JP5130405B2 - 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法 - Google Patents
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Description
このような光硬化型粘着剤を用いた粘着テープであっても、加熱工程を有する半導体の加工時に用いた場合には、紫外線等を照射しても充分に粘着力が低下せず、剥離できないことがあるという問題があった。これは、加熱によって粘着剤の接着力が昂進するためであると考えられる。
しかしながら、近年、半導体加工において、CVDプロセスやハンダリフロープロセス等の200℃以上の高温加工プロセスを必要とするものが増えてきている。これほどの高温加工プロセスを経た後では、たとえ特許文献2に記載された光硬化型粘着剤であっても、粘着剤が被着体に焦げ付いてしまうか、焦げ付かないまでも剥離が極めて困難となってしまうという問題があった。
以下に本発明を詳述する。
そこで本発明者は、鋭意検討の結果、ブリード剤として粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を選択して用いた場合には、200℃以上の高温加工プロセスを経た後であっても容易に剥離できるとともに、半導体ウエハの汚染を防止できることを見出し、本発明を完成した。
上記粘着剤成分は特に限定されず、非硬化型の粘着剤成分、硬化型の粘着剤成分のいずれを含有するものであってもよい。
上記光硬化型の粘着剤成分は特に限定されず、従来公知のものを用いることができる。具体的には、例えば、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有する光硬化型粘着剤等が挙げられる。
このような光硬化型粘着剤は、光の照射により全体が均一にかつ速やかに重合架橋して一体化するため、重合硬化による弾性率の上昇が著しくなり、粘着力が大きく低下する。
上記共重合可能な他の改質用モノマーは、例えば、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン等の一般の(メタ)アクリル系ポリマーに用いられている各種のモノマーが挙げられる。
上記多官能オリゴマー又はモノマーは、分子量が1万以下であるものが好ましく、より好ましくは加熱又は光の照射による粘着剤層の三次元網状化が効率よくなされるように、その分子量が5000以下でかつ分子内のラジカル重合性の不飽和結合の数が2〜20個のものである。このようなより好ましい多官能オリゴマー又はモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート又は上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。その他、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレート、上記同様のメタクリレート類等が挙げられる。これらの多官能オリゴマー又はモノマーは、単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
上記光重合開始剤は、例えば、250〜800nmの波長の光を照射することにより活性化されるものが挙げられ、このような光重合開始剤は、例えば、メトキシアセトフェノン等のアセトフェノン誘導体化合物;ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジエチルケタール等のケタール誘導体化合物;フォスフィンオキシド誘導体化合物;ビス(η5−シクロペンタジエニル)チタノセン誘導体化合物、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン、クロロチオキサントン、ドデシルチオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる。これらの光重合開始剤は単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
シリコーン化合物は、耐熱性に優れることから、200℃以上の高温加工プロセスを経ても粘着剤の焦げ付きを防止し、剥離時には被着体界面にブリードアウトして、剥離を容易にする。シリコーン化合物が上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有することにより、剥離時に光照射することにより上記粘着剤成分と化学反応して上記粘着剤成分中に取り込まれることから、被着体にシリコーン化合物が付着して汚染することがない。また、被着体の一方がガラス板からなる支持板である場合には、上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を配合することにより支持板に対する親和性が向上し、ウエハ上への糊残りを防止する効果も発揮される。
上記シリコーン化合物Aは、該官能基をシリコーン骨格の側鎖又は末端に有することが好ましい。
なかでも、D体のシリコーン骨格を有し、かつ、末端に上記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有するシリコーン化合物を用いると、高い初期粘着力と高温加工プロセス後の剥離力とを両立しやすいことから好適である。
上記(メタ)アクリル基と架橋可能な官能基は、不飽和二重結合を有する官能基であり、具体的には例えば、ビニル基、(メタ)アクリル基、アリル基、マレイミド基等が挙げられる。
上記無機充填剤は、ケイ素、チタン、アルミニウム、カルシウム、ホウ素、マグネシウム及びジルコニアの酸化物、並びに、これらの複合物からなる群より選択される少なくとも1種からなる無機充填剤が好ましい。なかでも、一般的に無機充填剤として用いられるシリカに類似した物性を有することから、ケイ素−アルミニウム−ホウ素複合酸化物、ケイ素−チタン複合酸化物、シリカ−チタニア複合酸化物がより好適である。
