WO2009144985A1 - ダイシング方法 - Google Patents

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WO2009144985A1
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attach film
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ultraviolet
adhesive sheet
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齊藤　岳史
高津　知道
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電気化学工業株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a dicing method for dicing a semiconductor wafer with a die attach film into chips.
  • a manufacturing method including a pickup step of picking up the adhesive sheet from the adhesive sheet, and a fixing step of applying an adhesive to the bottom surface of the picked up chip and then fixing the chip to a lead frame or the like with the adhesive.
  • a method in which a wafer or an electronic component assembly is attached to a pressure-sensitive adhesive sheet, and further the pressure-sensitive adhesive sheet is fixed to a ring frame and then cut into individual chips for separation (dicing).
  • An adhesive sheet (die attach film integrated type) having the function of an adhesive sheet for dicing and the function of an adhesive for fixing a chip to a lead frame etc. by laminating a die attach film on the adhesive sheet used in this manufacturing method
  • seat is proposed (refer patent document 1, patent document 2).
  • the application process of the adhesive after dicing can be omitted.
  • the die attach film integrated sheet is excellent in thickness control of the adhesive portion and suppression of the protrusion of the adhesive as compared with the method of using the adhesive for bonding the chip and the lead frame.
  • Die attach film-integrated sheets are used in the manufacture of electronic components such as chip size packages, stack packages, and system in packages.
  • the chip size has become large and thin, and in many cases, it has become difficult to pick up the chip after dicing.
  • dicing not only the semiconductor wafer but also the die attach film and the adhesive layer of the adhesive sheet are also diced, so that the die attach film and the adhesive layer are mixed in the dicing line, and UV irradiation is performed after dicing. Even in the case where the adhesive strength was sufficiently reduced, the peelability at the time of pick-up was inferior, which sometimes resulted in pick-up failure.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and the peeling between the adhesive sheet and the die attach film at the time of pickup is easy, and thus the chip pickup operation after dicing can be easily performed.
  • a semiconductor wafer dicing method is provided.
  • a first bonding step of bonding a die attach film to a pressure sensitive adhesive sheet obtained by laminating a UV curable adhesive on a substrate film, and the opposite side of the die attach film attached to the pressure sensitive adhesive sheet A second bonding step of bonding a semiconductor wafer to the surface, an ultraviolet irradiation step of irradiating the ultraviolet curable adhesive with ultraviolet light, and dicing of dicing the semiconductor wafer and the die attach film adhered to the adhesive sheet And a process for dicing the semiconductor wafer with die attach film.
  • the adhesive force of the ultraviolet curable adhesive is reduced in advance by providing the ultraviolet irradiation step of irradiating the ultraviolet curable adhesive with the ultraviolet curable adhesive between the second bonding step and the dicing step.
  • the cohesion can be improved. Therefore, when picking up a chip with a die attach film after dicing, the mixture of the die attach film on the dicing line and the UV curable adhesive layer of the adhesive sheet can be reduced, and pickup defects can be suppressed. .
  • the monomer means a so-called monomer itself or a structure derived from the monomer. Parts and percentages in the present specification are based on mass unless otherwise stated.
  • the (meth) acryloyl group is a generic term for an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • the compound etc. which contain (meth), such as (meth) acrylic acid, are a generic term of the compound which has "meta" in a name, and the compound which does not have "meta” similarly.
  • the number of functional groups of the urethane acrylate oligomer means the number of vinyl groups per urethane acrylate oligomer molecule.
  • the dicing method comprises a first bonding step of bonding a die attach film to a pressure-sensitive adhesive sheet in which a UV-curable pressure-sensitive adhesive is laminated on a substrate film; A second bonding step of bonding a semiconductor wafer to the opposite surface of the touch film, an ultraviolet irradiation step of irradiating the ultraviolet curable adhesive with ultraviolet light, the die attach film laminated to the adhesive sheet, and And D. dicing the semiconductor wafer.
  • a first bonding step of bonding a die attach film to a pressure-sensitive adhesive sheet in which a UV-curable pressure-sensitive adhesive is laminated on a substrate film A second bonding step of bonding a semiconductor wafer to the opposite surface of the touch film, an ultraviolet irradiation step of irradiating the ultraviolet curable adhesive with ultraviolet light, the die attach film laminated to the adhesive sheet, and And D. dicing the semiconductor wafer.
  • the dicing method according to the present embodiment includes a first bonding step of bonding a die attach film to a pressure-sensitive adhesive sheet in which a UV curable pressure-sensitive adhesive is laminated on a base film.
  • the pressure-sensitive adhesive sheet is manufactured by applying an ultraviolet-irradiated pressure-sensitive adhesive onto a substrate film, and comprises a substrate film and an ultraviolet-irradiated pressure-sensitive adhesive layer laminated on the substrate film.
  • the thickness of the base film is preferably 30 ⁇ m or more, and more preferably 60 ⁇ m or more for the purpose of preventing tearing of the pressure-sensitive adhesive sheet when the pressure-sensitive adhesive sheet is stretched in the pickup step. Further, the thickness of the base film is preferably 300 ⁇ m or less, and more preferably 200 ⁇ m or less from the reason of high extensibility at the time of pressure-sensitive adhesive sheet stretching in the pickup step.
  • the material of the base film is not particularly limited. Examples thereof include polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid-acrylate film, ethylene-ethyl acrylate copolymer, thermoplastic olefin elastomer , Polyethylene, polypropylene, polypropylene-based copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid- (meth) acrylic acid ester copolymer, etc. And ionomer resins obtained by crosslinking with metal ions. A mixture of these resins, a copolymer, and a multilayer film can be used as the base film.
  • an ionomer resin as the material of the base film.
  • ionomer resins an ionomer resin obtained by crosslinking a copolymer having an ethylene unit, a (meth) acrylic acid unit, and a (meth) acrylic acid alkyl ester unit with a metal ion such as Na + , K + , Zn 2+ or the like Because the generation of beard-like cuttings can be suppressed, it is preferably used.
  • the base film particularly preferably has a melt flow rate (MFR) of 0.5 to 6.0 g / 10 min (JIS K 7210, 210 ° C.).
  • MFR melt flow rate
  • the base film is particularly preferably a film having a melting point of 80 to 98 ° C. and containing Zn 2+ ions.
  • the forming method of the substrate film is not particularly limited, and examples thereof include a calendar forming method, a T-die extrusion method, an inflation method, and a casting method.
  • T-die extrusion is particularly preferable in terms of the improvement of the thickness accuracy of the base film.
  • the method of forming an ultraviolet irradiation type adhesive layer on a base film and setting it as an adhesive sheet is not particularly limited. Directly apply the pressure-sensitive adhesive.
  • the adhesive may be printed on the substrate film by letterpress printing, intaglio printing, lithographic printing, flexographic printing, offset printing, screen printing, or the like. Among these, the comma coater method is particularly preferable because of the improvement of productivity and thickness accuracy.
  • the UV curable pressure sensitive adhesive provided on the substrate film may be a conventionally known one.
  • the components of the UV-curable pressure-sensitive adhesive and the action at the time of UV irradiation cause the base polymer which is the main component to exhibit adhesiveness, and the UV polymerization initiator which received UV light has a tertiary polymerizable UV polymerizable compound having an unsaturated bond.
  • the original network structure is to be cured (the adhesive strength is reduced).
  • a (meth) acrylic acid ester polymer is preferable as the base polymer, and a urethane acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is preferable as the ultraviolet polymerizable compound, and an ultraviolet polymerization initiator and silicone are further preferable. It is preferable to contain a graft polymer.
