JP2014080570A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014080570A5 JP2014080570A5 JP2013097784A JP2013097784A JP2014080570A5 JP 2014080570 A5 JP2014080570 A5 JP 2014080570A5 JP 2013097784 A JP2013097784 A JP 2013097784A JP 2013097784 A JP2013097784 A JP 2013097784A JP 2014080570 A5 JP2014080570 A5 JP 2014080570A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor device
- temporary adhesive
- manufacturing
- processed
- adhesive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 44
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 44
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 36
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 22
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 claims description 16
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 2
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013097784A JP5909460B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-05-07 | 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法。 |
| PCT/JP2013/073669 WO2014050455A1 (ja) | 2012-09-28 | 2013-09-03 | 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法 |
| KR1020157007079A KR101678873B1 (ko) | 2012-09-28 | 2013-09-03 | 반도체 장치 제조용 가접착제와 그것을 사용한 접착성 지지체, 및 반도체 장치의 제조 방법 |
| TW102134654A TWI588225B (zh) | 2012-09-28 | 2013-09-26 | 半導體裝置製造用暫時接著劑、以及使用其的接著性支持體及半導體裝置的製造方法 |
| US14/641,656 US20150184032A1 (en) | 2012-09-28 | 2015-03-09 | Temporary adhesive for production of semiconductor device, and adhesive support and production method of semiconductor device using the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012218585 | 2012-09-28 | ||
| JP2012218585 | 2012-09-28 | ||
| JP2013097784A JP5909460B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-05-07 | 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法。 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014080570A JP2014080570A (ja) | 2014-05-08 |
| JP2014080570A5 true JP2014080570A5 (enExample) | 2014-12-11 |
| JP5909460B2 JP5909460B2 (ja) | 2016-04-26 |
Family
ID=50387864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013097784A Expired - Fee Related JP5909460B2 (ja) | 2012-09-28 | 2013-05-07 | 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法。 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20150184032A1 (enExample) |
| JP (1) | JP5909460B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101678873B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI588225B (enExample) |
| WO (1) | WO2014050455A1 (enExample) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9496164B2 (en) * | 2014-01-07 | 2016-11-15 | Brewer Science Inc. | Cyclic olefin polymer compositions and polysiloxane release layers for use in temporary wafer bonding processes |
| US9865490B2 (en) * | 2014-01-07 | 2018-01-09 | Brewer Science Inc. | Cyclic olefin polymer compositions and polysiloxane release layers for use in temporary wafer bonding processes |
| JP6330346B2 (ja) * | 2014-01-29 | 2018-05-30 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物、接着剤組成物を用いた電子部材、及び半導体装置の製造方法 |
| JP5678228B1 (ja) * | 2014-06-27 | 2015-02-25 | 積水化学工業株式会社 | 回路基板の処理方法及び硬化型接着剤組成物 |
| JP2016044222A (ja) * | 2014-08-21 | 2016-04-04 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物及び接続構造体 |
| CN104559852B (zh) * | 2014-12-31 | 2018-02-27 | 深圳市化讯半导体材料有限公司 | 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法 |
| KR102021302B1 (ko) * | 2015-05-08 | 2019-09-16 | 후지필름 가부시키가이샤 | 디바이스 기판 및 반도체 디바이스의 제조 방법 |
| CN108291123B (zh) * | 2015-12-07 | 2021-04-23 | 醋酸纤维国际有限责任公司 | 乙酸纤维素木材填料组合物 |
| TWI627251B (zh) * | 2017-04-10 | 2018-06-21 | 台虹科技股份有限公司 | 暫時性接著用組成物、暫時性接著用溶液以及暫時性接著用膜材 |
| WO2019106846A1 (ja) * | 2017-12-01 | 2019-06-06 | 日立化成株式会社 | 半導体装置の製造方法、仮固定材用樹脂組成物、及び仮固定材用積層フィルム |
| KR102470448B1 (ko) | 2017-12-15 | 2022-11-24 | 주식회사 엘지화학 | 의류용 수성 아크릴계 점착제 및 이의 제조 방법 |
| JP2019026851A (ja) * | 2018-09-19 | 2019-02-21 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物及び接続構造体 |
| WO2020091006A1 (ja) * | 2018-11-02 | 2020-05-07 | 日本ゼオン株式会社 | 固定部材および積層体 |
