JP7354287B2 - 反射防止膜、光学素子、カメラモジュール、及び端末 - Google Patents

Description

この出願は、２０１９年４月２６日に中国国家知識産権局に提出され、「OPTICAL ELEMENT, OPTICAL SYSTEM, AND APPARATUS」と題された中国特許出願第201910343323.3号の優先権、及び、２０１９年６月１８日に中国国家知識産権局に提出され、「ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL ELEMENT, CAMERA MODULE, AND TERMINAL」と題された中国特許出願第201910528729.9号の優先権を主張し、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。

この出願は、端末技術の分野、特に、反射防止膜、光学素子、カメラモジュール、及び端末に関する。

現在、ユーザによって利用されるタブレットコンピュータ又はスマートフォンなどのインテリジェント端末は、一般にカメラを搭載しており、写真撮影においてインテリジェント端末をサポートする。ユーザ体験を改善するため、インテリジェント端末製造者は、インテリジェント端末のために提供されるカメラの構造を改善する。しかし、多くの問題が存在する。

例えば、関連技術において、インテリジェント端末のために提供されるカメラが、強い光源を持つ条件下で、例えば、晴れた日の太陽の下で、又は、夜の街灯下で写真を撮るとき、ユーザによって容易に知覚されることができるゴースト問題及びフレア問題が未だ存在し、それはカメラの撮影品質に影響を及ぼす。ゴースト問題及びフレア問題を引き起こす主な理由は、以下の通りである：カメラに含まれる光学素子又は機械部品の表面で反射された迷光が、相補型金属酸化膜半導体（complementary metal-oxide-semiconductor、略してCMOS）イメージセンサに含まれるＣＭＯＳフォーカス面にフォーカスし、それによって、ＣＭＯＳイメージセンサによって集められたイメージ上にゴースト問題及びフレア問題を引き起こす。

上記の問題を解決するため、迷光を弱めるための関連技術においては、低い反射率を持つ様々な光学コーティングがカメラに含まれる光学素子上に配置される。しかし、これらの光学コーティングは、光学素子の光入射角による制限を受けるため、光学コーティングは、斜め入射光に対する光学素子の反射率を効果的に低減するために利用されることができない。

この出願の実施形態は、光学素子の形状による制約なしに、垂直な入射光及び斜め入射光についての光学素子の反射率を効果的に低減するための反射防止膜、光学素子、カメラモジュール、及び端末を提供し、それにより、光学素子は、極めて低い反射率を有する。

第１の様態によれば、この出願は、反射防止膜を提供する。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に形成された複数の凸状構造を含む。各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、可視光波長の最小値未満である。各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の高さは、３１０ｎｍ以上である。２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離は、２２０ｎｍ以下である。

この出願のこの実施形態で提供される反射防止膜は、光導波路の光透過面上に形成され、光学素子を形成する。この場合、各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の屈折率は、光透過面から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。しかし、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離、及び、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、いずれも可視光波長の最小値未満であるため、各凸状構造と、２つの隣接する凸状構造の間の空間とに関する識別は、反射防止膜に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子の反射率は、反射防止膜を利用することによって低減されることができる。加えて、各凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であり、また、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離が２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子の形状についての制限なしに、反射防止膜は、可視光が光学素子に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子は、可視光に対する極めて低い反射率を有する。

第１の態様に関連し、第１の態様の第１の可能な実装において、さらに、各凸状構造の高さは、４５０ｎｍ以下であり、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離は、１６０ｎｍ以上である。このようにして、各凸状構造の屈折率が、光透過面から離れる方向にゆっくりと変化することが保証されるとき、凸状構造は、容易に製造される。

第１の態様に関連し、第１の態様の第２の可能な実装において、各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の最大径長は、対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長の０倍～０．３倍である。

各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の最大径長が、対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長の０倍であり、また、各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の面積が０であるとき、各凸状構造は、実質的に、光透過面から離れる方向に徐々に細くなる針状凸状構造である。この場合、可視光に対する各凸状構造の屈折率は、凸状構造の屈折率が空気の屈折率に等しくなるまで、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。言い換えると、反射防止膜の等価屈折率は、反射防止膜の等価屈折率が空気の屈折率に等しくなるまで、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。このようにして、可視光が空気から光学素子に照射されることができるとき、反射防止膜は、光学素子の反射率をより良好に調整及び制御するために、より自然な方式で可視光を徐々に屈折させることができ、それにより、光学素子は、極めて低い反射率を有する。

対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長に対する、各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の最大径長の比が、０より大きく、かつ０．３以下であるとき、この場合、各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の面積は、０より大きい。従って、反射防止膜は、光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、各凸状構造を製造する精度も低減されて、反射防止膜を製造する困難性を低減する。加えて、各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。従って、各凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面の最大径長が、対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長の０倍より大きいか又は０．３倍に等しいとき、各凸状構造の高さは、光透過面から離れる方向に各凸状構造の屈折率が徐々に減少するように、適切に制御されうる。このようにして、凸状構造の屈折率が低減されることが保証されるとき、各凸状構造を製造する困難性は、さらに低減されることができる。

