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  1. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第1の信号が入力される論理素子と、半導体素子と、を有し、
    前記第2のトランジスタは、前記第1のトランジスタのゲートへの第2の信号の供給を制御する機能を有し、
    前記論理素子は、前記第1の信号が第1の電位から第2の電位に変化すると、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第2の電位から第3の電位に変化させた後、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第3の電位から前記第1の電位に変化させる機能を有し、
    前記半導体素子は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方を浮遊状態にする機能を有し、
    前記第2の電位は、前記第1の電位よりも低く、
    前記第3の電位は、前記第2の電位よりも低い記憶装置。
  2. 第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第1のインバータと、第2のインバータと、半導体素子と、を有し、
    前記第2のトランジスタは、前記第1のトランジスタのゲートへの第1の信号の供給を制御する機能を有し、
    前記第1のインバータは、前記第1の信号が入力されると第2の信号を生成する機能を有し、
    前記第3のインバータは、前記第2の信号の電位が入力されると第3の信号を生成する機能を有し、
    前記第3の信号の電位は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方に供給され、
    前記半導体素子は、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方を浮遊状態にする機能を有し、
    前記第1のインバータは、nチャネル型である第3のトランジスタを有し、
    前記第2のインバータは、nチャネル型である第4のトランジスタを有し、
    前記第4のトランジスタのチャネル長は、前記第3のトランジスタのチャネル長の2倍より大きい記憶装置。
  3. 請求項1または請求項2において、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有する記憶装置。
  4. 請求項3において、
    前記酸化物半導体膜は、In、Ga、及びZnを含む記憶装置。
  5. 記憶装置を備えた論理ブロックを有し、
    前記記憶装置は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第1の信号が入力される論理素子と、を有し、
    前記第2のトランジスタは、前記第1のトランジスタのゲートへの第2の信号の供給を制御する機能を有し、
    前記論理素子は、前記第1の信号が第1の電位から第2の電位に変化すると、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第2の電位から第3の電位に変化させた後、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第3の電位から前記第1の電位に変化させる機能を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第3のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
    前記第2の電位は、前記第1の電位よりも低く、
    前記第3の電位は、前記第2の電位よりも低く、
    前記論理ブロックは、前記第3のトランジスタにより、入力される信号の論理レベルと出力される信号の論理レベルとの関係が定められる半導体装置。
  6. 記憶装置と、複数の論理ブロックと、を有し、
    前記記憶装置は、第1のトランジスタと、第2のトランジスタと、第3のトランジスタと、第1の信号が入力される論理素子と、を有し、
    前記第2のトランジスタは、前記第1のトランジスタのゲートへの第2の信号の供給を制御する機能を有し、
    前記論理素子は、前記第1の信号が第1の電位から第2の電位に変化すると、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第2の電位から第3の電位に変化させた後、前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方を前記第3の電位から前記第1の電位に変化させる機能を有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、前記第3のトランジスタのゲートに電気的に接続されており、
    前記第2の電位は、前記第1の電位よりも低く、
    前記第3の電位は、前記第2の電位よりも低く、
    前記複数の論理ブロックは、前記第3のトランジスタにより互いの電気的な接続が制御される半導体装置。
  7. 請求項5または請求項6において、
    前記第1のトランジスタは、酸化物半導体膜にチャネル形成領域を有する半導体装置。
  8. 請求項7において、
    前記酸化物半導体膜は、In、Ga、及びZnを含む半導体装置。
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