JP2014012769A - 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に糊残りすることなく剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープ、該粘着剤組成物を用いるウエハの処理方法を提供する。
【解決手段】光硬化型の粘着剤成分、光重合開始剤、平均粒子径が0.05〜3μmの無機微粒子、及び、ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する粘着剤組成物。
【選択図】 なし
【解決手段】光硬化型の粘着剤成分、光重合開始剤、平均粒子径が0.05〜3μmの無機微粒子、及び、ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する粘着剤組成物。
【選択図】 なし
Description
本発明は、高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に糊残りすることなく剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープ、該粘着剤組成物を用いるウエハの処理方法に関する。
半導体の製造においては、加工時に半導体の取扱いを容易にし、破損したりしないようにするために半導体加工用テープを貼付することが行われている。例えば、高純度なシリコン単結晶等から切り出した厚膜ウエハを所定の厚さにまで研削して薄膜ウエハとする場合に、厚膜ウエハを支持板に接着して補強する際に両面粘着テープが用いられる。また、所定の厚さに研削された薄膜ウエハを個々のICチップにダイシングする際にも、ダイシングテープと呼ばれる粘着テープが用いられる。
半導体加工用テープには、加工工程中に半導体を強固に固定できるだけの高い粘着性とともに、工程終了後には半導体を損傷することなく剥離できることが求められる。これに対して特許文献1には、紫外線等の光を照射することにより硬化して粘着力が低下する光硬化型粘着剤を用いた粘着テープが開示されている。このような粘着テープは、加工工程中には確実に半導体を固定できるとともに、紫外線等を照射することにより容易に剥離することができる。
このような光硬化型粘着剤を用いた粘着テープであっても、加熱工程を有する半導体の加工時に用いた場合には、紫外線等を照射しても充分に粘着力が低下せず、剥離できないことがあるという問題があった。これは、加熱によって粘着剤の接着力が昂進するためであると考えられる。
このような光硬化型粘着剤を用いた粘着テープであっても、加熱工程を有する半導体の加工時に用いた場合には、紫外線等を照射しても充分に粘着力が低下せず、剥離できないことがあるという問題があった。これは、加熱によって粘着剤の接着力が昂進するためであると考えられる。
近年、半導体加工において、CVDプロセスやハンダリフロープロセス等の200℃以上の高温加工プロセスを必要とするものが増えてきている。これほどの高温加工プロセスを経た後では、たとえ特許文献1に記載された光硬化型粘着剤であっても、粘着剤が被着体に焦げ付いてしまって剥離が困難となり、剥離した後に被着体上に粘着剤が糊残りしてしまう。このような糊残りの問題は、とりわけ被着面に回路等の凹凸が形成されている場合に顕著であった。
本発明は、高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に糊残りすることなく剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープ、該粘着剤組成物を用いるウエハの処理方法を提供することを目的とする。
本発明は、光硬化型の粘着剤成分、光重合開始剤、平均粒子径が0.05〜3μmの無機微粒子、及び、ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する粘着剤組成物である。
以下に本発明を詳述する。
以下に本発明を詳述する。
本発明者は、200℃以上の高温加工プロセスを経た後に剥離を行った場合に、被着体上に粘着剤が糊残りしてしまう原因を検討した。その結果、高温加工プロセス後の粘着剤は、高温によって劣化して引張強度が低下した状態で被着体に焦げ付いていることから、剥離しようとして加えた応力に耐えられずに破断してしまうことが糊残りの原因であることを見出した。とりわけ被着面に回路等の凹凸が形成されている場合には、該凹凸のエッジ部分に粘着剤が接触することにより、破断が発生しやすくなるものと考えられる。
本発明者は、更に鋭意検討の結果、粘着剤組成物中に特定の平均粒子径を有する無機微粒子と、ウレタンアクリレートオリゴマーとを配合することにより、粘着剤組成物に高い耐熱性を付与するとともに、糊残りの問題を解決できることを見出して本発明を完成した。これは、無機微粒子とウレタンアクリレートオリゴマーとを配合することにより、高温加工プロセス後にでも粘着剤の引張強度が維持され、応力をかけても粘着剤が破断することなく剥離できるためと考えられる。
本発明者は、更に鋭意検討の結果、粘着剤組成物中に特定の平均粒子径を有する無機微粒子と、ウレタンアクリレートオリゴマーとを配合することにより、粘着剤組成物に高い耐熱性を付与するとともに、糊残りの問題を解決できることを見出して本発明を完成した。これは、無機微粒子とウレタンアクリレートオリゴマーとを配合することにより、高温加工プロセス後にでも粘着剤の引張強度が維持され、応力をかけても粘着剤が破断することなく剥離できるためと考えられる。
