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Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015053828A2 (en) * 2013-06-15 2015-04-16 Brookhaven Science Associates, Llc Formation of antireflective surfaces
US9814099B2 (en) * 2013-08-02 2017-11-07 Applied Materials, Inc. Substrate support with surface feature for reduced reflection and manufacturing techniques for producing same
CA3171807A1 (en) * 2013-12-19 2015-06-25 Illumina, Inc. Substrates comprising nano-patterning surfaces and methods of preparing thereof
DE102014105939B4 (de) * 2014-04-28 2019-08-29 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung einer Entspiegelungsschicht auf einer Silikonoberfläche und optisches Element
US20150362707A1 (en) * 2014-06-11 2015-12-17 The Government Of The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Optics with Built-In Anti-Reflective Sub-Wavelength Structures
JP6356522B2 (ja) 2014-07-29 2018-07-11 ウシオ電機株式会社 蛍光発光部材およびその製造方法並びに蛍光光源装置
KR102470225B1 (ko) * 2015-02-26 2022-11-23 엘지이노텍 주식회사 광학 장치
WO2016181908A1 (ja) * 2015-05-08 2016-11-17 旭硝子株式会社 質量分析用試料プレート、質量分析方法および質量分析装置
KR20170129195A (ko) * 2015-07-24 2017-11-24 후아웨이 테크놀러지 컴퍼니 리미티드 카메라 모듈 및 단말기
JP6784487B2 (ja) * 2015-10-30 2020-11-11 デクセリアルズ株式会社 光学体、および表示装置
JP6443302B2 (ja) 2015-10-30 2018-12-26 コニカミノルタ株式会社 多孔性樹脂粒子の製造方法
JP6903418B2 (ja) * 2015-11-16 2021-07-14 デクセリアルズ株式会社 光学体、原盤、及び光学体の製造方法
CN113777677B (zh) * 2015-11-16 2024-03-08 迪睿合株式会社 光学体、原盘、以及光学体的制造方法
KR102535187B1 (ko) * 2016-01-15 2023-05-19 엘지전자 주식회사 멤스 스캐너
JP6910774B2 (ja) * 2016-09-20 2021-07-28 キヤノン株式会社 光学膜、該光学膜を備えた基材、及び該基材を有する光学デバイス
DE102016119760A1 (de) * 2016-10-18 2018-04-19 Arges Gmbh Oberflächenstruktur eines Kunststoffbauteils und Verfahren zum Erzeugen einer Oberflächenstruktur auf einem Kunststoffbauteil
JP2022515936A (ja) * 2016-12-07 2022-02-24 アメリカ合衆国 三次元的エッチングマスクを用いて形成される反射防止表面構造体
DE102016125197B4 (de) 2016-12-21 2020-07-02 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Herstellung eines reflexionsmindernden Schichtsystems
GB2559770B (en) * 2017-02-17 2022-04-20 Sesanti Ltd Anti-reflection apparatus
CN110446952A (zh) * 2017-03-31 2019-11-12 富士胶片株式会社 着色膜及其制造方法、固体摄像元件
FR3066623B1 (fr) * 2017-05-17 2022-12-16 Valeo Systemes Dessuyage Dispositif de protection d'un capteur optique et systeme d'assistance a la conduite associe
CN110799858B (zh) * 2017-06-21 2022-04-29 株式会社尼康 具有疏水和防雾性质的纳米结构化透明制品及其制造方法
US20200238797A1 (en) * 2017-10-10 2020-07-30 Central Glass Company, Limited Improved anti-reflective functional coating for glazings
EP3694816B1 (en) * 2017-10-10 2024-06-12 Central Glass Co., Ltd. Durable functional coatings