第１の態様に関連し、第１の態様の第３の可能な実装において、各凸状構造の外形（profile）は、テーパ外形、ガウシアン外形、又はパラボラ外形である。これについては、それに限定されない。例えば、各凸状構造の外形がテーパ外形であるとき、各凸状構造は、テーパ凸状構造、例えば、円錐凸状構造、四角形ピラミッド凸状構造、又は六角形ピラミッド凸状構造である。これについては、本明細書においては限定されない。もちろん、製造の困難性を低減するために、凸状構造が実際に製造されるとき、製造された凸状構造は、テーパ凸状構造に類似する円錐台凸状構造であってもよい。

第１の態様又は第１の態様の第３の可能な実装に関連し、第１の態様の第４の可能な実装において、対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長に対する各凸状構造の高さの比は、１以上３までであり、光透過面から離れる方向に各凸状構造の屈折率が減少する割合を最適化する。従って、可視光が光学素子に照射されるとき、凸状構造の屈折率の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題がさらに回避されることができ、光学素子の反射率がさらに低減されることを保証する。

第１の態様又は第１の態様の第１～第４の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第５の可能な実装において、複数の凸状構造の分布方式は、密積層分布方式などのアレイ分布方式である。密積層分布方式が複数の凸状構造に適用されるとき、光導波路に含まれる光透過面は、複数の凸状構造が可能な限り多く光透過面上に均等に形成されるように、全体的に利用されてよい。このようにして、光学素子の反射率をさらに低減するために、均質的な膜層が反射防止膜のために均等に形成されることができる。

第１の態様の第５の可能な実装に関連し、第１の態様の第６の可能な実装において、密積層分布方式は、四辺形密積層分布方式、六角形密積層分布方式などであってよい。このことは、本明細書においては限定されない。

第１の態様又は第１の態様の第１～第６の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第７の可能な実装において、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離に等しい。従って、複数の凸状構造の分布方式は、密積層分布方式である。光導波路に含まれる光透過面は、複数の凸状構造が可能な限り多く光透過面上に均等に形成されるように、全体的に利用されてよい。このようにして、光学素子の反射率をさらに低減するために、均質的な膜層が反射防止膜のために均等に形成されることができる。

第１の態様又は第１の態様の第１～第７の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第８の可能な実装において、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離は、１６０ｎｍ～２００ｎｍであり、２つの隣接する凸状構造の間の距離をさらに低減する。従って、凸状構造が可能な限り多く光透過面上に分布され、反射防止膜を利用することによって可視光に対する光学素子の反射率をより良好に低減する。

第１の態様又は第１の態様の第１の～第８の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第９の可能な実装において、反射防止膜の厚さは、３１０ｎｍ～４５０ｎｍである。言い換えると、この場合、反射防止膜の厚さは、実質的に、凸状構造の高さである。

第１の態様又は第１の態様の第１～第８の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第１０の可能な実装において、反射防止膜は、接着層をさらに含む。接着層は、複数の凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面上に配置される。この場合、反射防止膜が光導波路上に形成されるとき、まず、接着層が光透過面上に形成され、次いで、複数の凸状構造が、接着層のものであり、かつ光透過面から離れている面上に形成される。このようにして、接着層は、光透過面と複数の凸状構造との間の接着を改善するだけでなく、光透過面を保護するために利用されることができる。従って、エンボス加工技術などの製造プロセスを利用することによって複数の凸状構造が光透過面上に直接製造されるとき、製造誤差などの問題に起因して光透過面に引き起こされる損傷が回避される。接着層の高さは、１０ｎｍ未満である。このようにして、光透過率に対する接着層の効果は最小化され、光透過面上に形成された接着層は、明らかなしわがない良好な平坦さを有し、それにより、接着層と光透過面とは、互いにしっかりと密着される。

第１の態様の第１０の可能な実装に関連し、第１の態様の第１１の可能な実装において、接着層に含まれる材料の屈折率と、各凸状構造に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、接着層の屈折率が凸状構造の屈折率に比較的近いことを保証し、それによって、屈折率の変化に起因して光に対する光学素子の反射率が増加する問題を回避する。

第１の態様の第１０又は第１１の可能な実装に関連し、第１の態様の第１２の可能な実装において、接着層の総光透過率及び／又は各凸状構造の総光透過率は、９０％より大きく、可視光が反射防止膜を通過するときの可視光のロスを低減する。