本発明の粘着剤組成物は、光硬化型の粘着剤成分を含有する。
上記光硬化型の粘着剤成分(以下、単に「粘着剤成分」ともいう。)としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを主成分とする光硬化型粘着剤等が挙げられる。
このような光硬化型粘着剤は、光の照射により全体が均一にかつ速やかに重合架橋して一体化するため、重合硬化による弾性率の上昇が著しくなり、粘着力が大きく低下する。
上記光硬化型の粘着剤成分(以下、単に「粘着剤成分」ともいう。)としては特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを主成分とする光硬化型粘着剤等が挙げられる。
このような光硬化型粘着剤は、光の照射により全体が均一にかつ速やかに重合架橋して一体化するため、重合硬化による弾性率の上昇が著しくなり、粘着力が大きく低下する。
上記重合性ポリマーは、例えば、分子内に官能基を持った(メタ)アクリル系ポリマー(以下、官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーという。)をあらかじめ合成し、分子内に上記の官能基と反応する官能基とラジカル重合性の不飽和結合とを有する化合物(以下、官能基含有不飽和化合物という。)と反応させることにより得ることができる。
上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーは、常温で粘着性を有するポリマーとして、一般の(メタ)アクリル系ポリマーの場合と同様に、アルキル基の炭素数が通常2〜18の範囲にあるアクリル酸アルキルエステル及び/又はメタクリル酸アルキルエステルを主モノマーとし、これと官能基含有モノマーと、更に必要に応じてこれらと共重合可能な他の改質用モノマーとを常法により共重合させることにより得られるものである。上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は通常20万〜200万程度である。
上記官能基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸等のカルボキシル基含有モノマー;アクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシエチル等のヒドロキシル基含有モノマー;アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル等のエポキシ基含有モノマー;アクリル酸イソシアネートエチル、メタクリル酸イソシアネートエチル等のイソシアネート基含有モノマー;アクリル酸アミノエチル、メタクリル酸アミノエチル等のアミノ基含有モノマー等が挙げられる。
上記共重合可能な他の改質用モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の一般の(メタ)アクリル系ポリマーに用いられている各種のモノマーが挙げられる。
上記共重合可能な他の改質用モノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の一般の(メタ)アクリル系ポリマーに用いられている各種のモノマーが挙げられる。
上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーに反応させる官能基含有不飽和化合物としては、上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの官能基に応じて上述した官能基含有モノマーと同様のものを使用できる。例えば、上記官能基含有(メタ)アクリル系ポリマーの官能基がカルボキシル基の場合はエポキシ基含有モノマーやイソシアネート基含有モノマーが用いられ、同官能基がヒドロキシル基の場合はイソシアネート基含有モノマーが用いられ、同官能基がエポキシ基の場合はカルボキシル基含有モノマーやアクリルアミド等のアミド基含有モノマーが用いられ、同官能基がアミノ基の場合はエポキシ基含有モノマーが用いられる。
上記分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーは、多官能オリゴマー又はモノマーを併用してもよい。
上記多官能オリゴマー又はモノマーとしては、分子量が1万以下であるものが好ましく、より好ましくは加熱又は光の照射による粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、その分子量が5,000以下でかつ分子内のラジカル重合性の不飽和結合の数が2〜20個のものである。このようなより好ましい多官能オリゴマー又はモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又は上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。その他、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート、上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。これらの多官能オリゴマー又はモノマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記多官能オリゴマー又はモノマーとしては、分子量が1万以下であるものが好ましく、より好ましくは加熱又は光の照射による粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、その分子量が5,000以下でかつ分子内のラジカル重合性の不飽和結合の数が2〜20個のものである。