JP2012003925A - 表示装置 - Google Patents
表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012003925A JP2012003925A JP2010137260A JP2010137260A JP2012003925A JP 2012003925 A JP2012003925 A JP 2012003925A JP 2010137260 A JP2010137260 A JP 2010137260A JP 2010137260 A JP2010137260 A JP 2010137260A JP 2012003925 A JP2012003925 A JP 2012003925A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light emitting
- layer
- pixels
- display device
- organic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 236
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 42
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000001788 irregular Effects 0.000 claims description 3
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 87
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 62
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 62
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 23
- 239000000463 material Substances 0.000 description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 8
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 7
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 4
- DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 4-n-(3-methylphenyl)-1-n,1-n-bis[4-(n-(3-methylphenyl)anilino)phenyl]-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound CC1=CC=CC(N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 DIVZFUBWFAOMCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N coumarin 6 Chemical compound C1=CC=C2SC(C3=CC4=CC=C(C=C4OC3=O)N(CC)CC)=NC2=C1 VBVAVBCYMYWNOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- XSUNFLLNZQIJJG-UHFFFAOYSA-N 2-n-naphthalen-2-yl-1-n,1-n,2-n-triphenylbenzene-1,2-diamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C(=CC=CC=1)N(C=1C=CC=CC=1)C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1)C1=CC=CC=C1 XSUNFLLNZQIJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- -1 8-quinolinol aluminum Chemical compound 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017073 AlLi Inorganic materials 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000583 Nd alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N aluminum neodymium Chemical compound [Al].[Nd] UBSJOWMHLJZVDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- WNDSQRGJJHSKCQ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarbonitrile Chemical compound C1=CC=C2C(C#N)=CC=CC2=C1C#N WNDSQRGJJHSKCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
- H10K59/35—Devices specially adapted for multicolour light emission comprising red-green-blue [RGB] subpixels
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/22—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
- G09G3/30—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
- G09G3/32—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
- G09G3/3208—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED]
- G09G3/3225—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED] using an active matrix
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
- H10K50/81—Anodes
- H10K50/813—Anodes characterised by their shape
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1213—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being TFTs
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/121—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements
- H10K59/1216—Active-matrix OLED [AMOLED] displays characterised by the geometry or disposition of pixel elements the pixel elements being capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/124—Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
- H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/17—Passive-matrix OLED displays
- H10K59/179—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/30—Devices specially adapted for multicolour light emission
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2300/00—Aspects of the constitution of display devices
- G09G2300/08—Active matrix structure, i.e. with use of active elements, inclusive of non-linear two terminal elements, in the pixels together with light emitting or modulating elements
- G09G2300/0809—Several active elements per pixel in active matrix panels
- G09G2300/0842—Several active elements per pixel in active matrix panels forming a memory circuit, e.g. a dynamic memory with one capacitor