第１の態様の第１０～第１２の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第１３の可能な実装において、反射防止膜の厚さは、３２０ｎｍより大きく、かつ４６０ｎｍ未満であり、接着層を通過する光のロス割合を低減し、凸状構造が光透過面上に安定的に形成されることができることを保証する。

第１の態様の第１０～第１３の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第１４の可能な実装において、接着層に含まれる材料は、変性シラン接着剤などのシラン材料である。例えば、変性シラン接着剤は、様々なシラン末端ポリエーテル接着剤であってよい。

第１の態様又は第１の態様の第１～第１４の可能な実装のいずれか１つに関連し、第１の態様の第１５の可能な実装において、複数の凸状構造は、エンボス加工技術を利用することによって光透過面上に形成され、それにより、複数の凸状構造の製造は一度に完了されることができ、それによって、反射防止膜を製造する速度が改善する。

第１の態様の第１５の可能な実装に関連し、第１の態様の第１６の可能な実装において、凸状構造は、光硬化性接着剤の硬化又は熱硬化性接着剤の硬化を通して形成される凸状構造である。凸状構造が、光硬化性接着剤の硬化を通して形成される凸状構造であるとき、透明モールドを利用することによって光硬化性接着剤をエンボス加工するプロセスにおいて、凸状構造をエンボス加工することは、光照射を通して完了されうる。この場合、エンボス加工技術及び光硬化プロセスは、連続的に実行され、凸状構造を連続的に製造する。凸状構造が、熱硬化性接着剤の硬化を通して形成される凸状構造であるとき、モールドを利用することによって熱硬化性接着剤をエンボス加工するプロセスにおいて、エンボス加工後に得られる凸状構造は、加熱され、それにより、凸状構造が素早く硬化される。

第２の態様によれば、この出願は、光学素子を提供する。光学素子は、光導波路と、第１の態様又は第１の態様のいずれかの可能な実装において説明された反射防止膜とを含む。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に配置される。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子は、光導波路だけでなく、第１の態様又は第１の態様のいずれかの可能な実装において説明された反射防止膜も含む。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に形成された複数の凸状構造を含む。各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の屈折率は、光透過面から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。加えて、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離、及び、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、いずれも可視光波長の最小値未満であるため、各凸状構造と、２つの隣接する凸状構造の間の空間とに関する識別は、反射防止膜に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子の反射率は、反射防止膜を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であり、また、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離が２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子の形状についての制限なしに、反射防止膜は、可視光が光学素子に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子は、可視光に対する極めて低い反射率を有するということが分析を通して見いだされる。

第２の態様に関連し、第２の態様の第１の可能な実装及び第２の態様の第２の可能な実装において、各凸状構造に含まれる材料の屈折率と、光導波路に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、各凸状構造に含まれる材料の屈折率が光導波路に含まれる材料の屈折率に比較的近いことを保証し、それによって、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。

第２の態様又は第２の態様の第１又は第２の可能な実装に関連し、第２の態様の第３の可能な実装において、反射防止膜は、第１の態様又は第１の態様の第９～第１３の可能な実装のいずれか１つにおいて説明された反射防止膜である。反射防止膜に含まれる接着層に含まれる材料の屈折率と、光導波路に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、それにより、接着層に含まれる材料の屈折率が光導波路に含まれる材料の屈折率に比較的近くなり、それによって、接着層の屈折率と光導波路の屈折率との間の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。

第２の態様又は第２の態様の第１～第３の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第４の可能な実装において、光学素子の最大反射率は、入射角が０°に等しいときに０．５％以下であり、光学素子の最大反射率は、入射角が４０°以下であるときに１％以下である。このようにして、光学素子がカメラモジュールに適用されるとき、光入射角が４０°以下であるときにカメラモジュールによって撮られた写真においてゴースト問題及びフレア問題が生じない。

第２の態様又は第２の態様の第１～第４の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第５の可能な実装において、光導波路の総光透過率及び／又は反射防止膜の総光透過率は、９０％より大きく、可視光が光学素子を通過するときの可視光のロスを低減する。

第２の態様又は第２の態様の第１～第５の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第６の可能な実装において、複数の凸状構造が形成されている光透過面は、曲面状の光透過面又は平面状の光透過面である。曲面状の光透過面は、蒲鉾形の光透過面又は波形の光透過面であり、又は他の不規則な曲面状の光透過面であってよい。

反射防止膜は、第１の態様の第１０～第１４の可能な実装のいずれか１つで説明された反射防止膜であると理解されるべきである。反射防止膜が曲面状の光透過面上に形成されるとき、反射防止膜に含まれる接着層は、曲面状の入射面であり、かつ光透過面の外形に密着され、接着層と光透過面との間の密着性能を増加させ、それにより、接着層と光透過面とは互いに密に接する。反射防止膜が形成される光透過面が平面状の光透過面であるとき、反射防止膜に含まれる接着層は、平面状の入射面であり、接着層と光透過面との間の密着性能を増加させ、それにより、接着層と光透過面とが互いに密に接する。

