すDAC3はDAC2(図2)の変形例であり、スイッチブロックの回路構成が異なる。図3に示すスイッチブロック23には,デジタル信号D[n−1:0]および信号slctが入力される。スイッチブロック23はn段のスイッチSW3を有する。SW3[k]は、BTkの正極とノードN2との導通状態を制御する機能を有する回路である。
SW3[k]は、トランジスタM1のゲートの電圧を保持する保持回路を備えている。この保持回路は、1トランジスタ1容量型のメモリ構造を有しており、ノードFN3、トランジスタM3および容量素子C3を有する。SW3[k]は、ノードFN3において信号D[k]の電圧に対応する電圧を保持することができる機能を有する。容量素子C3はノードFN3の電圧を保持する保持容量として機能することができる。トランジスタM3は、書き込みトランジスタとして機能することができる。
回路ブロック42を放電状態にする。ここでは、信号CE1によりトランジスタM31をオフ状態にする。Hレベルの信号slctおよび所定の値のデジタル信号D[n−1:0]をスイッチブロック23に入力することで、スイッチブロック23にD[n−1:0]の値が書き込まれる。つまり、スイッチSW3[0]−SW3[n―1]に、それぞれD[0]−D[n−1]の値が書き込まれる。
D[n−1:0]において値が”1”であるビットに対応する段のSW3がオン状態であり、他の段のSW3はオフ状態であるので、回路ブロック42を放電状態にすることで、SW3がオン状態である段のバッテリBT0−BTn−1が充電され、他の段のバッテリBT0−BTn−1は充電されない。すなわち、デジタルーアナログ変換動作で放電された段のバッテリBT0−BTn−1のみを充電することができるため、充電に要するエネルギーを削減することができる。
DAC1―3は、Ioutを出力する回路である。D[n−1:0]からアナログ電圧を生成する必要がある場合は、DAC1−3の出力ノードN1に電流―電圧変換回路を接続すればよい。図4に示すDAC4は、電圧出力型のD−Aコンバータである。DAC4はDAC50および回路55を有する。DAC50には、DAC1−DAC3を適用することができる。回路55はアナログ電流Ioutをアナログ電圧Voutに変換する機能を有する。回路55は、オペアンプ51と抵抗52とを有する。
実施の形態1に係るDACは、各種の半導体装置に組み込むことができる。本実施の形態では、DACを有する半導体装置について説明する。
図5は、発振回路の構成の一例を示すブロック図である。図5に示す回路101は、q+1個の回路111(qは奇数、かつ、1より大きくnより小さい)、回路120、およびバッファ回路121を有する。q+1個の回路111は、それぞれ、配線群WDおよび配線WLと電気的に接続されている。配線群WDにはnビットのデジタル信号D[n−1:0]が入力され、配線WLには信号slctが入力される。回路101はデジタル信号D[n−1:0]によって、回路101の出力信号SVCOの発振周波数fVCOを変化させることができる機能を有する。VDDは回路101の高電源電圧であり、GNDは回路101の低電源電圧であり、VDDよりも低い電圧である。
図6は図5に示す回路101の変形例を示す。図5に示す回路101では、回路110の各段のDAC3には、同じデジタル信号D[n―1:0]が書き込まれる。図6に示す回路102では、回路110の各段のDAC3に、異なるデジタル信号D[n―1:0]を書きこむことが可能である。
図5に示す回路101において、DAC3に換えてDAC2(図2)を用いることができる。この場合、配線WLを省略すればよい。
図7は位相同期回路(PLL)の一例を示す。上述した発振回路は、PLLの発振回路に適用することが可能である。図7に示すPLL201は、位相比較器211、制御回路212、発振回路(OSC)213、及び分周器214を有する。PLL201は発振周波数fOUTの信号SOUTを出力する機能を有する。例えば、信号SOUTは、クロック信号として他の回路に入力される。
図8に逐次比較型のADCの一例を示す。図8に示すADC220は、アナログ電圧Vinをデジタル信号Voutに変換することできる機能を有する。ADC220は、サンプルホールド回路221、比較回路222、逐次変換比較回路223、およびDAC224を有する。
実施の形態1に係るDACは、マトリックス状に配置された基本回路を駆動するドライバ回路に適用することができる。例えば、アクティブマトリクス型の表示装置の信号線を駆動する信号線ドライバ回路に適用することが可能である。信号線ドライバ回路において、デジタル信号でなる階調信号をアナログ信号に変換するためにDACが設けられる。
図9に示す表示装置1400は、上部カバー1421と下部カバー1422との間に、FPC1423に接続されたタッチパネルユニット1424、FPC1425に接続された表示パネル1410、バックライトユニット1426、フレーム1428、プリント基板1429、およびバッテリ1430を有する。なお、バックライトユニット1426、バッテリ1430、タッチパネルユニット1424等は、設けられていない場合もある。例えば、表示装置1400が反射型の液晶表示装置やエレクトロルミネセンス(EL)表示装置の場合は、バックライトユニット1426は必要のない部品である。また、表示装置1400には、偏光板、位相差板、プリズムシートなどの部材を追加して設けてもよい。
図10に示す記憶装置300は、ランダムアクセスメモリとして用いることが可能である。
図11は、メモリセルアレイ310の構成の一例を示すブロック図である。図11に示すメモリセルアレイ310は、複数のメモリセル311、および複数の配線(WWL、RWL、BL、SL)を有する。メモリセルアレイ310には、複数のメモリセル311がアレイ状に配列されている。なお、図11には、代表的に、2行2列のメモリセル311を示している。図11の参照符号に付している符号[i]、[2j−1]等は、行番号(行アドレス)または列番号(列アドレス)を示しており、ここでは、iは2以上の整数であり、jは1以上の整数である。
図11に示すように、メモリセル311は、配線WWL、配線RWL、配線BL、および配線SLに接続されている。メモリセル311は、ノードSN1、トランジスタMW1、トランジスタMR1、および容量素子CS1を有する。メモリセル311に書き込まれるデータ信号は配線BLに入力される。ノードSN1は、データ信号Dに対応する電圧を保持するストレージノードとして機能させることができ、トランジスタM1のゲートが電気的に接続されている。
図12は列ドライバ回路322の構成例を示す。図12に示す列ドライバ回路322には、デコーダ341、ラッチ回路342、DAC343、スイッチ回路344、トランジスタ345、及びトランジスタ346を有する。デコーダ341以外の要素は配線BL毎に設けられている。
図11は、メモリセル311に、2トランジスタ1容量構造のゲインセルを適用した例を示している。メモリセル311に3トランジスタ1容量構造のゲインセルを適用することもできる。そのような例を図13に示す。
上述したDAC、ADC、発振回路、PLL、記憶装置、表示装置等の半導体装置は、様々な電子機器に組み込むことができる。
本実施の形態では、酸化物半導体、およびOSトランジスタ等について説明する。
図16にOSトランジスタの構成の一例を示す。図16AはOSトランジスタの構成の一例を示す上面図である。図16Bは、y1−y2線断面図であり、図16Cはx1−x2線断面図であり、図16Dはx3−x4線断面図である。ここでは、y1−y2線の方向をチャネル長方向と、x1−x2線方向をチャネル幅方向と呼称する場合がある。よって、図16Bは、OSトランジスタのチャネル長方向の断面構造を示す図になり、図16Cおよび図16Dは、OSトランジスタのチャネル幅方向の断面構造を示す図になる。なお、デバイス構造を明確にするため、図16Aでは、一部の構成要素が省略されている。
基板510は、単なる支持材料に限らず、他のトランジスタなどのデバイスが形成された基板であってもよい。この場合、OSトランジスタ501の導電層530、導電層541、および導電層542の一つは、上記の他のデバイスと電気的に接続されていてもよい。