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2310/00—Command of the display device
- G09G2310/02—Addressing, scanning or driving the display screen or processing steps related thereto
- G09G2310/0264—Details of driving circuits
- G09G2310/0286—Details of a shift registers arranged for use in a driving circuit
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2310/00—Command of the display device
- G09G2310/08—Details of timing specific for flat panels, other than clock recovery
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G2330/00—Aspects of power supply; Aspects of display protection and defect management
- G09G2330/02—Details of power systems and of start or stop of display operation
- G09G2330/028—Generation of voltages supplied to electrode drivers in a matrix display other than LCD
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/22—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
- G09G3/30—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
- G09G3/32—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
- G09G3/3208—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED]
- G09G3/3225—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED] using an active matrix
- G09G3/3233—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED] using an active matrix with pixel circuitry controlling the current through the light-emitting element
-
- G—PHYSICS
- G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
- G09G—ARRANGEMENTS OR CIRCUITS FOR CONTROL OF INDICATING DEVICES USING STATIC MEANS TO PRESENT VARIABLE INFORMATION
- G09G3/00—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes
- G09G3/20—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters
- G09G3/22—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources
- G09G3/30—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels
- G09G3/32—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED]
- G09G3/3208—Control arrangements or circuits, of interest only in connection with visual indicators other than cathode-ray tubes for presentation of an assembly of a number of characters, e.g. a page, by composing the assembly by combination of individual elements arranged in a matrix no fixed position being assigned to or needed to be assigned to the individual characters or partial characters using controlled light sources using electroluminescent panels semiconductive, e.g. using light-emitting diodes [LED] organic, e.g. using organic light-emitting diodes [OLED]
- G09G3/3266—Details of drivers for scan electrodes
Abstract
【課題】薄型であり、より良好な画像表示性能を発揮し得る表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、基板上に、第1電極層、発光層を含む有機層、および第2電極層が各々順に積層されてなり互いに異なる色光を発する発光部10R,10G,10Bをそれぞれ含む複数の画素Pを備える。任意の画素Pにおける発光部10R,10G,10Bの有機層同士は、互いに異なる起伏をなす膜面を有する。これにより、発光部10R,10G,10Bの各有機層の膜面での外光反射光の角度にばらつきが生じるので、干渉が低減される。
【選択図】図3
【解決手段】この表示装置は、基板上に、第1電極層、発光層を含む有機層、および第2電極層が各々順に積層されてなり互いに異なる色光を発する発光部10R,10G,10Bをそれぞれ含む複数の画素Pを備える。任意の画素Pにおける発光部10R,10G,10Bの有機層同士は、互いに異なる起伏をなす膜面を有する。これにより、発光部10R,10G,10Bの各有機層の膜面での外光反射光の角度にばらつきが生じるので、干渉が低減される。
【選択図】図3
Description
本発明は、有機層を含む自発光型の発光素子を備えた表示装置に関する。
近年、液晶ディスプレイに代わる表示装置として、有機層を含む自発光型の有機発光素子を用いた有機ELディスプレイが実用化されている。有機ELディスプレイは、自発光型であるので、液晶などに比較して視野角が広く、また、高精細度の高速ビデオ信号に対しても十分な応答性を有するものである。
これまで有機発光素子については、共振器構造を導入し、発光色の色純度を向上させたり発光効率を高めたりするなど発光層で発生する光を制御することにより、表示性能を向上させる試みがなされている(例えば、特許文献1参照)。例えば図13に示したように、基板と反対側の面(上面)から光を取り出すトップエミッション方式の有機発光素子における発光部Z10は、基板の上に、駆動トランジスタZTr1を介してアノード電極Z13と有機層Z14とカソード電極Z16とが順に積層された構造を採用し、アノード電極Z13とカソード電極Z16との間で有機層Z14からの光を多重反射させている。ここで、駆動トランジスタZTr1は、発光部Z10の駆動を行うものであり、信号線Z120Aなどと共に画素駆動回路を構成している。なお、図13において、Z111は基板であり、Z212は駆動トランジスタZTr1のゲート絶縁膜であり、Z217は窒化ケイ素などからなる保護膜であり、Z218はポリイミドなどからなる平坦化膜である。さらに、Z17は補助配線としての金属層であり、Z24は開口規定絶縁膜であり、Z18は窒化ケイ素などからなる保護膜であり、Z19は透明材料からなる封止基板である。
ところで、一般的な有機ELディスプレイでは、図13に示したように、有機発光素子Z10は、発光領域において平坦な形状ではなく、積層方向に凹凸を含む立体形状を有している。このため、外光LINが発光部Z10へ入射した場合に、正反射光以外の反射光LRによって回折現象が生じ、観察者の位置によっては虹色の不要光が視認されることがある。この虹色の不要光は、画素内の有機発光素子同士あるいは隣接画素間において干渉し合い、特定の角度において強められてしまうおそれがある。
具体的には、下記の条件式(1)を満たす場合に反射光LRの強度が強まり、下記の条件式(2)を満たす場合に反射光LRの強度が弱まると考えられる。但し、mは整数であり、λは波長であり、Pは画素の配列ピッチであり、θは正反射光に対する反射光LRの角度である。
m・λ=P・sinθ ……(1)
(m+1/2)・λ=P・sinθ ……(2)
そのような干渉が生じた場合、観察者が本来の表示画像を認識するにあたり、大きな妨げとなってしまう。
m・λ=P・sinθ ……(1)
(m+1/2)・λ=P・sinθ ……(2)
そのような干渉が生じた場合、観察者が本来の表示画像を認識するにあたり、大きな妨げとなってしまう。