第２の態様又は第２の態様の第１～第５の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第７の可能な実装において、光導波路は、保護ダイアフラム、レンズ、又は赤外線カットオフフィルタである。保護ダイアフラムは、紫外線融着シリカガラス、赤外線融着シリカガラス、又はカルシウムフッ化物などの任意の光学ガラスである、このことは本明細書において限定されない。レンズは、様々な材料製の様々な凸レンズである。赤外線カットオフフィルタは、それに限定されないが、青色ガラスである。赤外線フィルタを実装できる任意の材料が利用されることができる。

第２の態様又は第２の態様の第１～第７の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第８の可能な実装において、光導波路は、互いに対向して配置されている第１の光透過面と第２の光透過面とを含む。反射防止膜は、第１の光透過面及び第２の光透過面の両方に形成され、可視光に対する光学素子の反射率をさらに低減する。

第２の態様又は第２の態様の第１～第８の可能な実装のいずれか１つに関連し、第２の態様の第９の可能な実装において、光導波路は、互いに対向して配置されている第１の光透過面と第２の光透過面とを含む。反射防止膜は、第１の光透過面に形成され、反射防止コーティングは、第２の光透過面に形成される。

第２の態様の第９の可能な実装に関連し、第２の態様の第１０の可能な実装において、反射防止コーティングは、第２の光透過面に近づく方向に交互に配置されている第１の材料層と第２の材料層とを含む。第１の材料層の屈折率と第２の材料層の屈折率とは、いずれも比較的低く、第１の材料層の屈折率は、第２の材料層の屈折率より小さい。例えば、第１の材料層は、それに限定されないが、マグネシウムフッ化物材料層又はシリコン二酸化物材料層であり、第２の材料層は、それに限定されないが、チタン二酸化物材料層である。

第３の態様によれば、この出願は、カメラモジュールを提供する。カメラモジュールは、少なくとも１つの第１のタイプの光学素子を含む。第１のタイプの光学素子は、第２の態様又は第２の態様の任意の可能な実装において説明された光学素子である。

この出願のこの実施形態において提供されるカメラモジュールに含まれる第１のタイプの光学素子は、第２の態様又は第２の態様の任意の可能な実装において説明された光学素子であり、それにより、第１のタイプの光学素子は、光導波路だけでなく、第１の態様又は第１の態様の任意の可能な実装において説明された反射防止膜も含む。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に形成された複数の凸状構造を含む。各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の屈折率は、光透過面から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。加えて、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離、及び、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、いずれも可視光波長の最小値未満であるため、各凸状構造と、２つの隣接する凸状構造の間の空間とに関する識別は、反射防止膜に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子の反射率は、反射防止膜を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であり、また、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離が２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子の形状についての制限なしに、反射防止膜は、可視光が光学素子に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子は、可視光に対する極めて低い反射率を有することが分析を通して見いだされる。

第３の態様に関連し、第３の態様の第１の可能な実装において、カメラモジュールは、少なくとも１つの第２のタイプの光学素子をさらに含む。第２のタイプの光学素子は、また、光導波路及び反射防止膜を含む。しかし、反射防止膜は、第２の態様の第８又は第９の可能な実装において説明された反射防止コーティングであり、カメラモジュールの集光率を改善する。

第３の態様の第１の可能な実装に関連し、第３の態様の第３の可能な実装において、カメラモジュールは、イメージセンサをさらに含む。第１のタイプの光学素子及び第２のタイプの光学素子は、イメージセンサのセンサ面が配置される方向に配置され、それにより、可視光は、光学素子を通過した後に、イメージセンサによって集められることができる。しかし、第１のタイプの光学素子が可視光に対する極めて低い反射率を有するため、イメージセンサは、カメラモジュールによって撮影された景色によって反射されたほとんど全ての可視光を集めることができ、カメラモジュールによって撮影された景色の鮮明度を改善し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を回避する。

第４の態様によれば、この出願は、端末を提供する。端末は、第３の態様又は第３の態様の第１又は第２の可能な実装において説明されたカメラモジュールを含む。

この出願において提供される端末において、カメラモジュールに含まれる第１のタイプの光学素子は、光導波路だけでなく、第１の態様又は第１の態様の任意の可能な実装において説明された反射防止膜も含む。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面に形成された複数の凸状構造を含む。各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の屈折率は、光透過面から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。加えて、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離、及び、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、いずれも可視光波長の最小値未満であるため、各凸状構造と、２つの隣接する凸状構造の間の空間とに関する識別は、反射防止膜に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子の反射率は、反射防止膜を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であり、また、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離が２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子の形状についての制限なしに、反射防止膜は、可視光が光学素子に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子は、可視光に対する極めて低い反射率を有し、端末によって撮られた写真の鮮明度を保証し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を回避することが分析を通して見いだされる。