このようなより好ましい多官能オリゴマー又はモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又は上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。その他、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート、上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。これらの多官能オリゴマー又はモノマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明の粘着剤組成物は、光重合開始剤を含有する。
上記光重合開始剤としては、例えば、250〜800nmの波長の光を照射することにより活性化されるものが挙げられ、このような光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物;ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタール等のケタール誘導体化合物;フォスフィンオキシド誘導体化合物;ビス(η5−シクロペンタジエニル)チタノセン誘導体化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記光重合開始剤としては、例えば、250〜800nmの波長の光を照射することにより活性化されるものが挙げられ、このような光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物;ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタール等のケタール誘導体化合物;フォスフィンオキシド誘導体化合物;ビス(η5−シクロペンタジエニル)チタノセン誘導体化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
本発明の粘着剤組成物は、無機微粒子を含有する。
無機微粒子を配合することにより本発明の粘着剤組成物の引張強度が著しく改善する。このため、200℃以上の高温加工プロセスを経た後でも、剥離時の応力によって粘着剤が破断せず、糊残りすることなく剥離できる。
無機微粒子を配合することにより本発明の粘着剤組成物の引張強度が著しく改善する。このため、200℃以上の高温加工プロセスを経た後でも、剥離時の応力によって粘着剤が破断せず、糊残りすることなく剥離できる。
上記無機微粒子は特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、ヒュームドシリカ、タルク、カーボンブラック、ヒュームドアルミナ等が挙げられる。なかでもヒュームドシリカは、透明性、化学的安定性から好適である。
上記無機微粒子の平均粒子径の下限は0.05μm、上限は3μmである。上記無機微粒子の平均粒子径がこの範囲内である場合に、200℃以上の高温加工プロセスを施した場合にでも浮き等が発生しない高い耐熱性と、200℃以上の高温加工プロセスを経た後に剥離したときにでも糊残りしない高い非糊残り性とを発揮することができる。上記無機微粒子の平均粒子径の好ましい下限は0.06μm、好ましい上限は2μmであり、より好ましい下限は0.07μm、より好ましい上限は1μmである。
なお、本明細書において無機微粒子の平均粒子径は、レーザー散乱・回折法又は動的光散乱法のいずれかの方法を用いて、配合前のメチルエチルケトン、メチルエチルケトン/トルエン(60:40)溶液等の媒体に分散した無機微粒子を測定した粒子径を意味する。
なお、本明細書において無機微粒子の平均粒子径は、レーザー散乱・回折法又は動的光散乱法のいずれかの方法を用いて、配合前のメチルエチルケトン、メチルエチルケトン/トルエン(60:40)溶液等の媒体に分散した無機微粒子を測定した粒子径を意味する。
上記無機微粒子の配合量は、上記粘着剤成分100重量部に対する好ましい下限が10重量部、好ましい上限が40重量部である。上記無機微粒子の配合量がこの範囲内である場合に、200℃以上の高温加工プロセスを施した場合にでも浮き等が発生しない高い耐熱性と、200℃以上の高温加工プロセスを経た後に剥離したときにでも糊残りしない高い非糊残り性とを特に発揮することができる。上記無機微粒子の配合量のより好ましい下限は15重量部、より好ましい上限は38重量部であり、更に好ましい下限は20重量部、更に好ましい上限は35重量部である。
本発明の粘着剤組成物は、ウレタンアクリレートオリゴマーを含有する。
ウレタンアクリレートオリゴマーを配合することにより本発明の粘着剤組成物の引張強度が著しく改善する。このため、200℃以上の高温加工プロセスを経た後でも、剥離時の応力によって粘着剤が破断せず、糊残りすることなく剥離できる。
上記ウレタンアクリレートオリゴマーとは、ポリスチレン換算による重量平均分子量が1000〜100000であり、かつ、1分子中に複数の(メタ)アクリレート基を有するオリゴマーを意味する。
なお、ポリスチレン換算による重量平均分子量は、カラムとして、例えば、カラムLF−804(昭和電工社製)を用いてGPC測定を行うことで得ることができる。
