JP6364200B2 - 電子部品用粘着テープ、電子部品の製造方法及びイメージセンサの製造方法 - Google Patents

電子部品用粘着テープ、電子部品の製造方法及びイメージセンサの製造方法 Download PDF

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本発明は、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れる電子部品用粘着テープ、及び、該電子部品用粘着テープを用いた電子部品の製造方法、イメージセンサの製造方法に関する。
例えば、半導体チップの製造工程において、高純度なシリコン単結晶等から切り出した厚膜ウエハを所定の厚さにまで研磨して薄膜ウエハとする工程等において、厚膜ウエハを粘着テープを介して支持板に接着して補強することにより、効率よく作業を進めることが提案されている。また、所定の厚さに研削された薄膜ウエハを個々の半導体チップにダイシングする際にも、ダイシングテープと呼ばれる粘着テープが用いられる。このような電子部品の製造工程に用いる粘着テープには、工程中には強固に接着する一方で、工程終了後には得られた薄膜ウエハや半導体チップ等の電子部品を損傷することなく剥離できること(以下、「高接着易剥離」ともいう。)が求められる。
高接着易剥離を実現した粘着テープとして特許文献1には、紫外線等の光を照射することにより硬化して粘着力が低下する光硬化型粘着剤を用いた粘着テープが開示されている。特許文献1に記載された粘着テープは、加工工程中には確実に半導体を固定できるとともに、紫外線等を照射することにより容易に剥離することができるとされている。
特許文献2には、熱膨張性微小球を含有する粘着層を有する加熱剥離型粘着シートが開示されている。特許文献2の加熱剥離型粘着シートを一定の温度以上に加熱すると、熱膨張微小球が膨張して粘着層全体が発泡して表面に凹凸が形成され、被着体との接着面積が減少することから、容易に被着体を剥離することができる。
しかしながら、これらの粘着テープは、粘着力の低下が必ずしも充分ではなく、剥離時に電子部品を損傷してしまったり、剥離後に電子部品上に糊残りを生じてしまったりすることがあるという問題があった。
1990年代から実用化され、現在も次々と新しい技術が提案されているシーモスイメージセンサ(CMOSイメージセンサ、CIS)が注目されている。CISはCCDイメージセンサと比べるとより汎用の半導体製造装置を流用できることから、供給価格が安い。また、多画素化や高感度化などの基本性能の向上に加えて、複合機能化という新しい軸での進化が急激に進んでいる。
このようなCISの製造では、カバーガラスにフォトレジストによるガラスダムを形成した後、超音波洗浄工程が行われる。その後、イソプロパノール(IPA)による洗浄工程や、リフロー等の200℃以上の高温プロセスを行う工程が行われる。
現在のところCISの製造工程では、超音波洗浄工程、薬液洗浄工程では粘着テープによる保護は行っておらず、その後の工程でのみ粘着テープを用いている。しかしながら、超音波洗浄工程でもカバーガラスの破損の問題があり、薬液洗浄工程でもカバーガラスの汚染の問題があることから、これらの工程でも粘着テープによる保護が求められている。しかしながら、従来の粘着テープでは、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性を同時に満たすことができず、工程毎に適当な粘着テープに貼り代えるほかなかった。
同様に、機械要素部品、センサ、アクチュエータ、電子回路を1つのシリコン基板、ガラス基板、有機材料等の上に集積化したデバイスであるMEMS(メムス、Micro Electro Mechanical Systems)の製造においても、超音波洗浄工程、薬液洗浄工程、250℃程度の高温工程が行われるが、従来の粘着テープでは、工程毎に適当な粘着テープに貼り代えるほかなかった。
そこで、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れ、全ての工程を通じて電子部品を保護することができる粘着テープが求められていた。
特開平5−32946号公報 特開平11−166164号公報
本発明は、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れる電子部品用粘着テープ、及び、該電子部品用粘着テープを用いた電子部品の製造方法、イメージセンサの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を行う電子部品の製造において電子部品の保護を行うための粘着テープであって、基材と、該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなり、少なくとも前記超音波洗浄工程の直前においてJIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における前記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における前記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である電子部品用粘着テープである。
以下に本発明を詳述する。
本発明者らは、鋭意検討の結果、基材と該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなる粘着テープにおいて、少なくとも超音波洗浄工程の直前において、粘着テープのガラスに対する接着力、及び、粘着剤層の貯蔵弾性率を特定の範囲に調整することにより、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れ、かつ、糊残りなく剥離できる電子部品用粘着テープを提供できることを見出し、本発明を完成した。
本発明の電子部品用粘着テープ(以下、単に「本発明の粘着テープ」ともいう。)は、超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を行う電子部品の製造において電子部品の保護を行うための粘着テープである。
