JP4592535B2 - 多層シートとその製造方法及びこの多層シートを用いた粘着シート - Google Patents

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Description

本発明は、多層シートと粘着シート及び多層シートの製造方法、並びにこの粘着シートを用いて製品を加工する方法に関し、特に、半導体ウエハ等の半導体製品や光学系製品等を精密加工する工程において、製品を保持したり、保護するために使用される粘着シート及びその基材として使用される多層シートとその製造方法、並びに粘着シートを用いて製品を加工する方法に関する。
光学産業や半導体産業等において、レンズ等の光学部品や半導体ウエハ等の半導体製品を精密加工する際にウエハ等の表面保護や破損防止のために粘着シートが使用される。
例えば半導体チップの製造工程においては、高純度シリコン単結晶等をスライスしてウエハとした後、ウエハ表面にIC等の所定の回路パターンをエッチング形成して集積回路を組み込み、次いでウエハ裏面を研削機により研削して、ウエハの厚さを100〜600μm程度まで薄くし、場合によっては100μm以下の厚みまで研磨した後、最後にダイシングしてチップ化することにより製造されている。半導体ウエハ自体が肉薄で脆く、また回路パターンには凹凸があるので、研削工程やダイシング工程への搬送時に外力が加わると破損しやすい。また、研磨加工工程においては、生じた研削くずを除去したり、研磨時に発生した熱を除去するために精製水によりウエハ裏面を洗浄しながら研磨処理を行っているが、この研削くずや研削水等によって汚染されることを防ぐ必要がある。そのために、回路パターン面等を保護し、半導体ウエハの破損を防止するために、回路パターン面に粘着シートを貼着して作業することが行われている。また、ダイシング時には、ウエハ裏面側に粘着シート類を貼り付けて、ウエハを接着固定した状態でダイシングし、形成されるチップをフィルム基材側よりニードルで突き上げてピックアップし、ダイパッド上に固定させている。
ここで用いられる粘着シートとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等の基材シートに粘着剤層を有する粘着シートが知られている。特開昭61−10242号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材シートの表面に粘着層を設けたシリコンウエハ加工用フィルムが開示されている。また、特開平9−253964号公報には、ウレタンアクリラート系オリゴマーと反応性希釈モノマーとを含む配合物を放射線硬化させてなる基材に、粘着層を設けた粘着テープが開示されている。特開昭61−260629号公報には、ショアーD型硬度が40以下である基材フィルムの一方の表面に、ショアーD型硬度が40よりも大きい補助フィルムが積層されており、基材フィルムの他方の表面に粘着剤層が設けられているシリコンウエハ加工用フィルムが開示されている。特開2002−69396号公報には、最外層として貯蔵弾性率(E’)が1×10〜1×10Paであり、厚みが10〜150μmである低弾性率フィルムと、内層として貯蔵弾性率(E’)が2×10〜1×1010Paであり、厚みが10〜150μmである高弾性率フィルムとを有する、少なくとも3層の基材フィルムから形成された半導体ウエハ保護用粘着フィルムが開示されている。特開2000−38556号公報には、融点が105℃以下のホットメルト層を有する半導体ウエハ保護用シートが開示されている。特開2000−150432号公報には、引張試験における10%伸張時の応力緩和率が1分で40%以上である粘着シートが開示されている。
しかし、近年、回路パターン面の凹凸の高低差が大きくなっており、また、チップの小型化に伴い、半導体ウエハには厚みが100μm以下の薄型化が要求されるようになった。例えばPETのように剛性のある基材を用いた粘着シートでは、薄膜研削した後のウエハの反りに関しては抑制されるが、ウエハ表面の回路パターン面の凹凸に追従できず、粘着剤層とパターン面との間の接着が不十分となり、ウエハ加工時にシートの剥離が生じたり、パターン面へ研削水や異物が入り込んだりした。また、EVAのような軟質基材を用いた粘着シートでは、パターン面への追従性は問題ないが、基材の剛性が不足しているので、ウエハ研削後に反りが発生したり、ウエハの自重による撓みが生じた。そこで、剛性のある基材PETと軟質な基材EVAとを貼り合わせた基材が想定されるが、接着剤を介して機械的に貼着した場合には、貼り合わせの際に与えられる応力がフィルム内に残留し、基材がカールしてしまう。また、Tダイ法やカレンダー法等によって積層体を形成する場合には、厚手のフィルムを得ることが困難であり、製膜する際の熱収縮によってフィルム内に残留応力が発生してしまう。このように残留応力が発生した基材を用いた粘着シートでは、ウエハ研削時にウエハが破損したり、研削後にウエハに反りが生じたりするという問題があった。また、溶液塗布法により積層体を形成した場合には、溶剤の使用が環境問題を発生することもあり、さらにまた、厚手のフィルムを得るためには重ね塗りが必要であった。
特開2004−107644号公報、および、特開2004−122758号公報には、ウレタンポリマーとビニル系ポリマーとを有効成分として含有する複合フィルムを中間層として有する粘着シートが開示されており、これらの問題点に対して効果があることが示されている。
ところで、ウエハは個々のチップに切断されるダイシング工程を経た後、ワイヤーボンディング、樹脂による封止等が施される。このような工程で用いられる粘着シートは、粘着剤層を構成する粘着剤に起因する有機物やパーティクル等によってウエハ等の被着体が汚染されないことが必要であるが、上記粘着シートは汚染物による問題を含むものであった。
ウエハ表面の汚染物は、ワイヤーボンディングのシェア強度へ影響を与えることが知られている。すなわち半導体チップを製造する際に行われるワイヤーボンディングにおいては、ボールとパッド間の接着強度が高いことが要求されるが、ウエハ上のアルミ表面に付着した有機物やパーティクルは、金ワイヤーのアルミ表面への接着を阻害する要因となり、アルミ表面に多量の汚染物質が付着すると、汚染物質がボイドの起点となり封止樹脂が剥がれたり、封止樹脂にクラックが入ったり、ワイヤーボンディングシェア強度が低下するという問題が発生する。
従来から粘着剤としては溶剤型のアクリル系粘着剤が用いられてきたが、溶剤型アクリル系粘着剤は有機溶媒中で合成されるため、塗工時の溶剤の揮発が環境的に問題があり、水分散型のアクリル系粘着剤への転換が図られている。しかしながら水分散型アクリル系粘着剤は、溶剤型のアクリル系粘着剤に比べ、乳化剤を使用するため低汚染性を達成することは困難であった。
特に近年、半導体集積回路の高密度化及び高性能化等に伴い、半導体ウエハ及びそれから得られる半導体チップの回路面に対する汚染の管理が厳しくなってきている。そのため、ウエハ加工用粘着シートには従来に増してより低汚染性が求められるようになっている。
特開昭61−10242号公報 特開平9−253964号公報 特開昭61−260629号公報 特開2002−69396号公報 特開2000−38556号公報 特開2000−150432号公報 特開2004−107644号公報 特開2004−122758号公報
本発明は上記問題点を解決すべくなされたものであり、本発明は、例えば、研磨後の半導体ウエハが薄肉であっても、研削工程中にウエハが破損することなく、また、半導体ウエハの撓みが小さく、さらには粘着シートの残留応力によるウエハの反りが小さく、しかも低汚染性を達成できる半導体ウエハ等の製品を加工する工程において使用される粘着シート及びこの粘着シートの基材として用いられる多層シートとその製造方法を提供することを目的とする。
本発明の多層シートは、ウレタンポリマーとビニル系ポリマーとを有効成分として含有する複合フィルムと、該複合フィルムとは異なる材料からなる第一フィルムとを有する多層シートであって、前記ウレタンポリマーがポリオレフィン系ジオールとポリイソシアネートとを用いて形成されることを特徴とする。
ここで、前記ポリオレフィン系ジオールは、水素添加型ポリブタジエンジオールであることが好ましい。
また、前記ビニル系ポリマーはアクリル系ポリマーであることができる。
このアクリル系ポリマーは窒素含有モノマーを共重合させることにより得られることが好ましい。
また、前記ビニル系ポリマーは、2官能のウレタンアクリレートを含むことが好ましい。
また、前記2官能のウレタンアクリレートがビニル系モノマー100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下含まれることが好ましい。
また、前記複合フィルムは、ラジカル重合性モノマー中で、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させてウレタンポリマーを形成し、該ウレタンポリマーと該ラジカル重合性モノマーとを含む混合物を、第一フィルム上に塗布し、放射線を照射して硬化させて、形成されることができる。
また、前記ラジカル重合性モノマーはアクリル系モノマーであることができる。
本発明の多層シートは、前記複合フィルムの一方の面上に該複合フィルムとは異なる材料からなる第一フィルムを有し、該複合フィルムの他方の面上に第一フィルムを有するか、あるいは、第一フィルムとは異なる材料からなる第二フィルムを有する積層体とすることができる。
本発明においては、上記多層シートの少なくとも一方の面に粘着剤層をさらに有して、粘着シートを形成することができる。
本発明の製品の加工方法は、上記粘着シートを、精密加工等される製品に貼着し、保持及び/又は保護した状態で、精密加工することを特徴とする。
本発明の多層シートの製造方法は、ウレタンポリマーとラジカル重合性モノマーとを含む混合物を、第一フィルムの上に塗布し、放射線を照射して硬化させることにより複合フィルムを形成し、複合フィルムと第一フィルムとを有する積層体を形成することを特徴とする。
ここで、前記混合物を第一フィルムの上に塗布した後、その上に、さらに第一フィルム又は第二フィルムを重ね、この上から放射線を照射して硬化させることにより複合フィルムを形成し、第一フィルムと複合フィルムと第一フィルム又は第二フィルムとを有する積層体を形成することができる。
また、前記混合物は、ラジカル重合性モノマー中で、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させてウレタンポリマーを形成することにより製造されることを特徴とする。
また、前記ラジカル重合性モノマーはアクリル系モノマーであることができる。