第４の態様に関連し、第４の態様の第１の可能な実装において、端末は、プロセッサと、メモリと、ディスプレイ画面とをさらに含む。プロセッサは、別々に電気的にカメラモジュール、メモリ、及びディスプレイ画面に接続される。メモリは、コンピュータ命令を格納するように構成される。コンピュータ命令が実行されるとき、プロセッサは、少なくともカメラモジュールによって伝送されたイメージデータを処理すること、そして、もちろん、端末の内部データを処理すること又は外部デバイスが端末にアクセスしているときに外部デバイスによって伝送されたデータを処理することも可能になる。ディスプレイは、少なくとも、カメラモジュールによって集められたイメージを表示すること、そして、もちろん、内部的に端末に格納されたイメージを表示すること又は外部デバイスが端末にアクセスしているときに外部デバイスによって伝送されたイメージを表示することも行うように構成される。

カメラモジュールが、第３の態様の第３の可能な実装において説明されたカメラモジュールであるとき、プロセッサは、カメラモジュールに含まれるイメージセンサに電気的に接続され、プロセッサを利用することによって、イメージセンサによって集められたイメージデータを処理することを理解されるべきである。

第５の態様によれば、この出願は、光学素子を製造するための方法を提供する。光学素子を製造するための方法は、光導波路を提供するステップと、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に、第１の態様又は第１の態様の任意の可能な実装において説明された反射防止膜を形成するステップと、を含む。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子を製造するための方法を利用することによって製造される光学素子は、光導波路だけでなく、第１の態様又は第１の態様の任意の可能な実装において説明された反射防止膜も含む。反射防止膜は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に形成された複数の凸状構造を含む。各凸状構造の最大径長は、光透過面から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造の屈折率は、光透過面から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造の屈折率と光導波路の屈折率の突然の変化に起因して光学素子の反射率が増加する問題を回避する。加えて、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離、及び、各凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長は、いずれも可視光波長の最小値未満であるため、各凸状構造と、２つの隣接する凸状構造の間の空間とに関する識別は、反射防止膜に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子の反射率は、反射防止膜を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であり、また、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離が２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子の形状についての制限なしに、反射防止膜は、可視光が光学素子に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子は、可視光に対する極めて低い反射率を有し、端末によって撮られた写真の鮮明度を保証し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を回避することが分析を通して見いだされる。

第５の態様に関連し、第５の態様の第１の可能な実装において、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に反射防止膜を形成するステップは、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に硬化性材料層を形成するステップと、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して複数の凸状構造を得るステップと、複数の凸状構造を硬化するステップと、を含む。

第５の態様又は第５の態様の第１の可能な実装に関連し、第５の態様の第２の可能な実装において、光透過面は、曲面状の光透過面であり、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して複数の凸状構造を得るステップは、エンボスモールドを提供するステップであって、エンボスモールドは、光導波路ジグと弾性モールド層とを含み、光導波路ジグは、光透過面の外形に一致するモールド形成面を有し、弾性モールド層は、モールド形成面上に形成され、弾性モールド層は、凸状構造を形成するように構成された複数の弾性ダイスを含む、ステップと、エンボスモールドに含まれる複数の弾性ダイスを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して複数の凸状構造を得るステップと、を含む。

弾性モールド層は、光導波路ジグにしっかりと接着され、弾性モールド層と光導波路ジグとの間にギャップが存在しないと理解されるべきである。従って、光導波路ジグに含まれるモールド形成面が光透過面の外形に一致するとき、同じ形状及び同じサイズを持つ複数の凸状構造は、複数の弾性ダイスが硬化性材料層をエンボス加工するために利用されるときに、光透過面上に形成されることができる。加えて、複数の凸状構造は、光透過面にしっかりと接着されることが保証される。しかし、複数の弾性ダイスが弾性体であるため、複数の弾性ダイスは、複数の弾性ダイスが硬化性材料層をエンボス加工するために利用されるときに、光導波路を傷つけない。モールド形成面と光透過面の外形との間の一致性は、外形精度に基づいて決定されうる。モールド形成面の外形精度が１μｍ以下であるとき、モールド形成面は、光透過面の外形と一致すると定義される。

第５の態様又は第５の態様の第１の可能な実装に関連し、第５の態様の第３の可能な実装において、光透過面は、平面状の光透過面であり、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して複数の凸状構造を得るステップは、エンボスモールドを提供するステップであって、エンボスモールドは、ローラと、ローラの面上に形成された弾性モールド層とを含み、弾性モールド層は、凸状構造を形成するように構成された複数の弾性ダイスを含む、ステップと、エンボスモールドに含まれる複数の弾性ダイスを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して複数の凸状構造を得るステップと、を含む。