| JP2020111760A (ja) * | 2020-04-07 | 2020-07-27 | 日立化成株式会社 | 接着剤組成物及び接続構造体 |
Family Cites Families (31)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3483161B2 (ja) | 1994-08-11 | 2004-01-06 | リンテック株式会社 | 粘接着テープおよびその使用方法 |
| JP3146888B2 (ja) | 1994-10-31 | 2001-03-19 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品の仮止め用ボンド |
| JP4072927B2 (ja) * | 1997-08-28 | 2008-04-09 | リンテック株式会社 | エネルギー線硬化型親水性粘着剤組成物およびその利用方法 |
| KR100878971B1 (ko) * | 2001-08-03 | 2009-01-19 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 양면 점착 테이프 및 이를 이용한 ic 칩의 제조 방법 |
| JP4485165B2 (ja) | 2002-10-22 | 2010-06-16 | 株式会社クラレ | 粘・接着剤組成物 |
| US6920159B2 (en) * | 2002-11-29 | 2005-07-19 | Optitune Plc | Tunable optical source |
| JP2007291394A (ja) * | 2004-05-31 | 2007-11-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 樹脂組成物、接着フィルムおよび樹脂ワニス |
| US8187411B2 (en) * | 2005-03-18 | 2012-05-29 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Adherent composition and method of temporarily fixing member therewith |
| JP4643360B2 (ja) | 2005-05-24 | 2011-03-02 | 株式会社イーテック | 粘着性樹脂組成物、並びに粘着シートおよびその製造方法 |
| EP1900761B1 (en) * | 2005-07-04 | 2012-06-13 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Curable composition and method for temporal fixation of structural member using the same |
| JP2007045939A (ja) | 2005-08-10 | 2007-02-22 | Jsr Corp | 粘着フィルムの粘着力低減方法 |
| JP5335443B2 (ja) | 2006-03-01 | 2013-11-06 | シン マテリアルズ アクチェンゲゼルシャフト | ウエハ支持構造体及び該ウエハ支持構造体の製造に用いられる層システム |
| JP5057697B2 (ja) * | 2006-05-12 | 2012-10-24 | 日東電工株式会社 | 半導体ウエハ又は半導体基板加工用粘着シート |
| WO2008018252A1 (en) * | 2006-08-10 | 2008-02-14 | Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Adhesive composition and method for temporarily fixing member by using the same |
| JP2008063464A (ja) | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物、接着フィルム及び当該接着剤組成物の製造方法 |
| JP2008063463A (ja) | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物、接着フィルム及び当該接着剤組成物の製造方法 |
| US20080200011A1 (en) | 2006-10-06 | 2008-08-21 | Pillalamarri Sunil K | High-temperature, spin-on, bonding compositions for temporary wafer bonding using sliding approach |
| KR100773634B1 (ko) * | 2006-10-26 | 2007-11-05 | 제일모직주식회사 | 아크릴 바인더 수지조성물를 포함하는 광경화형 점착조성물및 이를 이용한 점착테이프 |
| JP5016296B2 (ja) | 2006-11-22 | 2012-09-05 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物、及び接着フィルム |
| JP4976829B2 (ja) | 2006-11-29 | 2012-07-18 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物、及び接着フィルム |
| JP2009185197A (ja) | 2008-02-07 | 2009-08-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 接着剤組成物及びその利用、並びに接着剤組成物の製造方法 |
| JP5499454B2 (ja) * | 2008-03-11 | 2014-05-21 | 日立化成株式会社 | 感光性接着剤組成物、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法 |
| JP5497276B2 (ja) * | 2008-07-08 | 2014-05-21 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物の製造方法 |
| JP4920097B2 (ja) * | 2009-06-01 | 2012-04-18 | アイカ工業株式会社 | 接着剤組成物 |
| TWI479259B (zh) | 2009-06-15 | 2015-04-01 | Sumitomo Bakelite Co | A temporary fixing agent for a semiconductor wafer, and a method of manufacturing the semiconductor device using the same |
| JP2011052142A (ja) | 2009-09-03 | 2011-03-17 | Jsr Corp | 接着剤組成物、それを用いた基材の加工または移動方法および半導体素子 |
| JP5010668B2 (ja) | 2009-12-03 | 2012-08-29 | 信越化学工業株式会社 | 積層型半導体集積装置の製造方法 |
| JP5691538B2 (ja) | 2010-04-02 | 2015-04-01 | Jsr株式会社 | 仮固定用組成物、仮固定材、基材の処理方法、および半導体素子 |
| JP5674332B2 (ja) * | 2010-04-14 | 2015-02-25 | 電気化学工業株式会社 | 接着剤組成物及びそれを用いた部材の仮固定方法 |
| JP5624908B2 (ja) * | 2010-08-09 | 2014-11-12 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物 |
| JP5545239B2 (ja) * | 2011-02-21 | 2014-07-09 | Jnc株式会社 | 接着した部材からの光硬化性接着剤の除去方法、及び二部材の接着方法 |
-
2013
- 2013-05-07 JP JP2013097784A patent/JP5909460B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-09-03 WO PCT/JP2013/073669 patent/WO2014050455A1/ja not_active Ceased
- 2013-09-03 KR KR1020157007079A patent/KR101678873B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2013-09-26 TW TW102134654A patent/TWI588225B/zh not_active IP Right Cessation
-
2015
- 2015-03-09 US US14/641,656 patent/US20150184032A1/en not_active Abandoned