本発明によれば、半導体製品や光学系製品等の製品を加工する際に、製品の破損等を防ぎ、製品に大きな反りを生じさせず、かつ、低汚染性を達成できる粘着シート及びこの粘着シートに好適な多層シートを提供することができる。例えば、半導体ウエハに本発明の粘着シートを貼着し、半導体ウエハを薄膜研磨しても破損することがない。また、粘着シートの残留応力によるウエハの反りを小さくすることができるので、一般的に使用されている専用収納ケースに収納することもできる。さらに、本発明によれば、MEK等の溶剤を使用することなく良好な積層体を形成することができるので、環境問題を発生することがない。
発明を実施するための形態
本発明の多層シートは、ウレタンポリマーとビニル系ポリマーとを有効成分として含有する複合フィルムと、この複合フィルムとは異なる材料からなる第一フィルムとを有する積層体である。なお、本発明において「フィルム」という場合には、シートを含み、「シート」という場合には、フィルムを含む概念とする。
粘着シートをウエハ加工に使用する場合のウエハ表面への汚染源は、ウエハ表面に直接接触する粘着剤層に含まれる低分子量成分に起因することが知られているが、中間層としてウレタンポリマーを含有する複合フィルムを有する粘着シートでは、さらに複合フィルムに含まれているウレタンポリマーも汚染源の要因となっていることが分かった。すなわち、複合フィルムに含まれているウレタンポリマーが粘着剤層を通り抜けてウエハ表面に到達し、汚染量を増加させていると考えられる。そのため本発明においては、ウレタンポリマーをポリオレフィン系ジオール及びポリイソシアネートで構成している。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図1の(a)は、本発明の第1の実施形態に係る多層シートの層構成を示す断面図である。図1の(a)に示す多層シートは、複合フィルム2の上に第一フィルム1が積層されている。
複合フィルムに積層される第一フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、高密度ポリエチレン、2軸延伸ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリイミド(PI)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の熱可塑性樹脂のほか、熱硬化性樹脂等が使用される。中でもPETは、精密部品の加工に使用する場合には適度な固さを有しているので好適であり、さらにまた、品種の豊富さやコスト面からも有利であるので、好ましく使用される。フィルムの材料は、用途や必要に応じて設けられる粘着剤層の種類等に応じて、適宜決定することが好ましく、例えば紫外線硬化型粘着剤を設ける場合には、紫外線透過率の高い基材が好ましい。
第一フィルムには、必要に応じて、通常使用される添加剤等を本発明の効果を阻害しない範囲内で使用することができる。例えば添加剤として、老化防止剤、充填剤、顔料、着色剤、難燃剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等が挙げられる。
本発明においては、第一フィルムの表面に、必要に応じて、マット処理、コロナ放電処理、プライマー処理、架橋処理(シラン等の化学架橋処理)等の慣用の物理的処理又は化学的処理を施すことができる。
本発明においては、複合フィルムの他方の面に、さらにフィルムを積層することができる。かかる実施形態を図1の(b)に示す。図1の(b)は、本発明の第2の実施形態に係る多層シートの層構成を示す断面図である。図1の(b)に示す多層シートは、複合フィルム2の上に第一フィルム1が積層されており、複合フィルム2の他方の面にも第二フィルム3が積層されている。
複合フィルムの他方の面に積層される第二フィルム3は上記第一フィルムとは異なる材料からなるフィルムであるが、本発明においては、図1の(b)に示す第二フィルムの替わりに第一フィルムが積層されていてもよい。異なる材料の第二フィルムとしては、第一フィルムとして列挙された材料と同様の材料を使用することができ、上記材料の中から適宜選択することができる。
本発明において複合フィルム2は、ウレタンポリマーとビニル系ポリマーとを含むことができる。ウレタンポリマーの組成、ビニル系ポリマーの種類や組成、ウレタンポリマーとビニル系ポリマーとの配合比等を適宜選択することによって、また、さらに架橋剤等を適宜組合せることによって、様々な特性を有する複合フィルムを得ることができる。
本発明において複合フィルムは、例えば、ウレタンポリマーの存在下で、ビニル系モノマーを溶液重合やエマルジョン重合することによって得ることができる。複合フィルムを構成するビニル系ポリマーは、アクリル系ポリマーであることが好ましく、この場合には、アクリル系モノマーを溶液重合等することによってウレタン−アクリル複合材料を形成することができる。
本発明において複合フィルムは、ラジカル重合性モノマーを希釈剤として、このラジカル重合性モノマー中でウレタンポリマーを形成し、ラジカル重合性モノマーとウレタンポリマーとを主成分として含む混合物を第一フィルム上に塗布し、放射線を照射して硬化させることにより、形成してもよい。また、この混合物を第一フィルム上に塗布した後、さらにこの上に第一フィルムまたは第二フィルムを重ね、第一フィルムまたは第二フィルムの上から放射線を照射して硬化させて形成することもできる。ここで、ラジカル重合性モノマーとしては、ラジカル重合可能な不飽和二重結合を有するものが使用され、ビニル系モノマー等が使用されるが、反応性の点からは、アクリル系モノマーが好ましい。
具体的には、
(a)ポリオールとジイソシアネートとを反応させ、この反応生成物をアクリル系モノマーに溶解させて粘度調整を行い、これを第一フィルムに塗工した後、低圧水銀ランプ等を用いて硬化させることにより、ウレタン−アクリル複合材料を得ることができる。
(b)ポリオールをアクリル系モノマーに溶解させた後、ジイソシアネートを反応させて粘度調整を行い、これを第一フィルムに塗工した後、低圧水銀ランプ等を用いて硬化させることにより、ウレタン−アクリル複合材料を得ることもできる。この方法では、アクリル系モノマーをウレタン合成中に一度に添加してもよいし、何回かに分割して添加してもよい。また、ジイソシアネートをアクリル系モノマーに溶解させた後、ポリオールを反応させてもよい。
ここで、(a)の方法によれば、ポリオールとジイソシアネートとの反応により生成するポリウレタンの分子量が高くなると、アクリル系モノマーに溶解させることが困難になるので、ポリウレタンの分子量が必然的に限定されてしまう、という欠点がある。一方、(b)の方法によれば、分子量が限定されるということはなく、高分子量のポリウレタンを生成することもできるので、最終的に得られるウレタンの分子量を任意の大きさに設計することができる。
また、(c)予め、別途調整したウレタンポリマーをアクリル系モノマー中に溶解し、これを第一フィルムに塗工した後、低圧水銀ランプ等を用いて硬化させることにより、ウレタン−アクリル複合材料を得ることもできる。
本発明に好ましく用いられるアクリル系モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸イソボルニル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル等を挙げることができる。これらは単独で、あるいは、2種以上を併用することができる。また、これらのエステルと共に、マレイン酸、イタコン酸等のカルボキシル基を有するモノマーや、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基を有するモノマーを用いることができる。
また、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン酸のモノまたはジエステル、及びその誘導体、N−メチロールアクリルアミド、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、アクリロイルモルホリン、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、イミドアクリレート、N−ビニルピロリドン、オリゴエステルアクリレート、ε−カプロラクトンアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、メトキシ化シクロドデカトリエンアクリレート、メトキシエチルアクリレート等のモノマーを共重合してもよい。なお、これら共重合されるモノマーの種類や使用量は、複合フィルムの特性等を考慮して適宜決定される。
本発明に用いられるアクリル系ポリマーとしては、窒素含有モノマーを共重合させたものが好ましい。アクリル系ポリマーに窒素含有モノマーを共重合により導入すると、粘着剤層との投錨性を向上させることができる。用いられる窒素含有モノマーとしては、N,N−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジブチル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、(メタ)アクリロイルピロリドン、(メタ)アクリロイルピペリジン、(メタ)アクリロイルピロリジン等を挙げることができる。
本発明に係るビニル系モノマーは、2官能のウレタンアクリレートを含むことが好ましい。2官能のウレタンアクリレートは後述するウレタンポリマーの形成に用いられる2官能のポリオールと後述するウレタンポリマーの形成に用いられるジイソシアネートとを反応させて得られる末端イソシアネートプレポリマーに、イソシアネートと反応する基を有するアクリレート、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等を反応させて得られる。また、後述する2官能のポリオールと後述するジイソシアネートとを反応させて得られる末端水酸基プレポリマーに、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート等を反応させて得ることもできる。更に、2官能のエステル系ウレタンアクリレートとして、「UV−3200B」(日本合成化学(株)製)、エーテル系ウレタンアクリレート「UV−3700B」(日本合成化学(株)製)、カーボネート系ウレタンアクリレート「UV−3310B」(日本合成化学(株)製)等各種市販品を用いることもできる。
また、特性を損なわない範囲内で他の多官能モノマーを添加することもできる。多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等を挙げることができる。
2官能のウレタンアクリレートは、ウレタンアクリレート以外のビニル系モノマー100重量部に対して、1重量部以上、50重量部以下、好ましくは2重量部以上、25重量部以下含まれる。2官能ウレタンアクリレートの含有量が1重量部以上であれば、粘着剤層と中間層との間の投錨力を向上させることができ、かつ、同時に、中間層の凝集力が十分であり、切断くずが増えることもない。また、50重量部以下であれば、中間層の弾性率が適度な範囲であり、ウエハのパターン表面の凹凸に対して十分追従することができる。