ウレタンアクリレートオリゴマーを配合することにより本発明の粘着剤組成物の引張強度が著しく改善する。このため、200℃以上の高温加工プロセスを経た後でも、剥離時の応力によって粘着剤が破断せず、糊残りすることなく剥離できる。
上記ウレタンアクリレートオリゴマーとは、ポリスチレン換算による重量平均分子量が1000〜100000であり、かつ、1分子中に複数の(メタ)アクリレート基を有するオリゴマーを意味する。
なお、ポリスチレン換算による重量平均分子量は、カラムとして、例えば、カラムLF−804(昭和電工社製)を用いてGPC測定を行うことで得ることができる。
上記ウレタンアクリレートオリゴマーとしては、例えば、根上工業社製のUN5500、UN1225、UN9200A、共栄社化学社製のUF8001G、新中村化学社製のU200PA、UA4200等が挙げられる。
上記ウレタンアクリレートオリゴマーの配合量は、上記粘着剤成分100重量部に対する好ましい下限が1重量部、好ましい上限が50重量部である。上記ウレタンアクリレートオリゴマーの配合量がこの範囲内である場合に、200℃以上の高温加工プロセスを施した場合にでも浮き等が発生しない高い耐熱性と、200℃以上の高温加工プロセスを経た後に剥離したときにでも糊残りしない高い非糊残り性とを特に発揮することができる。上記のウレタンアクリレートオリゴマーの配合量のより好ましい下限は5重量部、より好ましい上限は40重量部であり、更に好ましい下限は10重量部、更に好ましい上限は30重量部である。
本発明の粘着剤組成物は、更に、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物(以下、単に「シリコーン化合物A」ともいう。)を含有することが好ましい。
シリコーン化合物は、耐熱性に優れることから、200℃以上の高温加工プロセスを経ても粘着剤の焦げ付きを防止し、剥離時には被着体界面にブリードアウトして、剥離を容易にする。シリコーン化合物が上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有することにより、剥離時に光照射することにより上記粘着剤成分と化学反応して上記粘着剤成分中に取り込まれることから、被着体にシリコーン化合物が付着して汚染することがない。また、被着体の一方がガラス板からなる支持板である場合には、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を配合することにより支持板に対する親和性が向上し、ウエハ上への糊残りを防止する効果も発揮される。
シリコーン化合物は、耐熱性に優れることから、200℃以上の高温加工プロセスを経ても粘着剤の焦げ付きを防止し、剥離時には被着体界面にブリードアウトして、剥離を容易にする。シリコーン化合物が上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有することにより、剥離時に光照射することにより上記粘着剤成分と化学反応して上記粘着剤成分中に取り込まれることから、被着体にシリコーン化合物が付着して汚染することがない。また、被着体の一方がガラス板からなる支持板である場合には、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を配合することにより支持板に対する親和性が向上し、ウエハ上への糊残りを防止する効果も発揮される。
上記シリコーン化合物Aのシリコーン骨格は特に限定はされず、D体、DT体のいずれでもよい。
上記シリコーン化合物Aは、該官能基をシリコーン骨格の側鎖又は末端に有することが好ましい。
なかでも、D体のシリコーン骨格を有し、かつ、末端に上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を用いると、高い初期粘着力と高温加工プロセス後の剥離力とを両立しやすいことから好適である。
上記シリコーン化合物Aは、該官能基をシリコーン骨格の側鎖又は末端に有することが好ましい。
なかでも、D体のシリコーン骨格を有し、かつ、末端に上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を用いると、高い初期粘着力と高温加工プロセス後の剥離力とを両立しやすいことから好適である。
上記シリコーン化合物Aの官能基は、上記粘着剤成分に応じて適当なものを選択して用いる。例えば、粘着剤成分が上記分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを主成分とする光硬化型粘着剤である場合には、(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基を選択する。
上記(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基は、不飽和二重結合を有する官能基であり、具体的には例えば、ビニル基、(メタ)アクリル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。
上記(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基は、不飽和二重結合を有する官能基であり、具体的には例えば、ビニル基、(メタ)アクリル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。
