CN104559852B - 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法 - Google Patents

一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104559852B
CN104559852B CN201410855541.2A CN201410855541A CN104559852B CN 104559852 B CN104559852 B CN 104559852B CN 201410855541 A CN201410855541 A CN 201410855541A CN 104559852 B CN104559852 B CN 104559852B
Authority
CN
China
Prior art keywords
ephemeral key
rubber alloy
key rubber
parts
preparation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201410855541.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104559852A (zh
Inventor
孙蓉
邓立波
帅行天
张国平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen chemical semiconductor material Co., Ltd.
Original Assignee
Shenzhen Chemical Semiconductor Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Chemical Semiconductor Material Co Ltd filed Critical Shenzhen Chemical Semiconductor Material Co Ltd
Priority to CN201410855541.2A priority Critical patent/CN104559852B/zh
Publication of CN104559852A publication Critical patent/CN104559852A/zh
Priority to PCT/CN2015/084687 priority patent/WO2016107146A1/zh
Priority to JP2016565384A priority patent/JP6148414B1/ja
Priority to DE212015000125.3U priority patent/DE212015000125U1/de
Application granted granted Critical
Publication of CN104559852B publication Critical patent/CN104559852B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J167/00Adhesives based on polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J167/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L25/00Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L25/02Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C08L25/16Homopolymers or copolymers of alkyl-substituted styrenes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09J133/12Homopolymers or copolymers of methyl methacrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J125/00Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J125/02Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
    • C09J125/16Homopolymers or copolymers of alkyl-substituted styrenes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法。该临时键合胶以临时键合胶的总质量为100份数计,包含55~70份的溶剂以及溶解或分散于溶剂中30~45份基础树脂,所述基础树脂为热分解温度为320℃以上、熔融指数为24以上的高聚物或者共混高聚物,由此临时键合胶具有热稳定性高、抗腐蚀性强的优点,同时其键合/解键合效率高,残余粘接层易清洗,制备成本较为经济。

