CN111356583B - 阻挡膜 - Google Patents

阻挡膜 Download PDF

Info

Publication number
CN111356583B
CN111356583B CN201880073318.9A CN201880073318A CN111356583B CN 111356583 B CN111356583 B CN 111356583B CN 201880073318 A CN201880073318 A CN 201880073318A CN 111356583 B CN111356583 B CN 111356583B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
polysilazane
particles
barrier film
less
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201880073318.9A
Other languages
English (en)
Other versions
CN111356583A (zh
Inventor
丁喜俊
黄樯渊
朴宝拉
慎晟真
梁熙旺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Priority claimed from PCT/KR2018/014774 external-priority patent/WO2019107892A1/ko
Publication of CN111356583A publication Critical patent/CN111356583A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN111356583B publication Critical patent/CN111356583B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B3/00—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form
    • B32B3/26—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer
    • B32B3/30—Layered products comprising a layer with external or internal discontinuities or unevennesses, or a layer of non-planar form; Layered products having particular features of form characterised by a particular shape of the outline of the cross-section of a continuous layer; characterised by a layer with cavities or internal voids ; characterised by an apertured layer characterised by a layer formed with recesses or projections, e.g. hollows, grooves, protuberances, ribs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D7/00—Producing flat articles, e.g. films or sheets
    • B29D7/01—Films or sheets
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • B32B27/20—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives using fillers, pigments, thixotroping agents
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/60—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • C08G77/62—Nitrogen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/04—Coating
    • C08J7/048—Forming gas barrier coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/16—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2083/00—Use of polymers having silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only, in the main chain, as moulding material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2255/00—Coating on the layer surface
    • B32B2255/26—Polymeric coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2262/00—Composition or structural features of fibres which form a fibrous or filamentary layer or are present as additives
    • B32B2262/10—Inorganic fibres
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/724—Permeability to gases, adsorption
    • B32B2307/7242—Non-permeable
    • B32B2307/7246—Water vapor barrier
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
    • B32B2307/70—Other properties
    • B32B2307/726—Permeability to liquids, absorption
    • B32B2307/7265—Non-permeable
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00—Electrical equipment
    • B32B2457/20—Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • B32B2457/206—Organic displays, e.g. OLED
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/04—Interconnection of layers
    • B32B7/12—Interconnection of layers using interposed adhesives or interposed materials with bonding properties
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2367/00—Characterised by the use of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Derivatives of such polymers
    • C08J2367/02—Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2483/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
    • C08J2483/16—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers in which all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms

Abstract

本申请涉及阻挡膜。在本申请中，可以提供具有优异的对外部环境的阻挡特性和光学特性的阻挡膜。由本申请生产的阻挡膜可以用于对水分等敏感的电子产品。

Description

阻挡膜
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求基于于2017年11月28日提交的韩国专利申请第10-2017-0160879号和日期为2018年11月26日的韩国专利申请第10-2018-0146895号的优先权的权益，其公开内容通过引用整体并入本文。
技术领域
本申请涉及阻挡膜。
背景技术
对气体和/或水分具有阻挡特性的所谓的阻挡膜具有各种应用。例如，除了用于食品或药品等的包装材料的用途之外，所述膜还可以用于显示器(例如LCD(液晶显示器))、用于太阳能电池的构件、电子纸、用于OLED(有机发光二极管)的基底、或前述中包括的密封膜等。
根据具有阻挡特性的材料的种类，阻挡膜可以使用干法涂覆或湿法涂覆来制造。例如，当主要通过无机材料如金属向膜赋予阻挡特性时，阻挡膜可以通过干法涂覆例如物理气相沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)来生产。此外，当主要通过有机或有机/无机复合材料向膜赋予阻挡特性时，阻挡膜可以通过湿法涂覆来生产。在前者的情况下，具有使得薄膜密度可以均匀的优点，但是具有成本高的缺点。
另一方面，可以将辊对辊过程应用于阻挡膜制造过程。例如，在将其中基础层上施加有阻挡膜前体的膜通过辊对辊过程展开的同时，可以以使得前体固化的方式来制造阻挡膜。在这样的辊对辊过程中，辊与阻挡膜之间的摩擦可以引起膜的异常运转并使膜损坏，从而导致阻挡膜的物理特性(例如，对水分或空气的阻挡特性)劣化。
发明内容
技术问题
本申请的一个目的是提供具有优异的对外部环境的阻挡特性的阻挡膜。
本申请的另一个目的是使用辊对辊过程来改善阻挡膜的可加工性。
本申请的上述目的和其他目的都可以通过本申请来解决，下面详细描述本申请。
技术方案
在本申请的一个实例中，本申请涉及阻挡膜。阻挡膜包括基础层A和位于基础层的至少一侧上的阻挡层B。阻挡层B也可以仅形成在基础层A的一侧上，也可以形成在基础层A的彼此面向的两侧上。
除非另外特别限定，否则在本申请中与层间层合位置组合使用的术语“在...上”或“在...上方”可以在某种意义上用于不仅包括任何配置位于另一配置正上方的情况，还包括在这些配置之间插入第三配置的情况。
基础层的种类没有特别限制。例如，基础层可以包含玻璃基础材料或塑料基础材料。
在一个实例中，基础层可以包括：聚酯膜，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、聚碳酸酯膜、聚萘二甲酸乙二醇酯膜或聚芳酯膜；聚醚膜，例如聚醚砜膜；聚烯烃膜，例如环烯烃聚合物膜、聚乙烯膜或聚丙烯膜；纤维素树脂膜，例如二乙酰纤维素膜、三乙酰纤维素膜或乙酰纤维素丁酸酯膜；聚酰亚胺膜；丙烯酸类膜；或环氧树脂膜；等等。
基础层可以包括所列出的膜中的一者或更多者。即，基础层可以是单层或多层结构。
基础层的厚度没有特别限制。例如，其可以在2μm至200μm的范围内、在5μm至190μm的范围内、在10μm至180μm的范围内、在20μm至180μm的范围内、或在20μm至150μm的范围内选择。
在本申请中，阻挡层B包括一个或更多个以下将描述的聚硅氮烷的固化层。例如，阻挡层B可以包括一个或更多个具有由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S的聚硅氮烷层的固化层。在本申请中，凹凸结构的表面S意指能够赋予以下所述的静摩擦系数、动摩擦系数和/或突起颗粒的高度的层。
在一个实例中，阻挡层B还可以包括不具有凹凸结构的表面S的聚硅氮烷层的固化层。
在本申请中，作为固化之前的状态，聚硅氮烷层可以例如为通过将以下所述的含聚硅氮烷的组合物(涂覆组合物)涂覆在基础层上形成的层。固化层是通过使聚硅氮烷层固化而形成的层，其具有对外部环境(例如，水分或气体)的阻挡特性。
在本申请中，聚硅氮烷层意指包含聚硅氮烷作为主要成分的层(形成在基础层上的呈固化之前状态的涂层)。例如，主要成分可以意指例如以下情况：在聚硅氮烷层或含聚硅氮烷的组合物中，基于重量，聚硅氮烷的比例为55％或更大、60％或更大、65％或更大、70％或更大、75％或更大、80％或更大、85％或更大、或者90％或更大。该重量比可以为例如100％或更小、99％或更小、98％或更小、97％或更小、96％或更小、或者95％或更小。
在本申请中，术语“聚硅氮烷”意指其中硅原子(Si)和氮原子(N)重复以形成基本骨架的聚合物。该聚硅氮烷可以通过预定的处理(例如，以下所述的等离子体处理)来改性，以形成具有阻挡特性的硅氧化物和/或硅氧氮化物。因此，固化产物(即聚硅氮烷层的固化层)包含Si、N和/或O，并且具有对外部环境的阻挡特性。
在一个实例中，本申请中使用的聚硅氮烷可以包含由下式1表示的单元。
[式1]
Figure GDA0003401521300000031
在式1中，R1、R2和R3可以各自独立地为氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基酰胺基或烷氧基。
在本申请中，除非另有规定，否则术语“烷基”可以意指具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷基。烷基可以为线性、支化或环状的。此外，烷基可以任选地经一个或更多个取代基取代。
在本申请中，除非另有规定，否则术语“烯基”可以意指具有2至20个碳原子、2至16个碳原子、2至12个碳原子、2至8个碳原子、或2至4个碳原子的烯基。烯基可以为线性、支化或环状的，并且可以任选地经一个或更多个取代基取代。
在本申请中，除非另有规定，否则术语“炔基”可以意指具有2至20个碳原子、2至16个碳原子、2至12个碳原子、2至8个碳原子、或2至4个碳原子的炔基。炔基可以为线性、支化或环状的，并且可以任选地经一个或更多个取代基取代。
除非另有规定，否则本文中的术语“芳基”可以意指衍生自以下化合物或其衍生物的一价残基：所述化合物包含其中苯环或者两个或更多个苯环相连接、或者在共用一个或两个或更多个碳原子的同时稠合或键合的结构。在本说明书中，芳基的范围也可以包括所谓的芳烷基或芳基烷基等，以及通常被称为芳基的官能团。芳基可以为例如具有6至25个碳原子、6至21个碳原子、6至18个碳原子、或6至12个碳原子的芳基。作为芳基，可以例示苯基、二氯苯基、氯苯基、苯基乙基、苯基丙基、苄基、甲苯基、二甲苯基或萘基等。
在本申请中，除非另有规定，否则术语“烷氧基”可以意指具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷氧基。烷氧基可以为线性、支化或环状的。此外，烷氧基可以任选地经一个或更多个取代基取代。
聚硅氮烷的具体类型没有特别限制，只要其包含由上式1表示的单元即可。
在一个实例中，考虑到经改性的聚硅氮烷层的致密性等，作为本申请的聚硅氮烷，可以使用包含其中R1至R3全部为氢原子的式1的单元的聚硅氮烷，例如，全氢聚硅氮烷。
在一个实例中，例如，聚硅氮烷层可以例如通过以下来形成：在基础层(基础膜)上涂覆通过将聚硅氮烷溶解在合适的有机溶剂中所制备的组合物(包含聚硅氮烷作为主要组分的涂覆液)。涂覆液中包含的溶剂的类型没有特别限制，只要其是与聚硅氮烷没有反应性并且同时能够溶解聚硅氮烷的溶剂即可。例如，可以使用烃溶剂如脂族烃、脂环族烃和芳族烃；卤代烃溶剂；醚如脂族醚和脂环族醚。具体地，可以使用以下作为溶剂：烃，例如戊烷、己烷、环己烷、甲苯、二甲苯、芳烃油溶剂(Solvesso)和卡宾(carbene)；卤代烃，例如二氯甲烷和三氯乙烷；醚，例如二丁醚、二
Figure GDA0003401521300000051
烷和四氢呋喃等。
在一个实例中，可以使用商品化的聚硅氮烷或包含其的组合物。例如，可以使用聚硅氮烷商品化产品，例如由AZ Electronic Materials Kabushiki Kaisha制造的AQUAMICA(注册商标)NN120-10、NN120-20、NAX120-10、NAX120-20、NN110、NN310、NN320、NL110A、NL120A、NL150A、NP110、NP140、或SP140，而不限于此。
当涂覆在基础层上的聚硅氮烷层的厚度太薄时，涂覆过程不顺利并且可能无法充分确保阻挡特性。然后，当厚度太大时，由于在固化过程期间聚硅氮烷层的收缩而可能出现裂纹(损坏)。待涂覆的聚硅氮烷层的厚度没有特别限制，但是考虑到上述几点，下限可以为例如约20nm或更大、30nm或更大、40nm或更大、50nm或更大、60nm或更大、70nm或更大、80nm或更大、90nm或更大、或者100nm或更大。此外，上限可以为例如800nm或更小、700nm或更小、600nm或更小、500nm或更小、400nm或更小、300nm或更小、或者200nm或更小。上述范围内的厚度是形成在基础层的一侧上的聚硅氮烷层的厚度，其可以为例如为通过一次施加组合物所形成的单层的聚硅氮烷层的厚度。