光透過面が平面状の光透過面であるとき、特定の圧力下で、硬化性材料層の面上にエンボスモールドを転がすことが必要になると理解されるべきである。このようにして、エンボスモールドに含まれるローラの面上の弾性モールド層の複数の弾性ダイスは、硬化性材料層をエンボス加工するステップを通して複数の凸状構造を得るために利用されうる。従って、エンボスモールドは、凸状構造を製造するために便利に利用されうる。

第５の態様又は第５の態様の第１～第３の可能な実装のいずれか１つに関連し、第５の態様の第４の可能な実装において、硬化性材料層に含まれる硬化性材料は、光硬化性材料であり、エンボスモールドは、透明エンボスモールドであり、複数の凸状構造を硬化するステップは、光硬化方式で複数の凸状構造を硬化するステップを含む。

第５の態様又は第５の態様の第１～第３の可能な実装のいずれか１つに関連し、第５の態様の第５の可能な実装において、硬化性材料層に含まれる硬化性材料は、熱硬化性材料であり、複数の凸状構造を硬化するステップは、熱硬化方式で複数の凸状構造を硬化するステップを含む。

第５の態様又は第５の態様の第１～第５の可能な実装のいずれか１つに関連し、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に反射防止膜を形成するステップの前で、光導波路を提供するステップの後に、光学素子を製造するための方法は、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に接着層を形成するステップであって、接着層は、複数の凸状構造が安定的に光透過面上に形成されることができることを保証し、光透過面上に複数の凸状構造が直接製造されるときに光透過面に引き起こされる損傷を回避するように、光透過面と複数の凸状構造とを接着するように構成される、ステップをさらに含む。

可視光に対する光学コーティングが形成されているレンズの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、反射防止膜の模式的構造図１である。 この出願の実施形態による、図２に示した反射防止膜を含む第１の光学素子の模式的構造図である。 この出願の実施形態による、光透過面から離れる方向における可視光に対する凸状構造の屈折率の変化傾向図である。 この出願の実施形態による、図２に示した反射防止膜を含む第２の光学素子の模式的構造図である。 この出願の実施形態による、反射防止膜の模式的構造図２である。 この出願の実施形態による、図３に示した反射防止膜を含む第１の光学素子の模式的構造図である。 この出願の実施形態による、図３に示した反射防止膜を含む第２の光学素子の模式的構造図である。 この出願の実施形態による、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜の第１のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜の第１のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜の第２のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜の第２のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜が形成されている、様々な屈折率を持つガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜が形成されている、様々な屈折率を持つガラスの反射率カーブである。 この出願の実施形態による、図２に示した反射防止膜を含む光学素子の模式的構造図１である。 この出願の実施形態による、図２に示した反射防止膜を含む光学素子の模式的構造図２である。 この出願の実施形態による、図６に示した反射防止膜を含む光学素子の模式的構造図１である。 この出願の実施形態による、図６に示した反射防止膜を含む光学素子の模式的構造図２である。 この出願の実施形態による、光学素子を製造するための方法についてのフローチャート１である。 この出願の実施形態による、光学素子を製造するための方法のフローチャート２である。 この出願の実施形態による、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工するステップについての第１のフローチャート１である。 この出願の実施形態による、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工するステップについての第１のフローチャート２である。 図２１のエンボスモールドを製造するステップについてのフローチャート１である。 図２２のエンボスモールドを利用することによって硬化性材料層を製造してエンボス加工するステップについてのフローチャート１である。 この出願の実施形態による、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工するステップについての第２のフローチャート１である。 この出願の実施形態による、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工するステップについての第２のフローチャート２である。 図２５のエンボスモールドを製造するステップについてのフローチャート１である。 図２２のエンボスモールドを利用することによって硬化性材料層を製造してエンボス加工するステップについてのフローチャート２である。 この出願の実施形態による、カメラモジュールの模式的構造図である。 この出願の実施形態による、他の光学素子の模式図である。 この出願の実施形態による、端末の模式的構造図である。 この出願の実施形態による、端末として利用されるモバイルフォンの部分構造のブロック図である。

加えて、この出願の実施形態において、用語「例」又は「例えば」は、例、実例、又は説明を与えることを表すために利用される。この出願の実施形態において「例」又は「例えば」として説明される任意の実施形態又は設計様式は、より好適である又は他の実施形態又は設計様式より有利であると解釈されるべきではない。確かに、用語「例」、「例えば」などの使用は、特定の方式における関連概念を表すことが意図されている。