  • the (meth) acrylic acid ester polymer is a polymer obtained by polymerizing a (meth) acrylic acid ester monomer.
  • the (meth) acrylic acid ester polymer may contain a vinyl compound monomer other than the (meth) acrylic acid ester monomer.
  • Examples of the monomer of (meth) acrylic acid ester include butyl (meth) acrylate, 2-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2- Ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, myristyl ( Meta) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, isoboronyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acryl
  • the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive contains butyl (meth) acrylate and ethyl (meth) acrylate. This is because the initial adhesive strength of the UV curable adhesive can be sufficiently obtained, and the fixing of the adhesive sheet to the ring frame can be ensured.
  • vinyl compound monomer one kind of functional group consisting of hydroxyl group, carboxyl group, epoxy group, amide group, amino group, methylol group, sulfonic acid group, sulfamic acid group, and (sub) phosphate group What has the above can be used suitably.
  • Examples of the vinyl compound monomer having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, vinyl alcohol and the like.
  • vinyl compound monomer having a carboxyl group examples include (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, fumaric acid, acrylamide N-glycolic acid, cinnamic acid and the like.
  • vinyl compound monomer which has an epoxy group
  • allyl glycidyl ether and (meth) acrylic acid glycidyl ether etc. are mentioned, for example.
  • Examples of the vinyl compound monomer having an amide group include (meth) acrylamide and the like.
  • Examples of the vinyl compound monomer having an amino group include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate and the like.
  • Examples of the vinyl compound monomer having a methylol group include N-methylol acrylamide and the like.
  • Emulsion polymerization, solution polymerization, etc. can be used for the manufacturing method of a (meth) acrylic acid ester polymer.
  • the (meth) acrylic acid ester polymer is preferably an acrylic rubber produced by emulsion polymerization, in consideration of pickup properties.
  • the rubber-based pressure-sensitive adhesive examples include natural rubber, synthetic isoprene rubber, styrene butadiene rubber, styrene butadiene block copolymer, styrene isoprene block copolymer, butyl rubber, polyisobutylene, polybutadiene, polyvinyl ether, silicone rubber, polyvinyl Isobutyl ether, chloroprene rubber, nitrile rubber, kraft rubber, regenerated rubber, styrene / ethylene / butylene / block copolymer, styrene / propylene / butylene / block copolymer, styrene / isoprene / block polymer, polyisobutylene / ethylene / propylene copolymer, Ethylene vinyl acetate copolymer, polyisobutylene silicone rubber, polyvinyl isobutyl ether chloroprene etc
  • the base polymer is, in particular, a copolymer of 35 to 75% by mass of ethyl acrylate, 10 to 30% by mass of butyl acrylate and 15 to 35% by mass of methoxyethyl acrylate, which is obtained by emulsion polymerization (meth) acrylic acid Ester polymers are preferred. This is because the initial adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet is sufficient, so that the fixing of the pressure-sensitive adhesive sheet to the ring frame is ensured.
  • the ultraviolet polymerizable compound means a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in the molecule, which can be three-dimensional reticulated by irradiation of ultraviolet light.
  • UV polymerizable compound examples include trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxy pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and 1,4-butylene.
  • Glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, triethyl cyanurate acrylate, commercially available oligoester acrylate and the like are used.
  • dipentaerythritol hexaacrylate is particularly preferable. This is because the curing of the UV-curable pressure-sensitive adhesive after the UV irradiation is sufficient, the pressure-sensitive adhesive sheet and the die attach film are easily peeled off, and a good pick-up property of the chip can be obtained.
  • urethane acrylate oligomers may also be used as the UV polymerizable compound.
  • the urethane acrylate oligomer is a polyol compound such as polyester type or polyether type and a polyvalent isocyanate compound such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylene diisocyanate, 1,4- A terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting xylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, etc.
  • (meth) acrylate having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl ( Meta) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate Rate, Gurishidoruji (meth) acrylate, obtained by reacting dipentaerythritol monohydroxy pentaacrylate.
  • a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl ( Meta) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate Rate, Gurishidoruji (meth) acrylate, obtained by reacting dipentaerythritol monohydroxy pentaacrylate.
  • urethane acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups is sufficient to cure the UV curable adhesive after UV irradiation, the adhesive sheet and the die attach film are easily peeled off, and a good pickup is obtained. It is preferable because it can obtain sex.
  • the content of the UV polymerizable compound is 10 parts by mass or more, curing of the UV curable adhesive after UV irradiation is sufficient, the adhesive sheet and the die attach film are easily peeled off, and good pick up property is obtained. can get.
  • the compounding amount of the ultraviolet polymerizable compound is 200 parts by mass or less, chips may be scattered during dicing without excessive progress of curing of the ultraviolet curable adhesive after irradiation with ultraviolet rays, or fine particles due to reaction residue Adhesive residue does not occur, and adhesion failure does not occur at the time of heating when the die chip to which the die attach film is attached is mounted on the lead frame.
  • UV polymerization initiators include 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t-butyldichloroacetophenone, diethoxyacetophenone and 2-hydroxy-2-methyl-1 -Phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane -1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Acetophenone UV polymerization initiators such as morpholinopropane-1 etc., benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether Benzoin-based ultraviolet polymerization initiators such as benzoin isopropyl ether, benzoin isobuty
  • the compounding amount of the ultraviolet polymerization initiator is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet polymerizable compound.
  • the blending amount of the ultraviolet polymerization initiator is 0.1 parts by weight or more, a curing action in ultraviolet irradiation is obtained, and the decrease in the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet is sufficient.
  • the content of the ultraviolet polymerization initiator is 15 parts by mass or less, sufficient stability of the pressure-sensitive adhesive sheet can be obtained even under heat or a fluorescent lamp.
  • a silicone graft polymer can also be added to the UV curable adhesive, if necessary, in order to improve the pick up property.
  • the adhesion at the interface between the die attach film and the ultraviolet curable pressure sensitive adhesive can be reduced.
  • the silicone graft polymer is not particularly limited except that it is obtained by polymerizing a monomer having a vinyl group at the end of the silicone molecular chain (hereinafter referred to as "silicone macromonomer").
  • silicone macromonomer a homopolymer of silicone macromonomer And copolymers of silicone macromonomers with other vinyl compounds.
  • the silicone macromonomer a compound in which the end of the silicone molecular chain is a vinyl group such as (meth) acryloyl group or styryl group is preferably used.
  • the silicone graft polymer is, in particular, a silicone graft polymer formed by polymerizing 5 to 95 parts by mass of a silicone macromonomer having a (meth) acryloyl group, and 5 to 95 parts by mass of methyl methacrylate. It is preferable to have at least one hydroxyl group at the terminal and / or side chain of the silicone graft polymer by polymerization using an agent. The reason is that the pressure-sensitive adhesive sheet and the die attach film are easily peeled off, and the pick-up property of the die chip is improved.
  • blended with an adhesive is preferable. This is because the use of highly compatible ones makes the whole adhesive homogeneous.
  • the compounding quantity of a silicone graft polymer is not specifically limited, It is preferable to make the compounding quantity of the silicone graft polymer with respect to 100 mass parts of base polymers into 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less. If the compounding quantity of a silicone graft polymer is 0.1 mass part or more, an adhesive sheet and a die attach film will peel easily, and the pick-up property of a die chip is favorable. In addition, if the blending amount of the silicone graft polymer is 10 parts by mass or less, the initial adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet is sufficient, so that the fixation to the ring frame is ensured.