本発明における複合フィルムを構成するビニル系ポリマーとして2官能のウレタンアクリレートを含むものを用いることにより、粘着剤層と複合フィルムとの間の投錨性を向上させることができる。
本発明における複合フィルムの形成においては、必要に応じて、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどの多官能モノマーを架橋剤として用いてもよい。
これらのラジカル重合性モノマーは、ウレタンとの相溶性、放射線等の光硬化時の重合性や、得られる高分子量体の特性を考慮して、種類、組合せ、使用量等が適宜決定される。
ウレタンポリマーは、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させて得られる。イソシアネートとポリオールの水酸基との反応には、触媒を用いても良い。例えば、ジブチルすずジラウレート、オクトエ酸すず、1,4−ジアザビシクロ(2,2,2)オクタン等の、ウレタン反応において一般的に使用される触媒を用いることができる。本発明においては、高分子量のウレタンポリマーを生成しやすいスズ系の触媒が好ましく用いられる。
ウレタンポリマーを構成するポリオール成分としては、ポリオレフィン系ジオールを用いる。
ポリオレフィン系ジオールとしては、1,2−ポリブタジエン及びその水添物、1,4−ポリブタジエン及びその水添物、ポリイソプレン及びその水添物、ポリイソブチレンなどの主骨格を有し、その両末端に水酸基を有するものを用いることができる。本発明においては、特に水添1,2−ポリブタジエンが好適に用いられる。これらのポリオレフィン系ジオールは、一般に共役ジエンモノマー(ブタジエンやイソプレンなど)を過酸化水素等の水酸基含有ラジカル重合開始剤を用いてラジカル重合させることにより、直接末端に水酸基を有する共役ジエン系重合体とし、得られた水酸基含有共役ジエン系重合体を常法により水素添加することにより製造される。またアニオンリビング重合により製造することもできる。
ポリオレフィン系ジオールの数平均分子量は、300〜10,000であることが好ましく、更に好ましくは500〜5,000である。ポリオレフィン系ジオールの数平均分子量が300未満では、ウレタンポリマーが剛直になり、被着体の凹凸(例えばウエハパターン面)を吸収できない場合がある。また、数平均分子量が10,000を超えるとポリオール自体の粘度が高く作業性に劣る場合がある。
このようなポリオレフィン系ジオールは、市販品として、液状ポリブタジエンである「NISSO−PB GIシリーズ」(日本曹達株式会社製)、「Poly bd」(出光興産株式会社製)、液状ポリイソプレンである「Poly ip」、「エポール」(出光興産株式会社製)などを挙げることができる。
本発明においては、更に、他のポリオールを併用することもできる。併用可能な他のポリオールとしては、1分子中に2個またはそれ以上の水酸基を有するものが望ましい。低分子量のポリオールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサメチレングリコール等の2価のアルコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の3価のアルコール、またはペンタエリスリトール等の4価のアルコール等が挙げられる。
また、高分子量のポリオールとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン等を付加重合して得られるポリエーテルポリオール、あるいは上述の2価のアルコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルコールとアジピン酸、アゼライン酸、セバチン酸等の2価の塩基酸との重縮合物からなるポリエステルポリオールや、アクリルポリオール、カーボネートポリオール、エポキシポリオール、カプロラクトンポリオール等が挙げられる。これらの中では、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオールが好ましい。アクリルポリオールとしてはヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基を有するモノマーの共重合体の他、水酸基含有物とアクリル系モノマーとの共重合体等が挙げられる。エポキシポリオールとしてはアミン変性エポキシ樹脂等がある。
本発明においては、上記ポリオレフィン系ジオールを単独あるいは併用して使用することができ、更に、併用可能な上記他のポリオールを1又は2種類以上使用することができる。強度を必要とする場合には、トリオールによる架橋構造を導入したり、低分子量ジオールによるウレタンハードセグメント量を増加させると効果的である。伸びを重視する場合には、分子量の大きなジオールを単独で使用することが好ましい。また、ポリエーテルポリオールは、一般的に、安価で耐水性が良好であり、ポリエステルポリオールは、強度が高い。本発明においては、用途や目的に応じて、ポリオールの種類や量を自由に選択することができ、また、塗布するフィルムの特性、イソシアネートとの反応性、アクリルとの相溶性などの観点からもポリオールの種類、分子量や使用量を適宜選択することができる。
ポリイソシアネートとしては芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネート、これらのジイソシアネートの二量体、三量体等が挙げられる。芳香族、脂肪族、脂環族のジイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、1,3−フェニレンジイソシアネート、1,4−フェニレンジイソシアネート、ブタン−1,4−ジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4−ジイソシアネート、1,3−ビス(イソシアネートメチル)シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、m−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等が挙げられる。また、これらの二量体、三量体や、ポリフェニルメタンポリイソシアネートが用いられる。三量体としては、イソシアヌレート型、ビューレット型、アロファネート型等が挙げられ、適宜、使用することができる。
これらのポリイソシアネート類は単独あるいは併用で使用することができる。ウレタン反応性、アクリルとの相溶性などの観点から、ポリイソシアネートの種類、組合せ等を適宜選択すればよい。
本発明において、ウレタンポリマーを形成するためのポリオール成分とポリイソシアネート成分の使用量は特に限定されるものではないが、例えば、ポリオール成分の使用量は、ポリイソシアネート成分に対し、NCO/OH(当量比)が0.8以上であることが好ましく、0.8以上、3.0以下であることがさらに好ましく、1.0以上、3.0以下であることが特に好ましい。NCO/OHが0.8未満では、ウレタンポリマーの分子鎖長を充分に延ばすことができず、ウレタンの凝集性が低下しやすく、フィルム強度や、伸びが低下しやすい。また、NCO/OHが3.0以下であれば、柔軟性を十分確保することができる。
複合フィルムには、必要に応じて、通常使用される添加剤、例えば紫外線吸収剤、老化防止剤、充填剤、顔料、着色剤、難燃剤、帯電防止剤などを本発明の効果を阻害しない範囲内で添加することができる。これらの添加剤は、その種類に応じて通常の量で用いられる。これらの添加剤は、ポリイソシアネートとポリオールとの重合反応前に、あらかじめ加えておいてもよいし、ウレタンポリマーと反応性モノマーとを重合させる前に、添加してもよい。
また、塗工の粘度調整のため、少量の溶剤を加えてもよい。溶剤としては、通常使用される溶剤の中から適宜選択することができるが、例えば、酢酸エチル、トルエン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。
本発明においては、上述したように、例えば、ラジカル重合性モノマー中でポリオールとイソシアネートの反応を行い、ウレタンポリマーとラジカル重合性モノマーとの混合物を第一フィルム上に塗布し、光重合開始剤の種類等に応じて、α線、β線、γ線、中性子線、電子線等の電離性放射線や紫外線等の放射線、可視光等を照射することにより、光硬化して複合フィルムを形成することができる。
この際、酸素による重合阻害を避けるために、第一フィルム上に塗布したウレタンポリマーとラジカル重合性モノマーとの混合物の上に、剥離処理したシートをのせて酸素を遮断してもよいし、不活性ガスを充填した容器内に基材を入れて、酸素濃度を下げてもよい。あるいは、上記混合物を塗布した上に第二フィルムを載せて、放射線等を照射して複合フィルムを形成してもよい。
本発明において、放射線等の種類や照射に使用されるランプの種類等は適宜選択することができ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト、殺菌ランプ等の低圧ランプや、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ等の高圧ランプ等を用いることができる。
紫外線などの照射量は、要求されるフィルムの特性に応じて、任意に設定することができる。一般的には、紫外線の照射量は、100〜5,000mJ/cm、好ましくは1,000〜4,000mJ/cm、更に好ましくは2,000〜3,000mJ/cmである。紫外線の照射量が100mJ/cmより少ないと、十分な重合率が得られないことがあり、5,000mJ/cmより多いと、劣化の原因となることがある。
また、紫外線照射する際の温度については特に限定があるわけではなく任意に設定することができるが、温度が高すぎると重合熱による停止反応が起こり易くなり、特性低下の原因となりやすいので、通常は70℃以下であり、好ましくは50℃以下であり、更に好ましくは30℃以下である。
ウレタンポリマーとラジカル重合性モノマーとを主成分とする混合物には、光重合開始剤が含まれる。光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインエーテル、アニソールメチルエーテル等の置換ベンゾインエーテル、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン等の置換アセトフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン等の置換アルファーケトール、2−ナフタレンスルフォニルクロライド等の芳香族スルフォニルクロライド、1−フェニル−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)−オキシム等の光活性オキシムが好ましく用いられる。