この出願の実施形態は、反射防止膜、光学素子、カメラモジュール、及び端末に関する。以下では、この出願の実施形態における関連概念を簡潔に説明する。

「少なくとも１つ」は、１つ以上を示し、「複数の」は２つ以上を示す。用語「及び／又は」は、関連付けられた対象物を説明するための関連付け関係について説明し、３つの関係が存在しうることを表す。例えば、Ａ及び／又はＢは、以下の３つのケース、即ち、Ａのみが存在すること、Ａ及びＢの両方が存在すること、そして、Ｂのみが存在することを表してよく、Ａ及びＢは、単一のもの又は複数のものであってよい。この出願の説明において、別の方法で記述されない限り、「／」は「又は」を意味する。例えば、Ａ／Ｂは、Ａ又はＢを示しうる。「以下のうちの少なくとも１つ」又はそれの類似表現は、これらのアイテムの任意の組み合わせを意味し、単一アイテム又は複数のアイテムの任意の組み合わせを含む。

ｐ波は、光電界方向が入射面に平行である光波である。

ｓ波は、光電界方向が入射面に垂直である光波である。

光導波路は、誘電体光導波路とも称され、光波の伝播をガイドする誘電体装置である。本明細書における光波は、可視光波だけでなく、紫外光波又は赤外光波などの非可視光波を含む。

光透過面は、光導波路のものであり、かつ光が光導波路を通過する面である。例えば、光導波路の入光面と光導波路の出光面とは、いずれも光導波路に含まれる光透過面である。

可視光は、電磁スペクトル内の、人間の目によって感知されることができる部分である。可視スペクトルは、正確な範囲を有しない。概して、人間の目によって感知されることができる電磁波の波長は、４００ｎｍと７６０ｎｍとの間にある。しかし、一部の人は、３８０ｎｍと７８０ｎｍとの間の波長を持つ電磁波を感知することができる。

垂直入射（normal incidence）は、入射波の波面法線が媒体境界面に垂直である入射ケースを示す。ここでは、入射角は０°に等しい。

斜め入射は、入射波の波面法線と媒体境界面との間の夾角が０°より大きく、かつ９０°より小さい入射ケースを示す。ここでは、入射角は、０°より大きく、かつ９０°より小さい。

総光透過率は、単一周波数での光の透過率というよりはむしろ、可視光（近赤外から近紫外まで）の透過率である。

屈折率は、材料中での光の速度に対する真空での光の速度（一般には、空気中での速度が真空での速度にほぼ等しいため、空気中での速度が利用される）の比である。材料の屈折率が高いほど、入射光を屈折する能力がより強いことを示す。

等価屈折率は、反射防止膜の等価屈折率モデルに基づく計算を通して得られる屈折率である。本明細書においては、等価屈折率モデルは、等価誘電理論に基づいて構築される。

外形精度は、正味の研磨面と理想面との間の誤差量である。外形精度は、２つのパラメータ、即ち、ＰＶ値とＲＭＳ値とを利用することによって示される。ＰＶ値は、ピークトゥバレー値（ピーク値と谷底値との間の差）であり、ＲＭＳ値は、平均二乗平方根（平均二乗平方根値）である。経験に基づき、ＲＭＳ値は、ＰＶ値の約１／３である。一般に、ＰＶ値は、外形精度を示すために利用される。

密積層分布方式は、ドットマトリックス配置方式である。この配置方式において形成されたドットマトリックス構造に含まれるユニットは、面の最良の空間利用率を実現するように面内に密に配置される。

凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面は、凸状構造のものであり、光透過面に平行であり、かつ光透過面までの最小距離を有する面である。

凸状構造のものであり、かつ光透過面から離れている面は、凸状構造のものであり、光透過面に平行であり、かつ光透過面までの最大距離を有する面である。

凸状構造の最大径長は、凸状構造が光透過面に平行である方向での、ある断面の形成された形状の最大長である。例えば、断面が円である場合、凸状構造の最大径長は、円の直径である。他の例において、断面が正方形である場合、凸状構造の最大径長は、正方形の対角線のものである。さらに他の例において、断面が非正則ポリゴンである場合、凸状構造の最大径長は、非正則ポリゴンに含まれ、かつ互いに最も遠く離れている２つの点の間の距離である。

凸状構造の最大径長が、光透過面から離れる方向に徐々に減少するため、凸状構造のものであり、かつ光透過面に平行である断面の形状の最大径長は、断面と光透過面との間の距離に関係すると理解されるべきである。断面と光透過面との間の距離が大きいほど、凸状構造のものであり、かつ光透過面に平行である断面の最大径長がより大きいことを示す。

幾何中心は、正則グラフの幾何中心と、非正則グラフの幾何中心とに分類される。正則グラフについて、正則グラフの幾何中心は、よく知られている。例えば、円の幾何中心は、円の中心であり、正方形の幾何中心は、２つの対角線の交点であり、三角形の幾何中心は、三角形の重心である。非正則グラフについて、非正則グラフの幾何中心は、以下のように、即ち、非正則グラフのエッジの任意の３つの点を選択し、次いで、３つの点に基づいて円を描き、３つの円弧の交点を中心点として利用する、というようにして決定される。