上記無機充填剤の配合量は特に限定されないが、上記粘着剤成分100重量部に対する好ましい下限は30重量部、好ましい上限は150重量部である。上記無機充填剤の配合量のより好ましい下限は60重量部、より好ましい上限は120重量部である。
上記気体発生剤は特に限定されないが、例えば、アジド化合物、アゾ化合物、ケトプロフェン、テトラゾール化合物等が挙げられる。なかでも、耐熱性に優れるケトプロフェン、テトラゾール化合物が好適である。
上記接着性製品は、例えば、本発明の粘着剤組成物をバインダー樹脂として用いた接着剤、粘着剤、塗料、コーティング剤、シーリング剤等、又は、本発明の粘着剤組成物を粘着剤として用いた片面粘着テープ、両面粘着テープ、ノンサポートテープ(自立テープ)等の粘着テープ等が挙げられる。なかでも、高温処理時の支持板固定用テープ、高温処理及びバックグラインドに兼用する固定用テープ、高温処理及びダイシングに兼用する固定用テープ、個片化した半導体チップを更に高温処理する際に用いる半導体チップ仮固定用テープ等に好適である。
上記基材は、例えば、アクリル、オレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ABS、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ナイロン、ウレタン、ポリイミド等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。
本発明の粘着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、上記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理を施すウエハ処理工程と、上記処理後のウエハに光照射を行い、上記粘着剤組成物を硬化させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有するウエハの処理方法もまた、本発明の1つである。
上記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理は特に限定されず、例えば、化学気相成長法(CVD)、リフロー、リアクティブイオンエッチング(RIE)等が挙げられる。
温度計、攪拌機、冷却管を備えた反応器を用意し、この反応器内に、2−エチルヘキシルアクリレート94重量部、アクリル酸1重量部、2−ヒドロキシエチルアクリレート5重量部、ラウリルメルカプタン0.01重量部と、酢酸エチル80重量部を加えた後、反応器を加熱して還流を開始した。続いて、上記反応器内に、重合開始剤として1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン0.01重量部を添加し、還流下で重合を開始させた。次に、重合開始から1時間後及び2時間後にも、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンを0.01重量部ずつ添加し、更に、重合開始から4時間後にt−ヘキシルパーオキシピバレートを0.05重量部添加して重合反応を継続させた。そして、重合開始から8時間後に、固形分55重量%、重量平均分子量60万のアクリル共重合体を得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を1.5重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を2重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を8重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を10重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を20重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を30重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物(ダイセルサイテック社製、EBECRYL350、アクリル当量は2)を、ダイセルサイテック社製、EBECRYL1360(アクリル当量は6)に代えた以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、更に気体発生剤としてケトプロフェンを20重量部配合した以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、更に気体発生剤として5−m(アミノフェニルテトラゾール)を10重量部配合した以外は実施例5と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、更に無機充填剤としてレオロシールMT−10(シリカフィラー、トクヤマ社製)を20重量部配合した以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、更に気体発生剤として5−m(アミノフェニルテトラゾール)を10重量部配合と無機充填剤としてレオロシールMT−10(シリカフィラー、トクヤマ社製)を20重量部配合した以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
アクリル共重合体を含む酢酸エチル溶液の樹脂固形分100重量部に対して、更に気体発生剤としてビステトラゾール ナトリウム塩を10重量部配合と無機充填剤としてレオロシールMT−10(シリカフィラー、トクヤマ社製)を20重量部配合した以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