上記シリコーン化合物Aの官能基当量は特に限定されないが、好ましい下限は1、好ましい上限は20である。上記官能基当量が1未満であると、得られる粘着剤組成物の硬化時に、シリコーン化合物Aが充分に粘着剤成分に取り込まれず、被着体を汚染してしまったり、剥離性を充分に発揮できなかったりすることがあり、20を超えると、充分な粘着力が得られないことがある。上記官能基当量のより好ましい上限は10であり、更に好ましい下限は2、更に好ましい上限は6である。
上記シリコーン化合物Aの分子量は特に限定されないが、好ましい下限は300、好ましい上限は50000である。上記分子量が300未満であると、得られる粘着剤組成物の耐熱性が不充分となることがあり、50000を超えると、上記粘着剤成分との混合が困難となることがある。上記分子量のより好ましい下限は400、より好ましい上限は10000であり、更に好ましい下限は500、更に好ましい上限は5000である。
上記シリコーン化合物Aを合成する方法は特に限定されず、例えば、SiH基を有するシリコーン樹脂と、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するビニル化合物とをハイドロシリレーション反応により反応させることにより、シリコーン樹脂に上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を導入する方法や、シロキサン化合物と、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシロキサン化合物とを縮合反応させる方法等が挙げられる。
上記シリコーン化合物Aのうち市販されているものは、例えば、信越化学工業社製のX−22−164、X−22−164AS、X−22−164A、X−22−164B、X−22−164C、X−22−164E等の両末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物や、信越化学工業社製のX−22−174DX、X−22−2426、X−22−2475等の片末端にメタクリル基を有するシリコーン化合物や、ダイセルサイテック社製のEBECRYL350、EBECRYL1360等のアクリル基を有するシリコーン化合物や、東亞合成社製のAC−SQ TA−100、AC−SQ SI−20等のアクリル基を有するシリコーン化合物や、東亞合成社製のMAC−SQ TM−100、MAC−SQ SI−20、MAC−SQ HDM等のメタクリル基を有するシリコーン化合物等が挙げられる。
なかでも、上記シリコーン化合物Aは、耐熱性が特に高く、極性が高いために粘着剤組成物からのブリードアウトが容易であることから、下記一般式(I)、一般式(II)、一般式(III)で表される、シロキサン骨格に(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物が好適である。
式中、X、Yは0〜1200の整数を表し(但し、X及びYがいずれも0の場合を除く。)、Rは不飽和二重結合を有する官能基を表す。
上記一般式(I)、一般式(II)、一般式(III)で表される、シロキサン骨格に(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物のうち市販されているものは、例えば、ダイセルサイテック社製のEBECRYL350、EBECRYL1360(いずれもRがアクリル基)等が挙げられる。
上記シリコーン化合物Aの含有量は特に限定されないが、好ましい下限は0.1重量%、好ましい上限は30重量%である。シリコーン化合物Aの含有量が0.1重量%未満であると被着体から剥離できないことがあり、30重量%を超えると初期接着力が得られないことがある。シリコーン化合物Aの含有量のより好ましい下限は0.2重量%、より好ましい上限は20重量%である。
上記シリコーン化合物Aの含有量は、上記粘着剤成分100重量部に対する好ましい下限が0.5重量部、好ましい上限が40重量部である。シリコーン化合物Aの含有量が0.5重量部未満であると、光を照射しても充分に粘着力が低減せず被着体から剥離できないことがあり、40重量部を超えると、被着体の汚染の原因となることがある。シリコーン化合物Aの含有量のより好ましい下限は1重量部、より好ましい上限は30重量部である。
本発明の粘着剤組成物は、凝集力の調節を図る目的でイソシアネート化合物、メラミン化合物、エポキシ化合物等の一般の粘着剤に配合される各種の多官能性化合物を適宜配合してもよい。また、帯電防止剤、可塑剤、樹脂、界面活性剤、ワックス等の公知の添加剤を加えることもできる。更に、粘着剤の安定性を高めるために熱安定剤、酸化防止剤を配合してもよい。
本発明の粘着剤組成物は、更に、光を照射することにより気体を発生する気体発生剤を含有してもよい。このような気体発生剤を含有する粘着剤組成物に光を照射すると、上記光硬化型の粘着剤成分が架橋硬化して粘着剤全体の弾性率が上昇し、このような硬い粘着剤中で発生した気体は粘着剤から接着界面に放出され接着面の少なくとも一部を剥離することから、より剥離を容易にすることができる。
上記気体発生剤は特に限定されないが、例えば、アジド化合物、アゾ化合物、ケトプロフェン、テトラゾール化合物等が挙げられる。なかでも、耐熱性に優れるケトプロフェン、テトラゾール化合物が好適である。
上記気体発生剤は特に限定されないが、例えば、アジド化合物、アゾ化合物、ケトプロフェン、テトラゾール化合物等が挙げられる。なかでも、耐熱性に優れるケトプロフェン、テトラゾール化合物が好適である。
本発明の粘着剤組成物は、高い初期粘着力を有する一方、紫外線等の光を照射することにより容易に剥離することができる。また、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、糊残りすることなく剥離することができる。従って、本発明の粘着剤組成物は、TSVの製造工程においてウエハを支持板に固定する、ウエハやチップをリフロー炉に通す際に支持板等に仮固定する等の、200℃以上の高温処理を行う用途に好適に用いることができる。
本発明の粘着剤組成物は、様々な接着性製品に用いることができる。
上記接着性製品は、例えば、本発明の粘着剤組成物をバインダー樹脂として用いた接着剤、粘着剤、塗料、コーティング剤、シーリング剤等、又は、本発明の粘着剤組成物を粘着剤として用いた片面粘着テープ、両面粘着テープ、ノンサポートテープ(自立テープ)等の粘着テープ等が挙げられる。なかでも、高温処理時の支持板固定用テープ、高温処理及びバックグラインドに兼用する固定用テープ、高温処理及びダイシングに兼用する固定用テープ、個片化した半導体チップを更に高温処理する際に用いる半導体チップ仮固定用テープ等に好適である。
上記接着性製品は、例えば、本発明の粘着剤組成物をバインダー樹脂として用いた接着剤、粘着剤、塗料、コーティング剤、シーリング剤等、又は、本発明の粘着剤組成物を粘着剤として用いた片面粘着テープ、両面粘着テープ、ノンサポートテープ(自立テープ)等の粘着テープ等が挙げられる。なかでも、高温処理時の支持板固定用テープ、高温処理及びバックグラインドに兼用する固定用テープ、高温処理及びダイシングに兼用する固定用テープ、個片化した半導体チップを更に高温処理する際に用いる半導体チップ仮固定用テープ等に好適である。
基材の少なくとも一方の面に、本発明の粘着剤組成物からなる粘着剤層を有する粘着テープもまた、本発明の1つである。
上記基材は、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ABS、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。
上記基材は、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ABS、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。
本発明の粘着テープを製造する方法は特に限定されず、例えば、基材上に、上記粘着剤等をドクターナイフやスピンコーター等を用いて塗工する等の従来公知の方法を用いることができる。
本発明の粘着剤組成物は、200℃以上の高温加工プロセスを含むウエハの加工時において、ウエハの取扱いを容易にし、破損したりしないようにするためにウエハを支持板に固定するための接着剤として好適である。
高温加工プロセスは200℃以上であればよいが、好ましい高温加工プロセスの下限温度は220℃、より好ましい下限の温度は230℃である。また高温加工プロセスの上限は特に限定されないが、300℃以下、好ましい上限の温度は280℃、より好ましい上限の温度は260℃である。
高温加工プロセスは200℃以上であればよいが、好ましい高温加工プロセスの下限温度は220℃、より好ましい下限の温度は230℃である。また高温加工プロセスの上限は特に限定されないが、300℃以下、好ましい上限の温度は280℃、より好ましい上限の温度は260℃である。
本発明の粘着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、上記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理を施すウエハ処理工程と、上記処理後のウエハに光照射を行い、上記粘着剤組成物を硬化させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法もまた、本発明の1つである。
上記支持板は特に限定されず、例えば、ガラス板、石英ガラス板、ステンレス板等が挙げられる。
上記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理は特に限定されず、例えば、化学気相成長法(CVD)、リフロー、リアクティブイオンエッチング(RIE)等が挙げられる。
上記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理は特に限定されず、例えば、化学気相成長法(CVD)、リフロー、リアクティブイオンエッチング(RIE)等が挙げられる。
本発明によれば、高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に糊残りすることなく剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープ、該粘着剤組成物を用いるウエハの処理方法を提供することができる。
以下に実施例を挙げて本発明の態様を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるものではない。
(実施例1)
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート94重量部、アクリル酸1重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート5重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル80重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分55重量%、重量平均分子量60万のアクリル共重合体を得た。
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート94重量部、アクリル酸1重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート5重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル80重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分55重量%、重量平均分子量60万のアクリル共重合体を得た。
得られたアクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、2−イソシアナトエチルメタクリレート3.5重量部を加えて反応させ、更に、反応後の酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、光重合開始剤(エサキュアワン、日本シイベルヘグナー社製)1重量部、のウレタンアクリレートオリゴマー(UN5500、根上工業社製)20重量部、可塑剤(UN−5500、根上工業社製)20重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を混合した。得られた粘着剤組成物に、ホモジナイザーを用いてメチルエチルケトン中にヒュームドシリカを分散させ、平均粒子径を0.05μmに調整したヒュームドシリカ分散溶液を、ヒュームドシリカ分が10重量部となるように加え、酢酸エチル溶液を調製した。
得られた粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を、片面にコロナ処理を施した厚さ50μmの透明なポリエチレンナフタレートフィルムのコロナ処理面上に、乾燥皮膜の厚さが30μmとなるようにドクターナイフで塗工し、110℃、5分間加熱して塗工溶液を乾燥させた。その後、40℃、3日間静置養生を行い、粘着テープを得た。
(実施例2〜12、比較例1〜5)
ヒュームドシリカの平均粒子径及び配合量、ウレタンアクリレートオリゴマーの種類及び配合量を表1に示したようにした以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
ヒュームドシリカの平均粒子径及び配合量、ウレタンアクリレートオリゴマーの種類及び配合量を表1に示したようにした以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(実施例13〜15)
粘着剤組成物の調製において、更に、(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物(ダイセルサイテック社製、EBECRYL350、アクリル当量は2)10重量部及び/又は気体発生剤としてビステトラゾール2ナトリウム塩を10重量部加えた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
粘着剤組成物の調製において、更に、(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物(ダイセルサイテック社製、EBECRYL350、アクリル当量は2)10重量部及び/又は気体発生剤としてビステトラゾール2ナトリウム塩を10重量部加えた以外は実施例1と同様にして粘着テープを得た。
(評価)
実施例及び比較例で得られた粘着剤組成物及び粘着テープについて、以下の方法により評価を行った。
結果を表1に示した。
実施例及び比較例で得られた粘着剤組成物及び粘着テープについて、以下の方法により評価を行った。
結果を表1に示した。
(1)耐熱性評価
直径20cmの円形に切断した粘着テープを、直径20cm、厚さ約750μmの回路が形成されていないシリコンウエハ(ベアウエハ)に貼り付けた。この状態で、260℃、10分間加熱した。加熱後の粘着テープとシリコンウエハとの接着面を目視にて観察し、全面に渡って浮きが認められなかった場合を「◎」、浮きが全体の面積の3%未満であった場合を「○」、浮きが全体の面積の3%以上、10%未満であった場合を「△」、浮きが全体の面積の10%以上であった場合を「×」と評価した。
同様の評価を、段差約5μmの回路が形成された厚さ700μmのシリコンウエハ(回路ウエハ)を用いて行った。
直径20cmの円形に切断した粘着テープを、直径20cm、厚さ約750μmの回路が形成されていないシリコンウエハ(ベアウエハ)に貼り付けた。この状態で、260℃、10分間加熱した。加熱後の粘着テープとシリコンウエハとの接着面を目視にて観察し、全面に渡って浮きが認められなかった場合を「◎」、浮きが全体の面積の3%未満であった場合を「○」、浮きが全体の面積の3%以上、10%未満であった場合を「△」、浮きが全体の面積の10%以上であった場合を「×」と評価した。
同様の評価を、段差約5μmの回路が形成された厚さ700μmのシリコンウエハ(回路ウエハ)を用いて行った。
(2)糊残り評価
直径20cmの円形に切断した粘着テープを、直径20cm、厚さ約750μmの回路が形成されていないシリコンウエハ(ベアウエハ)に貼り付けた。この状態で、260℃、10分間加熱した。