このような立体形状は、発光部Z10の下層に位置する駆動トランジスタTr1のほか、信号線Z120Aなどの配線の存在に起因するものである。したがって、画素駆動回路を覆う保護膜Z217や平坦化膜Z218の厚さを十分に大きくすれば、発光部Z10が形成される平坦化膜Z218の上面を極めて精度の高い平坦面とすることができるので、自ずと発光部Z10の平坦性も向上する。しかしながら、その場合には全体の厚さが増大してしまい、液晶ディスプレイなどと比較して薄型化に有利であるという有機ELディスプレイ本来の利点を損なうおそれが生ずる。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、薄型でありながら、より良好な画像表示性能を発揮し得る表示装置を提供することにある。
本発明の表示装置は、基板上に、第1電極層と発光層を含む有機層と第2電極層とが各々順に積層されると共に互いに異なる色光を発する第1から第3の発光素子をそれぞれ有する複数の画素を備える。ここで、1以上の画素における第1から第3の発光素子の有機層同士が、互いに異なる起伏をなす膜面を有する。
本発明の表示装置では、複数の画素のうちの少なくとも1つが、有機層同士の膜面の起伏が互いに異なる第1から第3の発光素子を有するようにしたので、その画素内において、各有機層の膜面での外光反射光の角度にばらつきが生じることとなり、結果として干渉が生じにくくなる。
本発明の表示装置によれば、複数の画素のうちの1以上の画素において、第1から第3の発光素子の有機層同士が互いに異なる起伏をなす膜面を有するようにしたので、少なくともその画素内での外光反射の干渉を十分に低減することができる。このため、薄型化した場合であっても、本来の表示画像を認識する際の妨げとなる不要光の発生を低減し、より良好な画像表示性能を確保することができる。
以下、本発明を実施するための形態(以下、実施の形態という。)について、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、本発明における一実施の形態に係る有機発光素子を用いた表示装置の構成を表すものである。この表示装置は、極薄型の有機発光カラーディスプレイ装置などとして用いられる。この表示装置は、基板111の上に表示領域110が形成されたものである。基板111上の表示領域110の周辺には、例えば映像表示用のドライバである信号線駆動回路120、走査線駆動回路130および電源供給線駆動回路140が形成されている。
表示領域110には、マトリクス状に二次元配置された複数の発光部10(10R,10G,10B)と、それらを駆動するための画素駆動回路150とを含む有機発光素子1R,1G,1B(図1では示さず。)が形成されている。画素駆動回路150において、列方向(Y方向)には複数の信号線120A(120A1,120A2,・・・,120Am,・・・)が配置され、行方向(X方向)には複数の走査線130A(130A1,・・・,130An,・・・)および複数の電源供給線140A(140A1,・・・,140An,・・・)が配置されている。各信号線120Aと各走査線130Aとの各交差点に、発光部10R,10G,10Bのいずれか一つが対応して設けられている。各信号線120Aは信号線駆動回路120に接続され、各走査線130Aは走査線駆動回路130に接続され、各電源供給線140Aは電源供給線駆動回路140に接続されている。
信号線駆動回路120は、信号供給源(図示せず)から供給される輝度情報に応じた映像信号の信号電圧を、信号線120Aを介して選択された各発光部10R,10G,10Bに供給するものである。
走査線駆動回路130は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどによって構成されている。走査線駆動回路130は、各発光部10R,10G,10Bへの映像信号の書き込みに際し行単位でそれらを走査し、各走査線130Aに走査信号を順次供給するものである。
電源供給線駆動回路140は、入力されるクロックパルスに同期してスタートパルスを順にシフト(転送)するシフトレジスタなどによって構成されている。電源供給線駆動回路140は、走査線駆動回路130による行単位の走査と同期して、各電源供給線140Aに対し互いに異なる第1電位および第2電位のいずれかを適宜供給する。これにより、後述する駆動トランジスタTr1の導通状態または非導通状態の選択が行われる。
画素駆動回路150は、基板111と発光部10(10R,10G,10B)との間の階層(後述の画素駆動回路形成層112)に設けられている。図2に、画素駆動回路150の一構成例を表す。図2に示したように、画素駆動回路150は、駆動トランジスタTr1および書込トランジスタTr2と、その間のキャパシタ(保持容量)Csと、発光部10とを有するアクティブ型の駆動回路である。発光部10R,10G,10Bは、電源供給線140Aおよび共通電源供給線(GND)の間において駆動トランジスタTr1と直列に接続されている。駆動トランジスタTr1および書込トランジスタTr2は、一般的な薄膜トランジスタ(TFT(Thin Film Transistor))により構成され、その構成は例えば逆スタガー構造(いわゆるボトムゲート型)でもよいしスタガー構造(トップゲート型)でもよく特に限定されない。
書込トランジスタTr2は、例えばドレイン電極が信号線120Aと接続されており、信号線駆動回路120からの映像信号が供給されるようになっている。また、書込トランジスタTr2のゲート電極は走査線130Aと接続されており、走査線駆動回路130からの走査信号が供給されるようになっている。さらに、書込トランジスタTr2のソース電極は、駆動トランジスタTr1のゲート電極と接続されている。
駆動トランジスタTr1は、例えばドレイン電極が電源供給線140Aと接続されており、電源供給線駆動回路140による第1電位または第2電位のいずれかに設定される。駆動トランジスタTr1のソース電極は、発光部10と接続されている。
保持容量Csは、駆動トランジスタTr1のゲート電極(書込トランジスタTr2のソース電極)と、駆動トランジスタTr1のソース電極との間に形成されるものである。
図3に、XY平面に広がる表示領域110の一構成例を表す。ここでは、第2電極層16、保護膜18および封止基板19(いずれも後出)を取り去った状態の表示領域110を、上方から眺めた平面構成を表す。表示領域110には、複数の発光部10が、全体としてマトリックス状に順に配列されている。より詳細には、補助配線層としての金属層17が格子状に設けられており、それによって区画された各領域に、開口規定絶縁膜24によって輪郭が規定された発光領域20を含む発光部10(10R,10G,10B)が1つずつ配置されている。各発光部10の発光領域20の形状は、例えばY方向を長辺とする略矩形状となっている。有機発光素子1Rの発光部10Rは赤色光を発し、有機発光素子1Gの発光部10Gは緑色光を発し、有機発光素子1Bの発光部10Bは青色光を発する。ここでは、同色光を発する発光部10を有する有機発光素子1をY方向に一列に並べ、それをX方向に一定の順序(例えば有機発光素子1R、有機発光素子1G、有機発光素子1Bの順序)で繰り返し配置するようにしている。X方向に並び、互いに発光色の異なる3つの有機発光素子1R,1G,1Bが1つの画素(ピクセル)Pを構成している。X方向に並ぶ画素P(…,Pm,n-1,Pm,n,Pm,n+1,…)の配列周期PTxは、Y方向に並ぶ画素P(…,Pm-1,n,Pm,n,Pm+1,n,…)の配列周期PTyよりも長くなっている。図3に示したように、金属層17の交差点のうちのいくつかには、開口規定絶縁膜24に開口24Kが設けられている。この開口24Kに含まれる領域には、金属層17と発光部10の第2電極層16との接続を図るための接続部21(破線で囲んだ部分)が設けられている。なお、X方向およびY方向に並ぶ有機発光素子1(発光部10)の数は任意に設定されるものであり、図3に示した数に限定されるものではない。また、1つの画素を4以上の有機発光素子によって構成してもよいし、白色光を発する有機発光素子をさらに設けるようにしてもよい。
次に、図4〜図9を参照して、表示領域110の詳細な構成について説明する。
図4〜図6は、それぞれ、表示領域110における画素1m,nの有機発光素子1R,1G,1Bの断面構成を表すものである。すなわち、図4、図5および図6は、図3に示したIV−IV線、V−V線およびVI−VI線に沿ったXZ断面の概略構成をそれぞれ表している。図4〜図6に示したように、表示領域110では、基板111に画素駆動回路形成層112が設けられてなる基体11の上に、発光部10を含む発光部形成層12が形成されている。発光部10の上には、保護膜18と封止基板19とが順に設けられている。発光部10は、基板111の側から、アノード電極としての第1電極層13、発光層14C(後出)を含む有機層14、およびカソード電極としての第2電極層16が各々順に積層されたものである。有機層14および第1電極層13は、開口規定絶縁膜24によって発光部10ごとに分離されている。一方、第2電極層16は、全ての発光部10に共通して設けられている。金属層17は、開口24Kに対応した領域を除き、開口規定絶縁膜24によって埋設されている。
開口規定絶縁膜24は、隣り合う発光部10における第1電極層13および有機層14同士の隙間を埋めるように設けられている。開口規定絶縁膜24は、例えばポリイミドなどの有機材料からなり、第1電極層13と、第2電極層16および金属層17との絶縁性を確保すると共に、発光部10の発光領域20を正確に画定するものでもある。