非光硬化型粘着剤(水酸基及びカルボキシル基を有するアクリル樹脂、SKダイン1495C、総研化学社製)の樹脂固形分100重量部に対して、(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物(東亞合成社製、AC−SQ、水酸基及びアクリル基を有する)1重量部、光重合開始剤(エサキュアワン、日本シイベルヘグナー社製)1重量部、ポリイソシアネート系架橋剤(コロネートL45、日本ポリウレタン社製)0.5重量部を混合し粘着剤組成物の酢酸エチル溶液を調製した以外は実施例3と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の配合量を0.5重量部とした以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物を配合しなかった以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物を配合しなかった以外は実施例6と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の代わりに、シリコーン骨格を持たないアクリル系オリゴマー(新中村化学社製、NKオリゴU−324A)1重量部を配合した以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物の代わりに、官能基を有しないシリコーンオイル(信越化学工業社製、KF−96−10cs)1重量部を配合した以外は実施例1と同様にして粘着剤組成物及び粘着テープを得た。
実施例及び比較例で得られた粘着剤組成物及び粘着テープについて、以下の方法により評価を行った。
結果を表1に示した。
得られた粘着テープをバックグラインドテープとして用い、回路が形成されていない厚み700μmのシリコンウエハ(ベアウエハ)の回路面をテープ側として貼り付け、シリコンウエハを50μmの厚みに薄化研削した。次いで、全体を200℃、120分間加熱した。加熱後、シリコンウエハの研削面側にダイシングテープを貼り付け、吸着固定し、バックグラインドテープ側から超高圧水銀灯を利用して20mW/cm2の強度で150秒間照射した後、バックグラインドテープを剥離した。
10枚のウエハについて実施し、バックグラインドテープを剥離するときの応力でウエハの割れや、回路の破損が生じないか、回路面に粘着剤が残っていないかを観察した。
また、同様の評価を、段差約5μmの回路が形成された厚み700μmのシリコンウエハ(回路ウエハ)を用いて行った。
(1)で破損することなく剥離、ダイシングテープに転写できた回路シリコンウエハ(ベアウエハ)について、5mm×5mmにダイシングして半導体チップを得た。得られた半導体チップから無作為に100個選び、チップ上のバンプ周辺をマイクロスコープで観察した。樹脂残渣の有無や表面の汚染等の表面の以上が認められなかった半導体チップの数を求めた。
Claims (5)
- 粘着剤成分、光重合開始剤、及び、前記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有する分子量が300〜50000のシリコーン化合物を含有し、前記粘着剤成分は、光を照射することにより前記シリコーン化合物と反応可能な官能基を有するものであり、前記粘着剤成分と架橋可能な官能基を有する分子量が300〜50000のシリコーン化合物は、下記一般式(I)、一般式(II)又は一般式(III)で表されるシロキサン骨格に(メタ)アクリル基を有するシリコーン化合物であることを特徴とする粘着剤組成物。
- 粘着剤成分は、光を照射することにより粘着剤成分と架橋可能な官能基を有する分子量が300〜50000のシリコーン化合物と反応可能な官能基を有する光硬化型の粘着剤成分であることを特徴とする請求項1記載の粘着剤組成物。
- 光硬化型の粘着剤成分は、分子内にラジカル重合性の不飽和結合を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステル系の重合性ポリマーを含有することを特徴とする請求項2記載の粘着剤組成物。
- 基材の少なくとも一方の面に、請求項1、2又は3記載の粘着剤組成物からなる粘着剤層を有することを特徴とする粘着テープ。
- 請求項1、2又は3記載の粘着剤組成物を介してウエハを支持板に固定する支持板固定工程と、前記支持板に固定されたウエハの表面に200℃以上の加熱を伴う処理を施すウエハ処理工程と、前記処理後のウエハに光照射を行い、前記粘着剤組成物を硬化させて、支持板をウエハから剥離する支持板剥離工程とを有することを特徴とするウエハの処理方法。
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---|---|---|---|---|
TWI461501B (zh) * | 2010-12-20 | 2014-11-21 | Henkel IP & Holding GmbH | 光可固化切割黏晶膠帶 |
WO2013105582A1 (ja) * | 2012-01-12 | 2013-07-18 | 積水化学工業株式会社 | 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法 |
JP6066778B2 (ja) * | 2012-03-08 | 2017-01-25 | 積水化学工業株式会社 | 透明基板の処理方法及び透明基板処理用粘着剤 |
JP2013231159A (ja) * | 2012-04-06 | 2013-11-14 | Sekisui Chem Co Ltd | 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法 |
JP5433113B1 (ja) * | 2012-08-07 | 2014-03-05 | 積水化学工業株式会社 | ウエハの処理方法 |
KR101516147B1 (ko) | 2012-08-10 | 2015-04-29 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 웨이퍼의 처리 방법 |
JP6132502B2 (ja) * | 2012-09-27 | 2017-05-24 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
JP6170672B2 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-07-26 | 富士フイルム株式会社 | 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法 |
US10351651B2 (en) * | 2013-10-30 | 2019-07-16 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Imprint material containing silsesquioxane compound and modified silicone compound |
CN104903976B (zh) * | 2013-11-21 | 2017-11-21 | Lg化学株式会社 | 保护膜 |
KR101730054B1 (ko) | 2013-12-13 | 2017-04-25 | 주식회사 엘지화학 | 다이싱 필름 점착층 형성용 조성물 및 다이싱 필름 |
KR101709689B1 (ko) | 2013-12-19 | 2017-02-23 | 주식회사 엘지화학 | 다이싱 필름 점착층 형성용 조성물 및 다이싱 필름 |
WO2015119236A1 (ja) * | 2014-02-07 | 2015-08-13 | 積水化学工業株式会社 | ウエハの処理方法 |
JP6246020B2 (ja) * | 2014-02-27 | 2017-12-13 | 日本カーバイド工業株式会社 | 粘着剤組成物及び光学部材表面保護フィルム |
JP6378516B2 (ja) * | 2014-03-27 | 2018-08-22 | 日東電工株式会社 | シリコーン系粘着テープ |
JP6446290B2 (ja) * | 2014-04-22 | 2018-12-26 | 東京応化工業株式会社 | 接着剤組成物、積層体及び剥離方法 |
JP6386969B2 (ja) * | 2015-05-19 | 2018-09-05 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | 粘着剤用アクリル樹脂およびそれを含む粘接着剤用アクリル樹脂組成物 |
WO2018101090A1 (ja) * | 2016-11-29 | 2018-06-07 | リンテック株式会社 | 両面粘着シートおよび半導体装置の製造方法 |
WO2019044623A1 (ja) * | 2017-08-29 | 2019-03-07 | 積水化学工業株式会社 | 粘着剤組成物、粘着テープ及び半導体デバイスの保護方法 |
US11781040B2 (en) * | 2017-08-31 | 2023-10-10 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Adhesive film and optical member comprising same |
JP7088736B2 (ja) * | 2017-10-06 | 2022-06-21 | 積水化学工業株式会社 | 表面保護フィルム |
KR102220313B1 (ko) * | 2018-06-20 | 2021-02-25 | 주식회사 엘지화학 | 점착제 조성물 |
CN112534020B (zh) * | 2018-07-25 | 2022-09-16 | 信越化学工业株式会社 | 紫外线固化型有机硅压敏粘合剂组合物及其固化物 |
KR102286594B1 (ko) * | 2018-09-28 | 2021-08-04 | 주식회사 엘지화학 | 임시고정용 점착시트 및 이를 이용한 반도체 장치의 제조 방법 |
US20220017790A1 (en) * | 2018-12-07 | 2022-01-20 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Ultraviolet curable silicone adhesive composition and cured product of same |
KR20210104016A (ko) * | 2018-12-20 | 2021-08-24 | 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 | 점착 테이프 및 전자 부품의 제조 방법 |
JPWO2020137980A1 (ja) * | 2018-12-25 | 2021-11-18 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープ |
WO2020184311A1 (ja) * | 2019-03-08 | 2020-09-17 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープ |
JP2020184612A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-12 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープ |
JP2020185716A (ja) * | 2019-05-14 | 2020-11-19 | 日東電工株式会社 | 積層体および補強フィルム |
JP2021050266A (ja) * | 2019-09-24 | 2021-04-01 | 積水化学工業株式会社 | 粘着テープ |
JP7466487B2 (ja) | 2021-03-29 | 2024-04-12 | ソマール株式会社 | 粘着シート |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01249878A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体ウエハ固定用放射線硬化性粘着テープ |