絶縁層511は、基板510からの不純物の拡散を防止する役割を有する。絶縁層512はOS層520に酸素を供給する役割を有することが好ましい。したがって、絶縁層512は酸素を含む絶縁膜であることが好ましく、化学量論組成よりも多い酸素を含む絶縁膜であることがより好ましい。例えば、TDS(Thermal Desorption Spectroscopy:昇温脱離ガス分光法)において、膜の表面温度が100℃以上700℃以下、または100℃以上500℃以下の範囲における酸素分子の放出量が1.0×1018[分子/cm3]以上である膜とする。基板510が他のデバイスが形成された基板である場合、絶縁層511は、表面が平坦になるようにCMP(Chemical Mechanical Polishing)法等で平坦化処理を行うことが好ましい。
導電層530は、銅(Cu)、タングステン(W)、モリブデン(Mo)、金(Au)、アルミニウム(Al)、マンガン(Mn)、チタン(Ti)、タンタル(Ta)、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、鉛(Pb)、錫(Sn)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、ルテニウム(Ru)、イリジウム(Ir)、ストロンチウム(Sr)、白金(Pt)の低抵抗材料からなる単体、もしくは合金、またはこれらを主成分とする化合物で形成することが好ましい。
絶縁層513は、単層構造または積層構造の絶縁膜で形成される。絶縁層513には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルを一種以上含む絶縁膜を用いることができる。また、絶縁層513は上記材料の積層であってもよい。なお、絶縁層513に、ランタン(La)、窒素、ジルコニウム(Zr)などを、不純物として含んでいてもよい。また、絶縁層511も絶縁層513と同様に形成することができる。絶縁層513は、例えば、酸素、窒素、シリコン、ハフニウムなどを有する。具体的には、酸化ハフニウム、および酸化シリコンまたは酸化窒化シリコンを含むと好ましい。
導電層541、導電層542は導電層530と同様に作製することができる。Cu−Mn合金膜は、電気抵抗が低く、且つ、酸化物半導体膜と接して設けることで、酸化物半導体膜との界面に酸化マンガンを形成することができ、酸化マンガンの存在によりCuの拡散を防ぐことができる。よって、Cu−Mn合金層を導電層541、導電層542に用いることが好ましい。また、後述する導電層531(図17)も、導電層530と同様に作製することができる。
絶縁層514は、酸素、水素、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等のブロッキングできる機能を有することが好ましい。このような絶縁層514を設けることで、OS層520からの酸素の外部への拡散と、外部からOS層520への水素、水等の入り込みを防ぐことができる。絶縁層514としては、例えば、窒化物絶縁膜を用いることができる。該窒化物絶縁膜としては、窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化アルミニウム、窒化酸化アルミニウム等がある。なお、酸素、水素、水、アルカリ金属、アルカリ土類金属等のブロッキング効果を有する窒化物絶縁膜の代わりに、酸素、水素、水等のブロッキング効果を有する酸化物絶縁膜を設けてもよい。酸素、水素、水等のブロッキング効果を有する酸化物絶縁膜としては、酸化アルミニウム、酸化窒化アルミニウム、酸化ガリウム、酸化窒化ガリウム、酸化イットリウム、酸化窒化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化窒化ハフニウム等がある。
また、絶縁層514上には絶縁層515が形成されていることが好ましい。絶縁層515は単層構造または積層構造の絶縁膜で形成することができる。当該絶縁膜には、酸化マグネシウム、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、窒化シリコン、酸化ガリウム、酸化ゲルマニウム、酸化イットリウム、酸化ジルコニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化ハフニウムおよび酸化タンタルを一種以上含む絶縁膜を用いることができる。
OS層521−523の半導体材料としては、代表的には、In−Ga酸化物、In−Zn酸化物、In−M−Zn酸化物(Mは、Ga、Y、Sn、Zr、La、Ce、またはNd等)がある。元素Mは、例えば、酸素との結合エネルギーが高い元素であり、または、酸素との結合エネルギーがインジウムよりも高い元素であり、または、酸化物半導体のエネルギーギャップを大きくする機能を有する元素である。また、OS層521−523は、インジウムを含む酸化物層に限定されない。OS層521−523は、例えば、Zn−Sn酸化物層、Ga−Sn酸化物層、Zn−Mg酸化物層等で形成することができる。また、OS層522は、In−M−Zn酸化物層で形成することが好ましい。また、OS層521、OS層523は、それぞれ、Ga酸化物で形成することができる。
次に、OS層521、OS層522、およびOS層523の積層により構成されるOS層520の機能およびその効果について、図22Bに示すエネルギーバンド構造図を用いて説明する。図22Aは、OSトランジスタ501のチャネル領域を拡大した図であり、図16Bの部分拡大図である。図22Bに、図22Aで点線z1−z2で示した部位(OSトランジスタ501のチャネル形成領域)のエネルギーバンド構造を示す。以下、OSトランジスタ501を例に説明するが、OSトランジスタ502−506でも同様である。
図17に示すOSトランジスタ502は、OSトランジスタ501の変形例である。図17AはOSトランジスタ502の上面図である。図17Bはy1−y2線断面図であり、図17Cは、x1−x2線断面図であり、図17Dはx3−x4線断面図である。なお、デバイス構造を明確にするため、図17Aでは一部の構成要素が省略されている。
図18に示すOSトランジスタ503は、OSトランジスタ501の変形例であり、図19に示すOSトランジスタ504は、OSトランジスタ502の変形例である。OSトランジスタ503およびOSトランジスタ504では、導電層530をマスクに用いて、OS層523および絶縁層513がエッチングされている。そのため、OS層523および絶縁層513の端部は導電層530の端部とほぼ一致することになる。
図20に示すOSトランジスタ505は、OSトランジスタ501の変形例であり、図21に示すOSトランジスタ506は、OSトランジスタ502の変形例である。OSトランジスタ505およびOSトランジスタ506は、それぞれ、OS層523と導電層541との間に層551を有し、OS層523と導電層542との間に層552を有する。
以下に、酸化物半導体膜について説明する。なお、本明細書において、結晶が三方晶または菱面体晶である場合、六方晶系として表す。また、本明細書において、「平行」とは、二つの直線が−10°以上10°以下の角度で配置されている状態をいう。したがって、−5°以上5°以下の場合も含まれる。また、「略平行」とは、二つの直線が−30°以上30°以下の角度で配置されている状態をいう。また、「垂直」とは、二つの直線が80°以上100°以下の角度で配置されている状態をいう。したがって、85°以上95°以下の場合も含まれる。また、「略垂直」とは、二つの直線が60°以上120°以下の角度で配置されている状態をいう。
CAAC−OS膜は、c軸配向した複数の結晶部を有する酸化物半導体膜の一つである。
微結晶酸化物半導体膜は、高分解能TEM像において、結晶部を確認することのできる領域と、明確な結晶部を確認することのできない領域と、を有する。微結晶酸化物半導体膜に含まれる結晶部は、1nm以上100nm以下、または1nm以上10nm以下の大きさであることが多い。特に、1nm以上10nm以下、または1nm以上3nm以下の微結晶であるナノ結晶(nc:nanocrystal)を有する酸化物半導体膜を、nc−OS(nanocrystalline Oxide Semiconductor)膜と呼ぶ。また、nc−OS膜は、例えば、高分解能TEM像では、結晶粒界を明確に確認できない場合がある。
非晶質酸化物半導体膜は、膜中における原子配列が不規則であり、結晶部を有さない酸化物半導体膜である。石英のような無定形状態を有する酸化物半導体膜が一例である。