Description

一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法
技术领域
本发明涉及胶粘剂的技术领域,尤其涉及一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法。
背景技术
近年来,计算机、通讯、汽车电子和其它消费类产品对微电子封装提出了更高的要求,即更小、更薄、多功能与低成本。为满足这些产品的小型化需求,半导体工业需要将器件晶圆减薄至100μm以下。超薄晶圆具有柔性和易碎性、容易翘曲和起伏等特点,因此通常先将器件晶圆用临时键合材料键合到较厚的载体上,经过背部减薄、形成重布线层和内部互连制作后,再输入外界能量(光、电、热及外力)使粘结层失效,之后将器件晶圆从载体上分离开来,此过程即为晶圆的临时键合工艺。其中,用于固定薄晶圆的临时键合胶是临时键合工艺成功的关键。
中国专利CN104130727A公开了一种压敏临时键合胶,其原料包含溶剂30~70份,基础树脂30~50份,微胶囊粒子5~30份,其中基础树脂为环烯烃类聚合物颗粒,溶剂为环十二烯、双环己烯、柠檬烯、均二甲苯、环戊酮、甲基环己烷、甲基乙基酮、双戊烯、环辛烷、丁基环己烷、环庚烷和环己烷中的一种或几种的混合物,微胶囊粒子结构为由高分子化合物的内核和天然的或合成的高分子化合物连续壁或外相的外层包裹组成,还包括增粘剂、低分子量环烯烃共聚物、增塑剂、抗氧剂中的一种或几种混合物。中国专利CN102203917A公开了一种用于临时晶片粘合的组合物,该组合物由自由增粘剂、低分子量环烯烃共聚物、增塑剂、抗氧剂所组成,其中增粘剂是选自由多菇烯树脂、R一多菇烯树脂、苯乙烯改性菇烯树脂、聚合松香树脂、松香酷树脂、脂环族烃树脂、C5脂肪烃树脂、氢化烃树脂,低分子量环烯烃共聚物为重均分子量小于约50000道尔顿。上述现有技术中,临时键合胶仍然普遍存在热稳定性低、抗腐蚀性差的技术缺陷。
发明内容
有鉴于此,本发明一方面提供一种具有热稳定性高、抗腐蚀性强的临时键合胶。
一种用于薄晶圆加工的临时键合胶,其特征在于,以临时键合胶的总质量为100份数计,包含55~70份的溶剂以及溶解或分散于溶剂中30~45份基础树脂,所述基础树脂为热分解温度为320℃以上的高聚物或者共混高聚物。
上述临时键合胶中,基础树脂的热分解温度在320℃以上保证了临时键合胶形成的粘接层具有较好的热稳定性。基础树脂的重均分子量为5×103~5×105之间,且熔融指数为24以上。
高聚物的具体实例有聚烃基丙烯酸酯类、聚苯基乙烯类和聚酯类。
高聚物为聚烃基丙烯酸酯类,其为分子结构中包含重复单元的均聚体或共聚体,其中R1为C1~2脂肪烃或芳香烃,R2为C1~3脂肪烃或芳香烃。例如,聚甲基丙烯酸甲酯。R1中碳原子数为1,R2中碳原子数为1(即PMMA)时,玻璃化转变温度Tg为105℃;R1中碳原子数为2,R2中碳原子数为1(即PEMA)时,Tg为65℃;R1中碳原子数为4,R2中碳原子数为1(即PBMA)时,Tg为20℃,其在空气中的热分解温度较低(仅为220℃)。随着R1碳原子数增多,聚合物柔性增强,Tg越来越低,粘流温度(Tf)也会下降,Tf太小,则影响临时键合胶的使用温度。R2的碳原子个数优选为1~3,可以为芳香烃,值得说明的是,R2中碳原子数不能小于1,当R2的碳原子个数为零时所得到的丙烯酸甲酯Tg过低(仅为6℃)。