このような工程により製造される電子部品としては、例えば、半導体、タッチパネル、液晶ディスプレイ等が挙げられる。なかでも本発明の粘着テープは、半導体、カバーガラスを用いる半導体、イメージセンサ、MEMS等の製造に好適であり、シーモスイメージセンサの製造に最適である。
本願明細書において超音波洗浄工程とは、電子部品を水溶液中に浸漬した状態で超音波を当てることにより電子部品の表面を洗浄する工程を意味する。
超音波洗浄工程では、通常は40〜3000kHzの周波数の超音波を5〜15分間程度当てることが行われる。従って、粘着テープには、40kHzの周波数の超音波を15分間当てても剥離しない超音波耐性が求められる。
上記水溶液は、より洗浄効果を高める目的で酸性又はアルカリ性としたりすることもある。
本願明細書において薬液洗浄工程とは、電子部品を薬液中に浸漬することにより電子部品の表面を洗浄する工程を意味する。
薬液洗浄工程に用いる薬液としては、例えば、酸性水溶液、アルカリ性水溶液や、イソプロパノール等の有機溶剤が挙げられる。
上記200℃以上の高温プロセスを行う工程としては、例えば、化学蒸着法(Chemical Vapor Deposition、CVD)、反応性イオンエッチング(Reactive Ion Etching)、リフロー等が挙げられる。
本発明の粘着テープは、少なくとも超音波洗浄工程の直前においてJIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchである。
粘着テープの接着力が低い場合には、超音波洗浄工程でかかる応力に耐えきれず、粘着テープが剥離してしまうことがある。一方、粘着テープの接着力を高くすることにより超音波耐性を向上させることはできるが、接着力が高くなりすぎると、200℃以上の高温プロセスを行う工程を経たあとに電子部品から粘着テープを剥離しようとすると電子部品上に糊残りすることがある。23℃における粘着テープのガラスに対する接着力を0.01〜1N/inchの範囲内とすることにより、超音波工程における剥離の防止と、200℃以上の高温プロセスを行う工程を経たあとの剥離時の糊残り等の防止とを両立することができる。上記接着力の好ましい下限は0.03N/inch、好ましい上限は0.5N/inchであり、より好ましい下限は0.05N/inch、より好ましい上限は0.3N/inchである。
なお、ここで「少なくとも超音波洗浄工程の直前において」としたのは、上記粘着剤層が例えば後述する光硬化型粘着剤等からなる場合には、超音波洗浄工程の前に該粘着剤層を光硬化させた後の粘着テープが上記接着力を有するときにでも、本発明の効果が発揮されるためである。
本発明の粘着テープは、少なくとも超音波洗浄工程の直前において動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である。粘着剤層の貯蔵弾性率を1.0×10Pa以上とすることにより、超音波洗浄工程において粘着テープが剥離してしまうのを防止することができる。
なお、上記粘着剤層の貯蔵弾性率の上限は特に限定されないが、1.0×10Pa程度が実質的な上限となる。
本発明の粘着テープは、少なくとも超音波洗浄工程の直前において粘着剤層のゲル分率が90%以上であることが好ましい。ゲル分率を90%以上とすることにより、洗浄液による浸漬でテープが剥離してしまうのを防止することができる。上記ゲル分率は、95%以上であることがより好ましい。
なお、本明細書においてゲル分率とは、酢酸エチル中に浸漬したときに、溶かされずに残存している部分をゲルとし、該ゲル部分の重量と酢酸エチルに浸漬する前の重量との比(百分率)を意味する。
本発明の粘着テープは、基材の片面にのみ粘着剤層が形成された片面粘着テープであってもよく、基材の両面に粘着剤層が形成された両面粘着テープであってもよい。本発明の粘着テープが両面粘着テープである場合、少なくとも一方の粘着剤層について、上記ガラスに対する接着力、及び、貯蔵弾性率を有すればよい。
上記基材は特に限定されず、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ABS、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の樹脂からなるシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。
上記粘着剤層を構成する粘着剤は、上記粘着テープのガラスに対する接着力、及び、上記粘着剤層の貯蔵弾性率を特定の範囲に調整できるものであれば特に限定されず、光や熱等の刺激を与えても硬化しない非硬化型粘着剤であっても、光照射により硬化する光硬化型粘着剤であってもよい。
上記非硬化型粘着剤は、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、スチレン・ジエンブロック共重合体系粘着剤等が挙げられる。
上記非硬化型粘着剤を用いて上記粘着テープのガラスに対する接着力、及び、上記粘着剤層の貯蔵弾性率を特定の範囲に調整する方法としては、無機フィラーを加える、架橋剤添加量を増やす、架橋剤の反応官能基数を増やす、複数の架橋剤を併用する等の方法が考えられる。
上記光硬化型粘着剤は、例えば、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有する光硬化型粘着剤等が挙げられる。
上記重合性ポリマーは、例えば、分子内に官能基を持った(メタ)アクリル系ポリマー(以下、官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーという。)をあらかじめ合成し、分子内に上記の官能基と反応する官能基とラジカル重合性の不飽和結合とを有する化合物(以下、官能基含有不飽和化合物という。)と反応させることにより得ることができる。
上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーは、常温で粘着性を有するポリマーとして、一般の(メタ)アクリル系ポリマーの場合と同様に、アルキル基の炭素数が通常2〜18の範囲にあるアクリル酸アルキルエステル及び/又はメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これと官能基含有モノマーと、更に必要に応じてこれらと共重合可能な他の改質用モノマーとを常法により共重合させることにより得られるものである。上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は通常20万〜200万程度である。