半導体装置を構成する絶縁膜、導電膜、半導体膜等の成膜方法としては、スパッタ法や、プラズマCVD法が代表的である。その他の方法、例えば、熱CVD法により形成すること可能である。熱CVD法として、例えば、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法やALD(Atomic Layer Deposition)法を使用することができる。
本実施の形態では、半導体装置のデバイス構造について説明する。実施の形態1で述べたように、半導体装置をSiトランジスタとOSトランジスタとで構成することが可能である。このような構成例においては、SiトランジスタとOSトランジスタを積層することで、半導体装置を小型化することが可能である。図23を参照して、このような積層構造を有する半導体装置の構成例について説明する。
バッテリBTkは、正極集電体層2102、正極活物質層2103、固体電解質層2104、負極活物質層2105、および負極集電体層2106を有する。正極集電体層2102及び正極活物質層2103は正極として機能し、負極集電体層2106及び負極活物質層2105は負極として機能する。図23の例では、負極集電体層2106上に、絶縁層2107が成膜され、絶縁層2107の開口部に配線2108が形成され、配線2108は負極集電体層2106と電気的に接続されている。正極集電体層2102は、配線2202およびプラグ2203によりトランジスタM1と電気的に接続されている。なお、回路構成等によっては、正極集電体層2102に接している配線を形成し、この配線とトランジスタM1とを電気的に接続するようにしてもよい。
ここで、X、Yは、対象物(例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など)であるとする。
2102 正極集電体層
2103 正極活物質層
2104 固体電解質層
2105 負極活物質層
2106 負極集電体層
2107 絶縁層
2108 配線
Claims (10)
- 第1ノードと、
第2ノードと、
第1段乃至第n段(nは2以上の整数)の蓄電素子と、
第1段乃至第n段のスイッチと、
を有し、
前記第1段乃至前記第n段の蓄電素子の容量は互いに異なり、
前記第1段乃至前記第n段の蓄電素子は、前記第1ノードと前記第2ノード間に電気的に並列に接続され、
第k段(kは1以上n以下の整数)の蓄電素子の第1端子は、第k段のスイッチを介して前記第1ノードと電気的に接続され、
前記第1段乃至第n段のスイッチは、それぞれ、第1乃至第n信号によって導通状態が制御されることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1において、
前記第k段のスイッチは、前記第k信号によって導通状態が制御されるトランジスタを有する半導体装置。 - 請求項1又は2において、
前記第k段のスイッチは、第1トランジスタ、第2トランジスタおよび容量素子を有し、
前記第k段のスイッチにおいて、
前記第1トランジスタの第1端子は、前記第k段の蓄電素子の第1端子と電気的に接続され、
前記第1トランジスタの第2端子は、前記第1ノードと電気的に接続され、
前記第1トランジスタのゲートは、前記容量素子と電気的に接続され、
前記第2トランジスタの第1端子には、第k信号が入力され、
前記第2トランジスタの第2端子は、前記第1トランジスタのゲートと電気的に接続され、
前記第1段乃至第n段のスイッチのそれぞれの第2トランジスタは、共有の信号により導通状態が制御される半導体装置。 - 請求項3において、
前記第2トランジスタのチャネルは酸化物半導体を有する半導体装置。 - 請求項1乃至4の何れか1項において、
前記第k段の蓄電素子の容量は、前記第1段の蓄電素子の容量の2k−1倍であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1乃至5の何れか1項において、
第1乃至第n信号でなる信号群は、nビットのデジタル信号であることを特徴とする半導体装置。 - q段(qは奇数、かつ、1より大きくnより小さい)のインバータ回路を有する発振回路であって、
前記q段のインバータ回路は直列に電気的に接続され、
前記q段のインバータ回路の電源電圧の入力ノードに、それぞれ、請求項1乃至6の何れか1項に記載の半導体装置が電気的に接続されている発振回路。 - 請求項7に記載の発振回路を有する位相同期回路。
- メモリセルアレイと、
前記メモリセルアレイを駆動する行ドライバ回路および列ドライバ回路と、
を有し、
前記列ドライバ回路は、請求項1乃至6の何れか1項に記載の半導体装置を有する記憶装置。 - 請求項1乃至6の何れか1項に記載の半導体装置と、
表示装置、タッチパネル、マイク、スピーカー、操作キー、および筐体の少なくとも一と、
を有する電子機器。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021009591A1 (ja) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、無線通信装置 |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9711994B2 (en) * | 2014-01-31 | 2017-07-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electronic device and its operation system |
KR102267237B1 (ko) * | 2014-03-07 | 2021-06-18 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 반도체 장치 및 전자 기기 |
SG11201606645VA (en) * | 2014-03-07 | 2016-09-29 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Method for driving semiconductor device |
JP6525421B2 (ja) * | 2014-03-13 | 2019-06-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
JP6553444B2 (ja) | 2014-08-08 | 2019-07-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9595955B2 (en) * | 2014-08-08 | 2017-03-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including power storage elements and switches |
TWI565244B (zh) * | 2015-03-19 | 2017-01-01 | 禾瑞亞科技股份有限公司 | 電源產生電路、頻率產生電路與頻率控制系統 |
WO2017068490A1 (en) * | 2015-10-23 | 2017-04-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
TWI730091B (zh) | 2016-05-13 | 2021-06-11 | 日商半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置 |
US10064119B2 (en) * | 2016-12-27 | 2018-08-28 | Google Llc | Attenuation device in transmitter system |
US20210242690A1 (en) * | 2018-08-31 | 2021-08-05 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and operating method of semiconductor device |
KR20210096212A (ko) | 2018-12-19 | 2021-08-04 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 이차 전지의 과방전 방지 회로 및 이차 전지 모듈 |