可以例如根据如上所述的聚硅氮烷层的厚度来确定通过使具有上述厚度的聚硅氮烷层固化而获得的固化层的厚度。此外，可以在1500nm或更小的范围内根据固化层或聚硅氮烷层的数量适当地调节包括一个或更多个固化层的阻挡层的厚度。
除聚硅氮烷之外，聚硅氮烷层还包含颗粒组分。
就此而言，在本申请中，聚硅氮烷层具有由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S1。因此，为聚硅氮烷层的固化产物的固化层还具有由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S2。此外，阻挡层B包括如上具有凹凸结构的表面S2的固化层。在本申请中，固化层和聚硅氮烷层根据其是否固化而彼此区分，但是其中颗粒突起的凹凸结构的表面可以表示为表面S而不分别区分固化层和聚硅氮烷层。
阻挡层B可以包括一个或更多个固化层。例如，阻挡层B可以具有其中层合有一个或更多个具有由突起颗粒形成的表面S的固化层(源自聚硅氮烷)的结构。具体地，阻挡层B可以为具有凹凸结构的表面S的固化层(单层结构)。或者，当层合有具有凹凸结构的表面的固化层b11和具有凹凸结构的表面S的另一固化层b12时，阻挡层B可以包括复数个具有凹凸结构的表面S的固化层b1。此时，具有凹凸结构的固化层的数量没有特别限制，但是可以在如上所述的阻挡层B的厚度范围内适当地调节。
在另一个实例中，阻挡层B可以包括具有由凹凸结构形成的表面S的固化层(源自聚硅氮烷)和不具有凹凸结构的表面S的固化层(源自聚硅氮烷)二者。例如，当具有凹凸结构的固化层被称为固化层b1或b1n以及不具有凹凸结构的固化层(非凹凸结构的固化层)被称为固化层b2或b2m时，阻挡层B可以具有诸如b11/b12、b1/b2、b11/b2/b12、b11/b12/b2、b11/b12/b2/b13、b11/b12/b21/b22或b11/b12/b21/b22/b13的层合结构。固化层b1和固化层b2的具体层合顺序以及各层的数量没有特别限制，但是考虑到阻挡膜的损坏或辊对辊可加工性，有利的是，具有表面凹凸结构的固化层b1或b1n位于阻挡层B的最外层。
在一个实例中，阻挡层可以仅包括源自聚硅氮烷的固化层。例如，其可以不包括通过气相沉积形成的任何金属层。
表面S可以形成在聚硅氮烷层的至少一个表面上。
在一个实例中，表面S可以为聚硅氮烷层的面对基础层A的表面的相反表面。即，在聚硅氮烷层中，由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S可以被包括在聚硅氮烷层的面对基础层A的表面的相反侧上。类似地，在固化层中，由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S可以被包括在固化层表面的面对基础层A的相对侧上，在阻挡层中，凹凸结构的表面S也可以被包括在阻挡层表面的面对基础层A的相反侧。
当使用辊对辊过程进行涂覆和固化聚硅氮烷层的一系列过程时，没有任何凹凸结构的固化层或聚硅氮烷层粘附至辊对辊设备的导辊同时与其直接接触。当在该接触状态下进行转移时，可能对固化层或聚硅氮烷层的直接接触的表面产生划痕状损坏。特别地，由于具有阻挡功能的聚硅氮烷层或由其获得的层结构具有薄的厚度，例如约纳米(nm)的厚度，因此甚至由于轻微的表面损坏也会使对水分等的阻挡特性劣化。鉴于这一点，本申请形成聚硅氮烷层或固化层的表面上的通过突起颗粒所形成的凹凸结构，以减少聚硅氮烷层或固化层与导辊之间的直接接触，并防止阻挡层的损坏。这样的表面不规则性还可以改善使用辊对辊的膜的转移可加工性(运转特性或滑动特性)。
由突起颗粒形成的凹凸结构的表面S可以赋予聚硅氮烷层、固化层或包括其的膜预定的摩擦系数和凹凸高度。
本申请的膜可以具有恒定的摩擦系数。具体地，为了根据以下实验例中描述的方法测量摩擦系数，转移包括聚硅氮烷层等的膜所需的力(拉动膜的力)必须恒定。除非拉力恒定，否则可能无法计算摩擦系数。即，其可能无法具有摩擦系数。理论上，摩擦系数可以为1.0或更小，并且在本申请中，摩擦系数可以满足如下所述的预定值，以改善膜的滑动特性或膜的运转特性。
在一个实例中，聚硅氮烷层或其固化层的动摩擦系数可以为0.4或更小。具体地，动摩擦系数可以为0.35或更小、0.30或更小、或者0.25或更小。动摩擦系数可以根据以下实验例中描述的方法来测量。动摩擦系数满足0.4或更小的事实意味着聚硅氮烷层或固化层与导辊之间的直接接触减少。因此，可以防止对阻挡层的损坏。此外，当满足动摩擦系数的值时，与当超过上述值时相比，不需要更大的力来传递膜，因此可以改善膜的运转特性(滑动特性)。随着动摩擦系数具有更低的值，可以更有利，因此静摩擦系数的下限没有特别限制，但是可以为例如0.01或更大、0.05或更大、0.1或更大、或者0.15或更大。此外，在制造阻挡膜时，可以进行涂覆聚硅氮烷组合物(形成聚硅氮烷层)和使涂覆的组合物固化(形成固化层)的过程，并且阻挡层也可以包括复数个源自聚硅氮烷的固化层b、b1和/或b2(即，可以重复用于形成固化层的聚硅氮烷组合物的涂覆和固化过程)，因此有利的是，固化之前的聚硅氮烷涂层的动摩擦系数和固化之后的固化层的动摩擦系数二者均满足动摩擦系数值。
在一个实例中，聚硅氮烷层或其固化层的静摩擦系数可以为0.4或更小。具体地，静摩擦系数可以为0.35或更小、0.30或更小、或者0.25或更小。静摩擦系数可以根据以下实验例中描述的方法来测量。例如，在使用辊对辊的膜(例如，其上形成有聚硅氮烷层的离型膜、基础层等)的运转(转移)的初始阶段，膜的运转停止然后再运转，因此聚硅氮烷层或其固化层的静摩擦系数应为0.4或更小。当满足上述值时，可以防止对阻挡层的损坏并且可以改善膜的运转特性。随着静摩擦系数具有更低的值，可以是更有利的，因此静摩擦系数的下限没有特别限制，但是可以为例如0.01或更大、0.05或更大、0.1或更大、或者0.15或更大。此外，在制造阻挡膜时，可以进行涂覆聚硅氮烷组合物(形成聚硅氮烷层)和使涂覆的组合物固化(形成固化层)的过程，并且阻挡层也可以包括复数个固化层(即，可以重复用于形成固化层的聚硅氮烷组合物的涂覆和固化过程)，因此有利的是，固化之前的聚硅氮烷涂层的静摩擦系数和固化之后的固化层的静摩擦系数二者均满足所述值
在一个实例中，当通过AFM(原子力显微镜)测量时，凹凸结构的表面S的从表面S突出的颗粒的高度可以为5nm或更大。具体地，在表面S中，“突起颗粒(P1)的最大高度”与“与所述颗粒(P1)接触的固化层的表面S中最接近颗粒的点”之间的差(高度或距离)可以为5nm或更大。此时，固化层的表面中最接近颗粒的点意指在形成固化层的组分中除颗粒之外的基体组分(例如，形成连续相的源自聚硅氮烷的组分)的任何点。当满足所述高度时，可以有利的是确保上述摩擦系数，可以防止对阻挡层的损坏，并且可以改善辊对辊过程的可加工性(膜的运转特性或滑动特性)。具体地，突起颗粒的高度可以为10nm或更大、15nm或更大、20nm或更大、25nm或更大、30nm或更大、35nm或更大、40nm或更大、45nm或更大、或者50nm或更大。突起颗粒的高度的上限可以为例如180nm或更小、170nm或更小、160nm或更小、150nm或更小、140nm或更小、130nm或更小、120nm或更小、110nm或更小、或者100nm或更小。
尽管没有特别限制，形成满足如上所述的颗粒的突起高度、动摩擦系数和/或静摩擦系数的表面S的方法的一个实例如下。
在一个实例中，为了形成表面S，在制备含聚硅氮烷的组合物时可以利用使用低密度颗粒的方法。具体地，在将聚硅氮烷、有机溶剂和颗粒混合以制备用于形成聚硅氮烷层的组合物时，可以利用使用相对低密度的颗粒以通过浮力使颗粒相对于施加在膜上的聚硅氮烷层表面突起的方法。
在另一个实例中，考虑到要形成的固化层的厚度，可以使用控制聚硅氮烷层的厚度和颗粒直径的方法。特别地，可以使用直径大于聚硅氮烷层或固化层的厚度(高度)的颗粒。当满足所述颗粒直径时，可以更容易地形成凹凸结构。例如，当聚硅氮烷层或固化层的(最大)高度在约100nm的水平时，可以使用直径为至少105nm的颗粒。然而，当颗粒的直径大于层的厚度时，存在的缺点是，颗粒与聚硅氮烷(或其固化产物)之间的界面可以充当缺陷，因此必须适当地调节其含量，使得所使用的颗粒的量不会过多。