  • a curing agent may be added to the UV-curable pressure-sensitive adhesive.
  • the curing agent By the use of the curing agent, the cohesion as a pressure-sensitive adhesive is enhanced, and contamination at the time of bonding does not occur even in a state before (irradiated) irradiation with ultraviolet light, and removability can be obtained.
  • Examples of the curing agent include those of isocyanate type, epoxy type, aziridine type and the like, and not only single substances but also mixtures thereof may be used.
  • Examples of the isocyanate include polyvalent isocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4.
  • trimethylolpropane adduct of hexamethylene diisocyanate is particularly preferable. Because the initial adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive sheet is sufficient, it is preferable because fixation of the pressure-sensitive adhesive sheet to the ring frame is ensured.
  • the UV-irradiated pressure-sensitive adhesive is generally formed to a thickness of 5 to 70 ⁇ m. If the thickness of the ultraviolet ray irradiation type adhesive is in such a range, curing by irradiation of ultraviolet rays is quick, and there is an advantage that the adhesive strength is high.
  • a tackifier resin, a filler, an antiaging agent, a softener, a stabilizer, a colorant, and the like which are conventionally known can be appropriately selected and added to the pressure-sensitive adhesive.
  • the die attach film is an adhesive sheet obtained by forming an adhesive or an adhesive into a film.
  • a die attach film is marketed in the state which laminated
  • the material of the die attach film may be a resin component of a generally used adhesive or adhesive.
  • a resin component of a generally used adhesive or adhesive For example, epoxy, polyamide, acrylic, polyimide, vinyl acetate, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic ester copolymer, polyethylene, polysulfone, polyamic acid, silicone, phenol, rubber polymer, fluororubber polymer, and fluorocarbon resin Etc.
  • acrylic and epoxy is particularly preferable. This is because the adhesive properties of the pressure-sensitive adhesive sheet when the die chip to which the die attach film is attached are mounted on the lead frame are good.
  • a mixture, copolymer and laminate of these components can be used.
  • additives such as a curing agent, an ultraviolet polymerization initiator, an antistatic agent, a curing accelerator and the like may be mixed as needed.
  • the dicing method according to the present embodiment includes, after the first bonding step, a second bonding step of bonding a semiconductor wafer to the surface on the opposite side of the die attach film that is bonded to the pressure-sensitive adhesive sheet.
  • a tape mounter is used to heat the semiconductor wafer and then the die attach film surface is attached.
  • the temperature upon heating is preferably 40 ° C. or more and less than 90 ° C.
  • the dicing method according to the present embodiment includes an ultraviolet light irradiation step of irradiating the ultraviolet light curable adhesive with ultraviolet light after the second bonding step.
  • the light source of the ultraviolet light in the ultraviolet irradiation step is not particularly limited, and known ones can be used. Examples of the light source of ultraviolet light include black lights, low pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, ultra high pressure mercury lamps, metal halide lamps, and excimer lamps.
  • Irradiation light amount of the ultraviolet is not particularly limited, the design of the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive may be appropriately selected, generally preferably 5 mJ / cm 2 or more 1000 mJ / cm 2 or less.
  • the irradiation light amount of the ultraviolet light is 5 mJ / cm 2 or more, the curing of the ultraviolet curable pressure sensitive adhesive is sufficient, and the pickup property becomes good.
  • the irradiation light quantity of an ultraviolet-ray is 1000 mJ / cm ⁇ 2 > or less, hardening can be performed by ultraviolet-ray irradiation for a short time.
  • the dicing method according to the present embodiment includes a dicing step of dicing the die attach film attached to the adhesive sheet and the semiconductor wafer after the ultraviolet irradiation step.
  • the semiconductor wafer is cut by rotating a dicing blade containing diamond abrasive grains at a high speed using a dicing apparatus.
  • the adhesion of the ultraviolet ray curable adhesive is provided by providing the ultraviolet ray irradiation step of irradiating the ultraviolet ray curable adhesive with the ultraviolet ray curable adhesive between the second bonding step and the dicing step. While reducing the force in advance, the cohesion can be improved. Therefore, when picking up a chip with a die attach film after dicing, the mixture of the die attach film on the dicing line and the UV curable adhesive layer of the adhesive sheet can be reduced, and pickup defects can be suppressed. .
  • a pickup step of picking up the cut individual chips from the adhesive sheet may be provided.
  • the UV curable adhesive may contain a (meth) acrylic acid ester polymer, a urethane acrylate oligomer having 4 or more vinyl groups, a UV polymerization initiator, and a silicone graft polymer. This has the effect of improving the chip pick-up performance.
  • the said die attach film may have an epoxy resin, a polyimide resin, and an acrylic resin at least, and the thickness of the said die attach film may be 10 micrometers or more.
  • Base polymer A copolymer of 54% by mass of ethyl acrylate, 22% by mass of butyl acrylate and 24% by mass of methoxyethyl acrylate, which is obtained by emulsion polymerization (meth) acrylic acid ester polymer (product of the present company).
  • -Ultraviolet polymerizable compound A A terminal formed by further reacting dipentaerythritol pentaacrylate with a terminal isocyanate oligomer formed by reacting a trimer of hexamethylene diisocyanate (aliphatic diisocyanate) with a terminal of poly (propylene oxide) diol Acrylate oligomer.
  • Urethane acrylate oligomer having a number average molecular weight (Mn) of 3,700 and having 15 acrylate functional groups (15 functions) (manufactured by Toray Industries, Ltd.).
  • Ultraviolet polymerizable compound B pentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK ester A-TMM-3L).
  • Ultraviolet polymerization initiator benzyl dimethyl ketal (manufactured by Ciba Japan, product name Irgacure 651).
  • -Silicone graft polymer A hydroxyl group-containing silicone graft polymer (product of the present company), which is obtained by polymerizing 30 parts by mass of silicone macromonomer and 70 parts by mass of methyl methacrylate using an initiator having two hydroxyl groups.
  • silicone macromonomer a silicone macromonomer having a methacryloyl group at the end of the silicone molecular chain (manufactured by Toray Industries, Ltd.) was used.
  • Hardener trimethylolpropane adduct of 1,6-hexamethylene diisocyanate (Nippon Polyurethane Co., Ltd., product name: Coronate HL).
  • the main components of the pressure-sensitive adhesive corresponding to each experiment number and the blending amount thereof are as shown in Table 1.
  • curing agents were mix
  • the adhesive was applied onto a PET separator film, and applied so that the thickness of the adhesive layer after drying was 10 ⁇ m, and the adhesive sheet was laminated on a substrate film.
  • the base film is made of an ionomer resin mainly composed of a Zn salt of ethylene-methacrylic acid-methacrylic acid alkyl ester copolymer, and the melt flow rate (MFR) is 1.5 g / 10 min (JIS K 7210, 210) C., a melting point of 96 ° C., and a film containing Zn 2+ ion (manufactured by Du Pont Polychemical Co., Ltd., product name HIMIRAN 1650) was used.
  • MFR melt flow rate
  • Die attach film 30 ⁇ m thick film, the composition of which is a mixture of acrylic resin and epoxy resin.
  • a semiconductor wafer having a diameter of 6 inches and a thickness of 0.1 mm was used.
  • a die attach film was attached to an adhesive sheet, and a semiconductor wafer was attached to the opposite surface of the die attach film attached to the adhesive sheet.