US10957937B2 (en) | 2019-03-07 | 2021-03-23 | International Business Machines Corporation | Three-terminal copper-driven neuromorphic device |
US11257962B2 (en) | 2019-05-02 | 2022-02-22 | Micron Technology, Inc. | Transistors comprising an electrolyte, semiconductor devices, electronic systems, and related methods |
US11513578B1 (en) * | 2020-02-03 | 2022-11-29 | Meta Platforms Technologies, Llc | Power management system for an artificial reality system |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56131228A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Amplifier |
JPS61181223A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-13 | Nippon Gakki Seizo Kk | デジタル/アナログ変換回路 |
JPH0983309A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Denso Corp | 温度補償型リング発振器 |
US6140799A (en) * | 1999-06-29 | 2000-10-31 | Thomasson; Mark J. | Switched battery-bank assembly for providing incremental voltage control |
JP2004023284A (ja) * | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Alps Electric Co Ltd | D/a変換器 |
JP2005057984A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-03-03 | Ntt Data Corp | 発電装置 |
JP2005518744A (ja) * | 2002-02-25 | 2005-06-23 | ソニー エレクトロニクス インク | 発振器及びそれを用いた位相同期ループ回路 |
JP2007028662A (ja) * | 2001-03-26 | 2007-02-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | D/a変換回路 |
JP2011123986A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の駆動方法 |
JP2012143151A (ja) * | 2010-03-23 | 2012-07-26 | Nec Corp | リチウムイオン二次電池の充放電方法及び充放電システム |
JP2012257236A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の駆動方法 |
JP2014082542A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ディジタル/アナログ変換器 |
Family Cites Families (120)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60198861A (ja) | 1984-03-23 | 1985-10-08 | Fujitsu Ltd | 薄膜トランジスタ |
JPH0244256B2 (ja) | 1987-01-28 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn2o5deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244260B2 (ja) | 1987-02-24 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn5o8deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPS63210023A (ja) | 1987-02-24 | 1988-08-31 | Natl Inst For Res In Inorg Mater | InGaZn↓4O↓7で示される六方晶系の層状構造を有する化合物およびその製造法 |
JPH0244258B2 (ja) | 1987-02-24 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn3o6deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244262B2 (ja) | 1987-02-27 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn6o9deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH0244263B2 (ja) | 1987-04-22 | 1990-10-03 | Kagaku Gijutsucho Mukizaishitsu Kenkyushocho | Ingazn7o10deshimesarerurotsuhoshokeinosojokozoojusurukagobutsuoyobisonoseizoho |
JPH05251705A (ja) | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Fuji Xerox Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP3479375B2 (ja) | 1995-03-27 | 2003-12-15 | 科学技術振興事業団 | 亜酸化銅等の金属酸化物半導体による薄膜トランジスタとpn接合を形成した金属酸化物半導体装置およびそれらの製造方法 |
KR100394896B1 (ko) | 1995-08-03 | 2003-11-28 | 코닌클리케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 투명스위칭소자를포함하는반도체장치 |
JP3625598B2 (ja) | 1995-12-30 | 2005-03-02 | 三星電子株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
TW419592B (en) * | 1998-03-31 | 2001-01-21 | Hitachi Maxell | Current accumulating value detecting apparatus, current detecting apparatus and the battery set used |
JP4170454B2 (ja) | 1998-07-24 | 2008-10-22 | Hoya株式会社 | 透明導電性酸化物薄膜を有する物品及びその製造方法 |
JP2000150861A (ja) | 1998-11-16 | 2000-05-30 | Tdk Corp | 酸化物薄膜 |
JP3276930B2 (ja) | 1998-11-17 | 2002-04-22 | 科学技術振興事業団 | トランジスタ及び半導体装置 |
TW460731B (en) | 1999-09-03 | 2001-10-21 | Ind Tech Res Inst | Electrode structure and production method of wide viewing angle LCD |
JP4089858B2 (ja) | 2000-09-01 | 2008-05-28 | 国立大学法人東北大学 | 半導体デバイス |