在另一个实例中，形成表面S的另一种方法是在制备含聚硅氮烷的组合物时使用彼此具有不同程度的疏水性或亲水性的组分的方法。具体地，当使用直径小于聚硅氮烷层或固化层的厚度的颗粒时，可以使用与组合物中使用的溶剂或聚硅氮烷组分相比相对更加疏水的颗粒或更加亲水的颗粒。如上所述当疏水特性或亲水特性彼此不同时，颗粒可以以漂浮状态存在于聚硅氮烷层的表面上，并且可以在保持上述状态的同时进行固化。可以根据颗粒本身的特性(例如组分)来确定颗粒是疏水的还是亲水的。或者，可以用疏水官能团或亲水官能团通过表面处理来赋予颗粒疏水性或亲水性。此时，无法均匀地确定颗粒是疏水的还是亲水的，这可以相对于待一起使用的组成中的其他组分(例如，溶剂或聚硅氮烷)来确定，并且可以通常考虑形成颗粒表面的化合物或官能团极性与否、或者所述化合物中的碳链的长度等来相对地判断。例如，当聚硅氮烷层或固化层的厚度在120nm至150nm的水平时，可以将颗粒的直径控制在约80nm至100nm的范围内，并且可以通过控制颗粒表面特性使颗粒以漂浮状态存在于聚硅氮烷层的表面S上。与其他方法相比，使用具有比聚硅氮烷层或固化层的厚度更小的直径的颗粒的方法对于确保膜的阻挡特性可以更有利。
在本申请中，可以使用有机颗粒和/或无机颗粒作为颗粒组分。颗粒的形状没有特别限制。例如，颗粒可以是球形、椭球形、锥体或无定形的。
使用的颗粒的直径(颗粒直径)没有特别限制，其可以被适当地调节以具有上述凹凸结构。在本申请中，颗粒的直径可以意指颗粒形状的最长尺寸的长度，其可以使用已知的扫描电子显微镜(SEM)来测量。
例如，颗粒的直径可以为5nm或更大。更具体地，可以使用具有以下直径的颗粒：10nm或更大、15nm或更大、20nm或更大、25nm或更大、30nm或更大、35nm或更大、40nm或更大、45nm或更大、50nm或更大、55nm或更大、60nm或更大、65nm或更大、70nm或更大、75nm或更大、或者80nm或更大，并且其上限可以为例如200nm或更小、150nm或更小、或者100nm或更小。所使用的颗粒的直径不必全部相同，并且足以满足上述范围内的颗粒直径，从而形成上述凹凸结构。例如，如上所述，当控制颗粒的亲水性程度以形成凹凸结构时，颗粒的直径为约30nm或更大，其尺寸可以为聚硅氮烷层或固化层的厚度的约3/4、1/2或者1/4或更小。
在一个实例中，当阻挡层B包括复数个固化层(例如，b11和b12、b1和b2、或者b1n和b2n)时，形成与基础层相邻的固化层(例如，b1)的表面S不规则性的颗粒的直径可以小于位于固化层b1上的另一个固化层b2的厚度。例如，包含在固化层b1中的颗粒的直径相对于固化层b2的厚度可以具有约3/4、1/2或者1/4或更小的尺寸。
在一个实例中，作为颗粒组分，可以使用选自粘土、滑石、氧化铝、碳酸钙、氧化锆和二氧化硅颗粒的无机颗粒。与有机颗粒组分相比，无机颗粒组分具有更好的对水分的阻挡特性等，因此使用无机颗粒可以有利于改善膜对外部环境的阻隔特性(阻挡特性)。
在一个实例中，相对于100重量份的聚硅氮烷，颗粒的使用含量可以为5重量份或更小。如果该含量超过上述范围，则阻挡特性可能劣化，同时水蒸气透过速率增加。这是因为颗粒的界面可以充当缺陷。例如，颗粒的含量可以为4重量份或更小、3.5重量份或更小、3.0重量份或更小、2.5重量份或更小、2.0重量份或更小、1.5重量份或更小、或者1.0重量份或更小。其下限没有特别限制，但是可以为例如0.05重量份或更大、0.10重量份或者0.5重量份或更大。假设颗粒的含量满足上述范围，则随着使用更多的颗粒，对于形成上述特性的不规则性可以更有利。
在一个实例中，在表面S上观察到的颗粒的数量可以在0.8个/μm2至3.0个/μm2的范围内。例如，在表面S上的每单位面积(μm2)观察到的颗粒的数量可以为0.9个/μm2或更大、1.0个/μm2或更大、1.1个/μm2或更大、1.2个/μm2或更大、1.3个/μm2或更大、1.4个/μm2或更大、1.5个/μm2或更大、1.6个/μm2或更大、1.7个/μm2或更大、1.8个/μm2或更大、1.9个/μm2或更大、2.0个/μm2或更大，并且可以为2.9个/μm2或更小、2.8个/μm2或更小、2.7个/μm2或更小、或者2.6个/μm2或更小。如果颗粒的数量超过上述范围，则相对于表面S突起的颗粒的数量可能过多，这可能不利地影响膜的机械强度。此外，当颗粒的数量小于上述范围时，对于确保如上所述的表面不规则性可能是不利的。颗粒的数量可以通过获得关于聚硅氮烷层或固化层的预定面积(宽度μm×高度μm)的×50000放大倍数的SEM图像并确定在表面上观察到的颗粒的数量来获得。在一个实例中，颗粒的数量的确定可以进行数次，例如三次或五次，并且可以取平均值作为颗粒的数量。
在一个实例中，聚硅氮烷层还可以包含有机颗粒。有机颗粒可以为例如具有上述直径的为聚合物组分的丙烯酸类颗粒。有机颗粒的含量没有特别限制，但是例如，当与无机颗粒组合使用时，可以使用有机颗粒，使得相对于100重量份的聚硅氮烷，有机颗粒和无机颗粒的总含量可以满足5重量份或更小。
在一个实例中，阻挡层B和基础层A可以彼此接触。例如，构成阻挡层B的固化层可以直接位于基础层A的一侧或两侧上。此时，阻挡层可以具有其中层合有复数个源自聚硅氮烷的固化层(例如，b11和b12，b1和b2、或者b1n和b2n等)的构造。
在另一个实例中，膜可以进一步包括在基础层A与阻挡层B之间的中间层C。例如，阻挡膜可以为通过以下形成的膜：将聚硅氮烷组合物涂覆在用于涂覆的包括基础层A和形成在基础层的一侧或两侧上的中间层C的被粘物上，然后固化。在一些情况下，基础层在其上形成阻挡层的表面上可能具有不规则性(例如，数十nm、数百nm、或数千nm、或数μm的水平的不规则性)，由于所述不规则性通常比固化层形成的厚度大，因此所述不规则性阻碍了固化层的稳定形成。考虑到这一点，阻挡膜可以进一步包括作为平坦化层的中间层C，所述中间层C提供可以在其上形成固化层的平坦表面。
中间层可以包含选自以下的一者或更多者：例如，丙烯酸类树脂、氨酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅氧烷聚合物和/或由下式2表示的有机硅烷化合物的缩合产物。
[式2]
Figure GDA0003401521300000111
在式2中，X可以为氢、卤素、烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N(R2)2，其中R2可以为氢或烷基，R1可以为烷基、烯基、炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、卤素、氨基、酰胺基、醛基、烷基羰基、羧基、巯基、氰基、羟基、烷氧基、烷氧基羰基、磺酰基、磷酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或环氧基，Q可以为单键、氧元素或-N(R2)-，其中R2可以为氢元素或烷基，以及m可以为1至3范围内的数。
作为有机硅烷，可以使用选自由上式2表示的化合物中的至少一者，其中如果使用一种有机硅烷化合物，则可以交联。
作为实例，有机硅烷可以选自以下并被使用：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、苯基甲基二甲氧基硅烷、苯基甲基二乙氧基硅烷、三甲基甲氧基硅烷、三甲基乙氧基硅烷、三苯基甲氧基硅烷、三苯基乙氧基硅烷、苯基二甲基甲氧基硅烷、苯基二甲基乙氧基硅烷、二苯基甲基甲氧基硅烷、二苯基甲基乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二苯基甲氧基硅烷、二苯基乙氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、对氨基苯基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二异丙基乙氧基硅烷、(3-环氧丙氧基丙基)甲基二乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-苯基氨基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基甲基二乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷及其混合物。
在另一个实例中，中间层可以通过使一种或更多种多官能丙烯酸酯聚合来生产。作为多官能丙烯酸酯的种类，例如可以使用：双官能丙烯酸酯例如1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性的六氢邻苯二甲酸二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改性的三甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、金刚烷二(甲基)丙烯酸酯或9,9-双[4-(2-丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴；三官能丙烯酸酯，例如三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性的二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性的三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三官能氨酯(甲基)丙烯酸酯或三(甲基)丙烯酰氧基乙基异氰脲酸酯；四官能丙烯酸酯，例如二甘油四(甲基)丙烯酸酯或季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯；五官能丙烯酸酯，例如丙酸改性的二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯；以及六官能丙烯酸酯，例如二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性的二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯或氨酯(甲基)丙烯酸酯(例如，异氰酸酯单体与三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯的反应产物)等，而不限于此。