本発明においては、分子内に水酸基を有する光重合開始剤を用いることが特に望ましい。ポリオールとポリイソシアネートを反応させてウレタンポリマーを形成する際に、分子内に水酸基を有する光重合開始剤を共存させることで、ウレタンポリマー中に光重合開始剤を採り込ませることができる。これにより、放射線を照射して硬化させるときにウレタン−アクリルのブロックポリマーを生成することができる。この効果によって伸びと強度を向上させることができるものと推定される。
本発明の多層シートにおける複合フィルムとその他のフィルムの厚みは、目的等に応じて、適宜選択することができる。特に精密部品の加工用に用いる場合、複合フィルムは10〜300μmであることが好ましく、30〜300μmであることがより好ましく、さらに好ましくは50〜250μm程度であり、特に50〜200μmであることが好ましい。その他のフィルムの場合には10〜300μmであることが好ましく、さらに好ましくは30〜200μm程度である。
本発明の多層シートは、その一方の面上に粘着剤層を形成して粘着シートとすることができる。本発明の粘着シートの実施形態について図2を用いて具体的に説明する。ここでは、図1の(a)に示す本発明の多層シートに粘着剤層を形成した場合について説明する。図2の(a)は、本発明の第1の実施形態にかかる粘着シートの層構成を示す断面図である。図2の(a)に示す粘着シートは、複合フィルム2と第一フィルム1とを積層した多層シートの複合フィルム2側に粘着剤層4が形成されている。また、図2の(b)に示す粘着シートは、第一フィルム1の側に粘着剤層4が形成されている。このように、本発明においては、多層シートのいずれの側にも粘着剤層を形成して、粘着シートを作製することができる。
粘着剤層は、半導体ウエハ等の製品を加工する際には適度な粘着力を有して製品を確実に保持することができ、加工後には製品等に負荷をかけずに容易に剥離することができるような粘着力が必要である。このため、加工後に剥離する時の180度ピール粘着力は0.01N/20mm〜1N/20mmの範囲である粘着剤層であることが好ましい。
かかる粘着剤層を構成する粘着剤組成としては特に限定されず、半導体ウエハ等の接着固定に使用される公知の粘着剤等を使用することができ、例えば、天然ゴムやスチレン系共重合体等のゴム系ポリマーをベースポリマーとするゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、アクリル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用することができる。これらの中では、半導体ウエハへの接着性、剥離後の半導体ウエハの超純水やアルコール等の有機溶剤による清浄洗浄性等の観点からは、アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸アルキルエステル(例えば、メチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル、イソブチルエステル、s−ブチルエステル、t−ブチルエステル、ペンチルエステル、イソペンチルエステル、ヘキシルエステル、へプチルエステル、オクチルエステル、2−エチルヘキシルエステル、イソオクチルエステル、ノニルエステル、デシルエステル、イソデシルエステル、ウンデシルエステル、ドデシルエステル、トリデシルエステル、テトラデシルエステル、ヘキサデシルエステル、オクタデシルエステル、エイコシルエステル等のアルキル基の炭素数1〜30、特に炭素数4〜18の直鎖状又は分岐状のアルキルエステル等)及び(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル(例えば、シクロペンチルエステル、シクロヘキシルエステル等)の1種又は2種以上を単量体成分とし、これらを重合して得られたアクリル系ポリマー等が挙げられる。なお、(メタ)アクリル酸エステルとはアクリル酸エステル及び/またはメタクリル酸エステルをいい、本発明において(メタ)の如く表示した場合には、全て同様の意味である。
アクリル系ポリマーは、凝集力、耐熱性等の改質を目的として、(メタ)アクリル酸アルキルエステル又はシクロアルキルエステルと共重合可能な他のモノマー成分に対応する単位を含むことができる。このようなモノマー成分として、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等のカルボキシル基含有モノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物モノマー;(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸6−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸8−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸10−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸12−ヒドロキシラウリル、(4−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基含有モノマー;スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、(メタ)アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等のスルホン酸基含有モノマー;2−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェ−ト等のリン酸基含有モノマー;アクリルアミド、アクリロニトリル等が挙げられる。これら共重合可能なモノマー成分は、1種又は2種以上を使用することができる。これら共重合可能なモノマーの使用量は、全モノマー成分の40重量%以下であることが好ましい。
さらに、アクリル系ポリマーには、架橋させるために、多官能性モノマー等を含むことができる。このような多官能性モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの多官能性モノマーも1種又は2種以上を使用することができる。多官能性モノマーの使用量は、粘着特性等の点から、全モノマー成分の30重量%以下であることが好ましい。
アクリル系ポリマーを形成するための重合方法としては、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等の何れの方法でもよい。粘着剤層は半導体ウエハ等の製品の貼着面を汚さないように、低分子量物質の含有量が小さいものが好ましい。この点から、アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは30万以上、さらに好ましくは40万〜300万程度である。
また、アクリル系ポリマー等の重量平均分子量を高めるために、ポリイソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、メラミン系架橋剤等を添加してもよい。その使用量は、架橋すべきベースポリマーとのバランスにより、さらには、粘着剤としての使用用途によって適宜決定される。一般的には、ベースポリマー100重量部に対して、1〜5重量部程度配合することが好ましい。さらに、粘着剤には、必要により、上記成分の他に、従来公知の各種の粘着付与剤、老化防止剤等の添加剤を用いてもよい。
本発明においては、粘着剤として放射線硬化型の粘着剤を用いることが好ましい。放射線硬化型の粘着剤は、例えば、粘着性物質に、放射線等を照射することによって硬化して低接着性物質を形成するオリゴマー成分を配合することにより得られる。放射線硬化型の粘着剤を用いて粘着剤層を形成すれば、シートの貼り付け時には、オリゴマー成分により粘着剤に塑性流動性が付与されるため容易に貼付することができ、シート剥離時には、放射線を照射すれば低接着性物質が形成されるため、半導体ウエハ等の製品から容易に剥離することができる。
放射線硬化型粘着剤としては、分子内に炭素−炭素二重結合等の放射線硬化性の官能基を有し、かつ粘着性を示すものを使用することができる。例えば、一般的な粘着剤に放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合した添加型の放射線硬化型粘着剤や、ベースポリマーが、炭素−炭素二重結合をポリマー側鎖または主鎖中もしくは主鎖末端に有する内在型の放射線硬化型粘着剤等を使用することができる。なお、粘着剤層を硬化させるために使用される放射線としては、例えば、X線、電子線、紫外線等が挙げられ、取り扱いの容易さから紫外線を使用することが好ましいが、特にこれらに限定されるものではない。
添加型の放射線硬化型粘着剤を構成する一般的な粘着剤としては、上述のアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤等の感圧性粘着剤を使用することができる。
放射線硬化性の官能基を有するモノマーとしては、例えば、ウレタンオリゴマー、ウレタン(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また放射線硬化性のオリゴマー成分としては、ウレタン系、ポリエーテル系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリブタジエン系等の種々のオリゴマーが挙げられ、その分子量が100〜30,000程度の範囲のものが適当である。放射線硬化性の官能基を有するモノマー成分やオリゴマー成分の配合量は、粘着剤を構成するアクリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部に対して、例えば、5〜500重量部であることが好ましく、さらに好ましくは40〜150重量部程度である。
内在型の放射線硬化型粘着剤は、低重合成分であるオリゴマー成分等を含有する必要がなく、または多くは含まないため、経時的にオリゴマー成分等が粘着剤中を移動する事態は生じず、安定した層構造の粘着剤層を形成することができる。
内在型の放射線硬化型粘着剤においてはベースポリマーとして、炭素−炭素二重結合を有し、かつ粘着性を有するものを特に制限されることなく使用することができる。このようなベースポリマーは、その基本骨格がアクリル系ポリマーであることが好ましい。ここで用いられるアクリル系ポリマーとしては、アクリル系粘着剤の説明において既に例示したアクリル系ポリマーと同一のものが挙げられる。
基本骨格としてのアクリル系ポリマーへ、炭素−炭素二重結合を導入する方法としては、特に制限されず様々な方法を採用することができる。本発明においては、分子設計が容易になるので、炭素−炭素二重結合をアクリル系ポリマーの側鎖に導入して炭素−炭素二重結合を有するベースポリマーを形成することが好ましい。具体的には、例えば、予め、アクリル系ポリマーに官能基を有するモノマーを共重合した後、この官能基と反応しうる官能基と炭素−炭素二重結合とを有する化合物を、炭素−炭素二重結合の放射線硬化性を維持したまま縮合または付加反応させて、アクリル系ポリマーの側鎖に、炭素−炭素二重結合を導入することができる。