加熱後、シリコンウエハの粘着テープに接着していない側の面にダイシングテープを貼り付け、吸着固定し、テンパックスガラス側から超高圧水銀灯を利用して照度254nm、強度70mW/cm2の光を150秒間照射した。その後、ガラスを剥離した、粘着テープを剥離した。粘着テープを剥離したシリコンウエハの表面を目視にて観察して、糊残りが存在しなかった場合を「○」、糊残りが全体の面積の5%未満であった場合を「△」、糊残り全体の面積の5%以上であった場合を「×」と評価した。
同様の評価を、段差約5μmの回路が形成された厚さ700μmのシリコンウエハ(回路ウエハ)を用いて行った。
直径20cmの円形に切断した粘着テープを、直径20cm、厚さ約750μmの回路が形成されていないシリコンウエハ(ベアウエハ)に貼り付けた。この状態で、260℃、10分間加熱した。
加熱後、シリコンウエハの粘着テープに接着していない側の面にダイシングテープを貼り付け、吸着固定し、テンパックスガラス側から超高圧水銀灯を利用して照度254nm、強度70mW/cm2の光を150秒間照射した。その後、ガラスを剥離した、粘着テープを剥離した。粘着テープを剥離したシリコンウエハの表面を目視にて観察して、糊残りが存在しなかった場合を「○」、糊残りが全体の面積の5%未満であった場合を「△」、糊残り全体の面積の5%以上であった場合を「×」と評価した。
同様の評価を、段差約5μmの回路が形成された厚さ700μmのシリコンウエハ(回路ウエハ)を用いて行った。
本発明によれば、高い初期粘着力を有し強固に被着体を固定可能であるとともに、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても、光を照射することにより容易に糊残りすることなく剥離することができる粘着剤組成物、及び、該粘着剤組成物を用いた粘着テープ、該粘着剤組成物を用いるウエハの処理方法を提供することができる。
Claims (6)
- 光硬化型の粘着剤成分、光重合開始剤、平均粒子径が0.05〜3μmの無機微粒子、及び、ウレタンアクリレートオリゴマーを含有することを特徴とする粘着剤組成物。
- 光硬化型の粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を含有することを特徴とする請求項1記載の粘着剤組成物。
- 光を照射することにより気体を発生する気体発生剤を含有することを特徴とする請求項1又は2記載の粘着剤組成物。
- 基材の少なくとも一方の面に、請求項1、2又は3記載の粘着剤組成物からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着テープ。
- 請求項1、2又は3記載の粘着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに光照射を行い、前記粘着剤組成物を硬化させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有することを特徴とするウエハの処理方法。
- ウエハ処理工程において、支持板に固定されたウエハの表面に230〜280℃の加熱を伴う処理を施すことを特徴とする請求項5記載のウエハの処理方法。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2012150603A JP2014012769A (ja) | 2012-07-04 | 2012-07-04 | 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法 |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015196345A1 (en) * | 2014-06-24 | 2015-12-30 | Henkel (China) Company Limited | 1k uv and thermal cure high temperature debondable adhesive |
JP2020094199A (ja) * | 2018-11-28 | 2020-06-18 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープ |
JP2021187968A (ja) * | 2020-06-01 | 2021-12-13 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | 粘着シート、粘着シート付き被着体、および粘着シートの使用方法 |
-
2012
- 2012-07-04 JP JP2012150603A patent/JP2014012769A/ja active Pending
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WO2015196345A1 (en) * | 2014-06-24 | 2015-12-30 | Henkel (China) Company Limited | 1k uv and thermal cure high temperature debondable adhesive |
US10280349B2 (en) | 2014-06-24 | 2019-05-07 | Henkel Ag & Co. Kgaa | 1K UV and thermal cure high temperature debondable adhesive |
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