聚苯基乙烯类,其为分子结构中包含重复单元的均聚体或共聚体,其中R1、R2优选为C1~3脂肪烃或芳香烃。若R1和R2同为脂肪烃基,所形成烯烃聚合物一方面由于其分子结构中不含侧链基而导致Tg较低,另一方面其容易结晶(例如PE、PP、PMP都具有很高的结晶度),这可能会影响到其作为胶粘剂材料的基础树脂的使用性能;若脂肪烃基链太长会增加聚合物柔顺性,使其Tg降低,则影响键合胶的使用温度。
聚酯类,其为分子结构中包含重复单元的均聚体或共聚体,其中R为环己烷基、苯基或己氧基,
这里,聚酯类可以选用A、B和C三种聚酯的物理共混物。A、B、C的质量含量范围分别是10~60%、10~80%、0~50%,A、B、C的分子量范围分别是8000~30000、5000~50000、5000~100000。
值得说明的是,例如,共混高聚物可以为一种或多种聚烃基丙烯酸酯类,可以为一种或多种聚苯基乙烯类,也可为一种或多种聚酯类,此外还可以为一种聚烃基丙烯酸酯类和一种聚苯基乙烯类的混合,或者一种聚烃基丙烯酸酯类和一种聚酯类的混合等等。作为一种实施方式,例如可采用分子量为5000~30000000的聚丙烯酸酯和分子量为3000~20000的聚α-甲基苯乙烯,两者的质量比为2:1~20:1。
溶剂的沸点优选为高于80℃,极性与相应聚合物相近。溶剂例如可以为丙二醇单甲醚乙酸酯、二甲基乙酰胺、丙二醇单甲醚、乳酸乙酯、苎烯、均三甲苯、环十二烯和环戊酮中的一种或至少两种。
进一步地,基于临时键合胶的总质量为100份数,还包括0.05~0.07份流平剂和0~0.15份抗氧剂。
这里,流平剂优选为采用氟改性的丙烯酸酯类流平剂。抗氧剂中优选为由以多元受阻酚型抗氧剂为主抗氧化剂和以亚磷酸酯类抗氧剂为辅助抗氧剂所组成,两者的复配有助于提高键合胶的热稳定性。
于上述临时键合胶中,一个较佳的配方为,包含20~30份PMMA、10~15份聚α-甲基苯乙烯、55~70份溶剂和0.05~0.07份FC-4430型流平剂;更好地,其原料包含24份PMMA、12份聚α-甲基苯乙烯、64.95份DMAc和0.05份FC-4430型流平剂。
本发明又一方面提供一种临时键合胶的制备方法,由该制备方法可得到具有热稳定性高、抗腐蚀性强的临时键合胶。
一种如上述临时键合胶的制备方法,按照质量份将30~45份基础树脂、55~70份溶剂和0.05~0.07份流平剂在加热条件下进行搅拌混合,而后冷却和脱气处理,得到临时键合胶。
上述制备方法中,加热的方式为在60~70℃下水浴;搅拌的方式为100~1000rpm转速下机械搅拌;脱气处理的方式为采用真空脱气机进行真空脱气。
本发明再一方面提供一种对薄晶圆进行键合的方法,该方法使用由上述具有良好热稳定性、抗腐蚀性强的临时键合胶。
一种使用上述临时键合胶对薄晶圆进行键合的方法,具体为:待将临时键合胶旋涂于承载晶圆表面,并将溶剂烘干后,将器件晶圆覆盖于该表面,而后加热临时键合胶使之熔化、冷却形成粘接层。
上述键合的方法中,加热临时键合胶的方式可为烘烤的方式。可直接通过烘烤承载晶圆未涂有键合胶的另外一表面。在键合胶受热的过程中,键合胶中的溶剂先挥发,而后伴随着加热的继续,基础树脂在200℃左右慢慢熔化,冷却固化形成粘接层,这样承载晶圆与器件晶圆的表面发生键合作用。固化形成粘接层之后还包括采用DMAc清洗器件晶圆外周残余的粘接层,由此类似地,在器件晶圆的解键合的过程中,也可采用DMAc作为清洗剂来溶解粘接层。