発光部10を覆う保護膜18は、窒化ケイ素(SiNx )などの絶縁材料からなる。また、その上に設けられた封止基板19は、保護膜18や接着層(図示せず)などと共に発光部10を封止するものであり、発光層14Cにおいて発生した光を透過する透明なガラスなどの材料により構成されている。
以下、基体11および有機発光素子1の詳細な構成について説明する。なお、有機発光素子1R,1G,1Bは、互いに第1電極層13,有機層14および第2電極層16の立体形状(凹凸形状)および有機層14の構成材料が一部異なることを除き、他は共通の構成であるので、以下では、まとめて説明する。
図7(A)は、画素駆動回路形成層112に設けられた、有機発光素子1Rの画素駆動回路150の平面構成を表す概略図である。同様に、図7(B),7(C)は、それぞれ、有機発光素子1G,1Bにおける画素駆動回路150の平面構成を表す概略図である。なお、図4は、図7(A)に示したIV−IV線に沿った断面に相当する。同様に、図5および図6は、図7(B)および図7(C)に示したV−V線,VI−VI線に沿った断面に相当する。
基体11は、ガラス,シリコン(Si)ウェハあるいは樹脂などよりなる基板111に、画素駆動回路150を含む画素駆動回路形成層112が設けられたものである。基板111の表面には、第1階層の金属層として、駆動トランジスタTr1のゲート電極である金属層211Gと、書込トランジスタTr2のゲート電極である金属層221Gと、信号線120Aの一部(図7(A)〜7(C))とがそれぞれ設けられている。これら金属層211G,221Gおよび信号線120Aは、窒化ケイ素や酸化ケイ素などからなるゲート絶縁膜212によって覆われている。
駆動トランジスタTr1において、ゲート絶縁膜212上の、金属層211Gに対応する領域の一部には、アモルファスシリコンなどの半導体薄膜からなるチャネル層213が設けられている。チャネル層213上には、その中心領域であるチャネル領域213Rを占めるように絶縁性のチャネル保護膜214が設けられており、その両側の領域には、n型アモルファスシリコンなどのn型半導体薄膜からなるドレイン電極215Dおよびソース電極215Sが設けられている。これらドレイン電極215Dおよびソース電極215Sは、チャネル保護膜214によって互いに分離されており、それらの端面がチャネル領域213Rを挟んで互いに離間している。さらに、ドレイン電極215Dおよびソース電極215Sをそれぞれ覆うように、第2階層の金属層として、ドレイン配線としての金属層216Dおよびソース配線としての金属層216Sが設けられている。金属層216Dおよび金属層216Sは、例えばチタン(Ti)層、アルミニウム(Al)層、およびチタン層を順に積層した構造を有するものである。書込トランジスタTr2においても、駆動トランジスタTr1と同様の構成となっている。なお、図7(A)〜7(C)では、第1階層の金属層としての金属層221Gと、第2階層の金属層としての金属層226D(ドレイン配線)および金属層226S(ソース配線)とを、書込トランジスタTr2の構成要素として記載している。
第2階層の金属層としては、上記の金属層216D,226Dおよび金属層216S,226Sのほか、走査線130Aおよび電源供給線140Aが設けられている。なお、ここでは、逆スタガー構造(いわゆるボトムゲート型)の駆動トランジスタTr1および書込トランジスタTr2について説明したが、スタガー構造(いわゆるトップゲート型)のものであってもよい。また、信号線120Aについては、走査線130Aおよび電源供給線140Aとの交差点以外の領域では第2階層の金属層として設けるようにしている。
画素駆動回路150は、窒化ケイ素などからなる保護膜(パッシベーション膜)217によって全体的に覆われており、その上には、さらに絶縁性の平坦化膜218が設けられている。平坦化膜218は、画素駆動回路形成層112の全体の平坦性を向上させるものである。また、平坦化膜218および保護膜217の一部領域には、微細な接続孔124が設けられている(図7(A)〜7(C)参照)。平坦化膜218は、特に保護膜217に比べて厚みが大きいので、例えばポリイミド等の有機材料など、パターン精度が良い材料により構成されていることが好ましい。接続孔124には第1電極層13が充填されており、駆動トランジスタTr1のソース配線を構成する金属層216Sとの導通がなされている。
平坦化膜218の上に形成された第1電極層13は、反射層としての機能も兼ねており、できるだけ高い反射率を有する材料によって構成することが発光効率を高める上で望ましい。そのため、第1電極層13は、アルミニウム(Al)やアルミニウムネオジウム合金(AlNd)などの高反射率材料によって構成される。なお、アルミニウムは、開口規定絶縁膜24の開口24Kを形成する際の現像処理に用いる現像液に対し、耐性が低く腐食しやすい。これに対し、AlNdは、現像液に対して耐性が高く腐食しにくい。したがって、第1電極層13は、AlNdからなる単層構造、もしくは、アルミニウム層とAlNdとの2層構造「Al層(下層)\AlNd層(上層)」とするとよい。特に、Al層(下層)\AlNd層(上層)の2層構造の場合、単層のAlNd層と比べて低抵抗となるので好ましい。第1電極層13は、全体の厚みが例えば100nm以上1000nm以下である。さらに、第1電極層13を2層構造とし、そのうちの上層(有機層14と接する層)を上記の高反射率材料によって構成し、下層(平坦化膜218と接する層)をモリブデン(Mo)やその化合物(合金)などの、低反射率材料によって構成するようにしてもよい。このように、駆動トランジスタTr1や書込トランジスタTr2が設けられた画素駆動回路形成層112と接する面に光吸収率の高い層を設けることにより、外光や発光部10から洩れた光などの不要光を吸収することができるからである。なお、第1電極層13は、上述したように、平坦化膜218の表面を覆うと共に接続孔124を充填するように形成されている。
発光部10R,10G,10Bを構成する第1電極層13,有機層14および第2電極層16は、いずれも水平な表面を有する膜ではなく、立体的に凹凸を含む起伏のある表面形状を有している。これは、図4〜図6に示した断面図に表したように、発光部形成層12の下地層となる画素駆動回路形成層112の表面が水平面ではないからである。すなわち、立体的な凹凸形状は、基板111上に、駆動トランジスタTr1および書込トランジスタTr2を構成する金属層、あるいは信号線120A、走査線130Aおよび電源供給戦140Aなどの配線層が選択的に設けられていることに起因する。それらの金属層や配線層の配置位置によって画素駆動回路形成層112の表面に高低差が生じるので、結果としてそれらを覆う第1電極層13,有機層14および第2電極層16も、XY平面における位置によって高低差を有することとなる。
本実施の形態では、各画素Pにおける有機発光素子1R,1G,1Bの各々に対応した上記金属層および配線層の配置位置、あるいはそれらの平面形状が相互に異なるようにしている。具体的には、有機発光素子1R,1G,1Bでは、金属層211G,216Sにおける切り欠きや開口の位置や大きさを変更することによりそれらの平面形状を相互に異ならせている。これにより、1つの画素Pを構成する有機発光素子1R,1G,1Bの相互間において、その発光部10R,10G,10Bの膜面の起伏(立体的な凹凸形状)が異なっている。
本実施の形態では、さらに、任意の画素(例えば画素Pm,n)の発光部10が、それと隣り合う他の画素(例えば画素Pm+1,n、画素Pm-1,n、画素Pm,n+1、画素Pm,n-1など)の発光部10と異なる起伏をなす膜面を有していることが望ましい。その場合、少なくともX方向に隣り合う画素Pの発光部10同士、さらにはX方向およびY方向の双方に隣り合う画素Pの発光部10同士が互いに異なる起伏をなす膜面を有することがより望ましい。さらに、表示領域110において、同一の膜面形状の起伏を有する複数の発光部10が、X方向およびY方向のうちの少なくとも一方において不規則な間隔で配列されているとよい。特に、表示領域110における全ての画素Pにおける発光部10が互いに異なる起伏をなす膜面を有することが最も望ましい。
有機層14は、開口規定絶縁膜24によって画定された発光領域20に全面に亘って隙間無く形成されている。有機層14は、例えば図8に示したように、第1電極層13の側から正孔注入層14A、正孔輸送層14B、発光層14C、電子輸送層14Dが順に積層された構成を有する。但し、発光層14C以外の層は、必要に応じて設ければよい。図8は有機層14の断面の一部を拡大して表したものである。
正孔注入層14Aは、正孔注入効率を高めるためのものであると共に、リークを防止するためのバッファ層である。正孔輸送層14Bは、発光層14Cへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層14Cは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層14Dは、発光層14Cへの電子輸送効率を高めるためのものである。なお、電子輸送層14Dと第2電極層16との間には、LiF,Li2 Oなどよりなる電子注入層(図示せず)を設けてもよい。
また、有機層14は、発光部10R,10G,10Bの発光色によってそれぞれ構成が異なっている。発光部10Rの正孔注入層14Aは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、4,4’,4”−トリス(3−メチルフェニルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(m−MTDATA)あるいは4,4’,4”−トリス(2−ナフチルフェニルアミノ)トリフェニルアミン(2−TNATA)により構成されている。発光部10Rの正孔輸送層14Bは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、ビス[(N−ナフチル)−N−フェニル]ベンジジン(α−NPD)により構成されている。発光部10Rの発光層14Cは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、8−キノリノールアルミニウム錯体(Alq3 )に2,6−ビス[4−[N−(4−メトキシフェニル)−N−フェニル]アミノスチリル]ナフタレン−1,5−ジカルボニトリル(BSN−BCN)を40体積%混合したものにより構成されている。発光部10Rの電子輸送層14Dは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。
発光部10Gの正孔注入層14Aは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、m−MTDATAあるいは2−TNATAにより構成されている。発光部10Gの正孔輸送層14Bは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、α−NPDにより構成されている。発光部10Gの発光層14Cは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、Alq3 にクマリン6(Coumarin6)を3体積%混合したものにより構成されている。発光部10Gの電子輸送層14Dは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。
発光部10Bの正孔注入層14Aは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、m−MTDATAあるいは2−TNATAにより構成されている。発光部10Bの正孔輸送層14Bは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、α−NPDにより構成されている。発光部10Bの発光層14Cは、例えば、厚みが10nm以上100nm以下であり、スピロ6Φ(spiro6Φ)により構成されている。発光部10Bの電子輸送層14Dは、例えば、厚みが5nm以上300nm以下であり、Alq3 により構成されている。
第2電極層16は、例えば、厚みが5nm以上50nm以下であり、アルミニウム(Al),マグネシウム(Mg),カルシウム(Ca),ナトリウム(Na)などの金属元素の単体または合金により構成されている。中でも、マグネシウムと銀との合金(MgAg合金)、またはアルミニウム(Al)とリチウム(Li)との合金(AlLi合金)が好ましい。第2電極層16は、例えば全ての発光部10R,10G,10Bに共通に設けられており、各発光部10R,10G,10Bの第1電極層13と対向配置されている。さらに第2電極層16は、有機層14のみならず、開口規定絶縁膜24をも覆うように形成されている。
図9に、図3に示した接続部21近傍の断面を拡大して表す。金属層17は、第1電極層13と同様に平坦化膜218の表面に形成されており、主たる電極としての第2電極層16における電圧降下を補う補助配線として機能するものである。すでに述べたように、金属層17は、開口24Kの領域内の接続部21において第2電極層16によって覆われており、第2電極層16と電気的に接続された状態となっている(図10参照)。
この金属層17が存在しない場合、電源(図示せず)から個々の発光部10R,10G,10Bまでの距離に応じた電圧降下により、共通電源供給線GND(図2参照)と接続された第2電極層16の電位が各発光部10R,10G,10B間で一定とならず、顕著なばらつきを生じ易い。このような第2電極層16の電位のばらつきは、表示領域110における輝度むらの原因となるので好ましくない。金属層17は、表示装置が大画面化した場合であっても電源から第2電極層16に至るまでの電圧降下を最小限度に抑え、このような輝度むらの発生を抑制するように機能する。
この表示装置は、例えば次のようにして製造することができる。以下、図4〜図7などを参照して、本実施の形態の表示装置の製造方法について説明する。
まず、上述した材料よりなる基板111の上に、駆動トランジスタTr1および書き込みトランジスタTr2を含む画素駆動回路150を形成する。具体的には、まず、基板111上に例えばスパッタリングにより金属膜を形成する。そののち、例えばフォトリソグラフィ法やドライエッチング、あるいはウェットエッチングによりその金属膜をパターニングすることで、基板111上に金属層211G,221Gと、信号線120Aの一部とを形成する。次いで、全面をゲート絶縁膜212によって覆う。さらに、ゲート絶縁膜212の上に、チャネル層、チャネル保護膜、ドレイン電極およびソース電極、ならびに、金属層216D,226Dおよび金属層216S,226Sを順に、各々所定形状に形成する。ここで、金属層216D,226Dおよび金属層216S,226Sの形成と併せて、信号線120Aの一部、走査線130Aおよび電源供給線140Aを第2の金属層として各々形成する。その際、金属層221Gと走査線130Aとを接続する接続部、金属層226Dと信号線120Aとを接続する接続部、金属層226Sと金属層211Gとを接続する接続部を予め形成しておく。そののち、全体を保護膜217で覆うことにより、画素駆動回路150を完成させる。その際、保護膜217における金属層216S上の所定位置に、ドライエッチングなどにより開口を形成しておく。
画素駆動回路150を形成したのち、スピンコート法などにより、例えばポリイミドを主成分とする感光性樹脂を全面に亘って塗布する。次に、その感光性樹脂に対しフォトリソグラフィ処理を施すことにより、接続孔124を有する平坦化膜218を形成する。具体的には、例えば所定位置に開口を有するマスクを用いた選択的な露光および現像により、保護膜217に設けられた開口と連通する接続孔124を形成する。そののち、平坦化膜218を必要に応じて焼成してもよい。これにより画素駆動回路形成層112を得る。
さらに、上述した所定の材料よりなる第1電極層13および金属層17を形成する。具体的には、例えばスパッタリングによって上述の材料からなる金属膜を全面成膜したのち、その積層膜上に所定のマスクを用いて所定形状のレジストパターン(図示せず)を形成する。さらにそのレジストパターンをマスクとして用い、金属膜の選択的なエッチングを行う。その際、第1電極層13については、平坦化膜218の表面を覆うと共に接続孔124を充填するように形成する。また、金属層17については、平坦化膜218の表面に、第1電極層13の周囲を取り囲み、かつ、信号線120Aと重ならないように形成する。金属層17は、第1電極層13と同種の材料を用いて、第1電極層13と共に一括して形成することが望ましい。
こののち、隣り合う第1電極層13同士の隙間を充填し、かつ、金属層17を覆うように開口規定絶縁膜24を形成する。その際、所定位置に開口24Kを設けるようにする。
次いで、第1電極層13のうち、露出している部分を完全に覆うように上述した所定の材料および厚みの正孔注入層14A、正孔輸送層14B、発光層14C、電子輸送層14Dを、例えば蒸着法によって順に積層することで有機層14を形成する。さらに、有機層14を挟んで第1電極層13と対向するように覆い、かつ、接続部21において金属層17を覆うように全面に亘って第2電極層16を形成することで有機発光素子1を完成させる。
こののち、全体を覆うように、上述した材料よりなる保護膜18を形成する。最後に、保護膜18の上に、接着層を形成し、この接着層を間にして封止基板19を貼り合わせる。以上により、表示装置が完成する。
このようにして得られた表示装置では、各画素に対して走査線駆動回路130から書込トランジスタTr2のゲート電極(金属層221G)を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120から画像信号が書き込みトランジスタTr2を介して保持容量Csに保持される。その一方で、電源供給線駆動回路140が、走査線駆動回路130による行単位の走査と同期して、各電源供給線140Aに対し第2電位よりも高い第1電位を供給する。これにより駆動トランジスタTr1の導通状態が選択され、各発光部10R,10G,10Bに駆動電流Idが注入されることにより、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、第1電極層13と第2電極層16との間で多重反射し、第2電極層16、保護膜18および封止基板19を透過して取り出される。
以上、説明したように、本実施の形態では、任意の画素Pにおいて、有機発光素子1R,1G,1Bの画素駆動回路150を構成する金属層および配線層の配置位置、あるいはそれらの平面形状を相互に異なるようにした。これにより、その画素Pにおける発光部10R,10G,10Bの膜面の起伏(立体的な凹凸形状)が相互に異なるようにすることができる。そのため、外光が入射した場合であっても、その外光の発光部10R,10G,10Bの膜面(特に有機層14の膜面)での反射角度が発光部10R,10G,10Bごとに異なるので、外光反射光の干渉の発生およびその強度を抑制することができる。その結果、この表示装置によれば、平坦化膜218の厚さを増大させることなく全体構成を薄型化した場合であっても、本来の表示画像を認識する際の妨げとなる不要光の発生を低減し、より良好な画像表示性能を確保することができる。
本実施の形態では、さらに、任意の画素Pの発光部10が、それと隣り合う他の画素の発光部10と異なる起伏をなす膜面を有するようにした場合には、外光反射光の干渉および強度をより低減することができる。なお、外光反射光の干渉および強度を低減するためには、同一の膜面形状の起伏を有する有機層14を含む発光部10が、X方向およびY方向のうちの少なくとも一方において不規則に配列されることが効果的である。特に、表示領域110における全ての画素Pにおける発光部10が互いに異なる立体形状を有することが理想であり、最も好ましい。ただし、X方向に隣り合う画素Pの発光部10同士が互いに異なる起伏をなす膜面を有するようにすれば、実使用上、差し支えのない程度の良好な画像表示性能を確保することができる。
また、複数の分割領域によって1つの表示領域110を構成し、各分割領域を、同一の膜面形状の起伏を有する発光部10が不規則に配列されたものとしてもよい。その場合、複数の分割領域における発光部10の不規則な配列パターンが相互に一致していてもよい。その場合には、例えば金属層211G,216Sのパターニング処理を行う際に、所定のパターン形状を有する同一のハードマスクを繰り返し利用することができるので、製造容易性が向上する。
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、互いに隣り合う発光部10同士における第1電極層13,有機層14および第2電極層16の全てが異なる起伏をなす膜面を有する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。より多くの外光反射光が生じる有機層14の膜面同士が互いに異なる起伏を有していればよい。
また、有機層の膜面形状の起伏を変更するにあたっては、例えば図10(A)〜10(C)に示したように、発光部10の下地となる画素駆動回路形成層112における構成要素(具体的には金属層211G,216S)の開口の位置を変化させるだけでもよい。あるいは、例えば図11(A)〜11C)に示したように、その開口の大きさおよび形状を変化させるだけでもよい。さらには、例えば図12(A),12(B)に示したように、金属層211G,216Sなどの画素駆動回路150の構成要素とは別に、孤立した介在層DPを設けるようにしてもよい。あるいは例えば図12(C)に例示したように、駆動素子以外の構成要素の形状(例えば電源供給線140Aの一部形状)を変化させてもよい。なお、図7,図10〜12に示した画素駆動回路形成層112における各構成要素の形状、大きさおよび位置の組み合わせは、あくまでも一例であり、本発明はこれらの限定されるものではない。いずれにせよ、画素駆動回路形成層112における表面形状の起伏を変化させることができれば、発光部10の膜面形状の起伏を変化させることも可能である。
また、本発明は、上記実施の形態において説明した各層の材料や積層順序、あるいは成膜方法などに限定されるものではない。例えば、上記実施の形態においては、第1電極層13をアノード、第2電極層16をカソードとする場合について説明したが、第1電極層13をカソード、第2電極層16をアノードとしてもよい。さらに、上記実施の形態では、発光部10R,10G,10Bの構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層をさらに備えていてもよい。例えば、第1電極層13と有機層14との間に、酸化クロム(III)(Cr2 O3 ),ITO(Indium-Tin Oxide:インジウム(In)およびスズ(Sn)の酸化物混合膜)などからなる正孔注入用薄膜層を備えていてもよい。
加えてまた、上記実施の形態では、第2電極層16が半透過性反射層により構成されている場合について説明したが、第2電極層16は、半透過性反射層と透明電極とが第1電極層13の側から順に積層された構造としてもよい。この透明電極は、半透過性反射層の電気抵抗を下げるためのものであり、発光層で発生した光に対して十分な透光性を有する導電性材料により構成されている。透明電極を構成する材料としては、例えば、ITOまたはインジウムと亜鉛(Zn)と酸素とを含む化合物が好ましい。室温で成膜しても良好な導電性を得ることができるからである。透明電極の厚みは、例えば30nm以上1000nm以下とすることができる。また、この場合、半透過性反射層を一方の端部とし、透明電極を挟んで半透過性電極に対向する位置に他方の端部を設け、透明電極を共振部とする共振器構造を形成するようにしてもよい。さらに、そのような共振器構造を設けた上で、発光部10R,10G,10Bを保護膜18で覆うようにし、この保護膜18を、透明電極を構成する材料と同程度の屈折率を有する材料により構成すれば、保護膜18を共振部の一部とすることができ、好ましい。
加えてまた、上記各実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本発明はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記各実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路120や走査線駆動回路130のほかに、必要な駆動回路を追加してもよい。
P…画素、1(1R,1G,1B)…有機発光素子、10(10R,10G,10B)…発光部、11…基体、111…基板、112…画素駆動回路形成層、12…発光部形成層、13…第1電極層、131…第1導電層、132…第2導電層、14…有機層、14A…正孔注入層、14B…正孔輸送層、14C…発光層、14D…電子輸送層、16…第2電極層、17…金属層、18…保護膜、19…封止基板、20…発光領域、21…接続部、24…開口規定絶縁膜、24K…開口、24T…凸部、24G…凹部、124…接続孔、110…表示領域、120…信号線駆動回路、120A…信号線、130…走査線駆動回路、130A…走査線、140…電源供給線駆動回路、140A…電源供給線、150…画素駆動回路、217…保護膜(パッシベーション膜)、218…平坦化膜、Cs…キャパシタ(保持容量)、P1…第1端部、P2…第2端部、Tr1…駆動トランジスタ、Tr2…書込トランジスタ。
Claims (9)
- 基板上に、第1電極層と発光層を含む有機層と第2電極層とが各々順に積層されると共に互いに異なる色光を発する第1から第3の発光素子をそれぞれ有する複数の画素を備え、
1以上の前記画素における前記第1から第3の発光素子の有機層同士は、互いに異なる起伏をなす膜面を有する
表示装置。 - 前記1以上の画素における前記第1から第3の発光素子の各有機層は、隣り合う1以上の他の前記画素における前記第1から第3の発光素子の各有機層とそれぞれ異なる起伏をなす膜面を有する
請求項1記載の表示装置。 - 前記複数の画素は、第1の方向に第1の周期で配列されると共に、前記第1の方向と交差する第2の方向に前記第1の周期よりも長い第2の周期で配列されており、
前記第1の方向に隣り合う前記画素の前記第1から第3の発光素子の各有機層同士が、互いに異なる起伏をなす膜面を有する
請求項1記載の表示装置。 - 前記複数の画素の各々において、前記第1の方向へ前記第1から第3の発光素子が一定順序で配列されている請求項3記載の表示装置。
- 前記第2の方向に隣り合う前記画素の前記第1から第3の発光素子の各有機層同士が、互いに異なる起伏をなす膜面を有する
請求項3記載の表示装置。 - 前記複数の画素の全てにおける前記有機層が互いに異なる起伏をなす膜面を有する請求項1記載の表示装置。
- 前記基体と前記複数の画素との間に、前記第1から第3の発光素子を各々駆動する第1から第3の駆動素子を含む駆動回路をさらに備え、
前記第1から第3の駆動素子の各々を構成する電極が互いに異なる平面形状を有する
請求項1記載の表示装置。 - 前記1以上の画素における前記第1から第3の発光素子を各々駆動する前記第1から第3の駆動素子の各電極は、前記隣り合う1以上の他の画素における前記第1から第3の発光素子を各々駆動する前記第1から第3の駆動素子の各電極とそれぞれ異なる起伏をなす膜面を有する
請求項2記載の表示装置。 - 前記複数の画素は、互いに異なる第1および第2の方向にそれぞれ配列されており、
同一の膜面形状の起伏を有する前記有機層を含む複数の前記発光素子が、前記第1および第2の方向のうちの少なくとも一方において不規則な間隔で配列されている
請求項1記載の表示装置。
Priority Applications (12)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010137260A JP2012003925A (ja) | 2010-06-16 | 2010-06-16 | 表示装置 |
US13/155,027 US9761637B2 (en) | 2010-06-16 | 2011-06-07 | Display device |
CN201110154464.4A CN102290430B (zh) | 2010-06-16 | 2011-06-09 | 显示装置 |
CN201910229584.2A CN110246870B (zh) | 2010-06-16 | 2011-06-09 | 显示装置 |
CN201910229007.3A CN110085633B (zh) | 2010-06-16 | 2011-06-09 | 显示装置 |
CN201510685076.7A CN105374850B (zh) | 2010-06-16 | 2011-06-09 | 显示装置 |
US14/453,904 US9054053B2 (en) | 2010-06-16 | 2014-08-07 | Display device and electronic device |
US14/824,840 US20150349039A1 (en) | 2010-06-16 | 2015-08-12 | Display device |
US15/363,694 US20170077189A1 (en) | 2010-06-16 | 2016-11-29 | Display device |
US15/837,867 US10381415B2 (en) | 2010-06-16 | 2017-12-11 | Display device |
US16/538,141 US11081529B2 (en) | 2010-06-16 | 2019-08-12 | Display device |
US17/374,012 US11871634B2 (en) | 2010-06-16 | 2021-07-13 | Display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010137260A JP2012003925A (ja) | 2010-06-16 | 2010-06-16 | 表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012003925A true JP2012003925A (ja) | 2012-01-05 |
Family
ID=45328199
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010137260A Pending JP2012003925A (ja) | 2010-06-16 | 2010-06-16 | 表示装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (7) | US9761637B2 (ja) |
JP (1) | JP2012003925A (ja) |
CN (4) | CN110246870B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016027374A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-02-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
JP2020144196A (ja) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | 株式会社デンソー | ヘッドアップディスプレイ装置 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI612689B (zh) * | 2013-04-15 | 2018-01-21 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 發光裝置 |
TWI478128B (zh) * | 2013-05-23 | 2015-03-21 | Au Optronics Corp | 發光二極體顯示面板 |
JP6221418B2 (ja) * | 2013-07-01 | 2017-11-01 | セイコーエプソン株式会社 | 発光装置および電子機器 |
JP6164059B2 (ja) * | 2013-11-15 | 2017-07-19 | ソニー株式会社 | 表示装置、電子機器、及び表示装置の駆動方法 |
KR102582642B1 (ko) * | 2016-05-19 | 2023-09-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 표시 장치 |
CN108376528B (zh) * | 2017-02-01 | 2022-12-27 | 精工爱普生株式会社 | 电光装置、电子设备及头戴显示器 |
FR3066320B1 (fr) * | 2017-05-11 | 2019-07-12 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Procede de fabrication d'un dispositif d'affichage emissif a led |
WO2019188416A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 表示装置及び表示装置の製造方法、並びに、電子機器 |
US11271182B2 (en) * | 2018-05-29 | 2022-03-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device |
KR102583619B1 (ko) * | 2018-06-29 | 2023-09-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기발광표시장치 |
CN110767674B (zh) * | 2018-08-06 | 2022-05-17 | 苏州清越光电科技股份有限公司 | 显示面板、显示屏及显示终端 |
CN110767825B (zh) * | 2018-08-06 | 2022-06-21 | 云谷(固安)科技有限公司 | 显示面板、显示屏及显示终端 |
CN109375406A (zh) * | 2018-11-30 | 2019-02-22 | 武汉华星光电技术有限公司 | 显示面板及触控显示装置 |
CN113196515B (zh) * | 2019-07-31 | 2023-08-22 | 株式会社Lg化学 | 有机发光器件 |
KR20210028799A (ko) * | 2019-09-04 | 2021-03-15 | 삼성디스플레이 주식회사 | 유기 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법 |
KR20210086054A (ko) * | 2019-12-31 | 2021-07-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | 표시 장치 및 그의 제조 방법 |
TWI767734B (zh) * | 2021-06-03 | 2022-06-11 | 友達光電股份有限公司 | 顯示裝置 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1114804A (ja) | 1997-06-27 | 1999-01-22 | Fuji Photo Optical Co Ltd | プラスチックレンズ |
WO2001039554A1 (en) | 1999-11-22 | 2001-05-31 | Sony Corporation | Display device |
US6645656B1 (en) | 2000-03-24 | 2003-11-11 | University Of Houston | Thin film solid oxide fuel cell and method for forming |
US6645657B2 (en) | 2001-05-03 | 2003-11-11 | Fuelcell Energy, Inc. | Sol-gel coated cathode side hardware for carbonate fuel cells |
JP3718770B2 (ja) * | 2002-01-11 | 2005-11-24 | 株式会社日立製作所 | アクティブマトリックス型の表示装置 |
TWI225959B (en) * | 2002-04-19 | 2005-01-01 | Toshiba Corp | Liquid crystal display |
JP4531341B2 (ja) * | 2003-02-28 | 2010-08-25 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 発光装置および電子機器 |
KR100490552B1 (ko) * | 2003-03-13 | 2005-05-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 박막 트랜지스터를 구비한 평판표시장치 |
JP4287337B2 (ja) * | 2003-11-24 | 2009-07-01 | 三星モバイルディスプレイ株式會社 | 有機電界発光表示装置及びその製造方法 |
JP4276109B2 (ja) * | 2004-03-01 | 2009-06-10 | ローム株式会社 | 有機エレクトロルミネッセント素子 |
CN100525558C (zh) * | 2004-04-30 | 2009-08-05 | 三洋电机株式会社 | 发光显示器 |
KR20060046476A (ko) * | 2004-06-18 | 2006-05-17 | 산요덴키가부시키가이샤 | 일렉트로루미네센스 패널 |
DE602005023529D1 (de) | 2004-11-03 | 2010-10-21 | Iris Molecular Diagnostics Inc | Homogener nachweis von analyten |
JP2006269251A (ja) | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Seiko Epson Corp | 発光装置 |
KR100793555B1 (ko) * | 2005-04-28 | 2008-01-14 | 삼성에스디아이 주식회사 | 발광 표시장치 |
EP1770676B1 (en) * | 2005-09-30 | 2017-05-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and electronic device |
JP4498283B2 (ja) * | 2006-01-30 | 2010-07-07 | キヤノン株式会社 | 撮像装置、放射線撮像装置及びこれらの製造方法 |
JP4645587B2 (ja) | 2006-02-03 | 2011-03-09 | ソニー株式会社 | 表示素子および表示装置 |
US20070190675A1 (en) * | 2006-02-10 | 2007-08-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Manufacturing method of display device |
JP4893392B2 (ja) | 2007-03-15 | 2012-03-07 | ソニー株式会社 | 表示装置および電子機器 |
KR100846985B1 (ko) * | 2007-04-06 | 2008-07-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 전계 발광 표시 장치 및 그 제조 방법 |
JP2008310974A (ja) * | 2007-06-12 | 2008-12-25 | Casio Comput Co Ltd | 表示装置及びその製造方法 |
KR100838090B1 (ko) * | 2007-08-09 | 2008-06-13 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광 표시장치 및 이의 제조방법 |
US7843130B2 (en) * | 2007-08-27 | 2010-11-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Organic light-emitting apparatus |
JP2009064607A (ja) * | 2007-09-05 | 2009-03-26 | Sony Corp | 有機発光表示装置のリペア方法 |
JP2009288773A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-12-10 | Sony Corp | 表示装置 |
JP4614106B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2011-01-19 | ソニー株式会社 | 自発光表示装置および電子機器 |
JP5170020B2 (ja) | 2008-10-03 | 2013-03-27 | セイコーエプソン株式会社 | 有機el装置及び電子機器 |
JP5448680B2 (ja) | 2008-10-10 | 2014-03-19 | キヤノン株式会社 | 表示装置 |
KR20100043011A (ko) | 2008-10-17 | 2010-04-27 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 유기 el 장치, 유기 el 장치의 제조 방법, 전자 기기 |
JP2010153127A (ja) * | 2008-12-24 | 2010-07-08 | Sony Corp | 表示装置 |
-
2010
- 2010-06-16 JP JP2010137260A patent/JP2012003925A/ja active Pending
-
2011
- 2011-06-07 US US13/155,027 patent/US9761637B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-06-09 CN CN201910229584.2A patent/CN110246870B/zh active Active
- 2011-06-09 CN CN201510685076.7A patent/CN105374850B/zh active Active
- 2011-06-09 CN CN201910229007.3A patent/CN110085633B/zh active Active
- 2011-06-09 CN CN201110154464.4A patent/CN102290430B/zh active Active
-
2014
- 2014-08-07 US US14/453,904 patent/US9054053B2/en active Active
-
2015
- 2015-08-12 US US14/824,840 patent/US20150349039A1/en not_active Abandoned
-
2016
- 2016-11-29 US US15/363,694 patent/US20170077189A1/en not_active Abandoned
-
2017
- 2017-12-11 US US15/837,867 patent/US10381415B2/en active Active
-
2019
- 2019-08-12 US US16/538,141 patent/US11081529B2/en active Active
-
2021
- 2021-07-13 US US17/374,012 patent/US11871634B2/en active Active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016027374A (ja) * | 2014-06-13 | 2016-02-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 表示装置 |
US10342124B2 (en) | 2014-06-13 | 2019-07-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device |
JP2020144196A (ja) * | 2019-03-05 | 2020-09-10 | 株式会社デンソー | ヘッドアップディスプレイ装置 |
JP7163827B2 (ja) | 2019-03-05 | 2022-11-01 | 株式会社デンソー | ヘッドアップディスプレイ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20150349039A1 (en) | 2015-12-03 |
CN110246870B (zh) | 2023-06-02 |
US20140346521A1 (en) | 2014-11-27 |
CN102290430A (zh) | 2011-12-21 |
US20190363140A1 (en) | 2019-11-28 |
US9054053B2 (en) | 2015-06-09 |
US9761637B2 (en) | 2017-09-12 |
US11871634B2 (en) | 2024-01-09 |
CN105374850B (zh) | 2020-03-17 |
US10381415B2 (en) | 2019-08-13 |
US20110310069A1 (en) | 2011-12-22 |
US20170077189A1 (en) | 2017-03-16 |
CN110246870A (zh) | 2019-09-17 |
CN110085633A (zh) | 2019-08-02 |
US20210343798A1 (en) | 2021-11-04 |
US20180114816A1 (en) | 2018-04-26 |
CN102290430B (zh) | 2015-11-18 |
CN105374850A (zh) | 2016-03-02 |
US11081529B2 (en) | 2021-08-03 |
CN110085633B (zh) | 2023-05-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11081529B2 (en) | Display device | |
US10236316B2 (en) | Display device with separation member including steps | |
JP2012014868A (ja) | 表示装置 | |
US10446614B2 (en) | Organic light-emitting display device | |
JP5435260B2 (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
JP2010153127A (ja) | 表示装置 | |
US11227903B2 (en) | Organic light emitting display device having a reflective barrier and method of manufacturing the same | |
JP2011023240A (ja) | 表示装置 | |
JP2019061927A (ja) | 表示装置 | |
TW201419615A (zh) | 薄膜電晶體陣列面板及包含其之有機發光二極體顯示器 | |
JP2012109262A (ja) | 発光装置 | |
JP2010020926A (ja) | 表示装置 | |
JP5256831B2 (ja) | 表示素子、表示装置、表示素子の製造方法 | |
KR20220090859A (ko) | 표시 장치 | |
JP2010153116A (ja) | 有機el表示装置 | |
KR20230102366A (ko) | 시야각 전환 표시장치 | |
JP2009238725A (ja) | 表示素子の製造方法 | |
JP2012243714A (ja) | 有機el表示装置 |