在一个实例中，中间层可以包含基于氟的化合物。例如，可以使用基于氟的(甲基)丙烯酸酯或基于氟的硅氧烷化合物。虽然没有特别限制，但是全氟化合物如全氟聚醚丙烯酸酯可以用作基于氟的(甲基)丙烯酸酯，并且经含氟链取代的烷氧基硅烷化合物可以用作基于氟的硅氧烷化合物。
作为适用于形成中间层的环氧树脂，可以使用选自脂环族环氧树脂和芳族环氧树脂中的至少一者。
作为脂环族环氧树脂，例如，可以使用选自脂环族缩水甘油醚型环氧树脂和脂环族缩水甘油酯型环氧树脂中的至少一者。此外，例如，可以使用为Celloxide 2021P(DaicelCo.)的3,4-环氧环己基-甲基-3,4-环氧环己烷羧酸酯及其衍生物，其即使在高温下也稳定，无色且透明，并且具有优异的韧性、用于层合的粘附性和粘合性。特别地，当用于涂层时，它们具有优异的表面硬度。
作为芳族环氧树脂，例如，还可以使用选自以下的至少一种芳族环氧树脂：双酚A型环氧树脂、溴化双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚AD型环氧树脂、含芴的环氧树脂和三缩水甘油基异氰脲酸酯。
中间层可以为例如通过溶胶-凝胶反应形成的涂层。例如，在中间层中还可以包含选自以下的至少一者：SiOx(其中，x为1至4的整数)、SiOxNy(其中，x和y各自为1至3的整数)、Al2O3、TiO2、ZrO和ITO。
中间层还可以包含由下式3表示的金属醇盐或其缩合产物。
[式3]
Figure GDA0003401521300000131
在式3中，M可以为选自铝、锆和钛中的任何一种金属，R3可以为卤素、烷基、烷氧基、酰氧基或羟基，以及z可以为3或4。
在一个实例中，中间层还可以包含填料。可以考虑例如调节中间层的折射率和/或调节机械强度等来使用填料。在一个实例中，作为填料，可以使用选自以下的至少一者：CaO、CaF2、MgO、ZrO2、TiO2、SiO2、In2O3、SnO2、CeO2、BaO、Ga2O3、ZnO、Sb2O3、NiO和Al2O3。
使用上述材料形成中间层的方法没有特别限制，并且可以根据使用的材料来使用已知的方法，例如各种干法和/或湿法涂覆法(例如沉积法和溶胶-凝胶涂覆法)。在涂覆之后，根据使用的树脂，可以进行适当的固化(例如，热固化或光固化等)。
中间层的厚度没有特别限制。例如，其可以为50μm或更小。具体地，厚度的上限可以为40μm或更小、30μm或更小、20μm或更小、10μm或更小、或者5μm或更小，并且下限可以为0.5μm或更大、或者1μm或更大。
在一个实例中，上述配置的阻挡膜可以是满足预期的透射率和阻挡特性的膜。
关于透射率，阻挡膜可以意指对于380nm至780nm的波长范围内的可见光，具体地波长为550nm的光具有90％或更大、或者95％或更大的透射率的膜。透射率的上限为例如约100％，其中膜的透射率可以小于100％。
关于阻挡特性，本申请的阻挡膜的如在38℃的温度和100％的相对湿度下测量的水蒸气透过速率可以为10mg/m2·天或更小。具体地，水蒸气透过速率可以为9mg/m2·天或更小、8mg/m2·天或更小、7mg/m2·天或更小、6mg/m2·天或更小、或者5mg/m2·天或更小。由于水蒸气透过速率意指，其值越低，则相关层表现出更优异的阻挡特性，因此水蒸气透过速率的下限没有特别限制。在一个实例中，水蒸气透过速率的下限可以为0.001mg/m2·天或更大、0.005mg/m2·天或更大、0.01mg/m2·天或更大、0.02mg/m2·天或更大、0.03mg/m2·天或更大、0.04mg/m2·天或更大、0.05mg/m2·天或更大、或者0.06mg/m2·天或更大。水蒸气透过速率可以根据已知方法来测量，例如可以根据ISO 15106-3标准来测量。
在本申请的另一个实例中，本申请涉及用于生产阻挡膜的方法。该方法可以包括使形成在基础层上的聚硅氮烷层固化的步骤。
在一个实例中，作为基础层，可以使用与上述相同的基础层。聚硅氮烷层可以为通过直接施加在基础层上而形成的层。
在一个实例中，聚硅氮烷层可以为通过直接施加在基础层上而形成的层。聚硅氮烷层通过将上述含聚硅氮烷的组合物施加在基础材料上而形成，所述组合物可以包含颗粒和作为主要组分的聚硅氮烷。此外，用于形成聚硅氮烷层的组合物还可以包含溶剂。聚硅氮烷、颗粒和溶剂的细节与上述那些相同。
在一个实例中，聚硅氮烷层可以为通过施加在中间层上而形成的层。在这种情况下，中间层可以为预先形成在基础层上的层。中间层的构造可以由与上述相同的构造形成。
辊对辊过程中的转移目标可以为基础层(或基础膜)。即，可以根据辊对辊方式通过辊来转移基础膜。例如，基础膜可以在卷绕在辊上并展开的同时通过传送带等转移，并且可以在转移过程中在基础膜上形成聚硅氮烷层。类似地，辊对辊过程中的转移目标可以为基础层和聚硅氮烷层的层合体；或者基础层、中间层和聚硅氮烷层的层合体。在该转移过程中，基础层或层合体可以与辊接触。
形成聚硅氮烷层的涂覆方法没有特别限制，只要可以在基础层的转移期间将聚硅氮烷组合物连续地施加在基础层上使得可以对其使用辊对辊过程即可。作为施加组合物的方法，例如可以使用辊涂、旋涂、浸涂、流涂、喷涂等。
由于施加在基础层上的聚硅氮烷层具有一定程度的硬度，因此可以应用于辊对辊过程。例如，虽然固化之前的聚硅氮烷层的硬度小于固化之后的硬度，但是如根据已知的硬度测量方法(例如，ASTM D3360)测量的，其可以为约1B左右。
在一个实例中，固化层的形成(即聚硅氮烷层的固化)可以通过等离子体处理来实现。
通过在包含等离子体产生气体如Ar的气氛下产生等离子体并将等离子体中的正离子注入至聚硅氮烷层进行等离子体处理，其中等离子体可以例如通过外部电场或负高压脉冲来产生。该等离子体处理可以使用已知的设备来进行。
可以在将放电气体(Ar)和氧气注入预定的处理空间中的同时进行用于形成固化层的等离子体处理。更具体地，等离子体处理可以在以下条件下进行。
在一个实例中，可以在预定的功率密度下进行等离子体处理。具体地，在等离子体处理时电极的每单位面积的功率密度可以为约0.05W/cm2或者0.10W/cm2或更大。在另一个实例中，功率密度可以为约0.2W/cm2或更大、约0.3W/cm2或更大、约0.4W/cm2或更大、约0.5W/cm2或更大、约0.6W/cm2或更大、约0.7W/cm2或更大、0.8W/cm2或更大、或者约0.9W/cm2或更大。在满足所述功率密度的范围内，在正电极的情况下，功率密度越高，可以在短时间内提高等离子体处理的程度，并且可以提高由于施加高电压引起的聚硅氮烷的改性程度。在负电极的情况下，过高的功率密度可能由于高电压而引起对基础层的破坏，因此考虑到这一点，功率密度的上限可以为约2W/cm2或更小、1.5W/cm2或更小、或者1.0W/cm2或更小。
在一个实例中，在具有功率密度的情况下，通过将功率密度乘以处理时间而确定的等离子体处理时的处理能量可以为50J/cm2或更小。具体地，能量可以为45J/cm2或更小、40J/cm2或更小、35J/cm2或更小、30J/cm2或更小、25J/cm2或更小、20J/cm2或更小，并且下限可以为5J/cm2或更大、10J/cm2或更大、或者15J/cm2或更大。
在一个实例中，等离子体处理可以在预定的处理压力下进行。具体地，等离子体处理时的处理压力可以为350毫托或更低。在正电极的情况下，处理压力越低，越容易确保平均自由程，因此可以进行等离子体处理而没有由于与气体分子的碰撞引起的损失能量。例如，处理压力可以为340毫托或更低、330毫托或更低、320毫托或更低、310毫托或更低、300毫托或更低、290毫托或更低、280毫托或更低、270毫托或更低、260毫托或更低、250毫托或更低、240毫托或更低、230毫托或更低、220毫托或更低、210毫托或更低、或者200毫托或更低。另一方面，在负电极的情况下，处理压力越低，气体分子越少，因此可能需要高的电压和功率以产生等离子体，其中高电压和高功率可以引起对基础层的损坏，例如，下限可以为50毫托或更高、60毫托或更高、70毫托或更高、80毫托或更高、90毫托或更高、100毫托或更高、110毫托或更高、120毫托或更高、130毫托或更高、140毫托或更高、150毫托或更高、160毫托或更高、170毫托或更高、180毫托或更高、或者190毫托或更高。该压力可以为在处理开始时的压力，并且该压力可以在处理期间保持在该范围内。