KR102208192B1 (ko) * 2017-11-24 2021-01-26 가천대학교 산학협력단 레이저 탈착 이온화 질량 분석용 기판 및 이를 이용하는 질량 분석 방법
JP7246391B2 (ja) 2017-12-06 2023-03-27 カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー 被検試料を分析するシステム及びその方法
KR102058847B1 (ko) * 2018-09-19 2019-12-24 인하대학교 산학협력단 이산화 타이타늄 표면구조의 셀 분할 방법
CN109634047A (zh) * 2019-01-28 2019-04-16 前海申升科技(深圳)有限公司 一种护眼高清光子晶体影像膜
US12181667B2 (en) 2019-02-14 2024-12-31 Acr Ii Glass America Inc. Vehicle windshield for use with head-up display system
US11583954B2 (en) 2019-03-04 2023-02-21 Kabushiki Kaisha Toshiba Welding method
JP7346547B2 (ja) * 2019-03-14 2023-09-19 富士フイルム株式会社 表面微細構造を備えた基体
CN111766649A (zh) * 2019-03-30 2020-10-13 华为技术有限公司 一种光学元件、摄像头模组、终端和光学元件的加工方法
JP7354287B2 (ja) 2019-04-26 2023-10-02 華為技術有限公司 反射防止膜、光学素子、カメラモジュール、及び端末
KR102799116B1 (ko) 2019-07-01 2025-04-21 쇼오트 글라스 테크놀로지스 (쑤저우) 코퍼레이션 리미티드. 회절 광학 소자 및 회절 광학 소자의 제조 방법
JP7360615B2 (ja) * 2019-09-20 2023-10-13 株式会社豊田中央研究所 レーザー脱離／イオン化質量分析用基板、及び、それを用いたレーザー脱離／イオン化質量分析法
CN111293971B (zh) * 2019-12-18 2020-12-08 电子科技大学 一种耐磨自清洁太阳能电池面板
DE102020118733B4 (de) * 2020-07-15 2022-11-24 Ev Group E. Thallner Gmbh Verfahren zur Aufbringung eines Schutzschichtmaterials
US12235409B2 (en) 2020-12-23 2025-02-25 Largan Precision Co., Ltd. Optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
US12411307B2 (en) 2020-12-23 2025-09-09 Largan Precision Co., Ltd. Optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
JP7055494B1 (ja) * 2021-02-08 2022-04-18 東海光学株式会社 光学製品の製造方法
US12379524B2 (en) 2021-09-01 2025-08-05 Largan Precision Co., Ltd. Optical imaging lens assembly comprising a gradient refractive coating having a plurality of holes, imaging apparatus and electronic device
WO2023047948A1 (ja) * 2021-09-24 2023-03-30 東海光学株式会社 光学製品及び光学製品の製造方法
US20230305200A1 (en) * 2022-03-23 2023-09-28 Largan Precision Co., Ltd. Low reflection layer, optical lens assembly, imaging apparatus and electronic device
CN114686806A (zh) * 2022-03-30 2022-07-01 电子科技大学 一种高吸收、宽光谱黑硅复合材料及其制备方法
CN116093506A (zh) * 2023-03-07 2023-05-09 荣耀终端有限公司 膜材、壳体、电池盖、终端设备及膜材的制备方法

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000071290A (ja) * 1998-08-28 2000-03-07 Teijin Ltd 反射防止物品の製造方法
JP4250287B2 (ja) 1999-01-07 2009-04-08 キヤノン株式会社 シリカメソ構造体の製造方法
WO2000054309A1 (en) 1999-03-09 2000-09-14 The Scripps Research Institute Improved desorption/ionization of analytes from porous light-absorbing semiconductor
JP2001272505A (ja) * 2000-03-24 2001-10-05 Japan Science & Technology Corp 表面処理方法
JP4464041B2 (ja) 2002-12-13 2010-05-19 キヤノン株式会社 柱状構造体、柱状構造体を有する電極、及びこれらの作製方法
JP2004294565A (ja) 2003-03-25 2004-10-21 Univ Shinshu 反射防止膜
