JP5256831B2 - 表示素子、表示装置、表示素子の製造方法 - Google Patents
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Images
Description
(A1)基体に設けられ、凹部と、その凹部を取り囲む凸部と、その凸部によって凹部と分離された溝部とを含んで一体形成された絶縁層。
(A2)絶縁層の凹部の底面を覆う第1電極層。
(A3)第1電極層と対向する第2電極層。
(A4)第1電極層と第2電極層との間に位置する第1有機層。
(A5)第1電極層と第2電極層との間に位置し、かつ発光層を含む第2有機層。
(A6)絶縁層の溝部に収容され、かつ、第2電極層と電気的に接続された補助電極層。
ここで第1有機層、第2有機層および第1電極層は、絶縁層の凹部に収容されている。
(B1)基体上に、凹部と、その凹部を取り囲む凸部と、その凸部によって凹部と分離された溝部とを含む一体の絶縁層を形成する工程。
(B2)絶縁層の凹部の底面を覆うように第1電極層を形成する工程と、
(B3)第1電極層と対向するように第2電極層を形成する工程。
(B4)第1電極層と第2電極層との間に、第1有機層を形成する工程。
(B5)第1電極層と第2電極層との間に、発光層を含む第2有機層を形成する工程。
(B6)絶縁層の溝部に収容するように補助電極層を形成する工程。
ここで、第1電極層、第2有機層および第1有機層を、絶縁層の凹部に収容するように形成する。また、第2電極層を、補助電極層を覆うように形成する。
Claims (15)
- 基体に設けられ、凹部と、前記凹部を取り囲む凸部と、前記凸部によって前記凹部と分離された溝部とを含んで一体形成された絶縁層と、
前記絶縁層の凹部の底面を覆う第1電極層と、
前記第1電極層と対向する第2電極層と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する第1有機層と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置し、かつ発光層を含む第2有機層と、
前記絶縁層の溝部に収容され、かつ、前記第2電極層と電気的に接続された補助電極層と
を有し、
前記第1有機層、第2有機層、および第1電極層は、前記絶縁層の凹部に収容されている
表示素子。 - 前記第1電極層の周縁部端面は、傾斜面である
請求項1記載の表示素子。 - 前記絶縁層は、前記凹部の一部に開口を有しており、前記開口は、前記第1電極層によって充填されている
請求項1記載の表示素子。 - 前記基体は、前記第1電極層と第2電極層との間に印加される電圧を制御するための駆動素子を有し、前記開口において前記駆動素子と前記第1電極層とが導通している
請求項1記載の表示素子。 - 前記溝部は、前記凹部を取り囲むように設けられている
請求項1記載の表示素子。 - 前記補助電極層は、前記第1電極層と同じ材料によって構成されている
請求項1記載の表示素子。 - 表示素子と、前記表示素子を駆動させて画像表示を行う制御部とを備え、
前記表示素子は、
基体に設けられ、凹部と、前記凹部を取り囲む凸部と、前記凸部によって前記凹部と分離された溝部とを含んで一体形成された絶縁層と、
前記絶縁層の凹部の底面を覆う第1電極層と、
前記第1電極層と対向する第2電極層と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置する第1有機層と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に位置し、かつ発光層を含む第2有機層と、
前記絶縁層の溝部に収容され、かつ、前記第2電極層と電気的に接続された補助電極層と
を有し、
前記第1有機層、第2有機層および第1電極層は、前記絶縁層の凹部に収容されている
表示装置。 - 基体上に、凹部と、前記凹部を取り囲む凸部と、前記凸部によって前記凹部と分離された溝部とを含む一体の絶縁層を形成する工程と、
前記絶縁層の凹部の底面を覆うように第1電極層を形成する工程と、
前記第1電極層と対向するように第2電極層を形成する工程と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に、第1有機層を形成する工程と、
前記第1電極層と前記第2電極層との間に、発光層を含む第2有機層を形成する工程と、
前記絶縁層の溝部に収容するように補助電極層を形成する工程と、
を含み、
前記第1電極層、第2有機層および第1有機層を、前記絶縁層の凹部に収容するように形成し、
前記第2電極層を、前記補助電極層を覆うように形成する
表示素子の製造方法。 - 有機材料により前記絶縁層を形成すると共に、その一部領域において、フォトリソグラフィ処理により厚み方向に前記絶縁層の一部を除去することで前記凹部を形成する
請求項8記載の表示素子の製造方法。 - ケイ素酸化物またはケイ素窒化物により前記絶縁層を形成し、その一部領域において、フッ素ガスを照射することにより厚み方向に前記絶縁層の一部を除去することで前記凹部を形成する
請求項8記載の表示素子の製造方法。 - 前記第1電極層の周縁部端面を傾斜面とする
請求項8記載の表示素子の製造方法。 - 前記絶縁層の凹部の一部に開口を形成すると共に、前記開口を充填するように前記第1電極層を形成する
請求項8記載の表示素子の製造方法。 - 前記基体に、前記第1電極層と第2電極層との間に印加される電圧を制御するための駆動素子を設け、前記開口において前記駆動素子と前記第1電極層とを導通させる
請求項12記載の表示素子の製造方法。 - 前記絶縁層における凹部および溝部を一括して形成する
請求項8記載の表示素子の製造方法。 - 前記第1電極層と前記補助電極層とを同じ材料を用いて一括して形成する
請求項8記載の表示素子の製造方法。
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