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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2988520B1 (fr) * 2012-03-23 2014-03-14 Arkema France Utilisation d'une structure multicouche a base de polymere halogene comme feuille de protection de module photovoltaique
FR2997763B1 (fr) 2012-11-06 2015-01-16 Commissariat Energie Atomique Dispositif et procede d'estimation d'un flux de gaz dans une enceinte maintenue en depression vis-a-vis du gaz
US11114332B2 (en) * 2016-03-07 2021-09-07 Globalwafers Co., Ltd. Semiconductor on insulator structure comprising a plasma nitride layer and method of manufacture thereof
KR102639596B1 (ko) * 2017-09-11 2024-02-23 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 절연막의 성막 방법, 기판 처리 장치 및 기판 처리 시스템
CN109821485B (zh) * 2019-04-11 2021-12-10 湖北科技学院 用于动力锂电池热调控的相变储热胶囊的制备方法

Family Cites Families (67)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5051308A (en) * 1987-08-24 1991-09-24 General Electric Company Abrasion-resistant plastic articles
US5472827A (en) * 1991-12-30 1995-12-05 Sony Corporation Method of forming a resist pattern using an anti-reflective layer
JP2526766B2 (ja) * 1992-06-15 1996-08-21 東洋製罐株式会社 ガス遮断性積層プラスチックス材
JPH0792337A (ja) * 1993-09-27 1995-04-07 Hitachi Cable Ltd ポリマコア光導波路およびその製造方法
JPH07206410A (ja) * 1994-01-17 1995-08-08 Toshiba Corp シリコン窒化膜の形成方法
US5508368A (en) * 1994-03-03 1996-04-16 Diamonex, Incorporated Ion beam process for deposition of highly abrasion-resistant coatings
US5846649A (en) * 1994-03-03 1998-12-08 Monsanto Company Highly durable and abrasion-resistant dielectric coatings for lenses
JP3414107B2 (ja) 1995-02-20 2003-06-09 株式会社日立製作所 半導体装置の製造方法
US6379014B1 (en) * 2000-04-27 2002-04-30 N & K Technology, Inc. Graded anti-reflective coatings for photolithography
JP5291275B2 (ja) * 2000-07-27 2013-09-18 有限会社コンタミネーション・コントロール・サービス コーティング膜が施された部材及びコーティング膜の製造方法
US6614977B2 (en) * 2001-07-12 2003-09-02 Little Optics, Inc. Use of deuterated gases for the vapor deposition of thin films for low-loss optical devices and waveguides
EP1329946A3 (en) * 2001-12-11 2005-04-06 Sel Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Manufacturing method of semiconductor device including a laser crystallization step
JP4097947B2 (ja) * 2002-01-24 2008-06-11 住友ベークライト株式会社 透明水蒸気バリアフィルム
CN1195315C (zh) 2002-03-15 2005-03-30 台湾积体电路制造股份有限公司 多层式电介质抗反射层及其形成方法
US20030203210A1 (en) 2002-04-30 2003-10-30 Vitex Systems, Inc. Barrier coatings and methods of making same
US20070147766A1 (en) * 2003-11-12 2007-06-28 Mattsson Kent E Low loss silicon oxynitride optical waveguide, a method of its manufacture and an optical device
EP1792726A4 (en) * 2004-09-21 2008-12-31 Konica Minolta Holdings Inc Transparent gas barrier film
JP2006133525A (ja) * 2004-11-05 2006-05-25 Canon Inc 電子写真感光体及びこれを用いた電子写真装置
US8277929B2 (en) * 2004-12-17 2012-10-02 The University Of Tokushima Method for modifying surface of substrate, substrate having modified surface, and method for producing same
EP1847384B1 (en) * 2005-02-01 2013-07-03 Mitsui Chemicals, Inc. Method for joining members, composite film and use thereof
US20090029056A1 (en) * 2005-04-11 2009-01-29 Manfred Hoffmann Method for Improving the Barrier Characteristics of Ceramic Barrier Layers
JP4698310B2 (ja) * 2005-07-11 2011-06-08 富士フイルム株式会社 ガスバリア性フィルム、基材フィルムおよび有機エレクトロルミネッセンス素子
DE102005034817A1 (de) * 2005-07-26 2007-02-01 Clariant International Limited Verfahren zur Herstellung einer dünnen glasartigen Beschichtung auf Substraten zur Verringerung der Gaspermeation
JPWO2007018144A1 (ja) * 2005-08-10 2009-02-19 株式会社シンク・ラボラトリー ドクターブレード
JP2007237588A (ja) * 2006-03-09 2007-09-20 Kyodo Printing Co Ltd ガスバリア性フィルム及びその製造方法
US8586189B2 (en) * 2007-09-19 2013-11-19 Fujifilm Corporation Gas-barrier film and organic device comprising same
TWI493609B (zh) * 2007-10-23 2015-07-21 半導體能源研究所股份有限公司 半導體基板、顯示面板及顯示裝置的製造方法
JP2009133000A (ja) * 2007-10-30 2009-06-18 Fujifilm Corp シリコン窒化物膜及びそれを用いたガスバリア膜、薄膜素子
JP5405031B2 (ja) * 2008-03-06 2014-02-05 ＡｚエレクトロニックマテリアルズＩｐ株式会社 シリカ質膜の製造に用いる浸漬用溶液およびそれを用いたシリカ質膜の製造法
JP2009255040A (ja) * 2008-03-25 2009-11-05 Kyodo Printing Co Ltd フレキシブルガスバリアフィルムおよびその製造方法
JP5305476B2 (ja) * 2008-08-29 2013-10-02 独立行政法人産業技術総合研究所 酸化ケイ素薄膜または酸窒化ケイ素化合物薄膜の製造方法およびこの方法で得られる薄膜