上記官能基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシ基含有モノマー;アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等のヒドロキシ基含有モノマー;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸イソシアネートエチル、メタクリル酸イソシアネートエチル等のイソシアネート基含有モノマー;アクリル酸アミノエチル、メタクリル酸アミノエチル等のアミノ基含有モノマー等が挙げられる。
上記共重合可能な他の改質用モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の一般の(メタ)アクリル系ポリマーに用いられている各種のモノマーが挙げられる。
上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーに反応させる官能基含有不飽和化合物としては、上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの官能基に応じて上述した官能基含有モノマーと同様のものを使用できる。例えば、上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの官能基がカルボキシ基の場合はエポキシ基含有モノマーやイソシアネート基含有モノマーが用いられ、同官能基がエポキシ基の場合はカルボキシ基含有モノマーやアクリルアミド等のアミド基含有モノマーが用いられ、同官能基がアミノ基の場合はエポキシ基含有モノマーが用いられる。
上記分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーは、多官能オリゴマー又はモノマーを併用してもよい。
上記官能基オリゴマー又はモノマーとしては、分子量が1万以下であるものが好ましく、より好ましくは加熱又は光の照射による粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、その分子量が5,000以下でかつ分子内のラジカル重合性の不飽和結合の数が2〜20個のものである。このようなより好ましい多官能オリゴマー又はモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又は上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。その他、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート、上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。これらの多官能オリゴマー又はモノマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記光硬化型粘着剤は、光重合開始剤を含有してもよい。
上記光重合開始剤としては、例えば、250〜800nmの波長の光を照射することにより活性化するものが挙げられ、このような光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物;ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタール等のケタール誘導体化合物;フォスフィンオキシド誘導体化合物;ビス(η5−シクロペンタジエニル)チタノセン誘導体化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記光硬化型粘着剤を用いて上記粘着テープのガラスに対する接着力、及び、上記粘着剤層の貯蔵弾性率を特定の範囲に調整する方法としては、無機フィラーを加える、架橋剤添加量を増やす、架橋剤の反応官能基数を増やす、複数の架橋剤を併用する、光硬化開始剤の量を増やすこと等の方法が考えられる。
また、上記粘着テープを電子部品に貼り付けた後、超音波洗浄工程の前に、粘着テープに光を照射又は加熱して、粘着テープのガラスに対する接着力、及び、上記粘着剤層の貯蔵弾性率を特定の範囲に調整することもできる。
上記粘着剤層は、上記粘着剤と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物(以下、単に「シリコーン化合物A」ともいう。)を含有することが好ましい。
シリコーン化合物は、耐熱性に優れることから、200℃以上の高温加工プロセスを経ても粘着剤の焦げ付きを防止し、剥離時には被着体界面にブリードアウトして、剥離を容易にする。
また、シリコーン化合物が上記粘着剤と架橋可能な官能基を有することにより、上記粘着剤と化学反応して上記粘着剤中に取り込まれることから、被着体にシリコーン化合物が付着して汚染することがない。
上記シリコーン化合物Aのシリコーン骨格は特に限定はされず、D体、DT体のいずれでもよい。
上記シリコーン化合物Aは、該官能基をシリコーン骨格の側鎖又は末端に有することが好ましい。
なかでも、D体のシリコーン骨格を有し、かつ、末端に上記粘着剤と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を用いると、高い初期粘着力と高温加工プロセス後の剥離力とを両立しやすいことから好適である。
上記シリコーン化合物Aの官能基は、上記粘着剤に応じて適当なものを選択して用いる。例えば、上記粘着剤が上記分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを主成分とする光硬化型粘着剤である場合には、(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基を選択する。