アクリル系ポリマーに共重合されるモノマーの官能基と、この官能基と反応しうる官能基との組合せ例を以下に示す。例えば、カルボン酸基とエポキシ基、カルボン酸基とアジリジル基、ヒドロキシル基とイソシアネート基等が挙げられる。これら官能基の組合せの中でもヒドロキシル基とイソシアネート基との組合せが、反応追跡の容易さから好適である。また、これら官能基の組合せにおいて、いずれの官能基が基本骨格のアクリル系ポリマーの側にあってもよいが、例えばヒドロキシル基とイソシアネート基の組合せでは、アクリル系ポリマーがヒドロキシル基を有し、官能基と反応しうる官能基を含む化合物がイソシアネート基を有することが好ましい。この場合、イソシアネート基を有する前記化合物としては、例えば、メタクリロイルイソシアネート、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、m−イソプロペニル−α、α−ジメチルベンジルイソシアネート等が挙げられる。また、官能基(ここでは、ヒドロキシル基)を有するアクリル系ポリマーとしては、既にアクリル系粘着剤の説明において例示したヒドロキシル基含有モノマーや、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル系化合物、4−ヒドロキシブチルビニルエーテル系化合物、ジエチレングリコールモノビニルエーテル系化合物等をアクリル系ポリマーに共重合したものが挙げられる。
内在型の放射線硬化型粘着剤は、炭素−炭素二重結合を有するベースポリマーを単独で使用することができるが、特性を悪化させない範囲内で、上述した放射線硬化性のモノマー成分やオリゴマー成分を配合してもよい。放射線硬化性のオリゴマー成分等の配合量は、通常、ベースポリマー100重量部に対して30重量部以下であり、好ましくは0〜10重量部の範囲である。
前記放射線硬化型粘着剤には、紫外線等によって硬化させる場合には光重合開始剤を含有させる。光重合開始剤としては、例えば、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、α−ヒドロキシ−α,α’−ジメチルアセトフェノン、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα−ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物;2−ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物;1−フェノン−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム等の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2−クロロチオキサンソン、2−メチルチオキサンソン、2,4−ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4−ジクロロチオキサンソン、2,4−ジエチルチオキサンソン、2,4−ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;カンファーキノン、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド、アシルホスフォナート等が挙げられる。
光重合開始剤の配合量は、粘着剤を構成するアクリル系ポリマー等のベースポリマー100重量部に対して、例えば1〜10重量部、好ましくは3〜5重量部程度である。
本発明において粘着剤層は、上述の粘着剤を必要に応じて溶剤等を使用し、中間層上に直接塗布することにより形成してもよいし、粘着剤を剥離ライナー等に塗布して、予め粘着剤層を形成してから、この粘着剤層を中間層に貼り合わせて形成してもよい。
また、粘着剤層の厚みについては、特に限定があるわけではなく任意に設定することができるが、通常は3〜100μmであることが好ましく、10〜50μmであることがさらに好ましく、特に10〜30μm程度であることが好ましい。
本発明の粘着シートは、例えば半導体ウエハ等の製品を加工する際の常法に従って用いられる。ここでは、半導体ウエハの裏面を研削加工する際に使用する例を示す。まず、テーブル上にIC回路等のパターン面が上になるように半導体ウエハを載置し、そのパターン面の上に、本発明の粘着シートを、その粘着剤層が接するように重ね、圧着ロール等の押圧手段によって押圧しながら貼付する。あるいは、加圧可能な容器(例えばオートクレーブ)内に、上記のように半導体ウエハと粘着シートとを重ねたものを置いた後、容器内を加圧して半導体ウエハと粘着シートとを貼着してもよいし、これに押圧手段を併用してもよい。また、真空チャンバー内で半導体ウエハと粘着シートとを貼着してもよいし、粘着シートの基材の融点以下の温度で加熱することにより貼着してもよい。
半導体ウエハの裏面研磨加工方法としては、通常の研削方法を採用することができる。例えば、上記のようにして粘着シートを貼着した半導体ウエハの裏面を、研磨するための加工機として研削機(バックグラインド)、CMP(Chemical Mechanical Polishing)用パッド等を用いて所望の厚さになるまで研削を行う。放射線硬化型の粘着剤を使用して粘着剤層を形成した粘着シートを用いた場合には、研削が終了した時点で放射線等を照射し、粘着剤層の粘着力を低下させてから剥離する。
本発明の粘着シートは、中間層を構成する複合フィルムがポリオレフィン系ジオールとポリイソシアネートからなるウレタンポリマーを用いて形成されているので、ウエハ等の製品を研削加工等する際に製品表面に貼着しても複合フィルムに含まれるウレタンポリマーで汚染されることがない。したがって、ウエハ加工後において、ウエハ表面に残存する有機成分の量が少なく低汚染を達成することができ、ワイヤーボンディング不良や封止樹脂の破損が生じない。
また、本発明の粘着シートを構成する複合フィルムが窒素含有モノマーを共重合させたアクリル系ポリマー、あるいは、2官能のウレタンアクリレートを含むビニル系ポリマーを用いて形成される場合には、粘着剤層と中間層との投錨力が十分な粘着シートを実現することができる。
以下に実施例を用いて、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下の実施例において、部は重量部を意味する。
(実施例1)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)25部、アクリル酸n−ブチル(BA)15部と、ポリオールとして、数平均分子量1,500の両末端に水酸基(OH)を有する水添1,2−ポリブタジエン(商品銘柄「GI−1000」、日本曹達株式会社製)45部と、光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名「イルガキュア2959」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.15部と、ウレタン反応触媒として、ジブチルすずジラウレート0.025部とを投入し、攪拌しながら、キシリレンジイソシアネート(XDI)5部を滴下し、65℃で2時間反応させた。室温まで冷却した後、アクリル酸(AA)10部、アクリロイルモルホリン(ACMO)2部と、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)0.5部とを添加して、ウレタンポリマー−アクリル系モノマー混合物を得た。なお、ポリイソシアネート成分とポリオール成分の使用量は、NCO/OH(当量比)=1.1であった。
ウレタンポリマーとアクリル系モノマー混合物を、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)上に、硬化後の厚みが100μmになるように塗布した。この上に、セパレータとして剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)を重ねて被覆した後、この被覆したPETフィルム面に、高圧水銀ランプを用いて紫外線(照度163mW/cm、光量2100mJ/cm)を照射して硬化させて、PETフィルム上に中間層として複合フィルムを形成した。この後、被覆した剥離処理済みPETフィルムを剥離して、PETフィルム/複合フィルムの多層シート(支持体)を得た。
次に、アクリル酸n−ブチル(BA)100部と、アクリル酸(AA)3部とからなる配合物を酢酸エチル溶液中で共重合させて数平均分子量260,000のアクリル系共重合体ポリマーを得た。このアクリル系共重合体ポリマー100部に対して、更にポリイソシアネート系架橋剤2部、エポキシ系架橋剤2部を混合したものを、得られた多層シート(支持体)の複合フィルム面上に塗布して厚さ30μmの粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例2)
実施例1において、表1に示すようにアクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)25部、アクリル酸n−ブチル(BA)20部、アクリル酸(AA)5部、アクリロイルモルホリン(ACMO)2部を用いた以外は実施例1と同様にして多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例1と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例3)
実施例1において、表1に示すようにアクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)40部、アクリル酸n−ブチル(BA)10部、アクリロイルモルホリン(ACMO)2部を用い、ポリオールとして数平均分子量2100の両末端に水酸基を有する水添ポリブタジエン(商品銘柄「GI−2000」、日本曹達(株)製)46部を用い、ポリイソシアネートとしてキシリレンジイソシアネート(XDI)4部(NCO/OH=1.1)を用いた以外は実施例1と同様にして多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例1と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例4)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)30部、アクリル酸n−ブチル(BA)21部と、ポリオールとして、数平均分子量1,500の両末端に水酸基(OH)を有する水添1,2−ポリブタジエン(商品銘柄「GI−1000」、日本曹達株式会社製)36部と、光重合開始剤として、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.13部と、ウレタン反応触媒として、ジブチルすずジラウレート0.02部とを投入し、攪拌しながら、キシリレンジイソシアネート(XDI)4部を滴下し、65℃で2時間反応させた。室温まで冷却した後、アクリル酸(AA)9部、アクリロイルモルホリン(ACMO)2部と、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)0.6部とを添加して、ウレタンポリマー−アクリル系モノマー混合物を得た。