本发明的临时键合胶以临时键合胶的总质量为100份数计,包含55~70份的溶剂以及溶解或分散于溶剂中30~45份基础树脂,所述基础树脂为热分解温度在320℃以上、熔融指数24以上的高聚物或者共混高聚物,由此临时键合胶具有热稳定性高、抗腐蚀性强的优点,同时其键合/解键合效率高,残余粘接层易清洗,制备成本较为经济。
附图说明
图1是本发明实施例1临时键合胶的涂层干膜热重变化曲线图;
图2是本发明实施例2临时键合胶的涂层干膜热重变化曲线图;
图3是本发明实施例2经去溶剂的临时键合胶的粘度和温度的函数曲线图;
图4是本发明实施例2的临时键合胶涂层干膜的厚度分布图;
图5是本发明实施例2临时键合胶键合晶圆后的超声扫描显微照片。
具体实施方式
下面结合附图及实施例来进一步说明本发明的技术方案。
实施例1
将2.4g聚甲基丙烯酸甲酯、1.2g聚α-甲基苯乙烯、5mg FC-4430型流平剂、6.395gDMAc加入到带搅拌装置和配置有水浴加热系统的热溶解容器中。水浴温度控制在60~70℃,并启动搅拌机,调节转速为100~1000rpm,当上述原料充分搅拌均匀后取出,自然冷却冷却后置于真空脱气机中真空脱气,最后密封保存。
实施例2
本例中,其原料具体包含:4g自制聚酯、5mg 4430流平剂、5.995g溶剂PGMEA;室温下搅拌1小时。
除了上述条件外,其他均同于实施例1。
实施例3
本例中,原料具体包含:2.0g聚甲基丙烯酸甲酯、1.0g聚α-甲基苯乙烯、5mg FC-4430型流平剂、5.5g DMAc;除此之外,其他均同于实施例1。
实施例4
本例中,原料具体包含:3.0g聚甲基丙烯酸甲酯、聚1.5gα-甲基苯乙烯、7mg FC-4430型流平剂、7.0g DMAc;除此之外,其他均同于实施例1。
对实施例1和实施例2的抗腐蚀性的测试结果分别如下表1和下表2(鉴于具体测试方法已为本领域技术人员所熟知,在此对方法不再详述):
表1
表2
如图1、2所示,分别为实施例1、2的热重变化曲线图,从该图中可以看出自300℃,干膜才出现分解失重的现象,于450℃失重率为80%,即大部分发生分解,由此可见,本发明的临时键合胶具有较好的热稳定性。
如图3所示,为实施例1临时键合胶的粘度曲线图。从该图中可以看出,粘度随着温度的总体变化较为温和,由此说明了本发明的临时键合胶具有较好的粘度稳定性。
如图4所示,为本发明实施例2的临时键合胶涂层干膜的厚度分布图。从该图中可以看出,临时键合胶涂层的厚度较为均匀,由此说明粘接层平均厚度为22.7μm,标准偏差为0.5,说明粘接层厚度合适,粘接层很平整,具有较好的涂装效果,对涂装的工艺要求不苛刻。
如图5所示,为使用本发明实施例2临时键合胶键合晶圆后的超声扫描显微照片。从该图中可以看出,可以看出表明两片被粘接的硅晶圆之间的粘结层无空隙(没有白点),分布均匀。
尽管本发明中所涉及的各工艺参数的数值范围在上述实施例中不可能全部体现,但本领域的技术人员完全可以想象到只要落入上述该数值范围内的任何数值均可实施本发明,当然也包括若干项数值范围内具体值的任意组合。此处,出于篇幅的考虑,省略了给出某一项或多项数值范围内具体值的实施例,在此不应当视为对本发明的技术方案要求保护的配方及工艺范围缺乏充足实施例支持的理解。
申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程,但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程,即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (13)