上記(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基は、不飽和二重結合を有する官能基であり、具体的には例えば、ビニル基、(メタ)アクリル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。
上記シリコーン化合物Aの官能基当量は特に限定されないが、好ましい下限は1、好ましい上限は20である。上記官能基当量が1未満であると、得られる粘着剤組成物の硬化時に、シリコーン化合物Aが充分に粘着剤に取り込まれず、被着体を汚染してしまったり、剥離性を充分に発揮できなかったりすることがあり、20を超えると、充分な粘着力が得られないことがある。上記官能基当量のより好ましい上限は10であり、より好ましい下限は2、更に好ましい上限は6である。
上記シリコーン化合物Aの分子量は特に限定されないが、好ましい下限は300、好ましい上限は50000である。上記分子量が300未満であると、得られる粘着テープの耐熱性が不充分となることがあり、50000を超えると、上記粘着剤との混合が困難となることがある。上記分子量のより好ましい下限は400、より好ましい上限は10000であり、更に好ましい上限は5000である。
上記シリコーン化合物Aを合成する方法は特に限定されず、例えば、SiH基を有するシリコーン樹脂と、上記粘着剤と架橋可能な官能基を有するビニル化合物とをハイドロシリレーション反応により反応させることにより、シリコーン樹脂に上記粘着剤と架橋可能な官能基を導入する方法や、シロキサン化合物と、上記粘着剤と架橋可能な官能基を有するシロキサン化合物とを縮合反応させる方法等が挙げられる。
上記シリコーン化合物Aのうち市販されているものは、例えば、信越化学工業社製のX−22−164、X−22−164AS、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C、X−22−164E等の両末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物や、信越化学工業社製のX−22−174DX、X−22−2426、X−22−2475等の片末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物や、ダイセル・オルネクス社製のEBECRYL350、EBECRYL1360等のアクリル基を有するシリコーン化合物や、東亜合成社製のAC−SQ TA−100、AC−SQ SI−20等のアクリル基を有するシリコーン化合物や、東亜合成社製のMAC−SQ TM−100、MAC−SQ SI−20、MAC−SQ HDM等のメタクリル基を有するシリコーン化合物等が挙げられる。
なかでも、上記シリコーン化合物Aは、耐熱性が特に高く、極性が高いために粘着剤組成物からのブリードアウトが容易であることから、下記一般式(I)、一般式(II)、一般式(III)で表される、シロキサン骨格に(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物が好適である。
Figure 0006364200
式中、X、Yは0〜1200の整数を表し、Rは不飽和二重結合を有する官能基を表す。
上記一般式(I)、一般式(II)、一般式(III)で表される、シロキサン骨格に(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物のうち市販されているものは、例えば、ダイセル・オルネクス社製のEBECRYL350、EBECRYL1360(いずれもRがアクリル基)等が挙げられる。
また、上記シリコーン化合物は、下記一般式(IV)で表される、三次元構造を有するシリコーン化合物も用いることができる。
Figure 0006364200
式中、Rは不飽和二重結合を有する官能基を表す。
上記シリコーン化合物Aの含有量は特に限定されないが、上記粘着剤100重量部に対する好ましい下限が0.5重量部、好ましい上限が10重量部である。シリコーン化合物Aの含有量が0.5重量部未満であると、充分に粘着力が低減せず被着体から剥離できないことがあり、10重量部を超えると、超音波洗浄で被着体から剥離してしまうことがある。
上記粘着剤層は、凝集力の調節を図る目的でイソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ化合物等の一般の粘着剤に配合される各種の多官能性化合物を適宜配合してもよい。また、帯電防止剤、可塑剤、樹脂、界面活性剤、ワックス、微粒子充填剤等の公知の添加剤を加えることもできる。更に、粘着剤の安定性を高めるために熱安定剤、酸化防止剤を配合してもよい。
本発明の粘着テープを製造する方法は特に限定されず、例えば、上記粘着剤と必要に応じて配合する上記シリコーン化合物A等とをビーズミル、超音波分散、ホモジナイザー、高出力ディスパー、ロールミル等を用いて混合して粘着剤組成物を調製したうえで、上記基材上にドクターナイフやスピンコーター等を用いて塗工する等の従来公知の方法を用いることができる。
本発明の粘着テープは、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れる。このような本発明の粘着テープを用いれば、超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を行う電子部品の製造の全ての工程を通じて電子部品を保護することができる。なかでも本発明の粘着テープは、半導体、ガバーガラスを用いる半導体、イメージセンサ、MEMS等の製造に好適であり、シーモスイメージセンサの製造に最適である。
超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を有する電子部品の製造方法であって、上記超音波洗浄工程、薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程の全ての工程を通じて電子部品用粘着テープによって電子部品を保護するものであり、上記電子部品用粘着テープは、基材と、該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなり、少なくとも上記超音波洗浄工程の直前においてJIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における上記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における上記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である電子部品の製造方法もまた、本願発明の1つである。
カバーガラスにフォトレジストによるガラスダムを形成した後に超音波洗浄を行う超音波洗浄工程と、有機溶剤による薬液洗浄工程と、200℃以上の温度でリフローを行うリフロー工程を有するイメージセンサの製造方法であって、上記超音波洗浄工程、薬液洗浄工程及びリフロー工程の全ての工程を通じて電子部品用粘着テープによって半導体を保護するものであり、上記電子部品用粘着テープは、基材と、該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなり、少なくとも上記超音波洗浄工程の直前においてJIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における上記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における上記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上であるイメージセンサの製造方法もまた、本願発明の1つである。
本発明によれば、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れる電子部品用粘着テープ、及び、該電子部品用粘着テープを用いた電子部品の製造方法、イメージセンサの製造方法を提供することができる。
実施例及び比較例の結果をまとめた図である。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
(実施例1)
アクリル系共重合体(SKダイン 1604N、綜研化学社製)を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)5重量部を加え、粘着下地層用の粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた粘着下地層用の粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を、片面にコロナ処理を施した厚さ25μmの透明なポリエチレンナフタレート(PET)フィルムのコロナ処理面上に、乾燥皮膜の厚さが10μmとなるようにドクターナイフで塗工し、110℃、5分間加熱して塗工溶液を乾燥させて、粘着下地層を形成した。
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート51重量部、イソボロニルアクリレート37重量部、ヒドロキシエチルアクリレート19重量部、メタクリル酸1重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル180重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分40重量%、重量平均分子量35万のアクリル共重合体を得た。得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート12重量部を加えて反応させた。
得られた酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)0.5重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を加え、光硬化型粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた光硬化型粘着組成物の酢酸エチル溶液を、片面に離形処理を施した厚さ50μmのセパレーター上に、乾燥皮膜の厚さが70μmとなるようにドクターナイフで塗工し、110℃、5分間加熱して塗工溶液を乾燥させて、光硬化型粘着剤層を形成した。
光硬化型粘着剤層が形成されたセパレーターの光硬化型粘着剤層面を、粘着下地層を形成したPETフィルムの粘着下地層面にローラーを用いて張り合わせた。その後、40℃3日間静置養生を行い、粘着テープを得た。
(実施例2)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例3)
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート51重量部、イソボロニルアクリレート37重量部、ヒドロキシエチルアクリレート19重量部、メタクリル酸1重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル180重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分40重量%、重量平均分子量30万のアクリル共重合体を得た。得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート8重量部を加えて反応させた。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を加え、光硬化性粘着組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた光硬化性粘着組成物を用いた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例4)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)5重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)20重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例5)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)5重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)30重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例6)
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、メチルメタクリレート22重量部、エチルアクリレート66重量部、ヒドロキシエチルアクリレート19重量部、メタクリル酸1重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル180重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分40重量%、重量平均分子量35万のアクリル共重合体を得た。得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート8重量部を加えて反応させた。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)10重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)20重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部を加え、光硬化型粘着組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた光硬化性粘着組成物を用いた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例7)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)5重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例3と同様にして粘着テープを得た。
(実施例8)
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート88重量部、ヒドロキシエチルアクリレート19重量部、メタクリル酸1重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル180重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分33重量%、重量平均分子量80万のアクリル共重合体を得た。得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート8重量部を加えて反応させた。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)2重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)20重量部を加え、光硬化型粘着組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた光硬化性粘着組成物を用いた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例9)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例6と同様にして粘着テープを得た。
(実施例10)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)2重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)20重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例6と同様にして粘着テープを得た。
(実施例11)
アクリル系共重合体(SKダイン 1604N、綜研化学社製)を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)5重量部を加え、粘着下地層用の粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた粘着下地層用の粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を、片面にコロナ処理を施した厚さ25μmの透明なポリエチレンナフタレート(PET)フィルムのコロナ処理面上に、乾燥皮膜の厚さが10μmとなるようにドクターナイフで塗工し、110℃、5分間加熱して塗工溶液を乾燥させて、粘着下地層を形成した。
アクリル系共重合体(SKダイン 1495、綜研化学社製)を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)15重量部を加え、非硬化型粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた非硬化型粘着組成物の酢酸エチル溶液を、片面に離形処理を施した厚さ50μmのセパレーター上に、乾燥皮膜の厚さが70μmとなるようにドクターナイフで塗工し、110℃、5分間加熱して塗工溶液を乾燥させて、非硬化型粘着剤層を形成した。
非硬化型粘着剤層が形成されたセパレーターの非硬化型粘着剤層面を、粘着下地層を形成したPETフィルムの粘着下地層面にローラーを用いて張り合わせた。その後、40℃3日間静置養生を行い、粘着テープを得た。
(実施例12)
非硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル系共重合体(SKダイン 1495、綜研化学社製)を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)6重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)15重量部を加えて非硬化型粘着剤組成物を調製した以外は実施例11と同様にして粘着テープを得た。
(実施例13)
非硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル系共重合体(SKダイン 1495、綜研化学社製)を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)15重量部を加えて非硬化型粘着剤組成物を調製した以外は実施例11と同様にして粘着テープを得た。
(比較例1)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)0.3重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(比較例2)
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート88重量部、ヒドロキシエチルアクリレート19重量部、メタクリル酸1重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル180重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分36重量%、重量平均分子量60万のアクリル共重合体を得た。得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート4重量部を加えて反応させた。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)2重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)20重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)12重量部を加え、光硬化型粘着組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
得られた光硬化性粘着組成物を用いた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(比較例3)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、光重合開始剤(IRGACURE 369、BASF JAPAN社製)を0.25重量部にした以外は比較例1と同様にして粘着テープを得た。
(比較例4)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)0重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)10重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)3重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は比較例2と同様にして粘着テープを得た。
(比較例5)
光硬化型粘着剤組成物の調製において、シリコーン化合物(EBECRYL350、ダイセル・オルネクス社製)1重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)10重量部、ヒュームドシリカ(レオロシールMT−10、トクヤマ社製)1重量部を加えて光硬化型粘着組成物を調製した以外は比較例2と同様にして粘着テープを得た。
(評価)
実施例及び比較例で得られた粘着組成物及び粘着テープについて、以下の方法により評価を行った。結果を表1に示した。
(1)接着力測定
実施例及び比較例で得られた粘着テープを長さ76mm、幅25mmに切断した測定サンプルを、長さ76mm、幅52mm、厚さ1.1mmのスライドグラスに貼りつけて積層体を得た。
実施例1〜10、比較例1、2で得られた粘着テープの測定サンプルについては、積層体の粘着テープの基材側から高圧水銀灯にて積算光量2000mJ/cm(405nm)の線量を照射した。実施例11〜13で得られた粘着テープの測定サンプルについては、そのまま試験に供した。
得られた積層体について、JIS K 6854−2に準拠する方法により180°剥離試験を行った。測定は、万能試験機にて、温度23℃、湿度55%、300mm/分の条件にて行った。
(2)貯蔵弾性率測定
実施例及び比較例において粘着テープを製造する際に、被着体と接する粘着層のみを重ね合わせることで0.5mmの厚さの粘着剤積層体を作製した。得られた粘着剤積層体を5mm×24mmのサイズに切り出して、測定サンプルとした。
実施例1〜10、比較例1、2で得られた粘着テープの測定サンプルについては、粘着剤積層体の粘着下地層側から高圧水銀灯にて積算光量2000mJ/cm(405nm)の線量を照射した。実施例11〜13で得られた粘着テープの測定サンプルについては、そのまま試験に供した。
得られた測定サンプルについて、動的粘弾性測定装置(DVA−200、アイティー計測制御社製)により下記条件にて貯蔵弾性率の測定を行った。測定は、モードが引っ張り、測定周波数が10Hz、測定開始温度が−50℃(液体窒素使用)、測定上限温度が300℃、昇温速度が10℃/min、静/動力比が1.5の条件で行った。
(3)ゲル分率測定
実施例及び比較例において粘着テープを製造する際に、粘着テープの被着体と接する粘着層(光硬化型粘着剤層又は非硬化型粘着剤層)のみを0.05g切り出して、測定サンプルとした。
実施例1〜10、比較例1、2で得られた粘着テープの測定サンプルについては、高圧水銀灯にて積算光量2000mJ/cm(405nm)の線量を照射した。実施例11〜13で得られた粘着テープの測定サンプルについては、そのまま試験に供した。
測定サンプルを、酢酸エチルを満たしたスクリュー管中に完全に浸し、振とう器で1晩撹拌した。その後、110℃で1時間乾燥させた。酢酸エチル浸漬前の重量と、乾燥後に残存した重量との比から、ゲル分率を算出した。
(4)超音波耐性、耐薬品性、耐熱性及び剥離性の評価
実施例及び比較例で得られた粘着テープを直径20cmの円形に切断した測定サンプルを、直径20cm、厚さ0.4mmのテンパックスガラスに貼りつけて積層体を得た。
実施例1〜10、比較例1、2で得られた粘着テープの測定サンプルについては、積層体の粘着テープの基材側から高圧水銀灯にて積算光量2000mJ/cm(405nm)の線量を照射した。実施例11〜13で得られた粘着テープの測定サンプルについては、そのまま試験に供した。
超音波洗浄機の洗浄槽に0.01Mの水酸化ナトリウム水溶液を満たし、その中に積層体を完全に浸した。その後、40kHzの超音波を15分間当てた。超音波耐性として、粘着テープが剥離しなかったものを「○」、剥離したものを「×」と評価した。
超音波耐性の評価において剥離することがなかった積層体について、イソプロパノールに完全に浸し、20分間静置した。耐薬品性として、粘着テープが剥離しなかったものを「○」、剥離したものを「×」と評価した。
耐薬品性の評価において剥離することがなかった積層体について、220℃、2時間加熱した後、室温に戻した。耐熱性として、粘着テープが剥離しなかったものを「○」、剥離したものを「×」と評価した。
耐熱性の評価において剥離することがなかった積層体について、手で粘着テープを引っ張り、剥離した。剥離性として、テンパックスガラスの表面に糊残りすることなく剥離できたものを「○」、糊残りが認められたものを「×」と評価した。
総合評価として、超音波耐性、耐薬品性、耐熱性及び剥離性の評価が全て「○」であったものを「○」と、いずれかの段階で「×」となったものを「×」と評価した。
Figure 0006364200
表1をもとに、横軸に粘着テープの接着力、縦軸に粘着剤層の貯蔵弾性率をとり、総合評価が「○」であるものと「×」であるものをプロットしたものを図1に示した。
本発明によれば、高い接着力を有する一方で容易に剥離でき、かつ、超音波耐性、耐薬品性、250℃程度の高温下での接着性に優れる電子部品用粘着テープ、及び、該電子部品用粘着テープを用いた電子部品の製造方法、イメージセンサの製造方法を提供することができる。

Claims (6)

  1. 超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を行う電子部品の製造において電子部品の保護を行うための粘着テープであって、
    基材と、該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなり、
    前記粘着剤層は分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有する光硬化型粘着剤又はアクリル系共重合体を含有する非硬化型粘着剤を含有し、
    少なくとも前記超音波洗浄工程の直前において(前記粘着剤層が前記光硬化型粘着剤を含有する場合は、光硬化前又は光硬化後のいずれかにおいて)JIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における前記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における前記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である
    ことを特徴とする電子部品用粘着テープ。
  2. 粘着剤層を構成する粘着剤が光硬化型粘着剤であることを特徴とする請求項1記載の電子部品用粘着テープ。
  3. 光硬化型粘着剤は、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有することを特徴とする請求項2記載の電子部品用粘着テープ。
  4. 少なくとも超音波洗浄工程の直前、かつ、光硬化型粘着剤の光硬化後においてJIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における前記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における前記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10 Pa以上である
    ことを特徴とする請求項2又は3記載の電子部品用粘着テープ。
  5. 半導体の製造に用いられるものであることを特徴とする請求項1、2、3又は4記載の電子部品用粘着テープ。
  6. 超音波洗浄工程と、該超音波洗浄工程に続いて薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程を有する電子部品の製造方法であって、
    前記超音波洗浄工程、薬液洗浄工程及び/又は200℃以上の高温プロセスを行う工程の全ての工程を通じて電子部品用粘着テープによって電子部品を保護するものであり、
    前記電子部品用粘着テープは、基材と、該基材の少なくとも一方の面に形成された粘着剤層とからなり、前記粘着剤層は分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有する光硬化型粘着剤又はアクリル系共重合体を含有する非硬化型粘着剤を含有し、少なくとも前記超音波洗浄工程の直前において(前記粘着剤層が前記光硬化型粘着剤を含有する場合は、光硬化前又は光硬化後のいずれかにおいて)JIS K 6854−2に準拠した180°剥離試験により測定した23℃における前記粘着テープのガラスに対する接着力が0.01〜1N/inchであり、かつ、動的粘弾性測定の引張りモードで測定した23℃における前記粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×10Pa以上である
    ことを特徴とする電子部品の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006332419A (ja) * 2005-05-27 2006-12-07 Nitto Denko Corp 固体撮像デバイス保護用粘着テープおよびそれを用いた映像センサの実装方法
JP5526645B2 (ja) * 2009-08-07 2014-06-18 東洋インキScホールディングス株式会社 光学用粘着剤および該光学用粘着剤を用いた光学用粘着シート
JP5513866B2 (ja) * 2009-12-11 2014-06-04 リンテック株式会社 電子部品加工用粘着シート
JP2013038408A (ja) * 2011-07-14 2013-02-21 Nitto Denko Corp 半導体ウェハ固定用粘着テープ、半導体チップの製造方法及び接着フィルム付き粘着テープ
JP5946708B2 (ja) * 2012-07-11 2016-07-06 積水化学工業株式会社 粘着テープ

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