KR20020038482A (ko) | 2000-11-15 | 2002-05-23 | 모리시타 요이찌 | 박막 트랜지스터 어레이, 그 제조방법 및 그것을 이용한표시패널 |
JP3997731B2 (ja) | 2001-03-19 | 2007-10-24 | 富士ゼロックス株式会社 | 基材上に結晶性半導体薄膜を形成する方法 |
JP2002289859A (ja) | 2001-03-23 | 2002-10-04 | Minolta Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
JP3925839B2 (ja) | 2001-09-10 | 2007-06-06 | シャープ株式会社 | 半導体記憶装置およびその試験方法 |
JP4090716B2 (ja) | 2001-09-10 | 2008-05-28 | 雅司 川崎 | 薄膜トランジスタおよびマトリクス表示装置 |
JP3708474B2 (ja) | 2001-10-22 | 2005-10-19 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置 |
EP1443130B1 (en) | 2001-11-05 | 2011-09-28 | Japan Science and Technology Agency | Natural superlattice homologous single crystal thin film, method for preparation thereof, and device using said single crystal thin film |
JP4164562B2 (ja) | 2002-09-11 | 2008-10-15 | 独立行政法人科学技術振興機構 | ホモロガス薄膜を活性層として用いる透明薄膜電界効果型トランジスタ |
JP4083486B2 (ja) | 2002-02-21 | 2008-04-30 | 独立行政法人科学技術振興機構 | LnCuO(S,Se,Te)単結晶薄膜の製造方法 |
JP4047599B2 (ja) | 2002-02-27 | 2008-02-13 | 松下電器産業株式会社 | D/a変換装置 |
US7049190B2 (en) | 2002-03-15 | 2006-05-23 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Method for forming ZnO film, method for forming ZnO semiconductor layer, method for fabricating semiconductor device, and semiconductor device |
JP3933591B2 (ja) | 2002-03-26 | 2007-06-20 | 淳二 城戸 | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
US7339187B2 (en) | 2002-05-21 | 2008-03-04 | State Of Oregon Acting By And Through The Oregon State Board Of Higher Education On Behalf Of Oregon State University | Transistor structures |
JP2004022625A (ja) | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Murata Mfg Co Ltd | 半導体デバイス及び該半導体デバイスの製造方法 |
US7105868B2 (en) | 2002-06-24 | 2006-09-12 | Cermet, Inc. | High-electron mobility transistor with zinc oxide |
US7067843B2 (en) | 2002-10-11 | 2006-06-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Transparent oxide semiconductor thin film transistors |
JP4166105B2 (ja) | 2003-03-06 | 2008-10-15 | シャープ株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
JP2004273732A (ja) | 2003-03-07 | 2004-09-30 | Sharp Corp | アクティブマトリクス基板およびその製造方法 |
JP4108633B2 (ja) | 2003-06-20 | 2008-06-25 | シャープ株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法ならびに電子デバイス |
US7262463B2 (en) | 2003-07-25 | 2007-08-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Transistor including a deposited channel region having a doped portion |
US7297977B2 (en) | 2004-03-12 | 2007-11-20 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Semiconductor device |
US7145174B2 (en) | 2004-03-12 | 2006-12-05 | Hewlett-Packard Development Company, Lp. | Semiconductor device |
US7282782B2 (en) | 2004-03-12 | 2007-10-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Combined binary oxide semiconductor device |
EP1737044B1 (en) | 2004-03-12 | 2014-12-10 | Japan Science and Technology Agency | Amorphous oxide and thin film transistor |
US7211825B2 (en) | 2004-06-14 | 2007-05-01 | Yi-Chi Shih | Indium oxide-based thin film transistors and circuits |
JP2006100760A (ja) | 2004-09-02 | 2006-04-13 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
US7285501B2 (en) | 2004-09-17 | 2007-10-23 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Method of forming a solution processed device |
US20060092583A1 (en) | 2004-10-01 | 2006-05-04 | Alahmad Mahmoud A | Switch array and power management system for batteries and other energy storage elements |
US7298084B2 (en) | 2004-11-02 | 2007-11-20 | 3M Innovative Properties Company | Methods and displays utilizing integrated zinc oxide row and column drivers in conjunction with organic light emitting diodes |