KR101040175B1 (ko) * 2008-12-11 2011-06-16 한국전자통신연구원 연성 기판 및 그의 제조 방법
CN102356122B (zh) * 2009-03-17 2014-04-02 琳得科株式会社 成形体、其制造方法、电子设备用构件和电子设备
DE102009013904A1 (de) * 2009-03-19 2010-09-23 Clariant International Limited Solarzellen mit einer Verkapselungsschicht auf Basis von Polysilazan
US20120107607A1 (en) * 2009-07-17 2012-05-03 Mitsui Chemicals, Inc. Multilayered material and method of producing the same
JP2011044453A (ja) * 2009-08-19 2011-03-03 Konica Minolta Holdings Inc 太陽電池用バックシート及び太陽電池モジュール
JP5585267B2 (ja) * 2009-08-26 2014-09-10 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、その製造方法、及びそれを用いた有機光電変換素子
JP5410207B2 (ja) * 2009-09-04 2014-02-05 ＡｚエレクトロニックマテリアルズＩｐ株式会社 シリカ質膜製造方法およびそれに用いるポリシラザン塗膜処理液
FR2949775B1 (fr) * 2009-09-10 2013-08-09 Saint Gobain Performance Plast Substrat de protection pour dispositif collecteur ou emetteur de rayonnement
JP5394867B2 (ja) * 2009-09-17 2014-01-22 富士フイルム株式会社 ガスバリア膜およびガスバリアフィルム
JP5609885B2 (ja) * 2009-10-05 2014-10-22 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、該ガスバリア性フィルムを有する有機光電変換素子及び該有機光電変換素子を有する太陽電池
WO2011062100A1 (ja) * 2009-11-19 2011-05-26 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリア性フィルム、その製造方法、それを用いた有機光電変換素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子
JP5736644B2 (ja) * 2009-12-11 2015-06-17 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、その製造方法及びそれを用いた有機光電変換素子
FR2953990B1 (fr) 2009-12-14 2013-01-11 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'encapsulation a etancheite amelioree
WO2011074440A1 (ja) * 2009-12-14 2011-06-23 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリアフィルム、ガスバリアフィルムの製造方法及び有機光電変換素子
JP5381734B2 (ja) * 2010-01-14 2014-01-08 コニカミノルタ株式会社 バリア性フィルム及び有機電子デバイス
JP5445179B2 (ja) * 2010-02-01 2014-03-19 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、有機電子デバイス
JP5515847B2 (ja) * 2010-02-24 2014-06-11 コニカミノルタ株式会社 ガスバリアフィルムの製造方法
JP5447022B2 (ja) 2010-03-11 2014-03-19 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、その製造方法及びそのガスバリア性フィルムを用いた有機光電変換素子
JP2012004349A (ja) * 2010-06-17 2012-01-05 Az Electronic Materials Kk シリコンオキシナイトライド膜の形成方法およびそれにより製造されたシリコンオキシナイトライド膜付き基板
JP5540949B2 (ja) 2010-07-07 2014-07-02 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、及び有機光電変換素子、有機エレクトロルミネッセンス素子
WO2012008277A1 (ja) 2010-07-14 2012-01-19 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび有機光電変換素子
KR20120008360A (ko) * 2010-07-16 2012-01-30 삼성모바일디스플레이주식회사 플렉서블 디스플레이용 기판 및 그 제조 방법
EP2596874A4 (en) * 2010-07-22 2015-10-21 Konica Minolta Holdings Inc PROCESS FOR PRODUCING BARRIER FILM AGAINST GAS
EP2599621B1 (en) * 2010-07-27 2016-03-02 Konica Minolta Holdings, Inc. Gas barrier film, process for production of gas barrier film, and electronic device
JP5853954B2 (ja) * 2010-08-25 2016-02-09 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムの製造方法
TWI457235B (zh) * 2010-09-21 2014-10-21 Lintec Corp A gas barrier film, a manufacturing method thereof, an electronic device element, and an electronic device
JP5803937B2 (ja) * 2010-12-06 2015-11-04 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法及び電子デバイス
WO2012090665A1 (ja) * 2010-12-27 2012-07-05 コニカミノルタホールディングス株式会社 ガスバリアフィルムの製造方法、ガスバリアフィルムおよび電子デバイス
JP5761203B2 (ja) * 2010-12-27 2015-08-12 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム及び電子デバイス
US20140127630A1 (en) * 2011-06-22 2014-05-08 Az Electronic Materials Usa Corp. Silicon oxynitride film formation method and substrate equipped with silicon oxynitride film formed thereby
JP5888329B2 (ja) * 2011-06-27 2016-03-22 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム、ガスバリア性フィルムの製造方法、および電子デバイス
WO2013035432A1 (ja) * 2011-09-08 2013-03-14 リンテック株式会社 変性ポリシラザンフィルム、および、ガスバリアフィルムの製造方法
EP2783846A4 (en) * 2011-11-24 2015-09-02 Konica Minolta Inc GAS BARRIER LAYER AND ELECTRONIC DEVICE THEREFOR
JP5970197B2 (ja) * 2012-02-08 2016-08-17 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 無機ポリシラザン樹脂
JP6017256B2 (ja) * 2012-10-11 2016-10-26 メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 ケイ素質緻密膜の形成方法
US20140117511A1 (en) * 2012-10-30 2014-05-01 Infineon Technologies Ag Passivation Layer and Method of Making a Passivation Layer

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