  • UV irradiation process The ultraviolet light was irradiated with the high pressure mercury lamp from the adhesive sheet side of the sample of the said bonding process. The adhesion of the adhesive layer was reduced by this ultraviolet irradiation
  • ⁇ Dicing process> The bonded wafers were individually cut and separated to form chips. The cut amount to the adhesive sheet was 30 ⁇ m. The dicing was performed with a chip size of 10 mm ⁇ 10 mm.
  • the dicing apparatus used DAD341 made by DISCO.
  • the dicing blade used NBC-ZH205O-27 HEEE made by DISCO.
  • Dicing blade shape outer diameter 55.56 mm, blade width 35 ⁇ m, inner diameter 19.05 mm
  • Cutting water volume 1.0 L / min.
  • Chip holding property When the semiconductor wafer was diced under the above conditions, the number of chips with a die attach film held by the adhesive sheet was evaluated. ⁇ (Excellent): 95% or more of the chips held by the adhesive sheet. ⁇ (Good): 90% or more and less than 95% of the chips held in the adhesive sheet. X (not good): less than 90% of the chips held by the adhesive sheet.
  • the cohesion can be improved while the adhesion of the ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive is reduced in advance. Therefore, when picking up a die attach film-attached chip after dicing, pickup defects can be suppressed.

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Abstract

　本発明のダイシング方法においては、紫外線硬化型粘着剤の粘着力を予め低下させる一方で凝集力を向上させることにより、ダイシング後にダイアタッチフィルム付きのチップをピックアップする際に、ダイシングラインにダイアタッチフィルムと粘着シートの紫外線硬化型粘着剤層の混在を低減することができ、ピックアップ不良を抑制することができる。 　基材フィルムに紫外線硬化型粘着剤を積層した粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付ける第一貼合工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付ける第二貼合工程と、前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムと前記半導体ウエハをダイシングするダイシング工程とを含むダイアタッチフィルム付き半導体ウエハのダイシング方法。

Description

ダイシング方法
　本発明は、ダイアタッチフィルム付きの半導体ウエハをチップ状にダイシングするダイシング方法に関する。
　電子部品の製造方法の一つに、ウエハや絶縁基板上に複数の回路パターンが形成された電子部品集合体を粘着シートに貼り付ける貼付工程と、貼り付けられたウエハや電子部品集合体を個々に切断してチップ化する切断・分離工程（ダイシング工程）と、該ダイシング工程後に、粘着シート側から紫外線を照射し粘着剤層の粘着力を低減させる紫外線照射工程と、切断された個々のチップを粘着シートからピックアップするピックアップ工程と、ピックアップしたチップの底面に接着剤を塗布した後にこの接着剤でチップをリードフレーム等に固定する固定工程を有する製造方法が知られている。
　切断工程にあっては、ウエハや電子部品集合体を粘着シートに貼り付け、更に粘着シートをリングフレームに固定してから個々のチップに切断し分離（ダイシング）する方法が知られている。
　この製造方法で用いられる粘着シートにダイアタッチフィルムを積層することにより、ダイシング用の粘着シートの機能と、チップをリードフレーム等に固定する接着剤の機能を兼ね備えた粘着シート（ダイアタッチフィルム一体型シート）を用いる方法が提案されている（特許文献１、特許文献２参照）。ダイアタッチフィルム一体型シートを電子部品の製造に用いることにより、ダイシング後の接着剤の塗布工程を省略できる。
　また、ダイアタッチフィルム一体型シートは、チップとリードフレームの接着に接着剤を用いる方法に比べ、接着剤部分の厚み制御や接着剤のはみ出し抑制に優れている。ダイアタッチフィルム一体型シートは、チップサイズパッケージ、スタックパッケージ、及びシステムインパッケージ等の電子部品の製造に利用されている。
　しかしながら、半導体部品の高集積化に伴い、チップサイズは大きくかつ薄くなっており、ダイシング後のチップのピックアップ作業が困難となるケースが増加していた。
　更に、ダイシング時には、半導体ウエハだけでなく、ダイアタッチフィルム、及び粘着シートの粘着剤層までもダイシングするため、ダイシングラインにダイアタッチフィルムと粘着剤層の混在が生じ、ダイシング後に紫外線の照射を行い粘着力の低減が十分に図れた場合でもピックアップ時の剥離容易性に劣り、ピックアップ不良を引き起こす場合があった。
特開２００６－０４９５０９号公報 特開２００７－２４６６３３号公報
発明の概要
　本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、ピックアップ時における粘着シートとダイアタッチフィルムとの間の剥離が容易であり、かくして、ダイシング後のチップのピックアップ作業を容易に行うことができる、半導体ウエハのダイシング方法を提供することである。
　本発明によれば、基材フィルムに紫外線硬化型粘着剤を積層した粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付ける第一貼合工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付ける第二貼合工程と、前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムと前記半導体ウエハをダイシングするダイシング工程とを含むダイアタッチフィルム付き半導体ウエハのダイシング方法が提供される。
　本発明のダイシング方法においては、第二貼合工程とダイシング工程の間に紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程を設けたことにより、紫外線硬化型粘着剤の粘着力を予め低下させる一方で凝集力を向上させることができる。そのため、ダイシング後にダイアタッチフィルム付きのチップをピックアップする際に、ダイシングラインへのダイアタッチフィルムと粘着シートの紫外線硬化型粘着剤層の混在を低減することができ、ピックアップ不良を抑制することができる。
発明を実施するための形態
　以下、本発明の一実施形態に係るダイシング方法ついて説明する。
　なお、本明細書において、単量体とは、いわゆる単量体そのもの、または単量体に由来する構造を意味する。本明細書の部及び％は、特に記載がない限り質量基準とする。本明細書において（メタ）アクリロイル基とはアクリロイル基及びメタアクリロイル基の総称である。（メタ）アクリル酸等の（メタ）を含む化合物等も同様に、名称中に「メタ」を有する化合物と「メタ」を有さない化合物の総称である。ウレタンアクリレートオリゴマの官能基数とは、ウレタンアクリレートオリゴマ分子１個あたりのビニル基数をいう。
　本発明の一実施形態に係るダイシング方法は、基材フィルムに紫外線硬化型粘着剤を積層した粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付ける第一貼合工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付ける第二貼合工程と、前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程と、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムと前記半導体ウエハをダイシングするダイシング工程とを含む。
　以下、上記ダイシング方法の各工程について説明する。
＜第一貼合工程＞
　本実施形態に係るダイシング方法においては、基材フィルムに紫外線硬化型粘着剤を積層した粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付ける第一貼合工程を含む。
