JP2014225438A - 発光装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】発光素子の反射電極111の表面に複数の凹部141を形成する。複数の凹部は互いに異なる形状とし、かつ回転対称性を有さない形状とする。反射電極の表面に複数の凹部を形成するには、例えば、反射電極の下地となる絶縁層122の表面を凹凸状とする。絶縁層表面形状を反映して、反射電極には凹凸表面が形成される。
【選択図】図2
Description
図1乃至図3Cを用いて、本実施の形態を説明する。本実施の形態では、発光装置の一例として、アクティブマトリクス型のエレクトロルミネセンス表示装置について説明する。EL表示装置は、ELパネル、コントローラ、電源回路等を有する発光装置であり、また半導体装置でもある。
図3Aは、アクティブマトリクス型のEL表示装置の構成の一例を示すブロック図である。図3Bは、EL表示装置を構成するELパネルの構成の一例を示す平面図である。また、図3Cは、画素回路の構成の一例を示す回路図である。
以下、図1を用いて、ELパネル60のより具体的な構成について説明する。本実施の形態では、EL素子の反射電極の表面形状の不規則性を高めることで、反射電極での反射光による、干渉縞や像の映り込みが抑制されることを説明する。
回路基板101は、基板71上に形成されるトランジスタ層103と、トランジスタ層103上に形成されたEL素子31とを含む。トランジスタ層103には、画素部20およびドライバ(21、22)を構成するトランジスタ、容量素子、配線群が設けられている。図1では、代表的に、画素回路30のトランジスタ33および絶縁層121を示している。
CF(カラーフィルタ)基板102は対向基板と呼ばれることもある。CF基板102には、ブラックマトリクスと、カラーフィルタが形成されている。基板72には、カラーフィルタ層181、カラーフィルタ層182、カラーフィルタ層183が形成されている。各カラーフィルタ層181−183は、発光層113で発した光(白色光)100を、異なる色の光に変換するための光学フィルター層である。例えば、カラーフィルタ層181−183を、赤色、緑色、および青色のカラーフィルタとすることで、ELパネル60においてカラー表示が行える。なお、基板71に、カラーフィルタ(カラーフィルタ層181−183)を形成してもよい。
本実施の形態により、EL素子の反射電極の表面形状の不規則性を高めることができるため、ELパネル画面の外光の反射による像の映り込みや、干渉縞を抑制することが可能である。以下図2A、図2Bおよび図2Cを用いて、反射電極の構成をより詳細に説明する。
実施の形態1で述べたように、EL素子の反射電極の表面に、形状が異なる複数の凹部を形成するが、画素部全体において、全ての反射電極の表面の形状を異ならせることは、設計上困難である。そこで、本実施の形態では、反射電極の表面形状の不規則性を高めつつ、大画面化、高精細化が容易な発光装置について説明する。
ELパネルの画素部には、複数のゲート線301(以下、GL301とも呼ぶ。)、および複数のソース線321(以下、SL321とも呼ぶ。)、電源線302(以下、ANL302とも呼ぶ。)および、電源線322(以下、PVL322とも呼ぶ。)が形成されている。
ELパネル260においては、全ての画素回路230において、ED1は、白色を呈する光を発する発光素子とし、カラーフィルタ基板に、RGB(赤・緑・青)のカラーフィルタを設けることで、カラー表示を行う。そのため、単位画素(Pix)は、RGBに対応して、同じ行に設け隣接して設けられる3つの画素回路230で構成される。図5Bは、単位画素の平面レイアウトに対応する。また、図4はELパネル260の断面として、画素回路230の断面を示している。なお、図4は、画素回路230を特定の切断線で切った断面図ではなく、画素回路230の積層構造を説明するための図である。図4には、トランジスタM2、容量素子Cp1およびED1を示している。
以下、図4乃至図8Bを参照して、画素回路230の構成、およびその作製方法を説明する。なお、回路基板201には、画素回路230の作製工程により、ソースドライバ及びゲートドライバも同時に作製される。そのため、画素回路230と同様な構成のトランジスタや容量素子が、ドライバに形成される。回路基板201は、回路基板101と同様に作製することができる。
まず、基板401上に、第1層の配線/電極(GL301、ANL302、電極303)を形成する(図6A)。電極303は、トランジスタM2のゲート電極、および容量素子Cp1の端子(電極)を構成する。第1層の配線/電極(301、302、303)は、1層または2層以上の導電膜で形成される。このような導電膜としては、アルミニウム、クロム、銅、タンタル、チタン、モリブデン、およびタングステン等の金属膜、これら金属膜に他の金属元素を添加した膜、これら金属元素を1種または複数含む合金、または化合物でなる膜等を用いることができる。例えば、スパッタ法により、厚さ180nm以上250nm以下のタングステン膜を形成し、フォトリソグラフィ工程とエッチング工程により、このタングステン膜を加工して、第1層の配線/電極(301−303)を形成する。
次に、トランジスタM1−M3、および容量素子Cp1を覆う絶縁層352を形成する(図4)。絶縁層352は、絶縁層351と同様に形成することができる。例えば、酸化窒化シリコン膜−酸化窒化シリコン膜−窒化シリコン膜の3層構造の膜を絶縁層352として形成する。次に、電極324に達する開口413を絶縁層352に形成する(図6B)。
CF基板202は、CF基板102と同様に作製することができる。基板402上に、ブラックマトリクスとして機能する遮光層379を形成する。そして、カラーフィルタを構成する、カラーフィルタ層(380R、380G、380B)を形成する。図8Bに示すように、SL321に沿って、RGBに対応するカラーフィルタ層(380R、380G、380B)がライン状に形成される。
本実施の形態では、画素部の全ての反射電極を1枚の鏡面とみなしたとき、その鏡面の表面形状の不規則性を高めつつ、大画面化、高精細化が容易な発光装置について説明する。本実施の形態では、ELパネル260(図4)を例に、反射電極の表面形状の不規則性を高める手段について説明する。
A(49.6%、53.1%、54.2%)
B(50.5%、56.2%、52.6%)
C(49.6%、52.9%、50.5%)
D(48.7%、54.4%、50.4%)
本実施の形態では、発光装置を表示部に備えた電子機器について説明する。また、発光装置の一例として照明装置について説明する。
20 画素部
21 ゲートドライバ
22 ソースドライバ
30 画素回路
31 EL素子
32 トランジスタ
33 トランジスタ
34 容量素子
41 ゲート線
42 ソース線
45 配線
51 コントローラ
52 電源回路
60 ELパネル
71、72 基板
81 シール部材
82 端子部
91 FPC
100 光
101 回路基板
102 CF基板
103 トランジスタ層
104 空間
111 反射電極層
112 透光性電極層
113 発光層
121−124 絶縁層
130 開口
140 領域
141、141a 凹部
142 開口
180 遮光層
181−183 カラーフィルタ層
184 オーバーコート層
185 オーバーコート層
Claims (9)
- 第1の電極と、
前記第1の電極上に形成された発光層と、
前記発光層を介して、前記第1の電極と重なる第2の電極と
を有する発光装置であって、
前記第1の電極の、前記発光層及び前記第2の電極と重なる領域の表面には複数の凹部が形成され、
前記複数の凹部の平面形状は、互いに異なり、かつ回転対称性を有さない形状であることを特徴とする発光装置。 - 請求項1において、
前記凹部の深さは、0.2μm以上1.5μm以下であることを特徴とする発光装置。 - 請求項1又は2において、
前記凹部の傾斜角度は、2°以上15°以下であることを特徴とする発光装置。 - 請求項1乃3の何れか1項において、
前記凹部の平面形状は、当該外接円の直径が30μm以下5μm以上となる大きさであることを特徴とする発光装置。 - 絶縁層と、
前記絶縁層上に形成された複数の発光素子と、
を有する発光装置であって、
前記発光素子は、
前記絶縁層に接する第1の導電層と、
前記第1の導電層上に形成された発光層と、
前記発光層を介して、前記第1の導電層と重なる第2の導電層と
を有し、
前記絶縁層の、前記第1の導電層、前記発光層及び前記第2の導電層と重なる領域の表面には複数の凹部が形成され、
前記複数の凹部の平面形状は、互いに異なり、かつ回転対称性を有さない形状であることを特徴とする発光装置。 - 請求項5において、
前記凹部の深さは、0.2μm以上1.5μm以下であることを特徴とする発光装置。 - 請求項5又は6において、
前記凹部の傾斜角度は、2°以上15°以下であることを特徴とする発光装置。 - 請求項5乃至7の何れか1項において、
前記凹部の平面形状は、当該外接円の直径が30μm未満かつ10μmを超える大きさであることを特徴とする発光装置。 - 請求項5乃至8の何れか1項において、
前記絶縁層は、1種類または複数種類の前記複数の凹部の分布が共通する領域がアレイ状に配列されている領域を、有することを特徴とする発光装置。
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