JP2016008693A5 - - Google Patents

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配管118によって直列に接続されているガス容器112と、圧縮機113と、蓄圧容器114と、流量調整弁115と、流量計116と、プレクーラ117と、ガス充填ノズル119と、配管118とが、「課題を解決するための手段」における「ガス供給部」に相当する。車両200から水素ガスタンク206内の水素ガスの圧力および温度を取得する通信機124が、「圧力取得部」および「温度取得部」に相当する。制御装置130が、「制御部」に相当する。通信機124と制御装置130が、「ガス供給部を制御するシステム」に相当する。マップM1が、「第1のマップ」に相当する。マップM2とマップM3が、「第2のマップ」に相当する。
ステップS55において、ΔT/ΔPがしきい値X1未満である場合には(S55:No)、処理は、ステップS65に進む。ステップS65では、制御装置130は、ΔT/ΔPがしきい値X2以上であるか否かを判定する(X2X1)。
図4は、本実施形態において、予備充填前の圧力P0がしきい値Ps(5MPa)以上の値をとる場合の二つの水素ガスタンク206H,206LのΔT/ΔPを示したグラフである。単位時間当たりに多くの熱を外部に放出する水素ガスタンク206HのΔT/ΔPは、グラフG4Hで表される。水素ガスタンク206Hに比べて単位時間当たりに少ない熱を外部に放出する水素ガスタンク206LのΔT/ΔPは、グラフG4Lで表される。放熱性がよい水素ガスタンク206HのΔT/ΔPは、予備充填前の圧力P0が高い範囲(P0≧Ps。図2のS35参照)においても、放熱性が悪い水素ガスタンク206のΔT/ΔPに対して十分低い値をとっていることが分かる。すなわち、放熱性がよい水素ガスタンク206HのΔT/ΔPが取り得る範囲と、放熱性が悪い水素ガスタンク206LのΔT/ΔPが取り得る範囲とは、重複していない。このため、本実施形態においては、図2のステップS55,S65の判定、言い換えればマップM1〜M3をそれぞれ適用すべき場合の区別(図2のS60,S70,S80参照)を、正確に行うことができる。
ステップS240において、制御装置130は、本充填開始後、時間tが経過したときに、水素ガスタンク206内の温度T2を取得する。具体的には、制御装置130は、本充填開始後、時間tが経過したときに温度センサ208によって取得された水素ガスタンク206内の温度T2を、通信機124を介して、車両200から取得する(図1参照)。
ステップS44において、制御装置130は、予備充填の際の水素ガスの流量QdをQLに設定する。QLは、本実施形態では、12g/secである。ステップS44の処理は、実施形態1の図2のS20の処理と同じである。その後、処理は、ステップS50に進む。
D8.変形例8:
上記実施形態1においては、本充填は、一定流量で行われるものとし、上記実施形態1においては、本充填の際の水素ガスの充填の流量は一定である。しかし、本充填の際のガスの充填の流量は、本充填中に変化してもよい。たとえば、予備充填に基づいて定めた流量に基づいて本充填を開始し、その後、測定されたパラメータに応じて流量を変更してもよい(実施形態2の図8参照)。

Claims (7)

  1. タンクにガスを供給するガス供給部を制御するシステムであって、
    前記タンク内の圧力を取得する圧力取得部と、
    前記タンク内の温度を取得する温度取得部と、
    前記ガス供給部を制御して、前記タンクにガスを供給する第1の充填を行わせ、前記ガス供給部を制御して、前記第1の充填中の所定時間における前記タンク内の圧力の変化と前記タンク内の温度の変化の比に基づいて決定された流量に基づき、前記タンクにガスを供給する第2の充填を行わせる制御部と、を備え、
    前記制御部は、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力が第1の圧力である場合に、第1の流量で前記第1の充填を行わせ、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力が前記第1の圧力より大きい第2の圧力である場合に、前記第1の流量よりも大きい第2の流量で前記第1の充填を行わせる、ガス供給部を制御するシステム。
  2. 請求項1記載のシステムであって、
    前記制御部は、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力がしきい値より小さい場合に、前記第1の充填における流量を前記第1の流量に設定し、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力が、前記しきい値より大きい場合に、前記第1の充填における流量を前記第2の流量に設定する、システム。
  3. 請求項1または2記載のシステムであって、
    前記制御部は、
    前記タンク内の圧力に応じた前記第1の充填における流量の設定に先立って、前記第1の充填における流量を前記第1の流量に設定する、システム。
  4. 請求項2記載のシステムであって、
    前記しきい値は、1〜10MPaの範囲内にある、システム。
  5. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシステムであって、
    前記制御部は、
    前記第1の充填中の前記所定時間における前記タンク内の前記圧力の変化ΔPに対する前記所定時間における前記タンク内の前記温度の変化ΔTが、第1の範囲内にあるとき、前記第2の充填前の前記タンク内温度圧力とに基づいてガスの流量を定める第1のマップに従って、前記第2の充填におけるガスの流量を設定し、
    前記圧力の変化ΔPに対する前記温度の変化ΔTが、前記第1の範囲よりも小さい第2の範囲内にあるとき、前記第2の充填前の前記タンク内温度圧力とに基づいてガスの流量を定める第2のマップであって、同一の入力パラメータに対して前記第1のマップよりも大きい流量を定める第2のマップに従って、前記第2の充填におけるガスの流量を設定する、システム。
  6. 請求項1〜4のいずれか1項に記載のシステムであって、
    前記制御部は、
    前記第1の充填中の前記所定時間における前記タンク内の前記圧力の変化ΔPに対する前記所定時間における前記タンク内の前記温度の変化ΔTと、前記第1の充填中の単位時間当たりの前記タンク内の温度の変化と、に基づいて、前記第2の充填におけるガスの流量を設定し、
    前記圧力の変化ΔPに対する前記温度の変化ΔTと、前記単位時間当たりの温度の変化と、に基づいて定められる前記第2の充填中の前記タンク内の温度の予測値と、前記第2の充填中の前記タンク内の温度と、に基づいて、前記第2の充填におけるガスの流量を制御する、システム。
  7. タンクにガスを充填する方法であって、
    (a)タンクにガスを供給する第1の充填を行う工程と、
    (b)前記第1の充填中の所定時間における前記タンク内の圧力の変化と前記タンク内の温度の変化の比に基づいて決定された流量に基づき、前記タンクにガスを供給する第2の充填を行う工程と、を備え、
    前記工程(a)は、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力が第1の圧力である場合に、第1の流量で前記第1の充填を行い、
    前記第1の充填の前の前記タンク内の圧力が前記第1の圧力より大きい第2の圧力である場合に、前記第1の流量よりも大きい第2の流量で前記第1の充填を行う工程である、タンクにガスを充填する方法。
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