（粘着シート）
　粘着シートは、紫外線照射型粘着剤を基材フィルム上に塗布することによって製造され、基材フィルムと、その基材フィルム上に積層されてなる紫外線照射型粘着剤層とからなる。
（基材フィルム）
　基材フィルムの厚さは３０μｍ以上とすることが好ましく、ピックアップ工程での粘着シート伸張時の粘着シートの裂け防止の理由から６０μｍ以上とすることがさらに好ましい。また、基材フィルム厚さは、３００μｍ以下とすることが好ましく、ピックアップ工程での粘着シート伸張時の高伸張性の理由から２００μｍ以下とすることがさらに好ましい。
　基材フィルムの素材は特に限定されず、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、エチレン－酢酸ビニル共重合体、エチレン－アクリル酸－アクリル酸エステルフィルム、エチレン－エチルアクリレート共重合体、熱可塑性オレフィン系エラストマ、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリプロピレン系共重合体、エチレン－アクリル酸共重合体、及び、エチレン－（メタ）アクリル酸共重合体やエチレン－（メタ）アクリル酸－（メタ）アクリル酸エステル共重合体等を金属イオンで架橋してなるアイオノマ樹脂が挙げられる。基材フィルムにはこれらの樹脂の混合物、共重合体、及び多層フィルム等を使用できる。
　基材フィルムの素材はアイオノマ樹脂を用いることが好ましい。アイオノマ樹脂の中でも、エチレン単位、（メタ）アクリル酸単位、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステル単位を有する共重合体をＮａ＋、Ｋ＋、Ｚｎ２＋等の金属イオンで架橋したアイオノマ樹脂を用いると、ヒゲ状の切削屑発生を抑制できるため、好適に用いられる。
　基剤フィルムは、メルトフローレート（ＭＦＲ）が０．５～６．０ｇ／１０分（ＪＩＳ　Ｋ７２１０、２１０℃）であることが特に好ましい。
　また、基剤フィルムは、融点が８０～９８℃、Ｚｎ２＋イオンを含有するフィルムであることが特に好ましい。
　基材フィルムの成型方法は特に限定されず、例えばカレンダー成形法、Ｔダイ押出し法、インフレーション法、及びキャスティング法等が挙げられる。
　これらの中でも、特に、Ｔダイ押出し法が、基材フィルムの厚み精度の向上という点から好ましい。
　基材フィルム上に紫外線照射型粘着剤層を形成して粘着シートとする方法は特に限定されず、例えばグラビアコーター、コンマコーター、バーコーター、ナイフコーター、又はロールコーター等のコーターで基材フィルム上に粘着剤を直接塗布する方法が挙げられる。凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、フレキソ印刷、オフセット印刷、又はスクリーン印刷等で基材フィルム上に粘着剤を印刷してもよい。
　これらの中でも、特に、コンマコーター法が、生産性、厚み精度の向上という理由から好ましい。
（紫外線硬化型粘着剤）
　前記基材フィルム上に設けられる紫外線硬化型粘着剤は従来公知のものを採用できる。紫外線硬化型粘着剤の成分及び紫外線が照射された際の作用は、主剤であるベースポリマで粘着力を発揮させ、紫外線を受けた紫外線重合開始剤で不飽和結合を有する紫外線重合性化合物を三次元網目状構造にさせて硬化させる（粘着力を低下させる）ものである。
　尚、ピックアップ性を向上させるため、上記ベースポリマとしては（メタ）アクリル酸エステル重合体、上記紫外線重合性化合物としてはビニル基を４個以上有するウレタンアクリレートオリゴマが好ましく、更に紫外線重合開始剤とシリコーングラフト重合体を含有することが好ましい。
　上記ベースポリマとしては、一般に知られている（メタ）アクリル酸エステル重合体、ゴム系粘着剤等を用いることができる。
　（メタ）アクリル酸エステル重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単量体を重合した重合体である。また、（メタ）アクリル酸エステル重合体は、（メタ）アクリル酸エステル単量体以外のビニル化合物単量体を含んでもよい。
　（メタ）アクリル酸エステルの単量体としては、例えばブチル（メタ）アクリレート、２－ブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ミリスチル（メタ）アクリレート、セチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、及びエトキシ－ｎ－プロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　これらの中でも、特に、紫外線硬化型粘着剤がブチル（メタ）アクリレートとエチル（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。なぜなら、紫外線硬化型粘着剤の初期の粘着力を十分に得られ、粘着シートのリングフレームへの固定が確実となるからである。
　ビニル化合物単量体としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、エポキシ基、アミド基、アミノ基、メチロール基、スルホン酸基、スルファミン酸基、及び（亜）リン酸エステル基からなる官能基群の１種以上を有するものを好適に用いることができる。
　ヒドロキシル基を有するビニル化合物単量体としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、及び２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ビニルアルコール等が挙げられる。
　カルボキシル基を有するビニル化合物単量体としては、例えば（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸、アクリルアミドＮ－グリコール酸、及びケイ皮酸等が挙げられる。
　エポキシ基を有するビニル化合物単量体としては、例えばアリルグリシジルエーテル、及び（メタ）アクリル酸グリシジルエーテル等が挙げられる。
　アミド基を有するビニル化合物単量体としては、例えば（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
　アミノ基を有するビニル化合物単量体としては、例えばＮ，Ｎ－ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　メチロール基を有するビニル化合物単量体としては、例えばＮ－メチロールアクリルアミド等が挙げられる。
　（メタ）アクリル酸エステル重合体の製造方法は、乳化重合、溶液重合等が使用できる。（メタ）アクリル酸エステル重合体は、ピックアップ性を考慮した場合、乳化重合により製造されるアクリルゴムが好ましい。
　上記ゴム系粘着剤としては、例えば天然ゴム、合成イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、スチレン・ブタジエンブロツク共重合体、スチレン・イソプレンブロツク共重合体、ブチルゴム、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリビニルエーテル、シリコーンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、クラフトゴム、再生ゴム、スチレン・エチレン・ブチレン・ブロツクコポリマ、スチレン・プロピレン・ブチレン・ブロツクコポリマ、スチレン・イソプレン・ブロツクポリマ、ポリイソブチレン・エチレン・プロピレン共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリイソブチレン・シリコンゴム、ポリビニルイソブチルエーテル・クロロプレン等が挙げられる。これらは、単独物のみならず混合物であってもよい。
　ベースポリマとしては、特に、エチルアクリレート３５～７５質量％、ブチルアクリレート１０～３０質量％、メトキシエチルアクリレート１５～３５質量％の共重合体であって、乳化重合により得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体が好ましい。なぜなら、粘着シートの初期の粘着力が十分であるので、粘着シートのリングフレームへの固定が確実となるからである。
　紫外線重合性化合物とは、紫外線の照射によって三次元網状化しうる、分子内に光重合性炭素－炭素二重結合を少なくとも２個以上有する低分子量化合物を意味する。
　紫外線重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，４－ブチレングリコールジアクリレート、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、シアヌル酸トリエチルアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。
　これらの中でも、特に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートが好ましい。なぜなら、紫外線照射後の紫外線硬化型粘着剤の硬化が十分であり、粘着シートとダイアタッチフィルムとが容易に剥離し、チップの良好なピックアップ性を得られるからである。
　さらに紫外線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物の他に、ウレタンアクリレートオリゴマを用いることもできる。