US7863611B2 (en) | 2004-11-10 | 2011-01-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Integrated circuits utilizing amorphous oxides |
EP1812969B1 (en) | 2004-11-10 | 2015-05-06 | Canon Kabushiki Kaisha | Field effect transistor comprising an amorphous oxide |
CN101057333B (zh) | 2004-11-10 | 2011-11-16 | 佳能株式会社 | 发光器件 |
US7791072B2 (en) | 2004-11-10 | 2010-09-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Display |
US7829444B2 (en) | 2004-11-10 | 2010-11-09 | Canon Kabushiki Kaisha | Field effect transistor manufacturing method |
US7453065B2 (en) | 2004-11-10 | 2008-11-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Sensor and image pickup device |
US7868326B2 (en) | 2004-11-10 | 2011-01-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Field effect transistor |
US7579224B2 (en) | 2005-01-21 | 2009-08-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing a thin film semiconductor device |
TWI562380B (en) | 2005-01-28 | 2016-12-11 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device, electronic device, and method of manufacturing semiconductor device |
US7608531B2 (en) | 2005-01-28 | 2009-10-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, electronic device, and method of manufacturing semiconductor device |
US7858451B2 (en) | 2005-02-03 | 2010-12-28 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electronic device, semiconductor device and manufacturing method thereof |
US7948171B2 (en) | 2005-02-18 | 2011-05-24 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting device |
US20060197092A1 (en) | 2005-03-03 | 2006-09-07 | Randy Hoffman | System and method for forming conductive material on a substrate |
US8681077B2 (en) | 2005-03-18 | 2014-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device, and display device, driving method and electronic apparatus thereof |
WO2006105077A2 (en) | 2005-03-28 | 2006-10-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Low voltage thin film transistor with high-k dielectric material |
US7645478B2 (en) | 2005-03-31 | 2010-01-12 | 3M Innovative Properties Company | Methods of making displays |
US8300031B2 (en) | 2005-04-20 | 2012-10-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device comprising transistor having gate and drain connected through a current-voltage conversion element |
JP2006344849A (ja) | 2005-06-10 | 2006-12-21 | Casio Comput Co Ltd | 薄膜トランジスタ |
US7402506B2 (en) | 2005-06-16 | 2008-07-22 | Eastman Kodak Company | Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby |
US7691666B2 (en) | 2005-06-16 | 2010-04-06 | Eastman Kodak Company | Methods of making thin film transistors comprising zinc-oxide-based semiconductor materials and transistors made thereby |
US7507618B2 (en) | 2005-06-27 | 2009-03-24 | 3M Innovative Properties Company | Method for making electronic devices using metal oxide nanoparticles |
KR100711890B1 (ko) | 2005-07-28 | 2007-04-25 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광표시장치 및 그의 제조방법 |
JP2007059128A (ja) | 2005-08-23 | 2007-03-08 | Canon Inc | 有機el表示装置およびその製造方法 |
JP2007073705A (ja) | 2005-09-06 | 2007-03-22 | Canon Inc | 酸化物半導体チャネル薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP4280736B2 (ja) | 2005-09-06 | 2009-06-17 | キヤノン株式会社 | 半導体素子 |
JP4850457B2 (ja) | 2005-09-06 | 2012-01-11 | キヤノン株式会社 | 薄膜トランジスタ及び薄膜ダイオード |
JP5116225B2 (ja) | 2005-09-06 | 2013-01-09 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体デバイスの製造方法 |
EP3614442A3 (en) | 2005-09-29 | 2020-03-25 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having oxide semiconductor layer and manufactoring method thereof |
JP5037808B2 (ja) | 2005-10-20 | 2012-10-03 | キヤノン株式会社 | アモルファス酸化物を用いた電界効果型トランジスタ、及び該トランジスタを用いた表示装置 |