得られたウレタンポリマー−アクリル系モノマー混合物を用い、実施例1と同様にして多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例1と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(比較例1)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)25部、アクリル酸n−ブチル(BA)10部と、ポリオールとして数平均分子量650のポリテトラメチレングリコール(PTMG)(分子量650、三菱化学(株)製)35部と、光重合開始剤として、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン(商品名「イルガキュア2959」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.15部と、ウレタン反応触媒として、ジブチルすずジラウレート0.025部とを投入し、攪拌しながら、キシリレンジイソシアネート(XDI)15部を滴下し、65℃で2時間反応させた。室温まで冷却した後、アクリル酸(AA)15部と、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)と3部を添加して、ウレタンポリマーとアクリル系モノマーの混合物を得た。なお、ポリイソシアネート成分とポリオール成分の使用量は、NCO/OH(当量比)=1.25であった。
得られたウレタンポリマー−アクリル系モノマー混合物を用い、実施例1と同様にしてPETフィルム上に中間層を形成し、PETフィルム/中間層の多層シート(支持体)を作製した。また、得られた多層シートを用いて、実施例1と同様にして多層シートの中間層面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(比較例2)
比較例1において、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)20部、アクリル酸n−ブチル(BA)10部、アクリル酸(AA)10部を用い、多官能モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート0.1部を用い、ポリオールとして数平均分子量2000のポリプロピレングリコール(「PP−2000」、三洋化成工業(株)製)50部、ポリイソシアネートとしてキシリレンジイソシアネート(XDI)10部(NCO/OH=1.1)を用いた以外は比較例1と同様にして、多層シートを作製した。また、得られた多層シートを用い、比較例1と同様にして多層シートの中間層面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(比較例3)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸n−ブチル(BA)90部、アクリル酸(AA)10部と、トリメチロールプロパントリアクリレート0.1部と、光重合開始剤として、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名「イルガキュア184」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.3部とを投入し、窒素雰囲気下で紫外線に曝露して部分的に光重合させることにより、プレポリマーを含むシロップを作製した。
得られたプレポリマーを含むシロップを用い、比較例1と同様にして、PETフィルム上に塗布し、中間層を形成し、PETフィルム/中間層の多層シートを作製した。得られた多層シート用い、比較例1と同様にして多層シートの中間層面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例5)
冷却管、温度計、および攪拌装置を備えた反応容器に、アクリル系モノマーとして、アクリル酸t−ブチル(t−BA)25部、アクリル酸n−ブチル(BA)15部と、ポリオールとして、数平均分子量1,500の両末端に水酸基(OH)を有する水添1,2−ポリブタジエン(商品銘柄「GI−1000」、日本曹達株式会社製)45部と、光重合開始剤として2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名「イルガキュア651」、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.1部と、ウレタン反応触媒として、ジブチルすずジラウレート0.03部とを投入し、攪拌しながら、キシリレンジイソシアネート(XDI)5部を滴下し、75℃で2時間反応させた。室温まで冷却した後、アクリル酸(AA)10部、ウレタンアクリレートとして重量平均分子量が38,000のエーテル系ウレタンアクリレート(UV−3700B:日本合成化学株式会社製)1部とを添加して、ウレタンポリマー−アクリル系モノマー混合物を得た。なお、ポリイソシアネート成分とポリオール成分の使用量は、NCO/OH(当量比)=1.1であった。
ウレタンポリマーとアクリル系モノマー混合物を、厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)上に、硬化後の厚みが100μmになるように塗布した。この上に、セパレータとして剥離処理したPETフィルム(厚み38μm)を重ねて被覆した後、この被覆したPETフィルム面に、高圧水銀ランプを用いて紫外線(照度200mW/cm、光量3500mJ/cm)を照射して硬化させて、PETフィルム上に中間層として複合フィルムを形成した。この後、被覆した剥離処理済みPETフィルムを剥離して、PETフィルム/複合フィルムの多層シート(支持体)を得た。
次に、アクリル酸n−ブチル(BA)100部と、アクリル酸(AA)3部とからなる配合物を酢酸エチル溶液中で共重合させて数平均分子量400,000のアクリル系共重合体ポリマーを得た。このアクリル系共重合体ポリマー100部に対して、更にポリイソシアネート系架橋剤2部、エポキシ系架橋剤2部を混合したものを、得られた多層シート(支持体)の複合フィルム面上に塗布して厚さ30μmの粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例6)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるエーテル系ウレタンアクリレートの配合量を、UV−3700Bを10部に変更した以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例7)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるポリオールをGI1000からGI2000に変更し、ポリオールとジイソシアネートとの配合量をGI2000:XDI=46部:4部に変更し、かつ、エーテル系ウレタンアクリレートの配合量を、UV−3700Bを10部に変更した以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例8)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるエーテル系ウレタンアクリレートの配合量を、UV−3700Bを0.5部に変更した以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例9)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるエーテル系ウレタンアクリレートの配合量を、UV−3700Bを25部に変更した以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例10)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるエーテル系ウレタンアクリレート「UV−3700B」の替わりにトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)を用いた以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
(実施例11)
実施例5において、表1に示すように複合フィルムの形成に用いられるエーテル系ウレタンアクリレート「UV−3700B」の替わりにトリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA)を使用し、その使用量をTMPTAの10部に変更した以外は実施例5と同様にして、多層シート(支持体)を形成した。また、得られた多層シートを用いて実施例5と同様にして複合フィルム面上に粘着剤層を形成し、粘着シートを作製した。
《評価試験》
(1)反り量、たるみ量、割れの評価
厚さ625μmの8インチのシリコンウエハを20枚用意し、これに得られた粘着シートを、日東精機(株)製の「DR−8500III」を用いて貼り合わせた後、ディスコ(株)製のシリコンウエハ研削機によって厚さ50μmになるまで研削を行った。これについて、下記に示す評価を行った。その結果を表1に示す。
(i)反り量
研削した後のシリコンウエハを、粘着シートを貼着したままで、平板上に粘着シート面が上になるように静置した。平板から最も浮いているシリコンウエハ部分(通常はウエハ端部)の平板面からの距離を測定した。反り量の平均値を求めた。ただし、ウエハ20枚の測定値を平均した平均値で示す。反り量の平均値が5mm以下のものが好ましく、8mmを超えるものは不良である。
(ii)たるみ量
研削した後のシリコンウエハを、粘着シートを貼着したままで、8インチウエハ収納用カセットにウエハ面を上にして収納した。自重によって湾曲したウエハについて、最も高い部分の位置と、最も垂れ下がって低い部分の位置との間の距離をたるみ量とした。ただし、ウエハ20枚の測定値を平均した平均値で示す。
(iii)割れ
研削中にシリコンウエハに割れが発生した枚数をカウントした。ただし、ウエハの研削枚数は5枚で評価した。
(2)汚染性の評価
得られたシートにつき、下記評価方法に基づき汚染性の評価を行った。
すなわち、得られた粘着シートを、シリコンウエハ(3〜4atomic%)に日東精機(株)製のテープ貼り合わせ機「DR8500」を用いて貼り付け(貼り付け圧力2MPa、貼り付け速度12m/分)、40℃中に1日放置後、粘着シートを日東精機(株)製のテープ剥離機「HR8500」を用いて剥離し(剥離速度12m/分、剥離角度180度)、ウエハ上に転写した有機物を下記に示すX線光電子分光分析(XPS)装置を用いて測定した。まったく粘着シートを貼り付けていないウエハも同様に分析し、検出された炭素原子のatomic%の増加量により有機物の転写量を評価した。なお、炭素原子のatomic%は、炭素、窒素、酸素、シリコン等の各元素比率(総量100%)から算出した。

XPS装置:アルバックファイ社製のESCA「Quantum 2000」
Xray setting 200μm径[30W(15kV)]のポイント分析
X線源 モノクロAlkα
光電子取出し角 45度
真空度 5×10−9torr
中和条件 中和銃とイオン銃(中和モード)の併用
なお、ナロースキャンスペクトルについて、ClsのC−C結合に起因するピークを285.0 eVに補正した。
(3)投錨力
得られた粘着シートの粘着剤層面に、厚み50μmのPETテープを貼り合わせた後、粘着剤層と中間層との界面でT剥離(粘着シートとPETテープの端部を180度逆方向に引張って粘着剤層と中間層との界面で引き剥がし、剥離した粘着シートとPETテープとのなす角度が約180度となるように剥がす剥離方法)し、そのときの剥離力を測定した。
Figure 0004592535
Figure 0004592535
表1及び表2から明らかなように、本発明の実施例1〜11の多層シートを用いて作製した粘着シートを使用して加工を行ったウエハは、反り量が5mm以下であり、たるみ量も10mm未満であり、後続する工程へ搬送する際に全く問題がなかった。また、実施例1〜8、10の多層シートを使用して厚み50μmまでウエハの研磨加工を行っても1枚も割れが生じなかった。さらに、複合フィルムの形成において窒素含有モノマーを共重合させたアクリル系ポリマーを用いている実施例1〜4の粘着シート、及び、2官能のウレタンアクリレートを用いている実施例5〜9の粘着シートは、投錨力の評価で良好な結果が得られ、ウエハ等の被着体への糊残り等は生じないものであることが分かった。また、実施例1〜11の粘着シートはウエハへの汚染が少なく、低汚染性を実現できるものであることが分かった。なお、低汚染性が実現できるので、ワイヤーボンディング不良や封止樹脂の破損も生じさせないものである。
一方、ウレタン成分としてポリオレフィン系ジオールを使用していない比較例1及び2の多層シートを基材とした粘着シートは、ウエハへの汚染が大きいことが分かった。また、アクリル系成分のみからなる中間層を有する比較例3の粘着シートは、反り量及びたるみ量が大きかった。
本発明の粘着シートは、半導体ウエハの裏面研削時やダイシング時に使用される半導体ウエハ加工用粘着シートとして好適に用いることができる。また、半導体チップの製造時に行われるワイヤーボンディングにおいてアルミ表面と金ワイヤー間で界面破壊することがなく、高いシェア強度を維持させることができる。さらに低汚染性であるという特徴を生かし、使用時又は使用終了後に粘着シートの剥離を伴うような各種用途、例えば、各種工業部材、特に半導体、回路、各種プリント基板、各種マスク、リードフレーム等の微細加工部品の製造の際に表面保護や破損防止のために使用する粘着シートとして幅広く使用することができる。
(a)は本発明の第1の実施形態にかかる多層シートの層構成を示す断面図であり、(b)は本発明の第2の実施形態にかかる多層シートの層構成を示す断面図である。 (a)は本発明の第1の実施形態にかかる粘着シートの層構成を示す断面図であり、(b)は本発明の第2の実施形態にかかる粘着シートの層構成を示す断面図である。
符号の説明
1 第一フィルム
2 複合フィルム
3 第二フィルム
4 粘着剤層

Claims (11)

  1. ウレタンポリマーとアクリル系ポリマーとを有効成分として含有する複合フィルムと、該複合フィルムとは異なる材料からなる第一フィルムとを有する粘着シート用多層シートであって、前記ウレタンポリマーが水素添加型ポリブタジエンジオールとポリイソシアネートとを用いて形成されることを特徴とする粘着シート用多層シート。
  2. 前記アクリル系ポリマーが窒素含有モノマーを共重合させることにより得られることを特徴とする請求項記載の粘着シート用多層シート。
  3. 前記アクリル系ポリマーが、2官能のウレタンアクリレートを含むことを特徴とする請求項1からのいずれか1項記載の粘着シート用多層シート。
  4. 前記2官能のウレタンアクリレートがアクリル系モノマー100重量部に対して1重量部以上、50重量部以下含まれることを特徴とする請求項記載の粘着シート用多層シート。
  5. 前記複合フィルムが、アクリル系モノマー中で、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させてウレタンポリマーを形成し、該ウレタンポリマーと該アクリル系モノマーとを含む混合物を、第一フィルム上に塗布し、放射線を照射して硬化させて、形成されることを特徴とする請求項1からのいずれか1項記載の粘着シート用多層シート。
  6. 前記複合フィルムの一方の面上に該複合フィルムとは異なる材料からなる第一フィルムを有し、該複合フィルムの他方の面上に第一フィルム又は第一フィルムと異なる材料からなる第二フィルムを有することを特徴とする請求項1からのいずれか1項記載の粘着シート用多層シート。
  7. 請求項1からのいずれか1項記載の多層シートの少なくとも一方の面に粘着剤層をさらに有することを特徴とする粘着シート。
  8. 請求項記載の粘着シートを、精密加工される製品に貼着して保持及び/又は保護した状態で精密加工することを特徴とする製品の加工方法。
  9. 水素添加型ポリブタジエンジオールとポリイソシアネートとを用いて形成されるウレタンポリマーとアクリル系モノマーとを含む混合物を、第一フィルムの上に塗布し、放射線を照射して硬化させることにより複合フィルムを形成することを特徴とする粘着シート用多層シートの製造方法。
  10. 前記混合物を第一フィルムの上に塗布した後、その上に、さらに第一フィルム又は第二フィルムを重ね、この上から放射線を照射して硬化させることにより複合フィルムを形成し、第一フィルムと複合フィルムと第一フィルム又は第二フィルムとを有する積層体を形成することを特徴とする請求項記載の粘着シート用多層シートの製造方法。
  11. 前記混合物が、アクリル系モノマー中で、ポリオールとポリイソシアネートとを反応させてウレタンポリマーを形成することにより製造されることを特徴とする請求項9又は10記載の粘着シート用多層シートの製造方法。
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AT06003489T ATE514553T1 (de) 2005-02-23 2006-02-21 Mehrschichtige folie, verfahren zur deren herstellung und damit hergestellte druckempfindliche klebeschicht
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Families Citing this family (47)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101016081B1 (ko) * 2002-07-26 2011-02-17 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 시트와 그의 제조방법, 상기 점착 시트의 사용방법,및 상기 점착 시트에 사용되는 다층 시트와 그의 제조방법
US20080193728A1 (en) * 2002-07-26 2008-08-14 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive sheet, method for producing the same and method for using the same as well as a multi-layer sheet for use in the pressure-sensitive adhesive sheet and method for producing the same
JP4800778B2 (ja) * 2005-05-16 2011-10-26 日東電工株式会社 ダイシング用粘着シート及びそれを用いた被加工物の加工方法
JP2007070432A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Nitto Denko Corp 粘着シート及びこの粘着シートを用いた製品の加工方法
JP2007084722A (ja) * 2005-09-22 2007-04-05 Nitto Denko Corp 粘着シートとその製造方法、及び、製品の加工方法
JP5049620B2 (ja) * 2007-03-20 2012-10-17 リンテック株式会社 粘着シート
US8096508B2 (en) * 2007-08-10 2012-01-17 3M Innovative Properties Company Erosion resistant films for use on heated aerodynamic surfaces
JP5399625B2 (ja) * 2007-11-13 2014-01-29 日東電工株式会社 複合フィルム
WO2009086557A1 (en) * 2007-12-31 2009-07-09 Innopad, Inc. Chemical-mechanical planarization pad
DE102008000419A1 (de) * 2008-02-27 2009-09-03 Basf Se Mehrschichtige Verbundmaterialien, die ein textiles Flächengebilde umfassen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JP2009275060A (ja) 2008-05-12 2009-11-26 Nitto Denko Corp 粘着シート、その粘着シートを使用した被着体の加工方法、及び粘着シート剥離装置
JPWO2009144985A1 (ja) * 2008-05-29 2011-10-06 電気化学工業株式会社 ダイシング方法
JP5232736B2 (ja) 2008-09-02 2013-07-10 日東電工株式会社 複合フィルム
WO2010026995A1 (ja) * 2008-09-05 2010-03-11 旭硝子株式会社 粘着体、粘着シートおよびその用途
KR101648221B1 (ko) * 2009-04-14 2016-08-12 린텍 가부시키가이샤 요철 추종성 적층부재 및 그것을 이용한 터치 패널 부착 표시장치