　ウレタンアクリレートオリゴマは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物、例えば２,４－トリレンジイソシアネート、２,６－トリレンジイソシアネート、１,３－キシレンジイソシアネート、１,４－キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン４,４－ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマに、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート、例えば２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、グリシドールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレートなどを反応させて得られる。
　紫外線重合性化合物としては、ビニル基を４個以上有するウレタンアクリレートオリゴマが紫外線照射後の紫外線硬化型粘着剤の硬化が十分であり、粘着シートとダイアタッチフィルムとが容易に剥離し、良好なピックアップ性を得られるので好ましい。
　紫外線量部以上２００質量部以下とすることが好ましい。
　紫外線重合性化合物の配合量が１０質量部以上であれば、紫外線照射後の紫外線硬化型粘着剤の硬化が十分であり、粘着シートとダイアタッチフィルムとが容易に剥離し、良好なピックアップ性を得られる。
　また、紫外線重合性化合物の配合量が２００質量部以下であれば、紫外線照射後の紫外線硬化型粘着剤の硬化が過剰に進行することなく、ダイシング時にチップが飛散したり、反応残渣による微小な糊残りが生じ、ダイアタッチフィルムが付着したダイチップをリードフレーム上に搭載した際の加温時に接着不良が生じるといったことがない。
　上記紫外線重合開始剤としては、具体的には、例えば、４－フエノキシジクロロアセトフエノン、４－ｔ－ブチルジクロロアセトフエノン、ジエトキシアセトフエノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フエニルプロパン－１－オン、１－（４－イソプロピルフエニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、１－（４－ドデシルフエニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フエニル（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフエニルケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フエニル］－２－モルフオリノプロパン－１等のアセトフエノン系紫外線重合開始剤、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２，２－ジメトキシ－２－フエニルアセトフエノン等のベンゾイン系紫外線重合開始剤、ベンゾフエノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４－フエニルベンゾフエノン、ヒドロキシベンゾフエノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフエニルサルフアイド、３，３’－ジメチル－４－メトキシベンゾフエノン等のベンゾフエノン系紫外線重合開始剤、チオキサントン、２－クロルチオキサントン、２－メチルチオキサントン、２，４－ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系紫外線重合開始剤、α－アシロキシムエステル、アシルホスフインオキサイド、メチルフエニルグリオキシレート、ベンジル、カンフアーキノン、ジベンゾスベロン、２－エチルアントラキノン、４’，４”－ジエチルイソフタロフエノン等の特殊紫外線重合開始剤などを挙げることができる。
　上記紫外線重合開始剤の配合量は特に限定されないが、紫外線重合性化合物１００質量部に対して０．１～１５質量部が好ましい。
　紫外線重合開始剤の配合量が０．１重量部以上の場合には、紫外線照射における硬化作用が得られ、粘着シートの粘着力の低下が十分となる。また、紫外線重合開始剤の配合量が１５質量部以下であれば、熱あるいは蛍光灯下においても粘着シートの十分な安定性を得ることができる。
　紫外線硬化型粘着剤には、ピックアップ性を向上させるために、必要に応じてシリコーングラフト重合体を配合することもできる。該シリコーングラフト重合体の採用により、ダイアタッチフィルムと紫外線硬化型粘着剤の界面の密着性を低下させることができる。
　シリコーングラフト重合体は、シリコーン分子鎖の末端にビニル基を有する単量体（以下、「シリコーンマクロモノマ」という）を重合したものである点以外は特に限定されず、例えばシリコーンマクロモノマのホモポリマーや、シリコーンマクロモノマと他のビニル化合物とのコポリマーが挙げられる。シリコーンマクロモノマは、シリコーン分子鎖の末端が（メタ）アクリロイル基またはスチリル基等のビニル基となっている化合物が好適に用いられる。
　シリコーングラフト重合体としては、特に、（メタ）アクリロイル基を有するシリコーンマクロモノマ５～９５質量部、メチルメタアクリレート５～９５質量部を重合してなるシリコーングラフト重合体であって、水酸基を有する開始剤を用いて重合することにより、シリコーングラフト重合体の末端、及び／又は側鎖に水酸基を少なくとも１つ有するものであることが好ましい。なぜなら、粘着シートとダイアタッチフィルムとが容易に剥離し、ダイチップのピックアップ性が良好となるからである。
　前記他のビニル化合物としては、粘着剤に配合される他の重合体との相溶性が高い（メタ）アクリル単量体が好ましい。相溶性の高いものを用いると、粘着剤全体が均質になるためである。
　シリコーングラフト重合体の配合量は特に限定されないが、ベースポリマ１００質量部に対するシリコーングラフト重合体の配合量を０．１質量部以上１０質量部以下とすることが好ましい。
　シリコーングラフト重合体の配合量が０．１質量部以上であれば、粘着シートとダイアタッチフィルムとが容易に剥離し、ダイチップのピックアップ性が良好である。また、シリコーングラフト重合体の配合量が１０質量部以下であれば、粘着シートの初期の粘着力が十分であるので、リングフレームへの固定が確実となる。
　紫外線硬化型粘着剤には、粘着シートの初期粘着力を任意に設定するために、必要に応じて硬化剤を配合することもできる。該硬化剤の採用により、粘着剤として凝集力を高め、紫外線照射前（未照射）の状態でも貼り合わせ時の汚染が生じず、再剥離性を得ることができる。
　該硬化剤としては、イソシアネート系、エポキシ系、アジリジン系等のもの等があり、これらの単独物のみならず混合物であってもよい。上記イソシアネートとしては、多価イソシアネート化合物、例えば２，４－トリレンジイソシアナート、２，６－トリレンジイソシアナート、１，３－キシリレンジイソシアナート、１，４－キシレンジイソシアナート、ジフェニルメタン－４，４’－ジイソシアナート、ジフェニルメタン－２，４’－ジイソシアナート、３－メチルジフエニルメタンジイソシアナート、ヘキサメチレンジイソシアナート、イソホロンジイソシアナート、ジシクロキシシルメタン－４，４’－ジイソシアナート、ジシクロヘキシルメタン－２，４’－ジイソシアナート、リジンイソシアナート、フエニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフエニルメタジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、及びそれらのトリメチロールプロパンアダクト体、水と反応したビュウレット体、又はイソシアヌレート環を有する３量体等が挙げられる。
　これらの中でも、特に、ヘキサメチレンジイソシアナートのトリメチロールプロパンアダクト体が好ましい。なぜなら、粘着シートの初期の粘着力が十分であるので、粘着シートのリングフレームへの固定が確実となるので好ましい。
　なお、紫外線照射型粘着剤は、一般に５～７０μｍの厚みで形成される。紫外線照射型粘着剤の厚みがこのような範囲であれば、紫外線の照射による硬化が速く、粘着力が高いという利点がある。
　また、該粘着剤には従来公知の粘着付与樹脂、充填剤、老化防止剤、軟化剤、安定剤若しくは着色剤などを適宜選択して添加することができる。
（ダイアタッチフィルム）
　ダイアタッチフィルムは、粘着剤や接着剤をフィルム状に成形した粘着性のシートである。ダイアタッチフィルムは、ＰＥＴ樹脂等からなる剥離用フィルム等に接着剤や粘着剤を積層した状態で市販されており、接着剤や粘着剤を被着体に転写することができる。
　ダイアタッチフィルムの材質は、一般的に使用される粘着剤や接着剤の樹脂成分であれば良い。例えばエポキシ、ポリアミド、アクリル、ポリイミド、酢酸ビニル、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、ポリエチレン、ポリスルホン、ポリアミド酸、シリコーン、フェノール、ゴムポリマー、フッ素ゴムポリマー、及びフッ素樹脂等が挙げられる。
　これらの樹脂の中でも、特に、アクリルとエポキシの混合物が好ましい。なぜなら、ダイアタッチフィルムが付着したダイチップをリードフレーム上に搭載した際の粘着シートの接着特性が良好であるからである。
　ダイアタッチフィルムには、これらの成分の混合物、共重合体、及び積層体を用いることができる。ダイアタッチフィルムには、必要に応じて例えば硬化剤、紫外線重合開始剤、帯電防止剤、硬化促進剤等の添加物を混合してもよい。
＜第二貼合工程＞
　本実施形態に係るダイシング方法においては、前記第一貼合工程の後に、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付ける第二貼合工程を含む。