JP2005157119A (ja) 2003-11-27 2005-06-16 Olympus Corp 反射防止光学素子及びこれを用いた光学系
JP2006010831A (ja) 2004-06-23 2006-01-12 Alps Electric Co Ltd 反射防止構造と反射防止体並びに照明装置と液晶表示装置
JP2008513781A (ja) * 2004-09-17 2008-05-01 ナノシス・インク． ナノ構造薄膜およびその使用
JP4855781B2 (ja) 2005-02-01 2012-01-18 日東電工株式会社 反射防止ハードコートフィルム、光学素子および画像表示装置
TWI292340B (en) 2005-07-13 2008-01-11 Ind Tech Res Inst Antireflective transparent zeolite hardcoat film, method for fabricating the same, and solution capable of forming said transparent zeolite film
WO2008018570A1 (en) * 2006-08-09 2008-02-14 Tokyo University Of Science Educational Foundation Administrative Organization Antireflection structure, process for producing the same and process for producing optical member
JP2008158293A (ja) 2006-12-25 2008-07-10 Nissan Motor Co Ltd 親水性反射防止構造
JP5211281B2 (ja) 2007-08-01 2013-06-12 地方独立行政法人山口県産業技術センター 酸化亜鉛からなる複数の立体構造体が形成された金属酸化物多孔質膜とその製造方法とこれを用いた色素増感太陽電池
KR101395454B1 (ko) * 2007-09-20 2014-05-15 삼성전자주식회사 그레이디드 굴절률을 갖는 광학 필름 및 이의 제조방법
JP5150312B2 (ja) 2008-03-10 2013-02-20 ペンタックスリコーイメージング株式会社 微細凹凸構造の形成方法、及び微細凹凸構造を有する基板
KR101437860B1 (ko) 2008-03-23 2014-09-12 주식회사 뉴파워 프라즈마 다공성 반사 방지막을 갖는 광기전력소자 및 제조 방법
JP2009242475A (ja) 2008-03-28 2009-10-22 Sekisui Chem Co Ltd 中空有機・無機ハイブリッド微粒子、反射防止性樹脂組成物、反射防止フィルム用コーティング剤、反射防止積層体及び反射防止フィルム
FR2934689B1 (fr) 2008-08-04 2010-09-17 Essilor Int Article d'optique comportant une couche antistatique limitant la perception des franges d'interferences, presentant une excellente transmission lumineuse et son procede de fabrication.
WO2010032610A1 (ja) 2008-09-17 2010-03-25 シャープ株式会社 反射防止膜及びその製造方法
US20110198214A1 (en) 2008-12-04 2011-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Mesoporous silica film and process for production thereof
JP2010180113A (ja) * 2009-02-06 2010-08-19 Canon Inc メソポーラス酸化チタン膜およびその製造方法
JP5267798B2 (ja) 2009-02-17 2013-08-21 日産自動車株式会社 耐擦傷性撥水構造及び耐擦傷性撥水構造体
JP5063812B2 (ja) 2009-04-24 2012-10-31 シャープ株式会社 表示装置、及び、反射防止膜の製造方法
EP2428825B1 (en) 2009-06-12 2016-05-11 Sharp Kabushiki Kaisha Antireflection film, display device and light transmissive member
BR112012002060A2 (pt) * 2009-07-28 2016-05-17 Sharp Kk filme óptico, método para produção do mesmo e método para controlar as características ópticas do mesmo
JP5440065B2 (ja) 2009-09-17 2014-03-12 株式会社豊田中央研究所 金内包コアシェル型単分散球状メソポーラスシリカ
US20120281289A1 (en) * 2010-01-14 2012-11-08 Sharp Kabushiki Kaisha Light-diffusion sheet, method for manufacturing same, and transmission display device provided with this light-diffusion sheet
JP5773576B2 (ja) 2010-04-01 2015-09-02 キヤノン株式会社 反射防止構造および光学機器

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