KR101117948B1 (ko) | 2005-11-15 | 2012-02-15 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 액정 디스플레이 장치 제조 방법 |
TWI292281B (en) | 2005-12-29 | 2008-01-01 | Ind Tech Res Inst | Pixel structure of active organic light emitting diode and method of fabricating the same |
US7867636B2 (en) | 2006-01-11 | 2011-01-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transparent conductive film and method for manufacturing the same |
JP4977478B2 (ja) | 2006-01-21 | 2012-07-18 | 三星電子株式会社 | ZnOフィルム及びこれを用いたTFTの製造方法 |
US7576394B2 (en) | 2006-02-02 | 2009-08-18 | Kochi Industrial Promotion Center | Thin film transistor including low resistance conductive thin films and manufacturing method thereof |
US7977169B2 (en) | 2006-02-15 | 2011-07-12 | Kochi Industrial Promotion Center | Semiconductor device including active layer made of zinc oxide with controlled orientations and manufacturing method thereof |
KR20070101595A (ko) | 2006-04-11 | 2007-10-17 | 삼성전자주식회사 | ZnO TFT |
US20070252928A1 (en) | 2006-04-28 | 2007-11-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Structure, transmission type liquid crystal display, reflection type display and manufacturing method thereof |
JP5028033B2 (ja) | 2006-06-13 | 2012-09-19 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体膜のドライエッチング方法 |
JP4609797B2 (ja) | 2006-08-09 | 2011-01-12 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 薄膜デバイス及びその製造方法 |
JP4999400B2 (ja) | 2006-08-09 | 2012-08-15 | キヤノン株式会社 | 酸化物半導体膜のドライエッチング方法 |
JP4332545B2 (ja) | 2006-09-15 | 2009-09-16 | キヤノン株式会社 | 電界効果型トランジスタ及びその製造方法 |
JP5164357B2 (ja) | 2006-09-27 | 2013-03-21 | キヤノン株式会社 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 |
JP4274219B2 (ja) | 2006-09-27 | 2009-06-03 | セイコーエプソン株式会社 | 電子デバイス、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機薄膜半導体装置 |
US7622371B2 (en) | 2006-10-10 | 2009-11-24 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fused nanocrystal thin film semiconductor and method |
US7772021B2 (en) | 2006-11-29 | 2010-08-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Flat panel displays comprising a thin-film transistor having a semiconductive oxide in its channel and methods of fabricating the same for use in flat panel displays |
JP2008140684A (ja) | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーelディスプレイおよびその製造方法 |
JP5210613B2 (ja) | 2006-12-27 | 2013-06-12 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
KR101303578B1 (ko) | 2007-01-05 | 2013-09-09 | 삼성전자주식회사 | 박막 식각 방법 |
US8207063B2 (en) | 2007-01-26 | 2012-06-26 | Eastman Kodak Company | Process for atomic layer deposition |
KR100851215B1 (ko) | 2007-03-14 | 2008-08-07 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터 및 이를 이용한 유기 전계 발광표시장치 |
US7795613B2 (en) | 2007-04-17 | 2010-09-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Structure with transistor |
KR101325053B1 (ko) | 2007-04-18 | 2013-11-05 | 삼성디스플레이 주식회사 | 박막 트랜지스터 기판 및 이의 제조 방법 |
KR20080094300A (ko) | 2007-04-19 | 2008-10-23 | 삼성전자주식회사 | 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법과 박막 트랜지스터를포함하는 평판 디스플레이 |
KR101334181B1 (ko) | 2007-04-20 | 2013-11-28 | 삼성전자주식회사 | 선택적으로 결정화된 채널층을 갖는 박막 트랜지스터 및 그제조 방법 |
US8274078B2 (en) | 2007-04-25 | 2012-09-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Metal oxynitride semiconductor containing zinc |
KR101345376B1 (ko) | 2007-05-29 | 2013-12-24 | 삼성전자주식회사 | ZnO 계 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 |
JP5215158B2 (ja) | 2007-12-17 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 無機結晶性配向膜及びその製造方法、半導体デバイス |
JP4623179B2 (ja) | 2008-09-18 | 2011-02-02 | ソニー株式会社 | 薄膜トランジスタおよびその製造方法 |
JP5451280B2 (ja) | 2008-10-09 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置 |