1.一种用于薄晶圆加工的临时键合胶,其特征在于,以临时键合胶的总质量为100份数计,包含55~70份的溶剂以及溶解或分散于溶剂中30~45份基础树脂,所述基础树脂为热分解温度为320℃以上的高聚物或者共混高聚物,所述基础树脂的熔融指数为24以上;
所述高聚物为聚烃基丙烯酸酯类,其为分子结构中包含重复单元的均聚体或共聚体,其中R1为C1~2脂肪烃或芳香烃,R2为C1~3脂肪烃或芳香烃;
或者聚α-甲基苯乙烯;
又或者为聚酯类,其为分子结构中包含重复单元的均聚体或共聚体,其中R为环己烷基、苯基或己氧基。
2.根据权利要求1所述的临时键合胶,其特征在于,所述共混高聚物为所述聚烃基丙烯酸酯类、聚苯基乙烯类和聚酯类中的至少两种。
3.根据权利要求1所述的临时键合胶,其特征在于,所述基础树脂的重均分子量为5×103~5×105
4.根据权利要求1所述的临时键合胶,其特征在于,所述溶剂为丙二醇单甲醚乙酸酯、二甲基乙酰胺、丙二醇单甲醚、乳酸乙酯、苎烯、均三甲苯、环十二烯和环戊酮中的一种或至少两种。
5.根据权利要求1所述的临时键合胶,其特征在于,基于临时键合胶的总质量为100份数,还包括0.05~0.07份流平剂和0~0.15份抗氧剂。
6.根据权利要求5所述的临时键合胶,其特征在于,所述流平剂为氟改性的丙烯酸酯类流平剂。
7.根据权利要求5所述的临时键合胶,其特征在于,所述抗氧剂为多元受阻酚型抗氧剂和亚磷酸酯类抗氧剂的混合物。
8.一种如权利要求1~7中任意一项所述临时键合胶的制备方法,其特征在于,以临时键合胶的总质量为100份数计,将30~45份基础树脂、55~70份溶剂和0.05~0.07份流平剂和0~0.15份抗氧剂在加热条件下进行搅拌混合,而后冷却和脱气处理,得到临时键合胶。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述加热的方式为在60~70℃下水浴。
10.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述搅拌的方式为100~1000rpm转速下机械搅拌。
11.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述脱气处理的方式为采用真空脱气机进行真空脱气。
12.一种使用权利要求1~7中任意一项所述临时键合胶对薄晶圆进行键合的方法,其特征在于,提供包括通过所述临时键合胶粘接的第一基片和第二基片的层叠件;以及加热所述临时键合胶使之固化形成粘接层。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述加热临时键合胶使之固化形成粘接层之后还包括采用DMAc清洗器件晶圆外周残余的粘接层的步骤。
CN201410855541.2A 2014-12-31 2014-12-31 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法 Active CN104559852B (zh)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410855541.2A CN104559852B (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法
PCT/CN2015/084687 WO2016107146A1 (zh) 2014-12-31 2015-07-21 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法
JP2016565384A JP6148414B1 (ja) 2014-12-31 2015-07-21 薄ウェハー加工用の仮着接着剤及びその製造方法
DE212015000125.3U DE212015000125U1 (de) 2014-12-31 2015-07-21 Temporäres Klebehaftmittel zum Prozessieren eines dünnen Wafers

