JP2013229514A5 - - Google Patents

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本発明の微細気泡発生装置は、微細気泡を含む処理液を貯留する貯留タンクと、前記貯留タンクを挟んで対向して設けられるカラー検出手段および背景色パネルと、前記カラー検出手段によって検出される検出結果に基づき前記処理液に含まれる微細気泡の濃度を検知する制御部とを有することを特徴とする。
1の実施形態との違いは、背景色パネルPとカラー検出手段Cが、ノズル11を挟んで対向する位置に備えられている点である。カラー検出手段Cは、ノズル11から吐出された処理液Lに含まれる微細気泡の濃度を吐出された処理液Lの色を検出することによって測定する。この検出結果は、第1の実施形態と同様、制御部8に送られ、制御部8によって、予め実験により求められた最適な閾値Tと比較される。制御部8は、この比較結果に基づき、気体供給源7からの気体供給量について、フィードバック制御する。すなわち、微細気泡の発生濃度が閾値Tより低い場合には、気体供給源6から加圧タンク5へ供給する窒素ガスの供給量を増やす。
まず、供給配管4aを通して微細気泡発生手段3に供給された処理液Lは、第1の実施形態同様、戻り配管4bによって加圧タンク5と貯留タンク2とを循環しながら、徐々に白濁していく(微細気泡の濃度が高くなる)。このときバルブB1の分岐供給配管41a側は閉状態なっており、この開閉制御は制御部8によって行われる。第1の実施形態同様、カラー検出手段Cの測定値が閾値より高くなると、制御部8は、バルブB1の分岐供給配管41a側を開状態、貯留タンク2に供給する側を閉状態にする。循環を繰り返し、白濁した貯留タンク2内の処理液Lは、微細気泡を多量に含むとともに、多量の気体を溶存した状態になっている。この状態を保ったまま、微細気泡発生手段3を通過することなく、加圧タンク5内の処理液Lを分岐供給配管41aを介して微細気泡発生手段を備えたノズル31に供給することによって、微細気泡発生手段31から吐出される処理液Lには、微細気泡が多量に含まれる。

Claims (7)

  1. 微細気泡を含む処理液を貯留する貯留タンクと、
    前記貯留タンクを挟んで対向して設けられるカラー検出手段および背景色パネルと、
    前記カラー検出手段によって検出される検出結果に基づき前記処理液に含まれる微細気泡の濃度を検知する制御部と
    を有することを特徴とする微細気泡発生装置。
  2. 微細気泡を含む処理液を被処理物に供給するノズルと、
    前記ノズルを挟んで対向して設けられるカラー検出手段および背景色パネルと、
    前記カラー検出手段によって検出される検出結果に基づき前記処理液に含まれる微細気泡の濃度を検知する制御部と
    を有することを特徴とする微細気泡発生装置。
  3. カラー検出手段と、
    前記カラー検出手段と対向して設けられる背景色パネルと、
    前記カラー検出手段と前記背景色パネルとの間に存在する微細気泡を含む処理液の前記カラー検出手段によって検出される検出結果に基づき前記処理液に含まれる微細気泡の濃度を検知する制御部と
    を有することを特徴とする微細気泡発生装置。
  4. 処理液に微細気泡を発生させる微細気泡発生手段と、
    前記微細気泡を含む処理液を基板に供給するノズルと、
    請求項1から3いずれか1つに記載の微細気泡発生装置と、
    を有する基板処理装置。
  5. 前記カラー検出手段の検出結果に基づき、前記微細気泡発生手段に供給する気体の量を制御する制御部を有することを特徴とする請求項4記載の基板処理装置。
  6. 処理液中に微細気泡を発生させる微細気泡発生工程と、
    前記微細気泡発生工程にて発生した微細気泡を含む処理液の色をカラーセンサにて検出するカラー検出工程と、
    前記カラー検出工程で検出した検出結果に基づき、前記処理液に含まれる微細気泡の濃度が前記処理液使用先にて使用可能な濃度であるか否かを判断する濃度判断工程と、
    を有することを特徴とする微細気泡発生方法。
  7. 処理液中に微細気泡を発生させる微細気泡発生工程と、
    前記微細気泡発生工程にて発生した微細気泡を含む処理液の色をカラーセンサにて検出するカラー検出工程と、
    前記カラー検出工程で検出した検出結果に基づき、前記処理液に含まれる微細気泡の濃度が前記処理液の使用先にて使用可能な濃度であるか否かを判断する濃度判断工程と、
    前記濃度判断工程の判断結果に基づき、前記微細気泡発生工程にて用いる気体の供給量を制御する制御工程と、
    前記濃度判定工程にて微細気泡の濃度が基板処理工程にて使用可能であると判定されたときに基板処理工程に送液する送液工程と、
    を有することを特徴とする基板処理方法
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