在放电气体(Ar)和氧气用作处理气体时，处理空间中的氧气的蒸气压可以在20％至80％的范围内。氧气蒸气压意指，相对于注入到处理空间中的气体的总流量所注入的氧气的注入流量百分比。例如，在分别以Asccm和B sccm的流量注入Ar和O2的同时进行等离子体处理的情况下，氧气的蒸气压可以计算为100×B/(A+B)。可以将每种气体的流量调节到满足蒸气压的水平。
可以将等离子体处理时间适当地调节到不阻碍膜的阻挡特性的水平。例如，等离子体处理可以进行约10秒至10分钟的时间。
在一个实例中，该方法还可以包括在进行等离子体处理之前对聚硅氮烷层的加热步骤。加热可以例如在40℃至150℃的范围内进行数分钟至数小时。在通过加热使溶剂蒸发之后，可以进行等离子体处理。
本申请的膜具有优异的阻挡特性。因此，其可以在各种应用中用作阻挡膜或密封膜，例如各种包装材料、显示器例如LCD(液晶显示器)、用于太阳能电池的构件、电子纸或用于OLED(有机发光二极管)的基底。特别地，以上述方式形成的阻挡膜具有优异的光学性能，例如透明性，因此可以有效地用于光学装置如各种显示装置或照明装置。
当用于这些应用时，阻挡膜可以被设置成使得阻挡层B与要保护的目标(即，容易受水分影响的构造)相邻。例如，当将阻挡膜附接至OLED元件时，层合的顺序可以为基础层、阻挡层和OLED元件。对于附接，例如，可以使用已知的层合方法，或者可以使用已知的粘合剂。
有益效果
根据本申请的一个实例，可以提供对气体或水分具有优异的阻挡特性的阻挡膜。此外，本申请可以改善辊对辊过程期间膜的滑动特性并防止产品缺陷。
附图说明
图1示出了实施例1中的阻挡膜的阻挡层表面具有的AFM(原子力显微镜)图像和该表面的线轮廓。具体地，在图1(a)中，白色实线意指测量图1(b)的线轮廓的点。此外，图1(b)示出了在由白色实线指出的点处测量的固化层的不规则性，线轮廓的纵轴为零的点意指，固化层中除颗粒之外的有机组分(聚硅氮烷)的表面高度的平均值转换为参考值。
图2是用于说明本申请中的凹凸结构的表面S上的颗粒的突起高度的示意图。
图3示出了对实施例3和比较例1的每个膜测量摩擦系数三次的结果。可以看出，实施例3的图3(a)示出了拉力收敛至恒定值，而比较例1的图3(b)示出了拉力变化幅度非常大，不可以收敛至恒定值。
具体实施方式
在下文中，将通过实施例详细地描述本申请。然而，本申请的保护范围不受以下实施例的限制。
实验例1：根据表面不规则性形成比较摩擦系数
实施例1
使用基于异氰脲酸酯的丙烯酸酯在厚度为约50μm的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)基础膜的表面上形成厚度为约900nm的中间层。
随后，在中间层上涂覆组合物至约150nm的厚度(形成聚硅氮烷层)并在130℃下干燥2分钟，所述组合物包含聚硅氮烷溶液(通过相对于100重量份的聚硅氮烷以约2重量份的量，将作为有机催化剂的二甲基乙醇胺(DMEA)添加至来自CLARIANT的NN 120溶液中所制备的)和0.7重量份的经丙烯酸类化合物表面处理的疏水性二氧化硅颗粒(颗粒直径在80nm至100nm的水平)。使经干燥的膜的涂层在向其施加恒定张力的状态下通过辊固化机的导辊，并且在Ar:O2＝约1:1(基于sccm)的流量、约138毫托的压力、约0.27W/cm2的功率和约20J/cm2的能量的条件下进行对聚硅氮烷层的等离子体处理。
实施例2
以与实施例1中相同的方式生产阻挡膜，不同之处在于在含聚硅氮烷的组合物中，使用商品名NL120聚硅氮烷(包含不同于DMEA的无机催化剂)。
实施例1和2的阻挡膜的摩擦系数的评估结果示于表1中。
*静摩擦系数和动摩擦系数：通常，相对于作为在辊对辊过程中卷绕和展开膜的辊的主要材料的SUS(不锈钢)测量聚硅氮烷层和固化层的摩擦系数。具体地，根据ASTM D1894方法，将SUS基础材料放置在实施例和比较例中制备的表面S上，并在使用砝码向其施加200g负荷的状态下测量拉动样品的力，然后测量负荷与拉力之间的比率。
[表1]
Figure GDA0003401521300000181
如表1所示，在根据本申请的包含二氧化硅颗粒使得能够形成表面不规则性的阻挡膜中，相对于表面S的动摩擦系数和静摩擦系数的值为0.4或更小。这意指实施例的膜可以为辊对辊过程提供合适的滑动特性，并且可以防止在现有技术中出现的对阻挡膜的损坏。
实验例2：根据表面不规则性形成比较摩擦系数
实施例3
使用基于异氰脲酸酯的丙烯酸酯在厚度为约50μm的PET(聚对苯二甲酸乙二酯)基础膜的表面上形成厚度为约900nm的中间层。
随后，在中间层上涂覆组合物至约150nm的厚度(形成聚硅氮烷层)并在130℃下干燥2分钟，所述组合物包含聚硅氮烷溶液(通过相对于100重量份的聚硅氮烷以约2重量份的量，将作为有机催化剂的二甲基乙醇胺(DMEA)添加至来自CLARIANT的NN 120溶液中所制备的)、0.7重量份的经丙烯酸类系列表面处理的疏水性二氧化硅颗粒(颗粒直径在80nm至100nm的水平)和基于胺的固化剂。使经干燥的膜的涂层在向其上施加恒定张力的状态下通过辊固化机的导辊，并且在Ar:O2＝约1:1(基于sccm)的流量、约138毫托的压力、约0.27W/cm2的功率和约20J/cm2的能量的条件下进行对聚硅氮烷层的等离子体处理。
实施例4
以与实施例3中相同的方式生产阻挡膜，不同之处在于在含聚硅氮烷的组合物中，使用商品名NL120聚硅氮烷(包含不同于DMEA的无机催化剂)。
比较例1
以与实施例3中相同的方式生产阻挡膜，不同之处在于不使用二氧化硅颗粒。
比较例2
以与实施例4中相同的方式生产阻挡膜，不同之处在于不使用二氧化硅颗粒。
实施例3和4以及比较例1和2的阻挡膜的摩擦系数的评估结果示于表2中。以与先前实验例中相同的方式测量摩擦系数。
[表2]
Figure GDA0003401521300000201
如上表2，在包含二氧化硅颗粒使得能够形成表面不规则性的实施例的情况下，动摩擦系数和静摩擦系数的值可以为0.4或更小，因此，可以看出在辊对辊过程中滑动特性优异，并且可以防止对聚硅氮烷层或固化层的损坏。
作为参考，如关于测量方法所述，摩擦系数意指向样品施加的负荷与拉力之间的比率，其中其大小不可以超过1。仅当拉力的大小恒定时可以测量摩擦系数，而如比较例1和2中摩擦系数不可测量的事实意指拉力不是恒定的并且变化很大。即，在比较例1和2中，可以确定，在辊对辊过程中在展开或卷绕时所需的足够的滑动特性无法得到确保。
实验例3：水蒸气透过速率的比较(1)
实施例5
使用以上实施例1中生产的阻挡膜。
实施例6
使用以上实施例2中生产的阻挡膜。
比较例3
使用与实施例5中生产的阻挡膜相同的膜，不同之处在于不包含二氧化硅颗粒。
比较例4
使用与实施例6中生产的阻挡膜相同的膜，不同之处在于不包含二氧化硅颗粒。
实施例5和6以及比较例3和4的阻挡膜的水蒸气透过速率的测量结果示于表3。
*水蒸气透过速率的测量方法：使用测量设备(MOCON Aquatron 1)，并根据ISO15106-3标准在38℃的温度和100％的相对湿度下测量它。
[表3]
Figure GDA0003401521300000211
如表3所示，可以确定实施例的阻挡膜具有优异的阻挡特性(低的水蒸气透过速率)。认为这是因为根据实施例的具有表面不规则性的阻挡膜防止了在辊对辊过程期间对阻挡层的损坏。
实验例4：水蒸气透过速率的比较(2)
实施例7
使用实施例1中生产的阻挡膜(固化层的数量：1)。
实施例8
使用实施例2中生产的阻挡膜(固化层的数量：1)。
实施例9
以与实施例1中相同的方式生产包括PET基础材料、平坦化层和聚硅氮烷的固化层1的阻挡膜，不同之处在于在NN 120中，用二丁醚将聚硅氮烷稀释至4％。
使用相同浓度的硅氮烷涂覆液(在NN 120中，聚硅氮烷用二丁醚被稀释至4％)在固化层1上进一步形成聚硅氮烷层，并且在与实施例1中相同的条件下进行等离子体处理以进一步层合无机层2(固化层的数量：2)。
实施例10
以与实施例2中相同的方式生产包括PET基础材料、平坦化层和聚硅氮烷的固化层1-1的阻挡膜，不同之处在于在NL 120中，用二丁醚将聚硅氮烷稀释至4％。
使用相同浓度的硅氮烷涂覆液(在NL 120中，聚硅氮烷用二丁醚被稀释至4％)在固化层1上进一步形成聚硅氮烷层，并且在与实施例2中相同的条件下进行等离子体处理以进一步层合无机层2-1(固化层的数量：2)。
实施例7至10的阻挡膜的水蒸气透过速率的测量结果示于表4中。以与先前实验例中相同的方式测量水蒸气透过速率。
[表4]
Figure GDA0003401521300000221
如表4所示，可以确定具有两个或更多个具有表面不规则性的固化层的阻挡膜具有比由单个层形成的阻挡膜更优异的水蒸气透过速率。

Claims (13)

1.一种阻挡膜，包括：
基础层；和
阻挡层，所述阻挡层位于所述基础层的一侧上，并且包含通过使聚硅氮烷层固化而形成的固化层，所述聚硅氮烷层具有通过从表面突起而形成的凹凸结构的表面，
其中所述聚硅氮烷层包含颗粒，并且
其中所述聚硅氮烷层的聚硅氮烷具有下式1的单元：
[式1]
Figure FDA0003401521290000011
在式1中，R1、R2和R3各自独立地为氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、烷基甲硅烷基、烷基酰胺基或烷氧基。
2.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述表面为所述聚硅氮烷层的面对所述基础层的表面的相反表面。
3.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述聚硅氮烷层或其固化层的动摩擦系数为0.4或更小。
4.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述聚硅氮烷层或其固化层的静摩擦系数为0.4或更小。
5.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中从所述表面突起的所述颗粒的高度在通过原子力显微镜测量时为5nm或更大。
6.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述聚硅氮烷层包含直径大于所述聚硅氮烷层的高度的颗粒。
7.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述聚硅氮烷层包含直径小于所述聚硅氮烷层的高度的颗粒，其中所述颗粒以漂浮状态存在于所述聚硅氮烷层的所述表面上。
8.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述颗粒为选自粘土、滑石、氧化铝、碳酸钙、氧化锆和二氧化硅颗粒的无机颗粒。
9.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中相对于100重量份的所述聚硅氮烷层的聚硅氮烷，所述颗粒以5重量份或更小的量包含在内。
10.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述颗粒的直径在5nm至200nm的范围内。
11.根据权利要求1所述的阻挡膜，还包括在所述基础层与所述阻挡层之间的中间层，
其中所述中间层包含丙烯酸类树脂、氨酯树脂、三聚氰胺树脂、醇酸树脂、环氧树脂、硅氧烷聚合物或由下式2表示的有机硅烷化合物的缩合产物：
[式2]
Figure FDA0003401521290000021
在式2中，X为氢、卤素、烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N(R2)2，其中R2为氢或烷基，R1为烷基、烯基、炔基、芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、卤素、氨基、酰胺基、醛基、烷基羰基、羧基、巯基、氰基、羟基、烷氧基、烷氧基羰基、磺酰基、磷酰基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基或环氧基，Q为单键、氧元素或-N(R2)-，其中R2为氢元素或烷基，以及m为1至3范围内的数。
12.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阻挡膜的如在38℃的温度和100％的相对湿度下测量的水蒸气透过速率为10mg/m2·天或更小。
13.一种电气或电子元件，包括根据权利要求1所述的阻挡膜。
CN201880073318.9A 2017-11-28 2018-11-28 阻挡膜 Active CN111356583B (zh)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20170160879 2017-11-28
KR10-2017-0160879 2017-11-28
KR1020180146895A KR102230817B1 (ko) 2017-11-28 2018-11-26 배리어 필름
KR10-2018-0146895 2018-11-26
PCT/KR2018/014774 WO2019107892A1 (ko) 2017-11-28 2018-11-28 배리어 필름

