JP2014209581A5 - - Google Patents

Description

この発明は、
少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、
シリカ添加剤を貯留する添加剤貯留部と、
前記リン酸水溶液貯留部に貯留されたリン酸水溶液のシリカ濃度を検出する濃度検出部と、
この濃度検出部により検出されたリン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低い場合に、前記添加剤貯留部から前記リン酸水溶液貯留部へシリカ添加剤を供給する添加剤供給部と、
前記リン酸水溶液貯留部に貯留されたリン酸水溶液により基板を処理する処理部とを備えることを特徴とする。

一方、処理部４０から回収配管５３を介してタンク２１に回収されるリン酸溶液によって、タンク２１内のリン酸水溶液のシリカ濃度が、制御部１００に予め設定した所定濃度より低下することがある。この場合、制御部１００は、濃度検出部２２がこの濃度の低下を検出した場合に開閉弁５２ａを閉じる。なお、制御部１００は、タンク２１内のリン酸溶液のシリカ濃度が低下したことを、基板Ｗに対するエッチング処理中に検出した場合、その基板Ｗへのエッチング処理が終了した時点で、開閉弁５２ａを閉じるようにする。これにより、その基板Ｗに対しても、均一なエッチング処理が行える。

Claims (17)

1. 少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
   リン酸水溶液を貯留するリン酸水溶液貯留部と、
   シリカ添加剤を貯留する添加剤貯留部と、
   前記リン酸水溶液貯留部に貯留されたリン酸水溶液のシリカ濃度を検出する濃度検出部と、
   この濃度検出部により検出されたリン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低い場合に、前記添加剤貯留部から前記リン酸水溶液貯留部へシリカ添加剤を供給する添加剤供給部と、
   前記リン酸水溶液貯留部に貯留されたリン酸水溶液により基板を処理する処理部とを備えることを特徴とするウェットエッチング装置。
2. 前記処理部から前記リン酸水溶液を回収して、前記リン酸水溶液貯留部へ戻す回収部をさらに備えることを特徴とする請求項１記載のウェットエッチング装置。
3. 前記濃度検出部により検出された前記リン酸水溶液のシリカ濃度が予め設定した所定の濃度であることを条件に、前記リン酸水溶液貯留部から前記処理部に前記リン酸水溶液を供給することを特徴とする請求項１または２に記載のウエットエッチング装置。
4. 前記シリカ添加剤は、コロイダルシリカであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載のウエットエッチング装置。
5. 前記リン酸水溶液貯留部に貯留された前記リン酸水溶液の温度を検出する温度検出部を有し、
   この温度検出部により検出された前記リン酸水溶液の温度が予め設定した所定の温度であることを条件に、前記リン酸水溶液貯留部から前記処理部に前記リン酸水溶液を供給することを特徴とする請求項３に記載のウェットエッチング装置。
6. 前記リン酸水溶液貯留部には、前記リン酸水溶液貯留部内部のリン酸水溶液を循環しつつ、加熱するヒータを有する循環配管が設けられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一つに記載のウェットエッチング装置。
7. 前記処理部は、前記基板を保持して回転させる回転機構、回転する前記基板に前記リン酸水溶液貯留部から供給されるリン酸水溶液を供給するノズルを有し、
   前記リン酸水溶液貯留部は、前記処理部とは別個の構成部であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載のウェットエッチング装置。
8. 前記リン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低いことを前記濃度検出部が検出した場合、前記リン酸水溶液貯留部から前記処理部へのリン酸水溶液の供給を停止させる制御部をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載のウェットエッチング装置。
9. 前記制御部は、
   前記処理部における前記基板の処理中に、前記リン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低いことを前記濃度検出部が検出した場合、その基板への処理が終了した時点で、前記リン酸水溶液貯留部から前記処理部へのリン酸水溶液の供給を停止させることを特徴とする請求項８に記載のウェットエッチング装置。
10. 前記リン酸水溶液貯留部は、前記リン酸水溶液貯留部の内部のリン酸水溶液を循環させる循環配管と、
    前記循環配管においてリン酸水溶液を循環させたままで前記処理部へのリン酸水溶液の供給を行う制御部と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載のウェットエッチング装置。
11. 前記リン酸水溶液貯留部内にリン酸水溶液を供給するリン酸水溶液供給部と、
    前記リン酸水溶液貯留部内のリン酸水溶液の液面高さを検出する液面計と、
    前記リン酸水溶液貯留部内の液面高さが所定の高さより低いことを前記液面計が検出した場合、前記処理部へのリン酸水溶液の供給を停止するように制御する制御部と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項７に記載のウェットエッチング装置。
12. 前記制御部は、
    前記処理部における前記基板の処理中に、前記リン酸水溶液貯留部内の液面高さが所定の高さより低いことを前記液面計が検出した場合、その基板への処理が終了した時点で、前記リン酸水溶液貯留部から前記処理部へのリン酸水溶液の供給を停止させることを特徴とする請求項１１に記載のウェットエッチング装置。
13. 前記リン酸水溶液貯留部は、前記処理部に供給するリン酸水溶液を貯留するタンクと、前記タンクに接続されたサブタンクを有し、
    前記サブタンクは、リン酸水溶液供給部からリン酸水溶液が供給されることを特徴とする請求項１に記載のウェットエッチング装置。
14. 少なくとも窒化膜と酸化膜とが形成された基板を処理するウェットエッチング装置において、
    リン酸水溶液を貯留するタンクと、前記タンクに接続されたサブタンクを有するリン酸水溶液貯留部と、
    シリカ添加剤を貯留する添加剤貯留部と、
    前記サブタンクに貯留されたリン酸水溶液のシリカ濃度を検出する濃度検出部と、
    この濃度検出部により検出されたリン酸水溶液のシリカ濃度が所定値より低い場合に、前記添加剤貯留部から前記サブタンクへシリカ添加剤を供給する添加剤供給部と、
    前記リン酸水溶液貯留部の前記タンクに貯留されたリン酸水溶液により基板を処理する処理部と、
    を備えることを特徴とするウェットエッチング装置。
15. 前記処理部から前記リン酸水溶液を回収して、前記サブタンクへ戻す回収部をさらに備えることを特徴とする請求項１３または１４に記載のウェットエッチング装置。
16. 前記サブタンクには、前記サブタンクの内部のリン酸水溶液を循環させる循環配管が設けられていることを特徴とする請求項１３〜１５のいずれか一つに記載のウェットエッチング装置。
17. 前記タンク内のリン酸水溶液の液面高さを検出する液面計と、
    前記リン酸水溶液供給部からリン酸水溶液を供給する制御部と、をさらに備え、
    前記制御部は、前記液面計が前記タンク内の液面高さが所定の高さより低いことを検出すると、液面高さが所定の高さになるまで、前記サブタンクからリン酸水溶液を前記タンクに供給することを特徴とする請求項１３〜１６のいずれか一つに記載のウェットエッチング装置。