JP2016006864A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 絶縁体と、第1の導電体と、第2の導電体と、第3の導電体と、島状の半導体と、を有し、
    前記第1の導電体は、前記半導体の上面と接する領域を有し、
    前記第1の導電体は、前記半導体の側面と接する領域を有さず、
    前記第2の導電体は、前記半導体の前記上面と接する領域を有し、
    前記第2の導電体は、前記半導体の側面と接する領域を有さず、
    前記第3の導電体は、前記半導体と前記第3の導電体とが、前記絶縁体を介して互いに重なる領域を有し、
    前記第1の導電体は、第1の側面と、第2の側面と、第3の側面と、を有し、
    前記第2の導電体は、第4の側面を有し、
    前記第1の導電体および前記第2の導電体は、前記第1の側面と前記第4の側面とが、互いに向かい合うように配置され、
    前記第1の導電体は、前記第1の側面と前記第2の側面との間にある第1の角部と、前記第2の側面と前記第3の側面との間にある第2の角部と、を有し、
    前記第1の角部は、前記第2の角部よりも曲率半径の小さい部分を有することを特徴とする半導体装置。
  2. 第1の絶縁体と、第2の絶縁体と、第1の導電体と、第2の導電体と、第3の導電体と、第4の導電体と、半導体と、を有し、
    前記半導体は、前記第1の絶縁体の上面と接する領域を有し、
    前記第1の導電体は、前記半導体の上面と接する領域を有し、
    前記第2の導電体は、前記半導体の前記上面と接する領域を有し、
    前記第2の絶縁体は、前記半導体の前記上面と接する領域を有し、
    前記第3の導電体は、前記半導体と前記第3の導電体とが、前記第2の絶縁体を介して互いに重なる領域を有し、
    前記半導体および前記第1の絶縁体は、前記第4の導電体に達する開口部を有し、
    前記第1の導電体は、前記開口部を介して前記第4の導電体と接する領域を有することを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記半導体は、短手方向の長さが5nm以上300nm以下となる領域を有することを特徴とする半導体装置。
  4. 請求項1乃至3のいずれか一において、
    前記半導体は、第1の半導体と、第2の半導体と、を有し、
    前記第1の半導体は、前記第2の半導体よりも電子親和力が大きいことを特徴とする半導体装置。
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