JPH10306274A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-11-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感圧接着剤用水性樹脂分散体 |
JP2000044890A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-15 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 再剥離型粘着剤組成物 |
JP2004083646A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Toppan Forms Co Ltd | 1官能性アクリル化合物含有アクリル系感圧接着剤組成物 |
JP2009132867A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-06-18 | Lintec Corp | 板状部材加工用両面粘着シートおよび板状部材加工方法 |
JP2009245989A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Lintec Corp | 半導体ウエハ加工用粘着シートおよびその使用方法 |
WO2009144985A1 (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | 電気化学工業株式会社 | ダイシング方法 |
JP2010132755A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Nippon Shokubai Co Ltd | 電離放射線硬化性再剥離粘着剤組成物 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5281473A (en) * | 1987-07-08 | 1994-01-25 | Furakawa Electric Co., Ltd. | Radiation-curable adhesive tape |
EP0298448B1 (en) * | 1987-07-08 | 1994-06-29 | The Furukawa Electric Co., Ltd. | Radiation-curable adhesive tape |
JP2601956B2 (ja) | 1991-07-31 | 1997-04-23 | リンテック株式会社 | 再剥離型粘着性ポリマー |
US20040109096A1 (en) * | 2002-12-05 | 2004-06-10 | 3M Innovative Properties Company | Overlay mounting system for display |
EP1594904A1 (en) * | 2003-02-20 | 2005-11-16 | Ciba SC Holding AG | Photocurable compositions |
JP5328132B2 (ja) | 2007-04-11 | 2013-10-30 | 積水化学工業株式会社 | 半導体加工用テープ |
JP2009064975A (ja) * | 2007-09-06 | 2009-03-26 | Nitto Denko Corp | ダイシング用粘着シート及びダイシング方法 |
JP2012000812A (ja) * | 2010-06-15 | 2012-01-05 | Daicel Corp | 積層フィルム及びその製造方法並びに電子デバイス |
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Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01249878A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-05 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体ウエハ固定用放射線硬化性粘着テープ |
JPH10306274A (ja) * | 1997-05-06 | 1998-11-17 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 感圧接着剤用水性樹脂分散体 |
JP2000044890A (ja) * | 1998-07-31 | 2000-02-15 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 再剥離型粘着剤組成物 |
JP2004083646A (ja) * | 2002-08-23 | 2004-03-18 | Toppan Forms Co Ltd | 1官能性アクリル化合物含有アクリル系感圧接着剤組成物 |
JP2009132867A (ja) * | 2007-11-06 | 2009-06-18 | Lintec Corp | 板状部材加工用両面粘着シートおよび板状部材加工方法 |
JP2009245989A (ja) * | 2008-03-28 | 2009-10-22 | Lintec Corp | 半導体ウエハ加工用粘着シートおよびその使用方法 |
WO2009144985A1 (ja) * | 2008-05-29 | 2009-12-03 | 電気化学工業株式会社 | ダイシング方法 |
JP2010132755A (ja) * | 2008-12-03 | 2010-06-17 | Nippon Shokubai Co Ltd | 電離放射線硬化性再剥離粘着剤組成物 |
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