JP2015500148A - 被覆切削工具及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
基材を真空チャンバー内に準備する工程、
前記真空チャンバーに前駆体を提供する工程、及び
前記基材上に少なくとも1つの柱状MTCVD Ti(C、N)層を含むTi(C、N、O)層を堆積させる工程
を含み、前記柱状MTCVD Ti(C、N)層が、少なくともTiCl4、CH3CN又は他のニトリル及びH2を含む前駆体であって、前記真空チャンバーに提供されるTiCl4及びCH3CN又は他のニトリルの体積百分率に基づいて4〜10、好ましくは5〜8、より好ましくは6〜7のTi/CN比を有する前駆体を用いて700〜910℃、好ましくは800〜850℃、より好ましくは820〜840℃の温度で堆積される方法に関する。
本発明の1つの実施態様による被覆切削工具を製造した。まず、6.0wt%のCo及び残部がWCの組成、17.52kA/mのHc値(DIN IEC60404−7に従ってFoerster Koerzimat CS1.096を使用)及びHV3=1.6GPaの硬度を有する超硬合金CNMG120412−KM基材を、粉末を圧縮しそして圧縮体を焼結することによって製造した。コーティングの堆積前に、基材をウェットブラスト法によって約35μmまで角を丸くした。0.4μmのTiN、9.1μmのMTCVD Ti(C、N)、0.2μmのHTCVD Ti(C、N)及び0.6μmのTi(C、O)の層順序からなる約10.3μmの合計厚さを有するTi(C、N、O)層、(012)組織及び約3.8μmの厚さを有するα−Al2O3層、並びに0.7μmのTiC/TiNカラー層からなるコーティングを基材上にCVDによって堆積した。コーティングを表1に記載されるMTCVD Ti(C、N)層及びα−Al2O3層の成長のための堆積条件を用いて放射状ガス流を備えたCVD反応器内で堆積した。酸化及び核形成工程をα−アルミナ層の成長前に実施した。堆積後に、被覆切削工具をウェットブラスト法にかけて、すくい面上のカラー層を除去した。
従来技術による被覆切削工具を、例1の被覆切削工具を試験するときの基準として使用するために製造した。まず、5.2wt%のCo、0.23wt%のCr炭化物及び残部がWCの組成、22.91kA/mのHc値(DIN IEC60404−7に従ってFoerster Koerzimat CS1.096を使用)及びHV3=1.8GPaの硬度を有する超硬合金CNMG120412−KM基材を、粉末を圧縮しそして圧縮体を焼結することによって製造した。コーティングの堆積前に、基材をウェットブラスト法によって約35μmまで角を丸くした。0.4μmのTiN、9.8μmのMTCVD Ti(C、N)、0.2μmのHTCVD Ti(C、N)及び0.6μmのTi(C、O)の層順序からなる約10.3μmの合計厚さを有するTi(C、N、O)層、(012)組織及び約4.0μmの厚さを有するα−Al2O3層、並びに1.2μmのTiN/TiCカラー層からなるコーティングを基材上にCVDによって堆積した。MTCVD Ti(C、N)層の成長のための堆積条件は表1に記載される。堆積後に、被覆切削工具をウェットブラスト法にかけて、すくい面上のカラー層を除去した。
被覆切削工具を、同じTi(C、N、O)層であるが4.2mmの層厚さを有する異なるα−Al2O3層を持ち、かつX線回折によって測定した場合に、例1のα−Al2O3層よりも高いTC(006)を与える異なるα−Al2O3プロセスを用いて、例1に従って製造した。
例3と同じTi(C、N、O)層及びα−Al2O3層を有する被覆切削工具を例1に従って製造したが、MTCVD Ti(C、N)層は830℃ではなく870℃で堆積した。より高い堆積温度により、断面のSEM画像において観察されるように、例1及び例3よりもはるかに微粒子のMTCVD Ti(C、N)層が得られた。
例1及び2の被覆切削工具を、以下の条件下での断続的な外部軸方向及び正面削りの切削操作を含む冷却剤なしのノジュラー鋳鉄09.2GGG60の旋削加工において試験した。
切削速度Vc 350m/分
送りfn 0.3mm/rev
切削の深さap 4mm
時間/部品Tc 1.25分/ピース
例1及び2の被覆切削工具を、以下の条件下での連続的な内部軸方向の荒削りの切削操作を含む冷却剤を用いたノジュラー鋳鉄(09.2GS500 HB220)の旋削加工において試験した。
切削速度Vc 160m/分
送りfn 0.35mm/rev
切削の深さap 3mm
時間/部品Tc 1.5分/ピース
例3及び4の被覆切削工具を、以下の条件下での冷却剤を用いた断続的な切削操作を含むノジュラー鋳鉄SS0717の長手方向の旋削加工において試験した。
切削速度Vc 250m/分
送りfn 0.2mm/rev
切削の深さap 2.5〜2mm
9μmの平均ダイヤモンド粒径及び2dlのオイル(Mobil Velocite no.3)あたり0.7gのダイヤモンド粒子を有するオイルベースのダイヤモンド懸濁液(Microdiamant AG製)を用いて紙上で大まかに研磨する工程、
1μmの平均ダイヤモンド粒径及び2dlのオイル(Mobil Velocite no.3)あたり0.7gのダイヤモンド粒子を有するオイルベースのダイヤモンド懸濁液(Microdiamant AG製)を用いて紙上で細かく研磨する工程、並びに
150rev/分及び35Nの圧力で220秒間、0.06μmの平均粒径を有するSiO2(10〜30%)及びAl2O3粒子(1〜20%)の混合物を含む懸濁液(Masterpolish2,Buehler)のしずくの下で軟質の布を用いて酸化物研磨する工程を含む。
Claims (15)
- 基材及び表面コーティングを含む被覆切削工具であって、前記コーティングが、0.05〜0.4μmの平均粒子幅を有する少なくとも1つの柱状MTCVD Ti(C、N)層を含むTi(C、N、O)層を含み、前記平均粒子幅は、前記柱状MTCVD Ti(C、N)層の最下部界面と最上部界面の間の中心位置で前記基材の表面に対して平行な方向における直線に沿って、前記被覆切削工具のすくい面上の基材の表面法線に対して垂直な表面法線を有する断面において測定されたものであり、
前記MTCVD Ti(C、N)層に含まれる炭素と窒素の合計に対する炭素の原子比(C/(C+N))は、前記直線に沿って50μm離れた10箇所の地点で電子マイクロプローブ分析を用いて測定された平均値が0.50〜0.65であることを特徴とする、被覆切削工具。 - 前記平均粒子幅が0.1〜0.2μmである、請求項1に記載の被覆切削工具。
- C/(C+N)比が0.56〜0.60である、請求項1又は2に記載の被覆切削工具。
- 前記柱状MTCVD Ti(C、N)層の平均厚さが5〜15μmである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- Al2O3層をさらに含む、請求項1〜5のいずれか1項に記載の被覆切削工具。
- 前記Al2O3層が、2〜6μmの平均厚さを有するα−Al2O3層である、請求項6に記載の被覆切削工具。
- 前記Ti(C、N、O)層が、Al2O3層に隣接するTi(C、O)層をさらに含む、請求項6又は7に記載の被覆切削工具。
- CVDプロセスを含む被覆切削工具を製造するための方法であって、前記プロセスが、
基材を真空チャンバー内に準備する工程、
前記真空チャンバーに前駆体を提供する工程、及び
前記基材上に少なくとも1つの柱状MTCVD Ti(C、N)層を含むTi(C、N、O)層を堆積させる工程
を含み、前記柱状MTCVD Ti(C、N)層が、少なくともTiCl4、CH3CN又は他のニトリル及びH2を含む前駆体であって、前記真空チャンバーに提供されるTiCl4及びCH3CN又は他のニトリルの体積百分率に基づいて4〜10のTi/CN比を有する前駆体を用いて800〜850℃の温度で堆積される、方法。 - 前記Ti/CN比が6〜7である、請求項9に記載の方法。
- 前記前駆体がTiCl4、CH3CN及びH2からなる、請求項9又は10に記載の方法。
- 前記TiCl4のガス流量が、前記MTCVD Ti(C、N)層を堆積する際の合計の前駆体ガス流量の約2〜4体積%である、請求項9〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 1又は複数のニトリルのガス流量が、前記MTCVD Ti(C、N)層を堆積する際の合計の前駆体ガス流量の0.2〜0.5体積%である、請求項9〜12のいずれか1項に記載の方法。
- 基材側からTiN、MTCVD Ti(C、N)、HTCVD Ti(C、N)及びTi(C、O)を含むTi(C、N、O)層を堆積させる工程を含む、請求項9〜13のいずれか1項に記載の方法。
- α−Al2O3層を堆積させる工程をさらに含む、請求項9〜14のいずれか1項に記載の方法。
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