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN111356583A CN111356583A (zh) 2020-06-30
CN111356583B true CN111356583B (zh) 2022-04-15

Family

ID=66845591

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201880073318.9A Active CN111356583B (zh) 2017-11-28 2018-11-28 阻挡膜

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11458703B2 (zh)
EP (1) EP3718763A4 (zh)
JP (1) JP7252228B2 (zh)
KR (1) KR102230817B1 (zh)
CN (1) CN111356583B (zh)
TW (1) TWI728282B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140154518A1 (en) * 2012-12-03 2014-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Barrier film and method of manufacturing the same
CN104039544A (zh) * 2011-10-24 2014-09-10 Tbf有限公司 封装阻隔叠层
WO2015060394A1 (ja) * 2013-10-24 2015-04-30 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム
CN105026141A (zh) * 2013-03-11 2015-11-04 柯尼卡美能达株式会社 气体阻隔膜、气体阻隔膜的制造方法、及有机电致发光元件
CN105220564A (zh) * 2010-11-05 2016-01-06 国际纸业公司 具有水分阻挡层的包装材料及其制备方法
US20170235025A1 (en) * 2014-11-14 2017-08-17 Toppan Printing Co., Ltd. Optical film, and optical barrier film, color conversion film and backlight unit each using the same

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59219337A (ja) 1983-05-30 1984-12-10 Toyobo Co Ltd 金属蒸着用ポリアミドフイルムの巻上げロ−ル
KR20140068547A (ko) 2012-11-28 2014-06-09 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시장치 및 그 제조방법
JPWO2014178332A1 (ja) 2013-05-01 2017-02-23 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよびその製造方法
JP2015047790A (ja) 2013-09-02 2015-03-16 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルムおよびこれを含む電子デバイス
EP2913355A1 (en) * 2014-02-28 2015-09-02 AZ Electronic Materials (Germany) GmbH Hybrid material for optoelectronic applications
KR101798750B1 (ko) 2016-02-17 2017-11-16 도레이첨단소재 주식회사 가스 배리어성 필름 및 그 제조방법
KR20170113451A (ko) * 2016-03-31 2017-10-12 주식회사 엘지화학 배리어 필름
US11008431B2 (en) 2016-03-31 2021-05-18 Lg Chem, Ltd. Method for preparing a barrier film
KR102070632B1 (ko) * 2016-03-31 2020-01-29 주식회사 엘지화학 배리어 필름의 제조 방법
CN106700927A (zh) * 2017-01-19 2017-05-24 北京国电富通科技发展有限责任公司 长效自洁防污涂料及其制备和使用方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105220564A (zh) * 2010-11-05 2016-01-06 国际纸业公司 具有水分阻挡层的包装材料及其制备方法
CN104039544A (zh) * 2011-10-24 2014-09-10 Tbf有限公司 封装阻隔叠层
US20140154518A1 (en) * 2012-12-03 2014-06-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Barrier film and method of manufacturing the same
CN105026141A (zh) * 2013-03-11 2015-11-04 柯尼卡美能达株式会社 气体阻隔膜、气体阻隔膜的制造方法、及有机电致发光元件
WO2015060394A1 (ja) * 2013-10-24 2015-04-30 コニカミノルタ株式会社 ガスバリア性フィルム
US20170235025A1 (en) * 2014-11-14 2017-08-17 Toppan Printing Co., Ltd. Optical film, and optical barrier film, color conversion film and backlight unit each using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP7252228B2 (ja) 2023-04-04
KR102230817B9 (ko) 2022-01-17
TWI728282B (zh) 2021-05-21
EP3718763A1 (en) 2020-10-07
KR102230817B1 (ko) 2021-03-23
EP3718763A4 (en) 2021-01-06
KR20190062244A (ko) 2019-06-05
JP2021504185A (ja) 2021-02-15
US11458703B2 (en) 2022-10-04
CN111356583A (zh) 2020-06-30
US20210114331A1 (en) 2021-04-22
TW201924933A (zh) 2019-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10858537B2 (en) Gas-barrier film and method of manufacturing the same
TWI510365B (zh) 多層塑膠基板及製造其之方法
TW200532237A (en) Plastic substrate having multi-layer structure and method for preparing the same
JP2007090803A (ja) ガスバリアフィルム、並びに、これを用いた画像表示素子および有機エレクトロルミネッセンス素子
KR101284958B1 (ko) 치수 안정성과 가스차단 특성이 우수한 다층 구조의플라스틱 기판 및 그 제조방법
JP2006247894A (ja) ガスバリアフィルム、並びに、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子および画像表示素子
CN111989598B (zh) 光扩散阻挡膜
KR20170091396A (ko) 투명 배리어 필름
CN111356583B (zh) 阻挡膜
TWI712507B (zh) 隔離膜、電性元件及電子元件
TWI748269B (zh) 隔離膜以及包含其的電性或電子元件
KR102141632B1 (ko) 배리어 필름
JP5757170B2 (ja) ガスバリア性フィルムの製造方法
CN112912539B (zh) 阻挡膜
CN112912541B (zh) 阻挡膜
CN109627977B (zh) 一种有机/无机混合涂布液及其应用
WO2019107892A1 (ko) 배리어 필름

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant