JP6090630B2 - 有機el表示パネルおよびその製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の一態様に係る有機EL表示パネルは、基板と、前記基板の上方に位置する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上方に位置する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上方に位置する画素電極と、前記層間絶縁膜の上方に位置し、前記画素電極と離間した補助配線と、前記層間絶縁膜の上方に位置し、前記画素電極の上方および前記補助配線の上方のそれぞれに開口部を有する隔壁層と、前記画素電極上方の開口部内に位置する有機発光層と、前記画素電極上方の開口部内にて前記画素電極と対向し、前記有機発光層を介して前記画素電極と電気的に接続されるとともに、前記補助配線上方の開口部内にて前記補助配線と対向し、前記補助配線と電気的に接続される共通電極と、を備え、前記層間絶縁膜は、前記補助配線が上方に位置する領域内に少なくとも一組の凹下部と非凹下部とを有し、前記凹下部の上面が前記非凹下部の上面に対して凹下しており、前記補助配線は、前記凹下部上の部分と前記非凹下部上の部分とを有し、前記凹下部上の部分の上面が前記非凹下部上の部分の上面に対して凹下している。
<全体構成>
図1は、本発明の実施の形態1に係る有機EL表示パネルの構造を示す部分断面図である。同図では3画素分が示されている。
電子輸送層11の材料としては公知の材料を利用することができる。例えば、特開平5−163488号公報に記載のニトロ置換フルオレノン誘導体、チオピランジオキサイド誘導体、ジフェキノン誘導体、ペリレンテトラカルボキシル誘導体、アントラキノジメタン誘導体、フレオレニリデンメタン誘導体、アントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリノン誘導体、キノリン錯体誘導体を用いることができる。なお、電子注入性を更に向上させる点から、上記材料に、Na、Ba、Caなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属をドーピングしてもよい。なお、電子輸送層11は、画素電極上方の開口部内に存在すればよく、補助配線上方の開口部内に存在する必要はない。ただし、本実施の形態では、製造プロセスの簡略化の観点から、電子輸送層11が隔壁層8の上方の全体を覆うように形成されている。その結果、電子輸送層11は、補助配線6の上方にも存在している。
本実施の形態は、補助配線の形状に特徴を有する。以下、補助配線の形状について詳細に説明する。
図6乃至図8は、図1の有機EL表示パネルの製造工程を説明するための断面図である。
実施の形態2では、補助配線6の凹下部6aの形状が実施の形態1と異なる。これ以外の事項については実施の形態1と同様なので、説明を省略する。
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明したが、本発明は上記実施の形態に限られるものではない。例えば、以下のような変形例が考えられる。
実施の形態1、2では、層間絶縁膜4の凹下部4aの深さは、平坦化膜42を貫通しない程度に設定されている。しかしながら、層間絶縁膜4の絶縁性さえ確保できれば、これに限られない。例えば、図12に示すように、層間絶縁膜4の凹下部4aが平坦化膜42を貫通し、凹下部4aの上面にパッシベーション膜41が露出することとしてもよい。
実施の形態1、2では、画素電極5と補助配線6の非凹下部6bとが厚み方向で同じレベルに形成されている(例えば、図1参照)。これに対し、図13に示すように、画素電極5と補助配線6の凹下部6aとが厚み方向で同じレベルに形成されていてもよい。図13の構成においても、層間絶縁膜4の補助配線6が形成される領域に凹下部4aと非凹下部4bとを設けることにより、補助配線6に凹下部6aと非凹下部6bとを設け、その結果、凹下部6aと非凹下部6bとの段差の側面の面積分だけコンタクト面積を広げるという効果が得られる。
実施の形態1、2では、凹下部の形状および数量が具体的に示されているが、凹下部と非凹下部とが存在しさえすれば、これらに限られない。以下のいずれの例でも、凹下部6aと非凹下部6bとの段差の側面の面積分だけコンタクト面積を広げるという効果が得られる。
実施の形態1、2では、有機発光層10は画素電極5の上方の開口部8a内のみに形成されているが、これに限られない。例えば、図20に示すように、有機発光層10と同一の材料の層15が補助配線6の上方の開口部8b内に形成されていてもよい。同図では、具体的には、有機発光層10と同一の材料の層15が補助配線6の凹下部6a内に形成されている。
実施の形態2では、第1の溝部6a1と第2の溝部6a2とが直交しているが、これらが交差していれば、本発明はこれに限られない。例えば、第1の溝部6a1と第2の溝部6a2との成す角度が45°や60°などのように、90°以外の角度としてもよい。
実施の形態1、2では、補助配線6は列方向に沿ってストライプ状に配置されているが、本発明は、これに限られない。例えば、補助配線は列方向のストライプと行方向のストライプとからなるメッシュ状であってもよい。
実施の形態1、2では、補助配線6は、3画素毎に1本設けられているが、これに限られない。例えば、1画素毎に1本設けられていてもよいし、3画素よりも大きな所定数の画素毎に1本設けられていてもよい。
実施の形態1、2では、走査線が1行に対し1本設けられているが、これに限られない。画素毎の駆動回路の構成に応じて決定すればよい。
実施の形態1、2では、画素電極5と共通電極12との間に正孔注入層7、正孔輸送層9、有機発光層10および電子輸送層11が介挿されているが、有機発光層10さえ介挿されていれば、これに限られない。
実施の形態1、2では、層間絶縁層4がパッシベーション膜41と平坦化膜42とからなるが、画素回路が位置する層と有機EL素子が位置する層とを絶縁することさえできれば、これに限られない。
図22は、図1の有機EL表示パネルを表示装置に適用した場合の機能ブロックを示す図である。図23は、図22の表示装置の外観を例示する図である。表示装置20は、有機EL表示パネル21と、これに電気的に接続された駆動制御部22とを備える。駆動制御部22は、駆動回路23と、駆動回路23の動作を制御する制御回路24とからなる。
2 電源配線
3 TFT層
4 層間絶縁膜
4a 凹下部
4b 非凹下部
4c 層間絶縁材料層
5 画素電極
5c 導電層
6 凹下部
6 補助配線
6a 凹下部
6a1 第1の溝部
6a2 第2の溝部
6b 非凹下部
7 正孔注入層
8 隔壁層
8a 画素電極上方の開口部
8b 補助配線上方の開口部
8c 隔壁材料層
8d 隔壁材料層の凹下した部分
8e 現像液
8f 隔壁材料層の補助配線上方の部分
9 正孔輸送層
10 有機発光層
10a インク
11 電子輸送層
12 共通電極
13 封止層
14 走査線
15 有機発光層と同一の材料からなる層
20 表示装置
21 有機EL表示パネル
22 駆動制御部
23 駆動回路
24 制御回路
41 パッシベーション膜
42 平坦化膜
51 基板
52 電源配線
53 TFT層
54 層間絶縁膜
55 画素電極
56 補助配線
58 隔壁層
60 有機発光層
62 共通電極
Claims (11)
- 基板と、
前記基板の上方に位置する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上方に位置する層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜の上方に位置する画素電極と、
前記層間絶縁膜の上方に位置し、前記画素電極と離間した補助配線と、
前記層間絶縁膜の上方に位置し、前記画素電極の上方および前記補助配線の上方のそれぞれに開口部を有する隔壁層と、
前記画素電極上方の開口部内に位置する有機発光層と、
前記画素電極上方の開口部内にて前記画素電極と対向し、前記有機発光層を介して前記画素電極と電気的に接続されるとともに、前記補助配線上方の開口部内にて前記補助配線と対向し、前記補助配線と電気的に接続される共通電極と、を備え、
前記層間絶縁膜は、前記補助配線が上方に位置する領域内に少なくとも一組の凹下部と非凹下部とを有し、前記凹下部の上面が前記非凹下部の上面に対して凹下しており、前記凹下部の上面の全域に、前記層間絶縁膜を構成する絶縁性材料が露出しており、
前記補助配線は、前記凹下部上の部分と前記非凹下部上の部分とを有し、前記凹下部上の部分の上面が前記非凹下部上の部分の上面に対して凹下していること
を特徴とする有機EL表示パネル。 - 前記層間絶縁膜は、
前記薄膜トランジスタの上方に位置するパッシベーション膜と、
前記パッシベーション膜の上方に位置する平坦化膜と、を含み、
前記凹下部の上面が、前記平坦化膜内に位置する、または、前記パッシベーション膜と前記平坦化膜との境界に位置すること
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - さらに、前記基板の上方に位置する、前記薄膜トランジスタの動作を制御する走査信号を伝達するための走査線を備え、
前記層間絶縁膜の前記補助配線が上方に位置する領域は、平面視で前記走査線と重なる領域と重ならない領域とを有し、
前記層間絶縁膜の凹下部は、前記補助配線が上方に位置する領域内の前記走査線と重ならない領域に位置し、前記走査線と重なる領域には位置しないこと
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記層間絶縁膜の前記走査線と重なる領域の上面が平坦であること
を特徴とする請求項3に記載の有機EL表示パネル。 - 前記走査線は、平面視で前記補助配線と交差していること
を特徴とする請求項3に記載の有機EL表示パネル。 - さらに、前記基板の上方に位置する、前記薄膜トランジスタに電源電圧を印加するための電源配線を備え、
前記層間絶縁膜の前記凹下部は、平面視で前記電源配線と重なる領域に位置し、
前記補助配線の前記凹下部上の部分は、前記層間絶縁膜を構成する絶縁性材料を挟んで前記電源配線の上方に位置していること
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記補助配線の前記凹下部上の部分と前記共通電極との間に、前記有機発光層と同一の材料が介挿されていること
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記層間絶縁膜の凹下部は、前記補助配線に沿う第1の溝部と、前記第1の溝部の少なくとも一部と交差する第2の溝部とからなり、
前記第2の溝部の幅は、前記第1の溝部の幅よりも広いこと
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 前記層間絶縁膜の凹下部は、前記補助配線に沿う第1の溝部と、前記第1の溝部の少なくとも一部と交差する第2の溝部とからなり、
前記第2の溝部の深さは、前記第1の溝部の深さよりも深いこと
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - さらに、前記画素電極上方の開口部内にて前記有機発光層と接するとともに、前記補助配線上方の開口部内にて前記補助配線と接する機能層を備え、
前記共通電極は、前記補助配線上方の開口部内にて前記機能層に接していること
を特徴とする請求項1に記載の有機EL表示パネル。 - 基板を用意する第1工程と、
前記基板の上方に薄膜トランジスタを形成する第2工程と、
前記薄膜トランジスタの上方に層間絶縁膜を形成する第3工程と、
前記層間絶縁膜の上方に、画素電極と前記画素電極と離間する補助配線とを形成する第4工程と、
前記層間絶縁膜の上方に、前記画素電極の上方および前記補助配線の上方のそれぞれに開口部を有する隔壁層を形成する第5工程と、
前記画素電極上方の開口部内に有機発光層を形成する第6工程と、
前記画素電極上方の開口部内にて前記画素電極と対向し、前記有機発光層を介して前記画素電極と電気的に接続されるとともに、前記補助配線上方の開口部内にて前記補助配線と対向し、前記補助配線と電気的に接続される共通電極を形成する第7工程と、を含み、
前記第3工程において形成された前記層間絶縁膜は、前記補助配線が上方に形成される領域内に少なくとも一組の凹下部と非凹下部とを有し、前記凹下部の上面が前記非凹下部の上面に対して凹下しており、前記凹下部の上面の全域に、前記層間絶縁膜を構成する絶縁性材料が露出しており、
前記第4工程において形成された前記補助配線は、前記凹下部上の部分と前記非凹下部上の部分とを有し、前記凹下部上の部分の上面が前記非凹下部上の部分の上面に対して凹下していること
を特徴とする有機EL表示パネルの製造方法。
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