　第二貼合工程においては、テープマウンタを使用し、半導体ウエハを加温した後、ダイアタッチフィルム面を貼り付ける。半導体ウエハとダイアタッチフィルムの接着性の点から、加温時の温度は４０℃以上９０℃未満が好ましい。
＜紫外線照射工程＞
　本実施形態に係るダイシング方法においては、前記第二貼合工程の後に、前記紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程を含む。
　紫外線照射工程における紫外線の光源は特に限定されず、公知のものが使用できる。紫外線の光源としては、ブラックライト、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、エキシマランプ等が挙げられる。
　紫外線の照射光量は特に限定されず、紫外線硬化型粘着剤の設計により、適宜選択できるが、一般的には５ｍＪ／ｃｍ２以上１０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましい。
　紫外線の照射光量が５ｍＪ／ｃｍ２以上の場合、紫外線硬化型粘着剤の硬化が十分であり、ピックアップ性が良好となる。また、紫外線の照射光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２以下の場合、短時間の紫外線照射で硬化を行うことができる。
＜ダイシング工程＞
　本実施形態に係るダイシング方法においては、前記紫外線照射工程の後に、前記粘着シートに貼り付けられた前記ダイアタッチフィルムと前記半導体ウエハをダイシングするダイシング工程を含む。
　ダイシング工程においては、ダイシング装置を用い、ダイヤモンド砥粒を含有するダイシングブレードを高速回転させることで、半導体ウエハを切断する。
　以上のように、本発明のダイシング方法においては、第二貼合工程とダイシング工程の間に紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程を設けたことにより、紫外線硬化型粘着剤の粘着力を予め低下させる一方で凝集力を向上させることができる。そのため、ダイシング後にダイアタッチフィルム付きのチップをピックアップする際に、ダイシングラインへのダイアタッチフィルムと粘着シートの紫外線硬化型粘着剤層の混在を低減することができ、ピックアップ不良を抑制することができる。
　尚、前記ダイシング工程後においても、従来方法と同様に、再度の紫外線照射工程又は放射線照射工程を設けても良いのは勿論のことである。
　また、前記ダイシング工程後、或いは、再度の紫外線照射工程照射工程後に、切断された個々のチップを粘着シートからピックアップするピックアップ工程とを設けても良い。
　また、前記紫外線硬化型粘着剤が（メタ）アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を４個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、紫外線重合開始剤と、シリコーングラフト重合体とを含有してもよい。これにより、チップのピックアップ性が向上するという効果を奏する。
　また、前記ダイアタッチフィルムがエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂を少なくとも有し、前記ダイアタッチフィルムの厚みが１０μｍ以上であってもよい。これにより、ダイアタッチフィルムが付着したダイチップをリードフレーム上に搭載した際に、粘着シートの良好な接着特性を得られるという効果を奏する。
　以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することができる。
　以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
＜実験材料の調製＞
　粘着シートの材料として、以下のものを揃えた。
・ベースポリマ：エチルアクリレート５４質量％、ブチルアクリレート２２質量％、メトキシエチルアクリレート２４質量％の共重合体であって乳化重合により得られた（メタ）アクリル酸エステル重合体（当社重合品）。
・紫外線重合性化合物Ａ：ポリ（プロピレンオキサイド）ジオールの末端にヘキサメチレンジイソシアネート（脂肪族ジイソシアネート）の三量体を反応させてなる末端イソシアネートオリゴマに、更にジペンタエリスリトールペンタアクリレートを反応させてなる末端アクリレートオリゴマ。数平均分子量（Ｍｎ）が３，７００でアクリレート官能基数１５個（１５官能）のウレタンアクリレートオリゴマ（当社重合品）。
・紫外線重合性化合物Ｂ：ペンタエリスリトールペンタアクリレート（新中村化学社製、ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ）。
・紫外線重合開始剤：ベンジルジメチルケタール（チバ・ジャパン社製、製品名イルガキュア６５１）。
・シリコーングラフト重合体：シリコーンマクロモノマ３０質量部、メチルメタアクリレート７０質量部を水酸基２個有する開始剤を用いて重合してなる、水酸基含有シリコーングラフト重合体（当社重合品）。シリコーンマクロモノマはシリコーン分子鎖の末端にメタアクリロイル基を有するシリコーンマクロモノマ（当社重合品）を使用した。
・硬化剤：１，６－ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体（日本ポリウレタン社製、製品名コロネートＨＬ）。
　実施例に係る実験材料は下記の処方で製造した。上記物質の配合比の一覧を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　各実験番号に対応する粘着剤の主な成分とその配合量は、表１に示すとおりである。なお、各粘着剤の調製にあたっては、これらの表に示した成分に加えて、硬化剤を３質量部配合した。
　次いで、粘着剤をＰＥＴセパレーターフィルム上に塗布し、乾燥後の粘着剤層の厚みが１０μｍとなるように塗工し、基材フィルムに積層し粘着シートを得た。
　基剤フィルムとしては、エチレン－メタアクリル酸－メタアクリル酸アルキルエステル共重合体のＺｎ塩を主体とするアイオノマ樹脂からなり、メルトフローレート（ＭＦＲ）が１．５ｇ／１０分（ＪＩＳ　Ｋ７２１０、２１０℃）、融点が９６℃、Ｚｎ２＋イオンを含有するフィルム（三井・デュポンポリケミカル社製、製品名ハイミラン１６５０）を用いた。
　ダイアタッチフィルムとして、以下のものを揃えた。
ダイアタッチフィルム：厚さ３０μｍのフィルムであり、その組成は、アクリル樹脂及びエポキシ樹脂の混合物である。
　評価には、直径６インチ×厚さ０．１ｍｍの半導体ウエハを用いた。
＜貼合工程＞
　粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付け、前記粘着シートに貼り付けられた該ダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付けた。
＜紫外線照射工程＞
　上記貼合工程の試料の粘着シート側より高圧水銀灯にて紫外線を照射した。この紫外線照射により粘着剤層の粘着力を低減させた
＜ダイシング工程＞
　貼り付けられたウエハを個々に切断・分離してチップ化を行った。粘着シートへの切り込み量は３０μｍとした。ダイシングは１０ｍｍ×１０ｍｍのチップサイズで行った。
　ダイシング装置はＤＩＳＣＯ社製　ＤＡＤ３４１を用いた。ダイシングブレードはＤＩＳＣＯ社製ＮＢＣ－ＺＨ２０５Ｏ－２７ＨＥＥＥを用いた。
ダイシングブレード形状：外径５５．５６ｍｍ、刃幅３５μｍ、内径１９．０５ｍｍ
ダイシングブレード回転数：４０，０００ｒｐｍ
ダイシングブレード送り速度：８０ｍｍ／秒
切削水温度：２５℃。
切削水量　：１．０Ｌ／分。
＜ピックアップ工程＞
　切断された個々のチップを粘着シートからピックアップした。
　ピックアップ装置はキャノンマシナリー社製　ＣＡＰ－３００IIを用いた。
ニードルピンの数：５
ニードルピンのハイト：０．３ｍｍ
エキスパンド量：５ｍｍ
＜実験結果の評価＞
　チップ保持性：半導体ウエハを前記条件にてダイシングした際に、ダイアタッチフィルム付きのチップが粘着シートに保持されている数を評価した。
◎（優）：粘着シートに保持されているチップが９５％以上。
○（良）：粘着シートに保持されているチップが９０％以上９５％未満。
×（不可）：粘着シートに保持されているチップが９０％未満。
　ピックアップ性：半導体ウエハを前記条件にてダイシングした後、ダイアタッチフィルムが付着した状態でチップをピックアップできた数を評価した。
◎（優）：９５％以上のチップがピックアップできた。
○（良）：８０％以上９５％未満のチップがピックアップできた。
×（不可）：８０％未満のチップがピックアップできた。
　上表の結果からわかるように、本発明に係るダイシング方法によれば、紫外線硬化型粘着剤の粘着力を予め低下させる一方で凝集力を向上させることができる。そのため、ダイシング後にダイアタッチフィルム付きのチップをピックアップする際、ピックアップ不良を抑制することができる。

Claims (3)

  1. 　基材フィルムに紫外線硬化型粘着剤を積層した粘着シートにダイアタッチフィルムを貼り付ける第一貼合工程と、
    　粘着シートに貼り付けられたダイアタッチフィルムの反対側の面に半導体ウエハを貼り付ける第二貼合工程と、
    　紫外線硬化型粘着剤に紫外線照射をおこなう紫外線照射工程と、
    　粘着シートに貼り付けられたダイアタッチフィルムと半導体ウエハをダイシングするダイシング工程とを含むダイアタッチフィルム付き半導体ウエハのダイシング方法。
  2. 　紫外線硬化型粘着剤が（メタ）アクリル酸エステル重合体と、ビニル基を４個以上有するウレタンアクリレートオリゴマと、紫外線重合開始剤と、シリコーングラフト重合体と、を含有する請求項１記載のダイシング方法。
  3. ダイアタッチフィルムがエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂を少なくとも有し、ダイアタッチフィルムの厚みが１０μｍ以上である請求項１記載のダイシング方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011233632A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 粘着シート及び電子部品の製造方法
JP5130405B2 (ja) * 2010-09-16 2013-01-30 積水化学工業株式会社 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法
JP2014503655A (ja) * 2010-12-20 2014-02-13 ヘンケル コーポレイション 光硬化性ダイシングダイ接合テープ
JP2020158656A (ja) * 2019-03-27 2020-10-01 リンテック株式会社 ワーク加工用粘着シート

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100963675B1 (ko) * 2008-03-14 2010-06-15 제일모직주식회사 반도체 패키징용 복합기능 테이프 및 이를 이용한 반도체소자의 제조방법
US20130288052A1 (en) * 2010-11-05 2013-10-31 3M Innovative Properties Company Silicone-modified adhesives with anti-slip properties
KR101403369B1 (ko) * 2012-03-08 2014-06-11 충남대학교산학협력단 전자선 경화형 투명 탄성수지 조성물 및 그의 제조방법
US8822382B2 (en) * 2013-05-05 2014-09-02 Nazir Mir Hydrocolloid systems for reducing loss of volatile active compounds from their liquid formulations for pre- and post harvest use on agricultural crops
CN115477916A (zh) * 2022-08-09 2022-12-16 浙江铭天电子新材料有限公司 晶圆研磨衬底用uv减粘膜

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0873822A (ja) * 1994-09-01 1996-03-19 Sekisui Chem Co Ltd 表面保護フィルム
JP2006137816A (ja) * 2004-11-11 2006-06-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材用粘着シート
JP2006225566A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状接着剤、接着シート及びそれを使用した半導体装置
JP2007302797A (ja) * 2006-05-12 2007-11-22 Nitto Denko Corp 半導体ウエハ又は半導体基板加工用粘着シート
JP2007314603A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Lintec Corp 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP2008021897A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材固定用粘着シート及びそれを用いた電子部品製造方法。

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060252234A1 (en) * 2004-07-07 2006-11-09 Lintec Corporation Hardenable pressure sensitive adhesive sheet for dicing/die-bonding and method for manufacturing semiconductor device
JP4776189B2 (ja) * 2004-08-03 2011-09-21 古河電気工業株式会社 ウエハ加工用テープ
JP4618551B2 (ja) * 2004-08-24 2011-01-26 富士電機ホールディングス株式会社 色変換フィルター基板および該色変換フィルター基板を具備した多色発光デバイス
JP4592535B2 (ja) * 2005-02-23 2010-12-01 日東電工株式会社 多層シートとその製造方法及びこの多層シートを用いた粘着シート
CN1827367A (zh) * 2005-02-23 2006-09-06 日东电工株式会社 多层片材及其制造方法和使用这种多层片材的粘合片材
JP2007019151A (ja) * 2005-07-06 2007-01-25 Furukawa Electric Co Ltd:The ウエハ加工用テープおよびそれを用いたチップの製造方法
JP4891603B2 (ja) * 2005-12-07 2012-03-07 電気化学工業株式会社 粘着シート及びそれを用いた電子部品製造方法。
KR100666919B1 (ko) * 2005-12-20 2007-01-10 삼성전자주식회사 반도체 패키지용 접착 시트, 이를 포함하는 반도체 소자,이를 포함하는 멀티 스택 패키지, 반도체 소자의 제조 방법및 멀티 스택 패키지의 제조 방법
JP5089895B2 (ja) 2006-03-15 2012-12-05 電気化学工業株式会社 多層粘着シート、多層粘着シート用の粘着シート、及び多層粘着シートを用いた電子部品の製造方法。
KR101370245B1 (ko) * 2006-05-23 2014-03-05 린텍 가부시키가이샤 점접착제 조성물, 점접착 시트 및 반도체장치의 제조방법
JP4777830B2 (ja) * 2006-06-06 2011-09-21 株式会社ディスコ ウエーハの分割方法
JP4874011B2 (ja) * 2006-06-23 2012-02-08 電気化学工業株式会社 粘着剤、粘着剤を用いた粘着シート、粘着シートを用いた多層粘着シート、及び多層粘着シートを用いた電子部品の製造方法。

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0873822A (ja) * 1994-09-01 1996-03-19 Sekisui Chem Co Ltd 表面保護フィルム
JP2006137816A (ja) * 2004-11-11 2006-06-01 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材用粘着シート
JP2006225566A (ja) * 2005-02-18 2006-08-31 Hitachi Chem Co Ltd フィルム状接着剤、接着シート及びそれを使用した半導体装置
JP2007302797A (ja) * 2006-05-12 2007-11-22 Nitto Denko Corp 半導体ウエハ又は半導体基板加工用粘着シート
JP2007314603A (ja) * 2006-05-23 2007-12-06 Lintec Corp 粘接着剤組成物、粘接着シートおよび半導体装置の製造方法
JP2008021897A (ja) * 2006-07-14 2008-01-31 Denki Kagaku Kogyo Kk 半導体部材固定用粘着シート及びそれを用いた電子部品製造方法。

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011233632A (ja) * 2010-04-26 2011-11-17 Denki Kagaku Kogyo Kk 粘着シート及び電子部品の製造方法
JP5130405B2 (ja) * 2010-09-16 2013-01-30 積水化学工業株式会社 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法
JPWO2012036209A1 (ja) * 2010-09-16 2014-02-03 積水化学工業株式会社 粘着剤組成物、粘着テープ、及び、ウエハの処理方法
EP2617793A4 (en) * 2010-09-16 2017-05-17 Sekisui Chemical Co., Ltd. Pressure-sensitive adhesive compound, pressure-sensitive adhesive tape, and wafer treatment method
JP2014503655A (ja) * 2010-12-20 2014-02-13 ヘンケル コーポレイション 光硬化性ダイシングダイ接合テープ
JP2020158656A (ja) * 2019-03-27 2020-10-01 リンテック株式会社 ワーク加工用粘着シート
JP7401975B2 (ja) 2019-03-27 2023-12-20 リンテック株式会社 ワーク加工用粘着シート

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