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410855541.2A CN104559852B (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104559852A CN104559852A (zh) 2015-04-29
CN104559852B true CN104559852B (zh) 2018-02-27

Family

ID=53076950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410855541.2A Active CN104559852B (zh) 2014-12-31 2014-12-31 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6148414B1 (zh)
CN (1) CN104559852B (zh)
DE (1) DE212015000125U1 (zh)
WO (1) WO2016107146A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104559852B (zh) * 2014-12-31 2018-02-27 深圳市化讯半导体材料有限公司 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法
CN112980364A (zh) * 2021-02-05 2021-06-18 华南理工大学 一种具有高热稳定性和低模量的临时粘接胶及其制备方法与应用

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5276314B2 (ja) * 2007-12-21 2013-08-28 東京応化工業株式会社 接着剤組成物および接着フィルム
EP2274162A1 (en) * 2008-04-08 2011-01-19 The Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Of The State Of Arizona Acting For And On Behalf Of Arizona State University Assemblies and methods for reducing warp and bow of a flexible substrate during semiconductor processing
US8092628B2 (en) 2008-10-31 2012-01-10 Brewer Science Inc. Cyclic olefin compositions for temporary wafer bonding
TW201043658A (en) * 2009-06-15 2010-12-16 Sumitomo Bakelite Co Temporarily fixing agent for semiconductor wafer and method for producing semiconductor device using the same
JP2012129323A (ja) * 2010-12-14 2012-07-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 基材の加工方法
KR20120104450A (ko) * 2011-03-08 2012-09-21 (주)엘지하우시스 웨이퍼 가공 필름용 점착제 조성물
JP5762279B2 (ja) * 2011-12-28 2015-08-12 三井住友建設株式会社 移動パネル装置
CN103184022B (zh) * 2011-12-30 2017-09-19 汉高股份有限及两合公司 用于硅片制备中的暂时性粘合用粘合剂组合物
CN102585748B (zh) * 2012-02-09 2014-05-07 北京联合大学生物化学工程学院 用于晶体加工过程中晶片粘接的水溶性热熔胶及其制备方法
WO2013136897A1 (ja) * 2012-03-12 2013-09-19 リンテック株式会社 バックグラインドシート用基材および粘着シート、当該基材およびシートの製造方法、ならびにワークの製造方法
JP5909460B2 (ja) * 2012-09-28 2016-04-26 富士フイルム株式会社 半導体装置製造用仮接着剤、並びに、それを用いた接着性支持体、及び、半導体装置の製造方法。
CN103571367B (zh) * 2013-11-08 2014-10-22 烟台德邦科技有限公司 一种晶圆减薄压敏胶及其制备方法
CN104130727B (zh) * 2014-08-06 2016-06-01 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 一种压敏临时键合胶的制备方法及其应用
CN104559852B (zh) * 2014-12-31 2018-02-27 深圳市化讯半导体材料有限公司 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE212015000125U1 (de) 2017-02-20
CN104559852A (zh) 2015-04-29
JP2017519852A (ja) 2017-07-20
JP6148414B1 (ja) 2017-06-14
WO2016107146A1 (zh) 2016-07-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5900355B2 (ja) 硬化性樹脂組成物及びこれを用いた色変換材料
TWI540184B (zh) 包含以異清氰尿酸酯環骨架及環氧基作為必需成分且具有SiH基殘基的有機聚矽氧烷或矽倍半氧烷骨架的化合物、熱硬化性樹脂組成物、硬化物、塗膜、光半導體用組成物及光半導體元件
TWI499610B (zh) Heat-curable resin composition with adhesive flip chip package, a method of manufacturing a semiconductor device, and semiconductor device
CN106104765A (zh) 晶片加工体、晶片加工用暂时粘着材料以及薄型晶片的制造方法
TWI630641B (zh) Film-like wafer molding material, stamped wafer, and semiconductor device
CN107953623A (zh) 阻气膜及其制造方法、阻气膜层叠体、电子装置用构件、以及电子装置
TW200900816A (en) Hardening resin composition for liquid crystal sealing and manufacturing method for liquid crystal display panel using the same
CN105733498A (zh) 晶片加工体、晶片加工用暂时粘着材料及薄型晶片的制造方法
TW201233725A (en) Epoxy resin composition and semiconductor-sealing material using the same
TW200815880A (en) Liquid crystal sealing agent, fabricating method for liquid crystal display panel by using thereof and liquid crystal display panel
CN104559852B (zh) 一种用于薄晶圆加工的临时键合胶及其制备方法
CN110945078A (zh) 剥离层形成用组合物和剥离层
TW201708477A (zh) 樹脂膜形成用薄片、及樹脂膜形成用複合薄片
JP7176072B2 (ja) キット及び半導体チップの製造方法
TW201141935A (en) Organic EL element, organic EL display device, organic EL lighting device, and curing composition for sealing agent
JP2012092283A (ja) 接着剤組成物
WO2022186138A1 (ja) 共変性オルガノポリシロキサンおよびそれを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
CN113462128A (zh) 一种树脂组合物、功能膜及其应用
JP5109572B2 (ja) 接着剤組成物、接着剤組成物半硬化体、接着フィルム及び積層接着フィルム並びにそれらの製造方法
TWI718112B (zh) 保護膜形成用薄膜
CN104804682B (zh) 晶圆减薄的临时键合胶、其制备方法、键合及解键合方法
TW201920577A (zh) 光與濕氣硬化型樹脂組成物、電子零件用接著劑及顯示元件用接著劑
WO2022186137A1 (ja) 共変性オルガノポリシロキサンおよびそれを含む硬化性オルガノポリシロキサン組成物
JP2008101136A (ja) 熱硬化性樹脂組成物
TW202140641A (zh) 硬化性樹脂薄膜,複合薄片及半導體晶片之製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20161209

Address after: 518101 Shenzhen City, Baoan District, Xin'an, the streets of the street to do on the east side of the Plaza Plaza, a building of the building of the road, the 1108, 1110, 1112 rooms (Office)

Applicant after: Shenzhen Farcien Applied Materials Co., Ltd.

Address before: 1068 No. 518055 Guangdong city in Shenzhen Province, Nanshan District City Xili University School Avenue

Applicant before: Shenzhen Advanced Technology Research Inst.

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20161226

Address after: 518101 Baoan District, Shenzhen, Xin'an, the streets of the District of the left side of the road on the road No. 68 convergence Innovation Park, building, room 511, room 2, A

Applicant after: Shenzhen chemical semiconductor material Co., Ltd.

Address before: 518101 Shenzhen City, Baoan District, Xin'an, the streets of the street to do on the east side of the Plaza Plaza, a building of the building of the road, the 1108, 1110, 1112 rooms (Office)

Applicant before: Shenzhen Farcien Applied Materials Co., Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant