JP2015092429A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ワイドギャップ半導体を用いて構成された半導体装置であって、ビット線BLの電位と等しい電位またはビット線BLの電位と異なる電位をソース線SLに選択的に与える電位切り替え回路MUX182を備え、書き込み時に、ビット線BLとソース線SLの電位を等しくする。
【効果】データの書き込み動作におけるソース線SLおよびビット線BLの電流を抑制することができる。
【選択図】図2
Description
る。
ものと、電力の供給がなくなっても記憶内容は保持される不揮発性のものとに大別される
。
cess Memory)がある。DRAMは、記憶素子を構成するトランジスタを選択
してキャパシタに電荷を蓄積することで、情報を記憶する。
報の読み出しの度に、再度の書き込み動作が必要となる。また、記憶素子を構成するトラ
ンジスタにおいてはオフ状態でのソースとドレイン間のリーク電流(オフ電流)等によっ
て、トランジスタが選択されていない状況でも電荷が流出、または流入するため、データ
の保持期間が短い。このため、所定の周期で再度の書き込み動作(リフレッシュ動作)が
必要であり、消費電力を十分に低減することは困難である。また、電力の供給がなくなる
と記憶内容が失われるため、長期間の記憶の保持には、磁性材料や光学材料を利用した別
の記憶装置が必要となる。
Memory)がある。SRAMは、フリップフロップなどの回路を用いて記憶内容を
保持するため、リフレッシュ動作が不要であり、この点においてはDRAMより有利であ
る。しかし、フリップフロップなどの回路を用いているため、記憶容量あたりの単価が高
くなるという問題がある。また、電力の供給がなくなると記憶内容が失われるという点に
ついては、DRAMと変わるところはない。
ランジスタのゲート電極とチャネル形成領域との間にフローティングゲートを有し、当該
フローティングゲートに電荷を保持させることで記憶を行うため、データの保持期間は極
めて長く(半永久的)、揮発性記憶装置で必要なリフレッシュ動作が不要であるという利
点を有している(例えば、特許文献1参照)。
劣化するため、所定回数の書き込みによって記憶素子が機能しなくなるという問題が生じ
る。この問題の影響を緩和するために、例えば、各記憶素子の書き込み回数を均一化する
手法が採られるが、これを実現するためには、複雑な周辺回路が必要になってしまう。そ
して、このような手法を採用しても、根本的な寿命の問題が解消するわけではない。つま
り、フラッシュメモリは、情報の書き換え頻度が高い用途には不向きである。
には、高い電圧が必要であり、また、そのための回路も必要である。さらに、電荷の注入
、または除去のためには比較的長い時間を要し、書き込み、消去の高速化が容易ではない
という問題もある。
保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな構造の半導体装置を提供する
ことを目的の一とする。
ば、ワイドギャップ半導体である酸化物半導体材料を用いて半導体装置を構成する。トラ
ンジスタのオフ電流を十分に小さくすることができる半導体材料を用いることで、長期間
にわたって情報を保持することが可能である。
であって、ビット線の電位と等しい電位またはビット線の電位と異なる電位をソース線に
選択的に与える機能を有する電位切り替え回路を備えた半導体装置とする。これにより、
半導体装置の消費電力を十分に押さえることができる。
し、メモリセルは、第1のゲート電極、第1のソース電極、第1のドレイン電極、及び第
1のチャネル形成領域を含む第1のトランジスタと、第2のゲート電極、第2のソース電
極、第2のドレイン電極、及び第2のチャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、容
量素子と、を有し、第1のチャネル形成領域は、第2のチャネル形成領域とは、異なる半
導体材料を含んで構成され、第1のゲート電極と、第2のドレイン電極(または第2のソ
ース電極)と、容量素子の電極の一方と、は電気的に接続されて電荷が保持されるノード
を構成し、ソース線と、電位切り替え回路の端子の一と、第1のソース電極(または第1
のドレイン電極)とは、電気的に接続され、ビット線と、第2のソース電極(または第2
のドレイン電極)と、第1のドレイン電極(または第1のソース電極)と、は電気的に接
続され、電位切り替え回路は、ビット線の電位と等しい電位またはビット線の電位と異な
る電位をソース線に選択的に与える機能を備えた半導体装置である。
線と、電位切り替え回路と、メモリセルと、を有し、メモリセルは、第1のゲート電極、
第1のソース電極、第1のドレイン電極、及び第1のチャネル形成領域を含む第1のトラ
ンジスタと、第2のゲート電極、第2のソース電極、第2のドレイン電極、及び第2のチ
ャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、容量素子と、を有し、第1のチャネル形成
領域は、第2のチャネル形成領域とは、異なる半導体材料を含んで構成され、第1のゲー
ト電極と、第2のドレイン電極(または第2のソース電極)と、容量素子の電極の一方と
、は電気的に接続されて電荷が保持されるノードを構成し、ソース線と、電位切り替え回
路の端子の一と、第1のソース電極(または第1のドレイン電極)とは、電気的に接続さ
れ、ビット線と、第2のソース電極(または第2のドレイン電極)と、第1のドレイン電
極(または第1のソース電極)と、は電気的に接続され、読み出しワード線と、容量素子
の電極の他方と、は電気的に接続され、書き込みワード線と、第2のゲート電極と、は電
気的に接続され、電位切り替え回路は、ビット線の電位と等しい電位またはビット線の電
位と異なる電位をソース線に選択的に与える機能を備えた半導体装置である。
で構成されることがある。また、電位切り替え回路は、ノードに第1のトランジスタがオ
ン状態となる電位が与えられる際に、ビット線の電位と等しい電位をソース線に与える機
能を備えていることがある。
イン電極(またはソース電極)と、容量素子の電極の一方と、が電気的に接続されて構成
されるノードに電荷を保持させる半導体装置の駆動方法であって、ノードに第1のトラン
ジスタがオン状態となる電位を与える際に、第1のトランジスタのソース電極の電位と、
第1のトランジスタのドレイン電極の電位と、を等しい電位とする半導体装置の駆動方法
である。
ネル形成領域とは、異なる半導体材料を含んで構成されることがある。また、第2のトラ
ンジスタのチャネル形成領域は、酸化物半導体を含んで構成されることがある。また、第
1のトランジスタのソース電極の電位と、第1のトランジスタのドレイン電極の電位と、
を等しくする動作は、第1のトランジスタのソース電極(またはドレイン電極)に接続さ
れたソース線の電位を電位切り替え回路によって制御することにより行われることがある
。
は、ビット線とソース線の電位差を十分に低減してビット線とソース線に生じる電流を抑
制する点にあるから、ソース線の電位をGNDなどに固定した場合と比較して消費電力を
十分に(百分の一以下に)低減できる電位など、「略等しい」電位が含まれるのである。
また、例えば、配線抵抗などに起因する電位ずれ程度の差は十分に許容される。
する発明はこれに限定されない。酸化物半導体と同等のオフ電流特性が実現できる材料、
例えば、炭化シリコンをはじめとするワイドギャップ材料(より具体的には、例えば、エ
ネルギーギャップEgが3eVより大きい半導体材料)などを適用しても良い。
は「直下」であることを限定するものではない。例えば、「ゲート絶縁層上のゲート電極
」の表現であれば、ゲート絶縁層とゲート電極との間に他の構成要素を含むものを除外し
ない。
定するものではない。例えば、「電極」は「配線」の一部として用いられることがあり、
その逆もまた同様である。さらに、「電極」や「配線」の用語は、複数の「電極」や「配
線」が一体となって形成されている場合なども含む。
、回路動作において電流の方向が変化する場合などには入れ替わることがある。このため
、本明細書においては、「ソース」や「ドレイン」の用語は、入れ替えて用いることがで
きるものとする。
」を介して接続されている場合が含まれる。ここで、「何らかの電気的作用を有するもの
」は、接続対象間での電気信号の授受を可能とするものであれば、特に制限を受けない。
などのスイッチング素子、抵抗素子、インダクタ、キャパシタ、その他の各種機能を有す
る素子などが含まれる。
より極めて長期にわたり記憶内容を保持することが可能である。つまり、リフレッシュ動
作が不要となるか、または、リフレッシュ動作の頻度を極めて低くすることが可能となる
ため、消費電力を十分に低減することができる。また、電力の供給がない場合(ただし、
電位は固定されていることが望ましい)であっても、長期にわたって記憶内容を保持する
ことが可能である。
子の劣化の問題もない。例えば、従来の不揮発性メモリのように、フローティングゲート
への電子の注入や、フローティングゲートからの電子の引き抜きを行う必要がないため、
ゲート絶縁層の劣化といった問題が全く生じない。すなわち、開示する発明に係る半導体
装置では、従来の不揮発性メモリで問題となっている書き換え可能回数に制限はなく、信
頼性が飛躍的に向上する。さらに、トランジスタのオン状態、オフ状態によって、情報の
書き込みが行われるため、高速な動作も容易に実現しうる。また、情報を消去するための
動作が不要であるというメリットもある。
め、これを、酸化物半導体を用いたトランジスタと組み合わせて用いることにより、半導
体装置の動作(例えば、情報の読み出し動作)の高速性を十分に確保することができる。
また、酸化物半導体以外の材料を用いたトランジスタにより、高速動作が要求される各種
回路(論理回路、駆動回路など)を好適に実現することが可能である。
動作が可能なトランジスタ)と、酸化物半導体を用いたトランジスタ(より広義には、十
分にオフ電流が小さいトランジスタ)とを一体に備えることで、これまでにない特徴を有
する半導体装置を実現することができる。
消費電力を十分に押さえた半導体装置が実現される。
の説明に限定されず、本発明の趣旨およびその範囲から逸脱することなくその形態および
詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下
に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。
際の位置、大きさ、範囲などを表していない場合がある。このため、開示する発明は、必
ずしも、図面等に開示された位置、大きさ、範囲などに限定されない。
を避けるために付すものであり、数的に限定するものではないことを付記する。
本実施の形態では、開示する発明の一態様に係る半導体装置の基本的な回路構成およびそ
の動作について、図1および図2を参照して説明する。なお、回路図においては、酸化物
半導体を用いたトランジスタであることを示すために、OSの符号を併せて付す場合があ
る。
はじめに、最も基本的な回路構成およびその動作について、図1を参照して説明する。図
1(A−1)に示す半導体装置において、第1の配線(1st Line)とトランジス
タ160のソース電極(またはドレイン電極)とは、電気的に接続され、第2の配線(2
nd Line)とトランジスタ160のドレイン電極(またはソース電極)とは、電気
的に接続されている。また、第3の配線(3rd Line)とトランジスタ162のソ
ース電極(またはドレイン電極)とは、電気的に接続され、第4の配線(4th Lin
e)と、トランジスタ162のゲート電極とは、電気的に接続されている。そして、トラ
ンジスタ160のゲート電極と、トランジスタ162のドレイン電極(またはソース電極
)は、容量素子164の電極の一方と電気的に接続され、第5の配線(5th Line
)と、容量素子164の電極の他方は電気的に接続されている。
れる。酸化物半導体を用いたトランジスタは、オフ電流が極めて小さいという特徴を有し
ている。このため、トランジスタ162をオフ状態とすることで、トランジスタ160の
ゲート電極の電位を極めて長時間にわたって保持することが可能である。そして、容量素
子164を有することにより、トランジスタ160のゲート電極に与えられた電荷の保持
が容易になり、また、保持された情報の読み出しが容易になる。
るという観点からは、例えば、単結晶シリコンを用いたトランジスタなど、スイッチング
速度の高いトランジスタを適用するのが好適である。
。
能という特徴を生かすことで、次のように、情報の書き込み、保持、読み出しが可能であ
る。
ランジスタ162がオン状態となる電位にして、トランジスタ162をオン状態とする。
これにより、第3の配線の電位が、トランジスタ160のゲート電極、および容量素子1
64に与えられる。すなわち、トランジスタ160のゲート電極には、所定の電荷が与え
られる(書き込み)。ここでは、異なる二つの電位を与える電荷(以下、低電位を与える
電荷を電荷QL、高電位を与える電荷を電荷QHという)のいずれかが与えられるものと
する。なお、異なる三つまたはそれ以上の電位を与える電荷を適用して、記憶容量を向上
させても良い。その後、第4の配線の電位を、トランジスタ162がオフ状態となる電位
にして、トランジスタ162をオフ状態とすることにより、トランジスタ160のゲート
電極に与えられた電荷が保持される(保持)。
電荷は長時間にわたって保持される。
態で、第5の配線に適切な電位(読み出し電位)を与えると、トランジスタ160のゲー
ト電極に保持された電荷量に応じて、第2の配線は異なる電位をとる。一般に、トランジ
スタ160をnチャネル型とすると、トランジスタ160のゲート電極にQHが与えられ
ている場合の見かけのしきい値Vth_Hは、トランジスタ160のゲート電極にQLが
与えられている場合の見かけのしきい値Vth_Lより低くなるためである。ここで、見
かけのしきい値とは、トランジスタ160を「オン状態」とするために必要な第5の配線
の電位をいうものとする。したがって、第5の配線の電位をVth_HとVth_Lの中
間の電位V0とすることにより、トランジスタ160のゲート電極に与えられた電荷を判
別できる。例えば、書き込みにおいてQHが与えられた場合には、第5の配線の電位がV
0(>Vth_H)となれば、トランジスタ160は「オン状態」となる。QLが与えら
れた場合には、第5の配線の電位がV0(<Vth_L)となっても、トランジスタ16
0は「オフ状態」のままである。このため、第2の配線の電位を見ることで、保持されて
いる情報を読み出すことができる。
読み出せることが必要になる。このように、所定のメモリセルの情報を読み出し、それ以
外のメモリセルの情報を読み出さない場合には、読み出しの対象ではないメモリセルの第
5の配線に対して、ゲート電極の状態にかかわらずトランジスタ160が「オフ状態」と
なるような電位、つまり、Vth_Hより小さい電位を与えればよい。または、ゲート電
極の状態にかかわらずトランジスタ160が「オン状態」となるような電位、つまり、V
th_Lより大きい電位を第5の配線に与えればよい。
保持と同様に行われる。つまり、第4の配線の電位を、トランジスタ162がオン状態と
なる電位にして、トランジスタ162をオン状態とする。これにより、第3の配線の電位
(新たな情報に係る電位)が、トランジスタ160のゲート電極および容量素子164に
与えられる。その後、第4の配線の電位を、トランジスタ162がオフ状態となる電位に
して、トランジスタ162をオフ状態とすることにより、トランジスタ160のゲート電
極は、新たな情報に係る電荷が与えられた状態となる。
情報を書き換えることが可能である。このためフラッシュメモリなどにおいて必要とされ
る高電圧を用いてのフローティングゲートからの電荷の引き抜きが不要であり、消去動作
に起因する動作速度の低下を抑制することができる。つまり、半導体装置の高速動作が実
現される。
のゲート電極と電気的に接続されることにより、不揮発性メモリ素子として用いられるフ
ローティングゲート型トランジスタのフローティングゲートと同等の作用を奏する。以下
において、トランジスタ162のドレイン電極(またはソース電極)とトランジスタ16
0のゲート電極が電気的に接続される部位をノードFGと呼ぶ場合がある。トランジスタ
162がオフの場合、当該ノードFGは絶縁体中に埋設されたと見ることができ、ノード
FGには電荷が保持される。酸化物半導体を用いたトランジスタ162のオフ電流は、シ
リコン半導体などで形成されるトランジスタの10万分の1以下であるため、トランジス
タ162のリークによる、ノードFGに蓄積された電荷の消失を無視することが可能であ
る。つまり、酸化物半導体を用いたトランジスタ162により、電力の供給が無くても情
報の保持が可能な不揮発性の記憶装置を実現することが可能である。
アンペア)は1×10−21A)以下であり、容量素子164の容量値が10fF程度で
ある場合には、少なくとも104秒以上のデータ保持が可能である。なお、当該保持時間
が、トランジスタ特性や容量値によって変動することはいうまでもない。
タにおいて指摘されているゲート絶縁膜(トンネル絶縁膜)の劣化という問題が存在しな
い。つまり、従来問題とされていた、電子をフローティングゲートに注入する際のゲート
絶縁膜の劣化という問題を解消することができる。これは、原理的な書き込み回数の制限
が存在しないことを意味するものである。また、従来のフローティングゲート型トランジ
スタにおいて書き込みや消去の際に必要であった高電圧も不要である。
が抵抗および容量を含むものとして、図1(A−2)のように考えることが可能である。
つまり、図1(A−2)では、トランジスタ160および容量素子164が、それぞれ、
抵抗および容量を含んで構成されると考えていることになる。R1およびC1は、それぞ
れ、容量素子164の抵抗値および容量値であり、抵抗値R1は、容量素子164を構成
する絶縁層による抵抗値に相当する。また、R2およびC2は、それぞれ、トランジスタ
160の抵抗値および容量値であり、抵抗値R2はトランジスタ160がオン状態の時の
ゲート絶縁層による抵抗値に相当し、容量値C2はいわゆるゲート容量(ゲート電極と、
ソース電極またはドレイン電極との間に形成される容量、及び、ゲート電極とチャネル形
成領域との間に形成される容量)の容量値に相当する。
効抵抗とも呼ぶ)をROSとすると、トランジスタ162のゲートリーク電流が十分に小
さい条件において、R1およびR2が、R1≧ROS(R1はROS以上)、R2≧RO
S(R2はROS以上)を満たす場合には、電荷の保持期間(情報の保持期間ということ
もできる)は、主としてトランジスタ162のオフ電流によって決定されることになる。
も、保持期間を十分に確保することが困難になる。トランジスタ162のオフ電流以外の
リーク電流(例えば、ソース電極とゲート電極の間において生じるリーク電流等)が大き
いためである。このことから、本実施の形態において開示する半導体装置は、R1≧RO
S(R1はROS以上)、およびR2≧ROS(R2はROS以上)の関係を満たすもの
であることが望ましいといえる。
C1を大きくすることで、第5の配線によってノードFGの電位を制御する際に、第5の
配線の電位を効率よくノードFGに与えることができるようになり、第5の配線に与える
電位間(例えば、読み出しの電位と、非読み出しの電位)の電位差を低く抑えることがで
きるためである。
ある。なお、R1およびR2は、トランジスタ160のゲート絶縁層や容量素子164の
絶縁層によって制御される。C1およびC2についても同様である。よって、ゲート絶縁
層の材料や厚さなどを適宜設定し、上述の関係を満たすようにすることが望ましい。
ティングゲート型トランジスタのフローティングゲートと同等の作用をするが、本実施の
形態のノードFGは、フラッシュメモリ等のフローティングゲートと本質的に異なる特徴
を有している。
隣接するセルのフローティングゲートに影響を与えないように、セルとセルとの間隔をあ
る程度保つ必要が生じる。このことは、半導体装置の高集積化を阻害する要因の一つであ
る。そして、当該要因は、高電界をかけてトンネル電流を発生させるというフラッシュメ
モリの根本的な原理に起因するものである。
ングによって動作し、上述のようなトンネル電流による電荷注入の原理を用いない。すな
わち、フラッシュメモリのような、電荷を注入するための高電界が不要である。これによ
り、隣接セルに対する、コントロールゲートによる高電界の影響を考慮する必要がないた
め、高集積化が容易になる。
シュメモリに対するアドバンテージである。例えば、本実施の形態に係るメモリセルに印
加される電圧(メモリセルの各端子に同時に印加される電位の最大のものと最小のものの
差)の最大値は、2段階(1ビット)の情報を書き込む場合、一つのメモリセルにおいて
、5V以下、好ましくは3V以下とすることができる。
成する絶縁層の比誘電率εr2とを異ならせる場合には、容量素子164を構成する絶縁
層の面積S1と、トランジスタ160においてゲート容量を構成する絶縁層の面積S2の
面積S2とが、2・S2≧S1(2・S2はS1以上)、望ましくはS2≧S1(S2は
S1以上)を満たしつつ、C1≧C2(C1はC2以上)を実現することが容易である。
すなわち、容量素子164を構成する絶縁層の面積を小さくしつつ、C1はC2以上を実
現することが容易である。具体的には、例えば、容量素子164を構成する絶縁層におい
ては、酸化ハフニウムなどのhigh−k材料でなる膜、または酸化ハフニウムなどのh
igh−k材料でなる膜と酸化物半導体でなる膜との積層構造を採用してεr1を10以
上、好ましくは15以上とし、ゲート容量を構成する絶縁層においては、酸化シリコンを
採用して、εr2は3以上4以下とすることができる。
集積化が可能である。
ることもできる。例えば、メモリセルの一に3段階以上の情報を書き込む構成とすること
で、2段階(1ビット)の情報を書き込む場合と比較して記憶容量を増大させることがで
きる。例えば、上述のような、低電位を与える電荷QL、高電位を与える電荷QHに加え
、他の電位を与える電荷Qを第1のトランジスタのゲート電極に与えることで、多値化を
実現することができる。この場合、比較的規模の大きい回路構成(例えば、15F2以上
50F2以下など:Fは最小加工寸法)を採用しても十分な記憶容量を確保することがで
きる。
)を用いる場合についてのものであるが、n型トランジスタに代えて、正孔を多数キャリ
アとするp型トランジスタを用いることができるのはいうまでもない。
次に、より具体化された回路構成およびその動作について、図2を参照して説明する。図
2において、メモリセル170の構成は、図1(A−1)と同様である。すなわち、図1
(A−1)における第1の配線が図2におけるソース線SLに相当し、図1(A−1)に
おける第4の配線が図2における書き込みワード線WWLに相当し、図1(A−1)にお
ける第5の配線が図2における読み出しワード線RWLに相当する。一方で、図1(A−
1)における第2の配線と第3の配線とが共通化され、図2ではビット線BLとなってい
る。
されている。ここで、マルチプレクサ180は、ビット線BLの他に、書き込み読み出し
制御信号線WREN、入力信号線BL_OS、読み出し回路入力信号線RSに接続されて
いる。書き込み読み出し制御信号線WRENは、マルチプレクサの信号の経路を切り替え
る信号を伝達する配線であり、入力信号線BL_OSは、メモリセル170に書き込むデ
ータ信号を伝達する配線であり、読み出し回路入力信号線RSは、読み出し回路からの信
号を伝達する配線である。
レクサ182は、ソース線SLの他に、書き込み読み出し制御信号線WREN、入力信号
線BL_OS、第2のソース線SL2に接続されている。ここで、第2のソース線SL2
は、読み出し時にソース線SLに与えられる信号を伝達する配線である。
ENによって、信号の経路を切り替える機能を有する。また、マルチプレクサはセレクタ
と呼ばれる場合がある。
して、ノードFGに電源電位VDDまたは基準電位GNDのいずれかを与える場合につい
て説明する。なお、ノードFGに電源電位VDDを与えた場合に保持されるデータをデー
タ”1”、ノードFGに基準電位GNDを与えた場合に保持されるデータをデータ”0”
とする。また、第2のソース線SL2の電位はGNDとする。
しワード線RWLの電位をGNDとし、書き込みワード線WWLの電位をVDDとしてメ
モリセル170を選択する。
ト線BLに、マルチプレクサ182を介してソース線SLに伝わるように、マルチプレク
サ180及びマルチプレクサ182の信号経路を切り換える。すなわち、書き込み読み出
し制御信号線WRENに上記動作が実現される信号を入力して、マルチプレクサ180及
びマルチプレクサ182の信号経路を切り換える。
しくする点にある。これにより、ノードFGに第1のトランジスタ160がオン状態とな
る電位が与えられる場合でも、ビット線BLとソース線SLに電流が生じて電力が消費さ
れることを抑制できる。上述のマルチプレクサは、このような動作を実現することが可能
な回路の一つである。ソース線SLの電位に着目すると、当該動作はソース線SLの電位
の切り替えに相当するため、このような機能を有する回路を広義に「電位切り替え回路」
と呼ぶことができる。なお、「電位切り替え回路」はマルチプレクサに限定されない。
開示する発明の技術的思想は、ビット線BLとソース線SLの電位差を十分に低減してビ
ット線BLとソース線SLに生じる電流を抑制する点にあるから、「略等しい」電位には
、例えば、ソース線SLの電位をGNDに固定した場合と比較して消費電力を十分に(百
分の一以下に)低減できる電位などが含まれる。また、例えば、配線抵抗などに起因する
電位ずれ程度の差は十分に許容される。
GNDを与え、メモリセル170にデータ”1”を書き込む場合には、入力信号線BL_
OSにはトランジスタ162において生じる電圧降下を考慮した電位(VDD+α)を与
える。
、GNDよりVDD低い電位(以下、VL)とすることにより行われる。
量素子164との容量結合によってGND−VL(=VDD)低下する。このため、ノー
ドFGにデータ”1”であるVDDが与えられている場合、ノードFGの電位はVDD低
下してGNDとなり、ノードFGにデータ”0”であるGNDが与えられていれば、ノー
ドFGの電位はVDD低下してGND−VDD(=VL)となる。
いずれが書き込まれた場合でも、トランジスタ162はオフ状態となる。トランジスタ1
62のオフ電流は極めて小さいから、トランジスタ160のゲート電極の電荷は長時間に
わたって保持される。
WLの電位をVLとすることにより行われる。
量素子164との容量結合によってGND−VL(=VDD)上昇する。このため、ノー
ドFGにデータ”1”であるVDDが与えられている場合、ノードFGの電位はVDD上
昇してVDDとなり、ノードFGにデータ”0”であるGNDが与えられていれば、ノー
ドFGの電位はVDD上昇してVL+VDD(=GND)となる。
出し回路入力信号線RSに伝わるように、マルチプレクサ180の信号経路を切り換える
。すなわち、書き込み読み出し制御信号線WRENに上記動作が実現される信号を入力し
て、マルチプレクサ180の信号経路を切り換える。
るように、マルチプレクサ182の信号経路を切り換える。すなわち、書き込み読み出し
制御信号線WRENに上記動作が実現される信号を入力して、マルチプレクサ182の信
号経路を切り換える。当該動作により、ソース線SLにはGNDが与えられることになる
。
は、トランジスタ160がオン状態となり、ビット線BLの電位が低下する。また、デー
タ”0”が書き込まれている場合には、トランジスタ160がオフ状態となり、読み出し
開始時のビット線BLの電位が維持されるか、または上昇する。なお、ビット線BLの電
位の維持または上昇は、読み出し回路入力信号線RSに接続される回路に依存する。
ス線SLおよびビット線BLの電流を抑制することができる。このため、データの書き込
み動作における消費電力を低減することが可能である。なお、開示する発明の技術的思想
は、ビット線BLとソース線SLの電位差を十分に低減してビット線BLとソース線SL
に生じる電流を抑制する点にあるから、これを実現できる回路構成であれば、上述の回路
構成に限る必要はない。
宜組み合わせて用いることができる。
本実施の形態では、先の実施の形態において説明した半導体装置の応用例の一について説
明する。具体的には、先の実施の形態において説明した半導体装置をマトリクス状に配列
した半導体装置の一例について図3および図4を参照して説明する。
と、m本の読み出しワード線RWLと、n本(nは2以上の整数)のビット線BLと、n
本のソース線SLと、メモリセル170が縦m個(行)×横n個(列)のマトリクス状に
配置されたメモリセルアレイと、n本のビット線BLにそれぞれ接続するマルチプレクサ
180と、n本のソース線SLにそれぞれ接続するマルチプレクサ182と、第1の駆動
回路190と、第2の駆動回路192と、を有する。ここで、メモリセル170、マルチ
プレクサ180、マルチプレクサ182には、先の実施の形態において説明した構成(図
2に示される構成)が適用される。つまり、基本的な構成および動作は、図2の場合と同
様である。
書き込み読み出し制御信号線WRENが接続されている。ここで、出力信号線BL_OU
Tは、メモリセルのデータを出力する配線である。
と、書き込み読み出し制御信号線WRENと、書き込みワード線WWLと、読み出しワー
ド線RWLとが接続されている。ここで、チップイネーブルバー信号線CEBは、第2の
駆動回路192をアクティブにするための信号を伝達する配線である。例えば、チップイ
ネーブルバー信号線CEBの電位が低電位の場合、第2の駆動回路192はアクティブと
なり、第2の駆動回路は高電位を出力する。チップイネーブルバー信号線CEBの電位が
高電位の場合、第2の駆動回路は低電位を出力する。また、アドレス選択信号線Aは、メ
モリセルの行方向のアドレスを選択する信号を伝達する配線である。
ト中のCEB、WREN等の名称は、タイミングチャートに示す電位が与えられる配線を
示しており、同様の機能を有する配線が複数ある場合には、配線の名称の末尾に_1、_
2等を付すことで区別している。なお、ここでは説明を簡単にするため、メモリセル17
0が2(行)×2(列)に配列された半導体装置を例に説明するが、開示する発明はこれ
に限られない。
き込み1)、その後、書き込まれた全データを読み出し(読み出し1)、次に、第1行第
1列のメモリセルおよび第2行第2列のメモリセルにデータ”1”を書き込むと共に、第
1行第2列のメモリセルおよび第2行第1列のメモリセルにデータ”0”を書き込み(書
き込み2)、その後、書き込まれた全データを読み出す(読み出し2)場合の各配線の電
位の関係を示すものである。
電位として、BL_OSとBLおよびSLを接続し、メモリセルの書き込みが行える状態
にする。第2の駆動回路192は、Aに応じた行選択信号をRWLおよびWWLに出力す
る。ここでは、Aが低電位の場合には第1行目を選択する信号が出力され、Aが高電位の
場合には第2行目の選択信号が出力される。また、選択された行のRWLおよびWWLは
、高電位となる。
ミングに合わせて、BL_OS_1およびBL_OS_2を高電位とする。なお、BL_
OS_1およびBL_OS_2の信号入力期間は、RWLおよびWWLの信号入力期間よ
り長くなるようにする。BL_OS_1およびBL_OS_2の信号入力期間が短いと、
メモリセルへの書き込みミス(この場合、データ”0”の書き込み)が生じるためである
。なお、BL_OUT_1およびBL_OUT_2の電位は、書き込み時には問題となら
ない(高電位であっても良いし低電位であっても良い)。
電位として、RSとBLを接続すると共にSL2とSLを接続し、メモリセルの読み出し
が行える状態にする。第2の駆動回路192は、Aに応じた行選択信号をRWLおよびW
WLに出力する。ここでは、Aが低電位の場合には第1行目を選択する信号が出力され、
Aが高電位の場合には第2行目の選択信号が出力される。また、選択された行のRWLは
高電位となり、WWLは、選択、非選択に関わらず低電位となる。
リセルに保持されているデータに応じた電位が与えられる。なお、BL_OS_1および
BL_OS_2の電位は、読み出し時には問題とならない。
1行第1列のメモリセルおよび第2行第2列のメモリセルにデータ”1”を書き込むと共
に、第1行第2列のメモリセルおよび第2行第1列のメモリセルにデータ”0”を書き込
むために、行選択のタイミングに合わせて、BL_OS_1およびBL_OS_2を低電
位または高電位とする。
T_1およびBL_OUT_2には、選択された行のメモリセルに保持されているデータ
に応じた電位が与えられることがわかる。
込みも読み出しも行われないため、他の信号は問題とならない。
宜組み合わせて用いることができる。
本実施の形態では、開示する発明の一態様に係る半導体装置の構成およびその作製方法に
ついて、図5乃至図9を参照して説明する。
図5は、半導体装置の構成の一例である。図5(A)には、半導体装置の断面を、図5(
B)には、半導体装置の平面を、それぞれ示す。ここで、図5(A)は、図5(B)のA
1−A2およびB1−B2における断面に相当する。図5(A)および図5(B)に示さ
れる半導体装置は、下部に第1の半導体材料を用いたトランジスタ160を有し、上部に
第2の半導体材料を用いたトランジスタ162を有するものである。ここで、第1の半導
体材料と第2の半導体材料とは異なる材料とすることが望ましい。例えば、第1の半導体
材料を酸化物半導体以外の半導体材料とし、第2の半導体材料を酸化物半導体とすること
ができる。酸化物半導体以外の半導体材料としては、例えば、シリコン、ゲルマニウム、
シリコンゲルマニウム、炭化シリコン、またはガリウムヒ素等を用いることができ、単結
晶半導体を用いるのが好ましい。他に、有機半導体材料などを用いてもよい。このような
半導体材料を用いたトランジスタは、高速動作が容易である。一方で、酸化物半導体を用
いたトランジスタは、その特性により長時間の電荷保持を可能とする。
るが、pチャネル型トランジスタを用いることができるのはいうまでもない。また、開示
する発明の技術的な本質は、情報を保持するために酸化物半導体のようなオフ電流を十分
に低減することが可能な半導体材料をトランジスタ162に用いる点にあるから、半導体
装置に用いられる材料や半導体装置の構造など、半導体装置の具体的な構成をここで示す
ものに限定する必要はない。
00に設けられたチャネル形成領域116と、チャネル形成領域116を挟むように設け
られた不純物領域120と、不純物領域120に接する金属化合物領域124と、チャネ
ル形成領域116上に設けられたゲート絶縁層108と、ゲート絶縁層108上に設けら
れたゲート電極110と、を有する。なお、図において、明示的にはソース電極やドレイ
ン電極を有しない場合があるが、便宜上、このような状態を含めてトランジスタと呼ぶ場
合がある。また、この場合、トランジスタの接続関係を説明するために、ソース領域やド
レイン領域を含めてソース電極やドレイン電極と表現することがある。つまり、本明細書
において、ソース電極との記載には、ソース領域が含まれうる。また、ドレイン電極との
記載には、ドレイン領域が含まれうる。
ここで、電極126は、トランジスタ160のソース電極やドレイン電極として機能する
。また、基板100上にはトランジスタ160を囲むように素子分離絶縁層106が設け
られており、トランジスタ160上に絶縁層128および絶縁層130が設けられている
。なお、高集積化を実現するためには、図5に示すようにトランジスタ160がサイドウ
ォール絶縁層を有しない構成とすることが望ましい。一方で、トランジスタ160の特性
を重視する場合には、ゲート電極110の側面にサイドウォール絶縁層を設け、そのサイ
ドウォール絶縁層と重畳する領域に形成された不純物濃度が異なる領域を含めて不純物領
域120を設けても良い。
イン電極142a、およびソース電極またはドレイン電極142bと、ソース電極または
ドレイン電極142a、およびソース電極またはドレイン電極142bと電気的に接続さ
れている酸化物半導体層144と、ソース電極またはドレイン電極142a、ソース電極
またはドレイン電極142b、酸化物半導体層144を覆うゲート絶縁層146と、ゲー
ト絶縁層146上に酸化物半導体層144と重畳するように設けられたゲート電極148
aと、ソース電極またはドレイン電極142aと酸化物半導体層144との間の、ゲート
電極148aの一部と重畳する領域に設けられた絶縁層143aと、ソース電極またはド
レイン電極142bと酸化物半導体層144との間の、ゲート電極148aの一部と重畳
する領域に設けられた絶縁層143bと、を有する。なお、ソース電極またはドレイン電
極と、ゲート電極との間の容量を低減するためには、絶縁層143aおよび絶縁層143
bを設けることが望ましいが、絶縁層143aおよび絶縁層143bを設けない構成とす
ることも可能である。
は、十分な酸素が供給されることにより、高純度化されたものであることが望ましい。具
体的には、例えば、酸化物半導体層144の水素濃度は5×1019atoms/cm3
以下、望ましくは5×1018atoms/cm3以下、より望ましくは5×1017a
toms/cm3以下とすることが望ましい。なお、上述の酸化物半導体層144中の水
素濃度は、二次イオン質量分析法(SIMS:Secondary Ion Mass
Spectroscopy)で測定されるものである。このように、水素濃度が十分に低
減されて高純度化され、十分な酸素の供給により酸素欠乏に起因するエネルギーギャップ
中の欠陥準位が低減された酸化物半導体層144では、キャリア濃度を低減することが容
易である。例えば、キャリア濃度が1×1012/cm3未満、望ましくは、1×101
1/cm3未満、より望ましくは1.45×1010/cm3未満となる。また、トラン
ジスタのオフ電流を低減することも容易である。例えば、室温(25℃)でのオフ電流(
ここでは、単位チャネル幅(1μm)あたりの値)は100zA(1zA(ゼプトアンペ
ア)は1×10−21A)以下、望ましくは10zA以下となる。このように、i型化(
真性化)または実質的にi型化された酸化物半導体を用いることで、極めて優れたオフ電
流特性のトランジスタ162を、容易に得ることができる。
るために、島状に加工された酸化物半導体層144を用いているが、島状に加工されてい
ない構成を採用しても良い。酸化物半導体層を島状に加工しない場合には、加工の際のエ
ッチングによる酸化物半導体層144の汚染を防止できる。
層144、ゲート絶縁層146、および電極148b、で構成される。すなわち、ソース
電極またはドレイン電極142aは、容量素子164の一方の電極として機能し、電極1
48bは、容量素子164の他方の電極として機能することになる。
せることにより、ソース電極またはドレイン電極142aと、電極148bとの間の絶縁
性を十分に確保することができる。もちろん、十分な容量を確保するために、酸化物半導
体層144を有しない構成の容量素子164を採用しても良い。また、絶縁層143aと
同様に形成される絶縁層を有する構成の容量素子164を採用しても良い。さらに、容量
が不要の場合は、容量素子164を設けない構成とすることも可能である。
極142a、およびソース電極またはドレイン電極142bの端部は、テーパー形状であ
ることが好ましい。ソース電極またはドレイン電極142a、ソース電極またはドレイン
電極142bの端部をテーパー形状とすることにより、酸化物半導体層144の被覆性が
向上し、段切れを防止することができるためである。ここで、テーパー角は、例えば、3
0°以上60°以下とする。なお、テーパー角とは、テーパー形状を有する層(例えば、
ソース電極またはドレイン電極142a)を、その断面(基板の表面と直交する面)に垂
直な方向から観察した際に、当該層の側面と底面がなす傾斜角を示す。
重畳するように設けられている。このような、平面レイアウトを採用することにより、高
集積化が可能である。例えば、最小加工寸法をFとして、メモリセルの占める面積を15
F2以上25F2以下とすることが可能である。
縁層150上には絶縁層152が設けられている。そして、ゲート絶縁層146、絶縁層
150、絶縁層152などに形成された開口には、電極154が設けられ、絶縁層152
上には電極154と接続する配線156が形成される。なお、図5では電極126および
電極154を用いて、金属化合物領域124、ソース電極またはドレイン電極142b、
および配線156を接続しているが、開示する発明はこれに限定されない。例えば、ソー
ス電極またはドレイン電極142bを直接、金属化合物領域124に接触させても良い。
または、配線156を直接、ソース電極またはドレイン電極142bに接触させても良い
。
接続する電極126と、ソース電極またはドレイン電極142bと配線156を接続する
電極154とは重畳して配置されている。つまり、トランジスタ160のソース電極やド
レイン電極として機能する電極126と、トランジスタ162のソース電極またはドレイ
ン電極142bと、が接する領域は、トランジスタ162のソース電極またはドレイン電
極142bと、メモリセルの一と他のメモリセルとを接続する配線156と、が接する領
域と重なっている。このようなレイアウトを採用することで、高集積化を図ることができ
る。
次に、上記半導体装置の作製方法の一例について説明する。以下では、はじめに下部のト
ランジスタ160の作製方法について図6および図7を参照して説明し、その後、上部の
トランジスタ162および容量素子164の作製方法について図8および図9を参照して
説明する。
まず、半導体材料を含む基板100を用意する(図6(A)参照)。半導体材料を含む基
板100としては、シリコンや炭化シリコンなどの単結晶半導体基板、多結晶半導体基板
、シリコンゲルマニウムなどの化合物半導体基板、SOI基板などを適用することができ
る。ここでは、半導体材料を含む基板100として、単結晶シリコン基板を用いる場合の
一例について示すものとする。なお、一般に「SOI基板」は、絶縁表面上にシリコン半
導体層が設けられた構成の基板をいうが、本明細書等においては、絶縁表面上にシリコン
以外の材料からなる半導体層が設けられた構成の基板も含むものとする。つまり、「SO
I基板」が有する半導体層は、シリコン半導体層に限定されない。また、SOI基板には
、ガラス基板などの絶縁基板上に絶縁層を介して半導体層が設けられた構成のものも含ま
れるものとする。
合には、半導体装置の読み出し動作を高速化することができるため好適である。
る(図6(A)参照)。保護層102としては、例えば、酸化シリコンや窒化シリコン、
酸窒化シリコンなどを材料とする絶縁層を用いることができる。なお、この工程の前後に
おいて、トランジスタのしきい値電圧を制御するために、n型の導電性を付与する不純物
元素やp型の導電性を付与する不純物元素を基板100に添加してもよい。半導体がシリ
コンの場合、n型の導電性を付与する不純物としては、例えば、リンや砒素などを用いる
ことができる。また、p型の導電性を付与する不純物としては、例えば、硼素、アルミニ
ウム、ガリウムなどを用いることができる。
ない領域(露出している領域)の、基板100の一部を除去する。これにより他の半導体
領域と分離された半導体領域104が形成される(図6(B)参照)。当該エッチングに
は、ドライエッチングを用いるのが好適であるが、ウェットエッチングを用いても良い。
エッチングガスやエッチング液については被エッチング材料に応じて適宜選択することが
できる。
の絶縁層を選択的に除去することで、素子分離絶縁層106を形成する(図6(C)参照
)。当該絶縁層は、酸化シリコンや窒化シリコン、酸窒化シリコンなどを用いて形成され
る。絶縁層の除去方法としては、CMP(化学的機械的研磨)などの研磨処理やエッチン
グ処理などがあるが、そのいずれを用いても良い。なお、半導体領域104の形成後、ま
たは、素子分離絶縁層106の形成後には、上記保護層102を除去する。
素を打ち込むことにより絶縁性の領域を形成する方法などを用いることもできる。
成する。
熱酸化処理や熱窒化処理など)によって形成することができる。熱処理に代えて、高密度
プラズマ処理を適用しても良い。高密度プラズマ処理は、例えば、He、Ar、Kr、X
eなどの希ガス、酸素、酸化窒素、アンモニア、窒素、水素などのうちいずれかの混合ガ
スを用いて行うことができる。もちろん、CVD法やスパッタ法等を用いて絶縁層を形成
しても良い。当該絶縁層は、酸化シリコン、酸窒化シリコン、窒化シリコン、酸化ハフニ
ウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、ハフニウムシリケート(H
fSixOy(x>0、y>0))、窒素が添加されたハフニウムシリケート(HfSi
xOy(x>0、y>0))、窒素が添加されたハフニウムアルミネート(HfAlxO
y(x>0、y>0))等を含む単層構造または積層構造とすることが望ましい。また、
絶縁層の厚さは、例えば、1nm以上100nm以下、好ましくは10nm以上50nm
以下とすることができる。
を用いて形成することができる。また、多結晶シリコンなどの半導体材料を用いて、導電
材料を含む層を形成しても良い。形成方法も特に限定されず、蒸着法、CVD法、スパッ
タ法、スピンコート法などの各種成膜方法を用いることができる。なお、本実施の形態で
は、導電材料を含む層を、金属材料を用いて形成する場合の一例について示すものとする
。
、ゲート電極110を形成する(図6(C)参照)。
116および不純物領域120を形成する(図6(D)参照)。なお、ここではn型トラ
ンジスタを形成するためにリンやヒ素を添加しているが、p型トランジスタを形成する場
合には、硼素(B)やアルミニウム(Al)などの不純物元素を添加すればよい。ここで
、添加する不純物の濃度は適宜設定することができるが、半導体素子が高度に微細化され
る場合には、その濃度を高くすることが望ましい。
濃度で添加された不純物領域を形成しても良い。
7(A)参照)。当該金属層122は、真空蒸着法やスパッタ法、スピンコート法などの
各種成膜方法を用いて形成することができる。金属層122は、半導体領域104を構成
する半導体材料と反応することによって低抵抗な金属化合物となる金属材料を用いて形成
することが望ましい。このような金属材料としては、例えば、チタン、タンタル、タング
ステン、ニッケル、コバルト、白金等がある。
純物領域120に接する金属化合物領域124が形成される(図7(A)参照)。なお、
ゲート電極110として多結晶シリコンなどを用いる場合には、ゲート電極110の金属
層122と接触する部分にも、金属化合物領域が形成されることになる。
る。もちろん、その他の熱処理方法を用いても良いが、金属化合物の形成に係る化学反応
の制御性を向上させるためには、ごく短時間の熱処理を実現できる方法を用いることが望
ましい。なお、上記の金属化合物領域は、金属材料と半導体材料との反応により形成され
るものであり、十分に導電性が高められた領域である。当該金属化合物領域を形成するこ
とで、電気抵抗を十分に低減し、素子特性を向上させることができる。なお、金属化合物
領域124を形成した後には、金属層122は除去する。
参照)。電極126は、例えば、導電材料を含む層を形成した後に、当該層を選択的にエ
ッチングすることで形成される。導電材料を含む層は、アルミニウムや銅、チタン、タン
タル、タングステン等の金属材料を用いて形成することができる。また、多結晶シリコン
などの半導体材料を用いて、導電材料を含む層を形成しても良い。形成方法も特に限定さ
れず、蒸着法、CVD法、スパッタ法、スピンコート法などの各種成膜方法を用いること
ができる。
よび絶縁層130に金属化合物領域124にまで達する開口を形成し、当該開口を埋め込
むように形成することも可能である。
より窒化チタン膜を薄く形成した後に、開口に埋め込むようにタングステン膜を形成する
方法を適用することができる。ここで、PVD法により形成されるチタン膜は、被形成面
の酸化膜(自然酸化膜など)を還元し、下部電極など(ここでは金属化合物領域124)
との接触抵抗を低減させる機能を有する。また、その後に形成される窒化チタン膜は、導
電性材料の拡散を抑制するバリア機能を備える。また、チタンや窒化チタンなどによるバ
リア膜を形成した後に、メッキ法により銅膜を形成してもよい。
形成する(図7(C)参照)。絶縁層128や絶縁層130は、酸化シリコン、酸窒化シ
リコン、窒化シリコン、酸化アルミニウム等の無機絶縁材料を含む材料を用いて形成する
ことができる。特に、絶縁層128や絶縁層130に誘電率の低い(low−k)材料を
用いることで、各種電極や配線の重なりに起因する容量を十分に低減することが可能にな
るため好ましい。なお、絶縁層128や絶縁層130には、これらの材料を用いた多孔性
の絶縁層を適用しても良い。多孔性の絶縁層では、密度の高い絶縁層と比較して誘電率が
低下するため、電極や配線に起因する容量をさらに低減することが可能である。また、絶
縁層128や絶縁層130は、ポリイミド、アクリル等の有機絶縁材料を用いて形成する
ことも可能である。なお、ここでは、絶縁層128と絶縁層130の積層構造としている
が、開示する発明の一態様はこれに限定されない。1層としても良いし、3層以上の積層
構造としても良い。
7(C)参照)。このようなトランジスタ160は、高速動作が可能であるという特徴を
有する。このため、当該トランジスタを読み出し用のトランジスタとして用いることで、
情報の読み出しを高速に行うことができる。
や絶縁層130にCMP処理を施して、ゲート電極110および電極126の上面を露出
させる(図7(D)参照)。ゲート電極110および電極126の上面を露出させる処理
としては、CMP処理の他にエッチング処理などを適用することも可能である(エッチン
グ処理などはCMP処理と組み合わせても良い)。なお、トランジスタ162の特性を向
上させるために、絶縁層128や絶縁層130の表面は可能な限り平坦にしておくことが
望ましい。
程を含んでいても良い。例えば、配線の構造として、絶縁層および導電層の積層構造でな
る多層配線構造を採用して、高度に集積化した半導体装置を実現することも可能である。
次に、ゲート電極110、電極126、絶縁層128、絶縁層130などの上に導電層を
形成し、該導電層を選択的にエッチングして、ソース電極またはドレイン電極142a、
ソース電極またはドレイン電極142bを形成する(図8(A)参照)。
いて形成することができる。また、導電層の材料としては、アルミニウム、クロム、銅、
タンタル、チタン、モリブデン、タングステンから選ばれた元素や、上述した元素を成分
とする合金等を用いることができる。マンガン、マグネシウム、ジルコニウム、ベリリウ
ム、ネオジム、スカンジウムのいずれか、またはこれらを複数組み合わせた材料を用いて
もよい。
ン膜や窒化チタン膜の単層構造、シリコンを含むアルミニウム膜の単層構造、アルミニウ
ム膜上にチタン膜が積層された2層構造、窒化チタン膜上にチタン膜が積層された2層構
造、チタン膜とアルミニウム膜とチタン膜とが積層された3層構造などが挙げられる。な
お、導電層を、チタン膜や窒化チタン膜の単層構造とする場合には、テーパー形状を有す
るソース電極またはドレイン電極142a、およびソース電極またはドレイン電極142
bへの加工が容易であるというメリットがある。
ては酸化インジウム(In2O3)、酸化スズ(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化
インジウム酸化スズ合金(In2O3―SnO2、ITOと略記する場合がある)、酸化
インジウム酸化亜鉛合金(In2O3―ZnO)、または、これらの金属酸化物材料にシ
リコン若しくは酸化シリコンを含有させたものを用いることができる。
ス電極またはドレイン電極142bの端部が、テーパー形状となるように行うことが好ま
しい。ここで、テーパー角は、例えば、30°以上60°以下であることが好ましい。ソ
ース電極またはドレイン電極142a、ソース電極またはドレイン電極142bの端部を
テーパー形状となるようにエッチングすることにより、後に形成されるゲート絶縁層14
6の被覆性を向上し、段切れを防止することができる。
よびソース電極またはドレイン電極142bの下端部の間隔によって決定される。なお、
チャネル長(L)が25nm未満のトランジスタを形成する場合に用いるマスク形成の露
光を行う際には、数nm以上数10nm以下と波長の短い超紫外線(Extreme U
ltraviolet)を用いるのが望ましい。超紫外線による露光は、解像度が高く焦
点深度も大きい。従って、後に形成されるトランジスタのチャネル長(L)を、10nm
以上1000nm(1μm)以下とすることも可能であり、回路の動作速度を高めること
が可能である。また、微細化によって、半導体装置の消費電力を低減することも可能であ
る。
。当該絶縁層は、PVD法やCVD法などを用いて形成することができる。
はドレイン電極142bの上に絶縁層143bを、それぞれ形成する(図8(B)参照)
。絶縁層143aおよび絶縁層143bは、ソース電極またはドレイン電極142aや、
ソース電極またはドレイン電極142bを覆う絶縁層を形成した後、当該絶縁層を選択的
にエッチングすることにより形成できる。また、絶縁層143aおよび絶縁層143bは
、後に形成されるゲート電極の一部と重畳するように形成する。このような絶縁層を設け
ることにより、ゲート電極と、ソース電極またはドレイン電極との間の容量を低減するこ
とが可能である。
化アルミニウム等の無機絶縁材料を含む材料を用いて形成することができる。特に、絶縁
層143aや絶縁層143bに誘電率の低い(low−k)材料を用いることで、ゲート
電極と、ソース電極またはドレイン電極との間の容量を十分に低減することが可能になる
ため好ましい。なお、絶縁層143aや絶縁層143bには、これらの材料を用いた多孔
性の絶縁層を適用しても良い。多孔性の絶縁層では、密度の高い絶縁層と比較して誘電率
が低下するため、ゲート電極と、ソース電極またはドレイン電極との間の容量をさらに低
減することが可能である。
では、絶縁層143aおよび絶縁層143bを形成するのが好適であるが、当該絶縁層を
設けない構成とすることも可能である。
42bを覆うように酸化物半導体層を形成した後、当該酸化物半導体層を選択的にエッチ
ングして酸化物半導体層144を形成する(図8(C)参照)。
属酸化物であるIn−Ga−Zn−O系、In−Sn−Zn−O系、In−Al−Zn−
O系、Sn−Ga−Zn−O系、Al−Ga−Zn−O系、Sn−Al−Zn−O系や、
二元系金属酸化物であるIn−Zn−O系、Sn−Zn−O系、Al−Zn−O系、Zn
−Mg−O系、Sn−Mg−O系、In−Mg−O系や、In−O系、Sn−O系、Zn
−O系などを用いて形成することができる。
フ電流を十分に小さくすることが可能であり、また、電界効果移動度も高いため、半導体
装置に用いる半導体材料としては好適である。
m(m>0)で表記されるものがある。また、Gaに代えてMを用い、InMO3(Zn
O)m(m>0)のように表記される酸化物半導体材料がある。ここで、Mは、ガリウム
(Ga)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、マンガン(Mn)、
コバルト(Co)などから選ばれた一の金属元素または複数の金属元素を示す。例えば、
Mとしては、Ga、GaおよびAl、GaおよびFe、GaおよびNi、GaおよびMn
、GaおよびCoなどを適用することができる。なお、上述の組成は結晶構造から導き出
されるものであり、あくまでも一例に過ぎないことを付記する。
1:x:y(xは0以上、yは0.5以上5以下)の組成比で表されるものを用いるのが
好適である。例えば、In2O3:Ga2O3:ZnO=1:1:2[mol数比]の組
成比を有するターゲットなどを用いることができる。また、In2O3:Ga2O3:Z
nO=1:1:1[mol数比]の組成比を有するターゲットや、In2O3:Ga2O
3:ZnO=1:1:4[mol数比]の組成比を有するターゲットや、In2O3:Z
nO=1:2[mol数比]の組成比を有するターゲットを用いることもできる。
物ターゲットを用いるスパッタ法により形成することとする。
さらに好ましくは99.9%以上である。相対密度の高い金属酸化物ターゲットを用いる
ことにより、緻密な構造の酸化物半導体層を形成することが可能である。
たは、希ガス(代表的にはアルゴン)と酸素との混合雰囲気とするのが好適である。具体
的には、例えば、水素、水、水酸基、水素化物などの不純物が、濃度1ppm以下(望ま
しくは濃度10ppb以下)にまで除去された高純度ガス雰囲気を用いるのが好適である
。
持し、被処理物の温度が100℃以上550℃未満、好ましくは200℃以上400℃以
下となるように被処理物を熱する。または、酸化物半導体層の形成の際の被処理物の温度
は、室温(15℃以上35℃以下)としてもよい。そして、処理室内の水分を除去しつつ
、水素や水などが除去されたスパッタガスを導入し、上記ターゲットを用いて酸化物半導
体層を形成する。被処理物を熱しながら酸化物半導体層を形成することにより、酸化物半
導体層に含まれる不純物を低減することができる。また、スパッタによる損傷を軽減する
ことができる。処理室内の水分を除去するためには、吸着型の真空ポンプを用いることが
好ましい。例えば、クライオポンプ、イオンポンプ、チタンサブリメーションポンプなど
を用いることができる。また、ターボポンプにコールドトラップを加えたものを用いても
よい。クライオポンプなどを用いて排気することで、処理室から水素や水などを除去する
ことができるため、酸化物半導体層中の不純物濃度を低減できる。
m、圧力が0.4Pa、直流(DC)電力が0.5kW、雰囲気が酸素(酸素100%)
雰囲気、またはアルゴン(アルゴン100%)雰囲気、または酸素とアルゴンの混合雰囲
気、といった条件を適用することができる。なお、パルス直流(DC)電源を用いると、
成膜時に発生する粉状物質(パーティクル、ゴミともいう)を低減でき、膜厚分布も均一
となるため好ましい。酸化物半導体層の厚さは、1nm以上50nm以下、好ましくは1
nm以上30nm以下、より好ましくは1nm以上10nm以下とする。このような厚さ
の酸化物半導体層を用いることで、微細化に伴う短チャネル効果を抑制することが可能で
ある。ただし、適用する酸化物半導体材料や、半導体装置の用途などにより適切な厚さは
異なるから、その厚さは、用いる材料や用途などに応じて選択することもできる。
ズマを発生させる逆スパッタを行い、形成表面(例えば絶縁層130の表面)の付着物を
除去するのが好適である。ここで、逆スパッタとは、通常のスパッタにおいては、スパッ
タターゲットにイオンを衝突させるところを、逆に、基板の処理表面にイオンを衝突させ
ることによってその表面を改質する方法のことをいう。処理表面にイオンを衝突させる方
法としては、アルゴン雰囲気下で処理表面側に高周波電圧を印加して、被処理物付近にプ
ラズマを生成する方法などがある。なお、アルゴン雰囲気に代えて窒素、ヘリウム、酸素
などによる雰囲気を適用してもよい。
第1の熱処理によって酸化物半導体層中の、過剰な水素(水や水酸基を含む)を除去し、
酸化物半導体層の構造を整え、エネルギーギャップ中の欠陥準位を低減することができる
。第1の熱処理の温度は、例えば、300℃以上550℃未満、または400℃以上50
0℃以下とする。
450℃、1時間の条件で行うことができる。この間、酸化物半導体層は大気に触れさせ
ず、水や水素の混入が生じないようにする。
によって、被処理物を加熱する装置を用いても良い。例えば、GRTA(Gas Rap
id Thermal Anneal)装置、LRTA(Lamp Rapid The
rmal Anneal)装置等のRTA(Rapid Thermal Anneal
)装置を用いることができる。LRTA装置は、ハロゲンランプ、メタルハライドランプ
、キセノンアークランプ、カーボンアークランプ、高圧ナトリウムランプ、高圧水銀ラン
プなどのランプから発する光(電磁波)の輻射により、被処理物を加熱する装置である。
GRTA装置は、高温のガスを用いて熱処理を行う装置である。ガスとしては、アルゴン
などの希ガス、または窒素のような、熱処理によって被処理物と反応しない不活性気体が
用いられる。
間熱した後、当該不活性ガス雰囲気から被処理物を取り出すGRTA処理を行ってもよい
。GRTA処理を用いると短時間での高温熱処理が可能となる。また、被処理物の耐熱温
度を超える温度条件であっても適用が可能となる。なお、処理中に、不活性ガスを、酸素
を含むガスに切り替えても良い。酸素を含む雰囲気において第1の熱処理を行うことで、
酸素欠損に起因するエネルギーギャップ中の欠陥準位を低減することができるためである
。
)を主成分とする雰囲気であって、水、水素などが含まれない雰囲気を適用するのが望ま
しい。例えば、熱処理装置に導入する窒素や、ヘリウム、ネオン、アルゴン等の希ガスの
純度を、6N(99.9999%)以上、好ましくは7N(99.99999%)以上(
すなわち、不純物濃度が1ppm以下、好ましくは0.1ppm以下)とする。
に限りなく近い酸化物半導体層を形成することで、極めて優れた特性のトランジスタを実
現することができる。
当該熱処理を、脱水化処理や、脱水素化処理などと呼ぶこともできる。当該脱水化処理や
、脱水素化処理は、酸化物半導体層の形成後やゲート絶縁層の形成後、ゲート電極の形成
後、などのタイミングにおいて行うことも可能である。また、このような脱水化処理、脱
水素化処理は、一回に限らず複数回行っても良い。
て行っても良い。また、素子の微細化という観点からはドライエッチングを用いるのが好
適であるが、ウェットエッチングを用いても良い。エッチングガスやエッチング液につい
ては被エッチング材料に応じて適宜選択することができる。なお、素子におけるリークな
どが問題とならない場合には、酸化物半導体層を島状に加工しないで用いても良い。
層146上において酸化物半導体層144と重畳する領域にゲート電極148aを形成し
、ソース電極またはドレイン電極142aと重畳する領域に電極148bを形成する(図
8(D)参照)。
ゲート絶縁層146は、酸化シリコン、窒化シリコン、酸窒化シリコン、酸化アルミニウ
ム、酸化タンタル、酸化ハフニウム、酸化イットリウム、ハフニウムシリケート(HfS
ixOy(x>0、y>0))、窒素が添加されたハフニウムシリケート(HfSixO
y(x>0、y>0))、窒素が添加されたハフニウムアルミネート(HfAlxOy(
x>0、y>0))、などを含むように形成するのが好適である。ゲート絶縁層146は
、単層構造としても良いし、積層構造としても良い。また、その厚さは特に限定されない
が、半導体装置を微細化する場合には、トランジスタの動作を確保するために薄くするの
が望ましい。例えば、酸化シリコンを用いる場合には、1nm以上100nm以下、好ま
しくは10nm以上50nm以下とすることができる。
問題となる。ゲートリークの問題を解消するには、ゲート絶縁層146に、酸化ハフニウ
ム、酸化タンタル、酸化イットリウム、ハフニウムシリケート(HfSixOy(x>0
、y>0))、窒素が添加されたハフニウムシリケート(HfSixOy(x>0、y>
0))、窒素が添加されたハフニウムアルミネート(HfAlxOy(x>0、y>0)
)、などの高誘電率(high−k)材料を用いると良い。high−k材料をゲート絶
縁層146に用いることで、電気的特性を確保しつつ、ゲートリークを抑制するために膜
厚を大きくすることが可能になる。なお、high−k材料を含む膜と、酸化シリコン、
窒化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化酸化シリコン、酸化アルミニウムなどのいずれか
を含む膜との積層構造としてもよい。
処理を行うのが望ましい。熱処理の温度は、200℃以上450℃以下、望ましくは25
0℃以上350℃以下である。例えば、窒素雰囲気下で250℃、1時間の熱処理を行え
ばよい。第2の熱処理を行うことによって、トランジスタの電気的特性のばらつきを軽減
することができる。また、ゲート絶縁層146が酸素を含む場合、酸化物半導体層144
に酸素を供給し、該酸化物半導体層144の酸素欠損を補填して、i型(真性半導体)ま
たはi型に限りなく近い酸化物半導体層を形成することもできる。
第2の熱処理のタイミングはこれに限定されない。例えば、ゲート電極の形成後に第2の
熱処理を行っても良い。また、第1の熱処理に続けて第2の熱処理を行っても良いし、第
1の熱処理に第2の熱処理を兼ねさせても良いし、第2の熱処理に第1の熱処理を兼ねさ
せても良い。
半導体層144を、その主成分以外の不純物が極力含まれないように高純度化することが
できる。
に、当該導電層を選択的にエッチングすることによって形成することができる。ゲート電
極148aおよび電極148bとなる導電層は、スパッタ法をはじめとするPVD法や、
プラズマCVD法などのCVD法を用いて形成することができる。詳細は、ソース電極ま
たはドレイン電極142aなどの場合と同様であり、これらの記載を参酌できる。
0および絶縁層152を形成する(図9(A)参照)。絶縁層150および絶縁層152
は、PVD法やCVD法などを用いて形成することができる。また、酸化シリコン、酸窒
化シリコン、窒化シリコン、酸化ハフニウム、酸化アルミニウム等の無機絶縁材料を含む
材料を用いて形成することができる。
性の構造など)を用いることが望ましい。絶縁層150や絶縁層152の誘電率を低くす
ることにより、配線や電極などの間に生じる容量を低減し、動作の高速化を図ることがで
きるためである。
る発明の一態様はこれに限定されない。1層としても良いし、3層以上の積層構造として
も良い。また、絶縁層を設けない構成とすることも可能である。
が平坦になるように絶縁層152を形成することで、半導体装置を微細化した場合などに
おいても、絶縁層152上に、電極や配線などを好適に形成することができるためである
。なお、絶縁層152の平坦化は、CMP(化学的機械的研磨)などの方法を用いて行う
ことができる。
電極142bにまで達する開口を形成する(図9(B)参照)。当該開口の形成は、マス
クなどを用いた選択的なエッチングにより行われる。
な領域に開口を形成することで、電極のコンタクト領域に起因する素子面積の増大を抑制
することができる。つまり、半導体装置の集積度を高めることができる。
6を形成する(図9(C)参照)。
した後、エッチング処理やCMPといった方法を用いて、上記導電層の一部を除去するこ
とにより形成することができる。
D法により窒化チタン膜を薄く形成した後に、開口に埋め込むようにタングステン膜を形
成する方法を適用することができる。ここで、PVD法により形成されるチタン膜は、被
形成面の酸化膜(自然酸化膜など)を還元し、下部電極など(ここではソース電極または
ドレイン電極142b)との接触抵抗を低減させる機能を有する。また、その後に形成さ
れる窒化チタン膜は、導電性材料の拡散を抑制するバリア機能を備える。また、チタンや
窒化チタンなどによるバリア膜を形成した後に、メッキ法により銅膜を形成してもよい。
坦になるように加工することが望ましい。例えば、開口を含む領域にチタン膜や窒化チタ
ン膜を薄く形成した後に、開口に埋め込むようにタングステン膜を形成する場合には、そ
の後のCMP処理によって、不要なタングステン膜、チタン膜、窒化チタン膜などを除去
すると共に、電極154の表面の平坦性を向上させることができる。また、このような平
坦性を向上させる処理によって、電極154の表面を含む表面全体を平坦化することがで
きる。このように、電極154を含む表面全体を平坦化することにより、後の工程におい
て、良好な電極、配線、絶縁層、半導体層などを形成することが可能となる。
を用いて導電層を形成した後、当該導電層をパターニングすることによって形成される。
また、導電層の材料としては、アルミニウム、クロム、銅、タンタル、チタン、モリブデ
ン、タングステンから選ばれた元素や、上述した元素を成分とする合金等を用いることが
できる。マンガン、マグネシウム、ジルコニウム、ベリリウム、ネオジム、スカンジウム
のいずれか、またはこれらを複数組み合わせた材料を用いてもよい。詳細は、ソース電極
またはドレイン電極142aなどと同様である。
容量素子164が完成する(図9(C)参照)。
れているため、その水素濃度は、5×1019atoms/cm3以下、望ましくは5×
1018atoms/cm3以下、より望ましくは5×1017atoms/cm3以下
である。また、酸化物半導体層144のキャリア密度は、一般的なシリコンウェハにおけ
るキャリア密度(1×1014/cm3程度)と比較して、十分に小さい値(例えば、1
×1012/cm3未満、より好ましくは、1.45×1010/cm3未満)をとる。
そして、オフ電流も十分に小さくなる。例えば、トランジスタ162の室温(25℃)で
のオフ電流(ここでは、単位チャネル幅(1μm)あたりの値)は100zA(1zA(
ゼプトアンペア)は1×10−21A)以下、望ましくは10zA以下となる。
スタのオフ電流を十分に低減することが容易になる。そして、このようなトランジスタを
用いることで、極めて長期にわたり記憶内容を保持することが可能な半導体装置が得られ
る。
域に起因する素子面積の増大を抑制し、より一層の高集積化が実現される。また、本実施
の形態において示す半導体装置では、配線を共通化することも可能であり、集積度が十分
に高められた半導体装置を実現することができる。
宜組み合わせて用いることができる。
本実施の形態では、上述の実施の形態で説明した半導体装置を電子機器に適用する場合に
ついて、図10を用いて説明する。本実施の形態では、コンピュータ、携帯電話機(携帯
電話、携帯電話装置ともいう)、携帯情報端末(携帯型ゲーム機、音響再生装置なども含
む)、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、電子ペーパー、テレビジョン装置(テレ
ビ、またはテレビジョン受信機ともいう)などの電子機器に、上述の半導体装置を適用す
る場合について説明する。
表示部703、キーボード704などによって構成されている。筐体701と筐体702
の少なくとも一には、先の実施の形態に示す半導体装置が設けられている。そのため、情
報の書き込みおよび読み出しが高速で、長期間の記憶保持が可能で、且つ消費電力が十分
に低減されたノート型のパーソナルコンピュータが実現される。
部インターフェイス715と、操作ボタン714等が設けられている。また、携帯情報端
末を操作するスタイラス712などを備えている。本体711内には、先の実施の形態に
示す半導体装置が設けられている。そのため、情報の書き込みおよび読み出しが高速で、
長期間の記憶保持が可能で、且つ消費電力が十分に低減された携帯情報端末が実現される
。
3の2つの筐体で構成されている。筐体721および筐体723には、それぞれ表示部7
25および表示部727が設けられている。筐体721と筐体723は、軸部737によ
り接続されており、該軸部737を軸として開閉動作を行うことができる。また、筐体7
21は、電源731、操作キー733、スピーカー735などを備えている。筐体721
、筐体723の少なくとも一には、先の実施の形態に示す半導体装置が設けられている。
そのため、情報の書き込みおよび読み出しが高速で、長期間の記憶保持が可能で、且つ消
費電力が十分に低減された電子書籍が実現される。
いる。さらに、筐体740と筐体741は、スライドし、図10(D)のように展開して
いる状態から重なり合った状態とすることができ、携帯に適した小型化が可能である。ま
た、筐体741は、表示パネル742、スピーカー743、マイクロフォン744、操作
キー745、ポインティングデバイス746、カメラ用レンズ747、外部接続端子74
8などを備えている。また、筐体740は、携帯電話機の充電を行う太陽電池セル749
、外部メモリスロット750などを備えている。また、アンテナは、筐体741に内蔵さ
れている。筐体740と筐体741の少なくとも一には、先の実施の形態に示す半導体装
置が設けられている。そのため、情報の書き込みおよび読み出しが高速で、長期間の記憶
保持が可能で、且つ消費電力が十分に低減された携帯電話機が実現される。
作スイッチ764、表示部765、バッテリー766などによって構成されている。本体
761内には、先の実施の形態に示す半導体装置が設けられている。そのため、情報の書
き込みおよび読み出しが高速で、長期間の記憶保持が可能で、且つ消費電力が十分に低減
されたデジタルカメラが実現される。
775などで構成されている。テレビジョン装置770の操作は、筐体771が備えるス
イッチや、リモコン操作機780により行うことができる。筐体771およびリモコン操
作機780には、先の実施の形態に示す半導体装置が搭載されている。そのため、情報の
書き込みおよび読み出しが高速で、長期間の記憶保持が可能で、且つ消費電力が十分に低
減されたテレビジョン装置が実現される。
載されている。このため、消費電力を低減した電子機器が実現される。
果について説明する。
を考慮して、チャネル幅Wが1mと十分に大きいトランジスタを用意してオフ電流の測定
を行った。チャネル幅Wが1mのトランジスタのオフ電流を測定した結果を図11に示す
。図11において、横軸はゲート電圧VG、縦軸はドレイン電流IDである。ドレイン電
圧VDが+1Vまたは+10Vの場合、ゲート電圧VGが−5Vから−20Vの範囲では
、トランジスタのオフ電流は、検出限界である1×10−12A以下であることがわかっ
た。また、トランジスタのオフ電流(ここでは、単位チャネル幅(1μm)あたりの値)
は1aA/μm(1×10−18A/μm)以下となることがわかった。
た結果について説明する。上述したように、高純度化された酸化物半導体を用いたトラン
ジスタのオフ電流は、測定器の検出限界である1×10−12A以下であることがわかっ
た。そこで、特性評価用素子を作製し、より正確なオフ電流の値(上記測定における測定
器の検出限界以下の値)を求めた結果について説明する。
0は、容量素子802、トランジスタ804、トランジスタ805、トランジスタ806
、トランジスタ808を有する。トランジスタ804、トランジスタ808には、高純度
化された酸化物半導体を用いたトランジスタを適用した。
容量素子802の端子の一方と、トランジスタ805のソース端子およびドレイン端子の
一方は、電源(V2を与える電源)に接続されている。また、トランジスタ804のソー
ス端子およびドレイン端子の他方と、トランジスタ808のソース端子およびドレイン端
子の一方と、容量素子802の端子の他方と、トランジスタ805のゲート端子とは、接
続されている。また、トランジスタ808のソース端子およびドレイン端子の他方と、ト
ランジスタ806のソース端子およびドレイン端子の一方と、トランジスタ806のゲー
ト端子は、電源(V1を与える電源)に接続されている。また、トランジスタ805のソ
ース端子およびドレイン端子の他方と、トランジスタ806のソース端子およびドレイン
端子の他方とは、接続され、出力端子となっている。
態を制御する電位Vext_b2が供給され、トランジスタ808のゲート端子には、ト
ランジスタ808のオン状態と、オフ状態を制御する電位Vext_b1が供給される。
また、出力端子からは電位Voutが出力される。
初期化期間においては、トランジスタ808のゲート端子に、トランジスタ808をオン
状態とする電位Vext_b1を入力して、トランジスタ804のソース端子またはドレ
イン端子の他方と接続されるノード(つまり、トランジスタ808のソース端子およびド
レイン端子の一方、容量素子802の端子の他方、およびトランジスタ805のゲート端
子に接続されるノード)であるノードAに電位V1を与える。ここで、電位V1は、例え
ば高電位とする。また、トランジスタ804はオフ状態としておく。
Vext_b1を入力して、トランジスタ808をオフ状態とする。トランジスタ808
をオフ状態とした後に、電位V1を低電位とする。ここでも、トランジスタ804はオフ
状態としておく。また、電位V2は電位V1と同じ電位とする。以上により、初期化期間
が終了する。初期化期間が終了した状態では、ノードAとトランジスタ804のソース電
極及びドレイン電極の一方との間に電位差が生じ、また、ノードAとトランジスタ808
のソース電極及びドレイン電極の他方との間に電位差が生じることになるため、トランジ
スタ804およびトランジスタ808には僅かに電荷が流れる。つまり、オフ電流が発生
する。
804のソース端子またはドレイン端子の一方の端子の電位(つまりV2)、および、ト
ランジスタ808のソース端子またはドレイン端子の他方の端子の電位(つまりV1)は
低電位に固定しておく。一方で、測定期間中は、上記ノードAの電位は固定しない(フロ
ーティング状態とする)。これにより、トランジスタ804に電荷が流れ、時間の経過と
共にノードAに保持される電荷量が変動する。そして、ノードAに保持される電荷量の変
動に伴って、ノードAの電位が変動する。つまり、出力端子の出力電位Voutも変動す
る。
細(タイミングチャート)を図13に示す。
るような電位(高電位)とする。これによって、ノードAの電位はV2すなわち低電位(
VSS)となる。なお、ノードAに低電位(VSS)を与えるのは必須ではない。その後
、電位Vext_b2を、トランジスタ804がオフ状態となるような電位(低電位)と
して、トランジスタ804をオフ状態とする。そして、次に、電位Vext_b1を、ト
ランジスタ808がオン状態となるような電位(高電位)とする。これによって、ノード
Aの電位はV1、すなわち高電位(VDD)となる。その後、電位Vext_b1を、ト
ランジスタ808がオフ状態となるような電位とする。これによって、ノードAがフロー
ティング状態となり、初期化期間が終了する。
またはノードAから電荷が流れ出すような電位とする。ここでは、電位V1および電位V
2を低電位(VSS)とする。ただし、出力電位Voutを測定するタイミングにおいて
は、出力回路を動作させる必要が生じるため、一時的にV1を高電位(VDD)とするこ
とがある。なお、V1を高電位(VDD)とする期間は、測定に影響を与えない程度の短
期間とする。
保持される電荷量が変動し、これに従ってノードAの電位が変動する。これは、トランジ
スタ805のゲート端子の電位が変動することを意味するから、時間の経過と共に、出力
端子の出力電位Voutの電位も変化することとなる。
おく。これにより、出力電位VoutからノードAの電位VAを求めることができる。上
述の関係から、ノードAの電位VAは、出力電位Voutの関数として次式のように表す
ことができる。
数(const)を用いて、次式のように表される。ここで、ノードAに接続される容量
CAは、容量素子802の容量と他の容量の和である。
時間微分であるから、ノードAの電流IAは次式のように表される。
ドAの電流IAを求めることができる。
ーク電流(オフ電流)を測定することができる。
物半導体を用いてトランジスタ804、トランジスタ805、トランジスタ806、トラ
ンジスタ808を作製した。また、並列された各測定系800において、容量素子802
の各容量値を、100fF、1pF、3pFとした。
おいては、電位V1を原則としてVSSとし、10secから300secの範囲内ごと
に、100msecの期間だけVDDとしてVoutを測定した。また、素子に流れる電
流Iの算出に用いられるΔtは、約30000secとした。
図14より、時間の経過にしたがって、電位が変化している様子が確認できる。
なお、図15は、ソース−ドレイン電圧Vと、オフ電流Iとの関係を表すものである。図
15から、ソース−ドレイン電圧が4Vの条件において、オフ電流は約40zA/μmで
あることが分かった。また、ソース−ドレイン電圧が3.1Vの条件において、オフ電流
は10zA/μm以下であることが分かった。なお、1zAは10−21Aを表す。
図16に示す。図16は、85℃の温度環境下におけるソース−ドレイン電圧Vと、オフ
電流Iとの関係を表すものである。図16から、ソース−ドレイン電圧が3.1Vの条件
において、オフ電流は100zA/μm以下であることが分かった。
流が十分に小さくなることが確認された。
では、当該調査結果につき、図17を参照して説明する。
、トランジスタ162に相当するトランジスタには酸化物半導体を用い、容量素子164
に相当する容量素子としては、0.33pFの容量値のものを用いた。
返した後のメモリウィンドウ幅とを比較することにより行った。情報の保持および情報の
書き込みは、図1(A−1)における第3の配線に相当する配線に0V、または5Vのい
ずれかを与え、第4の配線に相当する配線に、0V、または5Vのいずれかを与えること
により行った。第4の配線に相当する配線の電位が0Vの場合には、トランジスタ162
に相当するトランジスタ(書き込み用トランジスタ)はオフ状態であるから、ノードFG
に与えられた電位が保持される。第4の配線に相当する配線の電位が5Vの場合には、ト
ランジスタ162に相当するトランジスタはオン状態であるから、第3の配線に相当する
配線の電位がノードFGに与えられる。
状態の間での、第5の配線に相当する配線の電位Vcgと、トランジスタ160に相当す
るトランジスタ(読み出し用トランジスタ)のドレイン電流IDとの関係を示す曲線(V
cg−ID曲線)の、シフト量ΔVcgをいうものとする。異なる記憶状態とは、ノード
FGに0Vが与えられた状態(以下、Low状態という)と、ノードFGに5Vが与えら
れた状態(以下、High状態という)をいう。つまり、メモリウィンドウ幅は、Low
状態とHigh状態において、電位Vcgの掃引を行うことで確認できる。
のメモリウィンドウ幅の調査結果を示す。なお、図17において、横軸はVcg(V)を
示し、縦軸はID(A)を示す。図17から、1×109回の書き込み前後において、メ
モリウィンドウ幅が変化していないことが確認できる。1×109回の書き込み前後にお
いてメモリウィンドウ幅が変化しないということは、少なくともこの間は、半導体装置が
劣化しないことを示すものである。
回もの多数回繰り返しても特性が変化せず、書き換え耐性が極めて高い。つまり、開示す
る発明の一態様によって、極めて信頼性の高い半導体装置が実現されるといえる。
102 保護層
104 半導体領域
106 素子分離絶縁層
108 ゲート絶縁層
110 ゲート電極
116 チャネル形成領域
120 不純物領域
122 金属層
124 金属化合物領域
126 電極
128 絶縁層
130 絶縁層
142a ソース電極またはドレイン電極
142b ソース電極またはドレイン電極
144 酸化物半導体層
143a 絶縁層
143b 絶縁層
146 ゲート絶縁層
148a ゲート電極
148b 電極
150 絶縁層
152 絶縁層
154 電極
156 配線
160 トランジスタ
162 トランジスタ
164 容量素子
170 メモリセル
180 マルチプレクサ
182 マルチプレクサ
190 第1の駆動回路
192 第2の駆動回路
701 筐体
702 筐体
703 表示部
704 キーボード
711 本体
712 スタイラス
713 表示部
714 操作ボタン
715 外部インターフェイス
720 電子書籍
721 筐体
723 筐体
725 表示部
727 表示部
731 電源
733 操作キー
735 スピーカー
737 軸部
740 筐体
741 筐体
742 表示パネル
743 スピーカー
744 マイクロフォン
745 操作キー
746 ポインティングデバイス
747 カメラ用レンズ
748 外部接続端子
749 太陽電池セル
750 外部メモリスロット
761 本体
763 接眼部
764 操作スイッチ
765 表示部
766 バッテリー
767 表示部
770 テレビジョン装置
771 筐体
773 表示部
775 スタンド
780 リモコン操作機
800 測定系
802 容量素子
804 トランジスタ
805 トランジスタ
806 トランジスタ
808 トランジスタ
Claims (1)
- ビット線と、ソース線と、電位切り替え回路と、メモリセルと、を有し、
前記メモリセルは、
第1のゲート電極、第1のソース電極、第1のドレイン電極、及び第1のチャネル形成領域を含む第1のトランジスタと、
第2のゲート電極、第2のソース電極、第2のドレイン電極、及び第2のチャネル形成領域を含む第2のトランジスタと、
容量素子と、を有し、
前記第1のチャネル形成領域は、前記第2のチャネル形成領域とは、異なる半導体材料を含んで構成され、
前記第1のゲート電極と、前記第2のドレイン電極と、前記容量素子の電極の一方と、は電気的に接続されて電荷が保持されるノードを構成し、
前記ソース線と、前記電位切り替え回路の端子の一と、前記第1のソース電極とは、電気的に接続され、
前記ビット線と、前記第2のソース電極と、前記第1のドレイン電極と、は電気的に接続され、
前記電位切り替え回路は、前記ビット線の電位と等しい電位または前記ビット線の電位と異なる電位を前記ソース線に選択的に与える機能を備えた半導体装置。
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