EP2431407A4 (en) * 2009-05-13 2014-01-08 Nitto Denko Corp COMPOSITE FILM AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
WO2010147356A2 (ko) * 2009-06-15 2010-12-23 (주)Lg화학 웨이퍼 가공용 기재
US20120142867A1 (en) * 2009-08-04 2012-06-07 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Acrylate composition
JP2011105858A (ja) * 2009-11-18 2011-06-02 Nitto Denko Corp 粘着シート
TWI510328B (zh) * 2010-05-03 2015-12-01 Iv Technologies Co Ltd 基底層、包括此基底層的研磨墊及研磨方法
JP5859193B2 (ja) 2010-07-14 2016-02-10 デンカ株式会社 多層粘着シート及び電子部品の製造方法
JP5161284B2 (ja) * 2010-10-14 2013-03-13 電気化学工業株式会社 電子部品の製造方法
JP5161283B2 (ja) * 2010-10-14 2013-03-13 電気化学工業株式会社 電子部品の製造方法
JP5762781B2 (ja) 2011-03-22 2015-08-12 リンテック株式会社 基材フィルムおよび該基材フィルムを備えた粘着シート
JP5282113B2 (ja) * 2011-03-22 2013-09-04 リンテック株式会社 基材フィルムおよび該基材フィルムを備えた粘着シート
JP2014132043A (ja) * 2011-04-15 2014-07-17 Nissha Printing Co Ltd 図柄層に対する接着性がよいハードコート樹脂組成物
KR20120133890A (ko) * 2011-06-01 2012-12-11 동우 화인켐 주식회사 유리 접합용 접착제 조성물, 이를 이용한 유리 접합체 및 화상표시장치
JP2013079304A (ja) * 2011-10-03 2013-05-02 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物の製造方法
JP2013079303A (ja) * 2011-10-03 2013-05-02 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物および粘着テープ
JP2013176973A (ja) * 2012-02-04 2013-09-09 Mitsubishi Plastics Inc 積層ポリエステルフィルム
JP5789634B2 (ja) * 2012-05-14 2015-10-07 株式会社荏原製作所 ワークピースを研磨するための研磨パッド並びに化学機械研磨装置、および該化学機械研磨装置を用いてワークピースを研磨する方法
CN102942830A (zh) * 2012-12-06 2013-02-27 浙江工商大学 一种建筑用防水防脱涂料及其制备方法
US10392533B2 (en) * 2013-08-05 2019-08-27 Nitto Denko Corporation Adhesive sheet
JP6477499B2 (ja) * 2013-12-27 2019-03-06 日本ゼオン株式会社 多層フィルム、偏光板、および多層フィルムの製造方法
JP6424205B2 (ja) * 2014-03-03 2018-11-14 リンテック株式会社 半導体関連部材加工用シートおよび当該シートを用いるチップの製造方法
KR101716543B1 (ko) * 2014-04-30 2017-03-15 제일모직주식회사 점착필름 및 이를 포함하는 광학표시장치
US9970303B2 (en) 2014-05-13 2018-05-15 Entrotech, Inc. Erosion protection sleeve
US10293580B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10300682B2 (en) 2016-03-11 2019-05-28 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interplayers
US10293583B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10293579B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10195826B2 (en) 2016-03-11 2019-02-05 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10293585B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10293582B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
US10293584B2 (en) 2016-03-11 2019-05-21 Solutia Inc. Cellulose ester multilayer interlayers
AU2018367231B2 (en) 2017-11-16 2024-08-08 Mativ Luxembourg Thermoplastic polymer film with interpenetrating polymer network
WO2019208378A1 (ja) * 2018-04-24 2019-10-31 三井化学東セロ株式会社 粘着性フィルムおよび電子装置の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003171475A (ja) * 2001-12-03 2003-06-20 Nitto Denko Corp 複合フィルム及び半導体製品保持シート
JP2004106515A (ja) * 2002-07-26 2004-04-08 Nitto Denko Corp 加工用粘着シートとその製造方法
JP2004107644A (ja) * 2002-07-26 2004-04-08 Nitto Denko Corp 加工用粘着シートとその製造方法
JP2004122758A (ja) * 2002-07-26 2004-04-22 Nitto Denko Corp 多層シートとその製造方法及びこの多層シートを用いた粘着シート

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5876414A (ja) * 1981-10-30 1983-05-09 Okura Ind Co Ltd 嫌気硬化性組成物及びその製造方法
JPS5986045A (ja) 1982-11-05 1984-05-18 Nippon Soda Co Ltd 永久レジスト用光硬化性樹脂組成物
JPH0618190B2 (ja) 1984-05-29 1994-03-09 三井東圧化学株式会社 ウエハ加工用フイルム
JPH0789546B2 (ja) 1985-05-15 1995-09-27 三井東圧化学株式会社 ウエハ加工用フィルム
JP2797281B2 (ja) * 1989-06-16 1998-09-17 大日本印刷株式会社 ソフトコートフィルム
JPH0631788A (ja) * 1992-07-21 1994-02-08 Dainippon Ink & Chem Inc 包装材料の製造方法
JP3177149B2 (ja) 1996-03-15 2001-06-18 リンテック株式会社 粘着テープ用基材、該基材を用いた粘着テープ、および該基材の製造方法
US5672653A (en) * 1996-05-13 1997-09-30 Elf Atochem North America, Inc. Anionic waterborne polyurethane dispersions
JP2000038556A (ja) 1998-07-22 2000-02-08 Nitto Denko Corp 半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシート及びその貼り付け方法
JP3383227B2 (ja) 1998-11-06 2003-03-04 リンテック株式会社 半導体ウエハの裏面研削方法
JP2002069396A (ja) 2000-08-29 2002-03-08 Mitsui Chemicals Inc 半導体ウエハ保護用粘着フィルム及びそれを用いる半導体ウエハの裏面加工方法
JP2002322454A (ja) * 2001-04-26 2002-11-08 Toppan Forms Co Ltd 放射線硬化型再剥離性感圧接着剤
JP3908929B2 (ja) 2001-06-25 2007-04-25 日東電工株式会社 半導体ウエハ加工用粘着シート及びそれに用いる粘着剤組成物
US6566024B1 (en) * 2001-12-21 2003-05-20 Eastman Kodak Company Quintessential pictorial label and its distribution
KR101016081B1 (ko) * 2002-07-26 2011-02-17 닛토덴코 가부시키가이샤 점착 시트와 그의 제조방법, 상기 점착 시트의 사용방법,및 상기 점착 시트에 사용되는 다층 시트와 그의 제조방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003171475A (ja) * 2001-12-03 2003-06-20 Nitto Denko Corp 複合フィルム及び半導体製品保持シート
JP2004106515A (ja) * 2002-07-26 2004-04-08 Nitto Denko Corp 加工用粘着シートとその製造方法
JP2004107644A (ja) * 2002-07-26 2004-04-08 Nitto Denko Corp 加工用粘着シートとその製造方法
JP2004122758A (ja) * 2002-07-26 2004-04-22 Nitto Denko Corp 多層シートとその製造方法及びこの多層シートを用いた粘着シート

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