WO2011001225A1 (en) * | 2009-06-29 | 2011-01-06 | Freescale Semiconductor, Inc. | Battery charging circuit and electronic device |
US8824186B2 (en) * | 2010-06-09 | 2014-09-02 | Radiant Technologies, Inc. | Embedded non-volatile memory circuit for implementing logic functions across periods of power disruption |
TWI525614B (zh) * | 2011-01-05 | 2016-03-11 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 儲存元件、儲存裝置、及信號處理電路 |
US8669781B2 (en) | 2011-05-31 | 2014-03-11 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US8958263B2 (en) | 2011-06-10 | 2015-02-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
US20130265010A1 (en) | 2012-04-06 | 2013-10-10 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Protective circuit module and battery pack |
US9160195B2 (en) | 2012-07-17 | 2015-10-13 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Charging device |
US9299394B2 (en) * | 2012-10-04 | 2016-03-29 | Broadcom Corporation | Method and circuit for reducing current surge |
US10290908B2 (en) | 2014-02-14 | 2019-05-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
KR102352633B1 (ko) | 2014-07-25 | 2022-01-17 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 발진 회로 및 그것을 포함하는 반도체 장치 |
US9595955B2 (en) * | 2014-08-08 | 2017-03-14 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device including power storage elements and switches |
JP6553444B2 (ja) | 2014-08-08 | 2019-07-31 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US10204898B2 (en) | 2014-08-08 | 2019-02-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
WO2016020802A1 (ja) | 2014-08-08 | 2016-02-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、変換回路及び電子機器 |
US9793905B2 (en) * | 2014-10-31 | 2017-10-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
-
2015
- 2015-07-31 US US14/814,609 patent/US9595955B2/en active Active
- 2015-07-31 JP JP2015151415A patent/JP6739150B2/ja active Active
-
2017
- 2017-01-23 US US15/412,094 patent/US10033379B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56131228A (en) * | 1980-03-17 | 1981-10-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Amplifier |
JPS61181223A (ja) * | 1985-02-06 | 1986-08-13 | Nippon Gakki Seizo Kk | デジタル/アナログ変換回路 |
JPH0983309A (ja) * | 1995-09-14 | 1997-03-28 | Denso Corp | 温度補償型リング発振器 |
US6140799A (en) * | 1999-06-29 | 2000-10-31 | Thomasson; Mark J. | Switched battery-bank assembly for providing incremental voltage control |
JP2007028662A (ja) * | 2001-03-26 | 2007-02-01 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | D/a変換回路 |
JP2005518744A (ja) * | 2002-02-25 | 2005-06-23 | ソニー エレクトロニクス インク | 発振器及びそれを用いた位相同期ループ回路 |
JP2004023284A (ja) * | 2002-06-13 | 2004-01-22 | Alps Electric Co Ltd | D/a変換器 |
JP2005057984A (ja) * | 2003-07-18 | 2005-03-03 | Ntt Data Corp | 発電装置 |
JP2011123986A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-23 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の駆動方法 |
JP2012143151A (ja) * | 2010-03-23 | 2012-07-26 | Nec Corp | リチウムイオン二次電池の充放電方法及び充放電システム |
JP2012257236A (ja) * | 2011-05-18 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置および半導体装置の駆動方法 |
JP2014082542A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ディジタル/アナログ変換器 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021009591A1 (ja) * | 2019-07-12 | 2021-01-21 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、無線通信装置 |
US11894040B2 (en) | 2019-07-12 | 2024-02-06 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and wireless communication device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10033379B2 (en) | 2018-07-24 |
JP6739150B2 (ja) | 2020-08-12 |
US20160043715A1 (en) | 2016-02-11 |
US9595955B2 (en) | 2017-03-14 |
US20170134020A1 (en) | 2017-05-11 |
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