レンズは、透明材料製の非球面光学素子である。

赤外線カットオフフィルタは、熱吸収フィルタとも称され、赤外帯域を取り除くように構成されたフィルタである。

保護ダイアフラムは、レンズを保護するための光学素子であり、レンズの最外側に配置される。

イメージセンサは、感光面上の光学イメージを、光電デバイスの光電変換機能を利用することによって光学イメージに対応する割合で電気信号に変換する装置である。

ＣＭＯＳイメージセンサは、典型的な固体撮像センサである。ＣＭＯＳイメージセンサは、一般に、イメージ感知ユニットアレイ、列ドライバ、行ドライバ、逐次制御ロジック、アナログトゥデジタル変換、データバス出力インターフェース、及び制御インターフェースなどの様々な部品を含む。これらの部品は、一般に、同じシリコンチップに統合される。ＣＭＯＳイメージセンサの動作プロセスは、一般に、以下の部分、即ち、リセット、光電変換、積算、及び読み出しに分けられる。

関連技術において、低反射率を持つ様々な光学コーティングは、迷光を弱めるためにカメラモジュールに含まれる光学素子上に配置される。しかし、これらの光学コーティングは、光学素子の光入射角によって制限されるため、光学コーティングは、斜め入射光に対する光学素子の反射率を効果的に低減するために利用されることができない。図１は、可視光に対する光学コーティングが形成されているレンズの反射率カーブである。ここでは、４０°Ｒｓは、４０°の入射角で入射するｓ波の反射率カーブを表し、４０°Ｒｐは、４０°の入射角で入射するｐ波の反射率カーブを表し、４０°Ａｖｇは、４０°の入射角で入射するｓ波とｐ波との平均反射率カーブを表し、可視光（即ち、垂直光）の反射率カーブを示す。ここでは、０°は、０°の入射角での可視光の反射率カーブを表す。光学コーティングは、垂直入射光に対するレンズの反射率を効果的に低減するために利用されることができるが、４０°斜め入射光に対するレンズの反射率を効果的に低減するために利用されることはできないことを、図１を分析することを通して見いだすことができる。

上記の問題に対し、図２又は図６に示すように、この出願の実施形態は、反射防止膜１１０を提供する。反射防止膜１１０は、複数の凸状構造１１１を含む。図３、図５、図７、又は図８に示すように、複数の凸状構造１１１は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１に形成される。この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜１１０は、図３に示した光導波路を含まず、光導波路は、反射防止膜が適用される対象であると理解されるべきである。

図３及び図７は、反射防止膜１１０を含む第１の光学素子の模式的構造図である。光学素子１００に含まれる光導波路１２０の光透過面１２１は、平面状の光透過面１２１である。図５及び図８は、反射防止膜１１０を含む第２の光学素子の模式的構造図である。光学素子１００に含まれる光導波路１２０の光透過面１２１は、曲面状の光透過面１２１である。

説明を容易にするため、図２に示すように、この出願のこの実施形態において、凸状構造１１１のものであり、かつ光透過面１２１に近接する面は、凸状構造の底面と定義され、凸状構造１１１のものであり、かつ光透過面１２１から離れている面は、凸状構造の上面と定義され、光透過面１２１に近接する２つの隣接する凸状構造１１１の面の幾何中心の間の距離は、凸状構造の分布周期と定義される。反射防止膜１１０の厚さは、図２に示したＴで示される。凸状構造の底面の最大径長は、図２に示したＤ₁で示される。凸状構造の上面の最大径長は、図２に示したＤ₂で示される。凸状構造の高さは、図２に示したＨ₁で示される。接着層の高さは、図２に示したＨ₀で示される。凸状構造の分布周期は、図２に示したＷで示される。

図２又は図６に示すように、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁は、可視光波長の最小値より小さく、各凸状構造の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少し、各凸状構造の高さＨ₁は、３１０ｎｍ以上であり、凸状構造の分布周期Ｗは、２２０ｎｍ以下である。反射防止膜１１０に含まれる各凸状構造１１１は、底部から上部へと徐々に先細りし、各凸状構造１１１の最大径長と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とは、いずれも可視光波長の最小値より小さいと知得されることができる。この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜１１０は、各凸状構造１１１の最大径長と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とが、いずれも可視光波長の最小値より小さく、反射防止膜１１０に含まれる各凸状構造１１１が底部から上部へと徐々に先細るとき、ナノモスアイ構造を有すると上記から知得されることができる。ナノモスアイ構造を持つ反射防止膜１１０に含まれる各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間との識別は、可視光に対してなされず、それにより、反射防止膜１１０は、均一な薄膜とみなされる。

図４は、この出願の実施形態による、光透過面１２１から離れる方向における凸状構造１１１の屈折率の変化傾向図である。図４の水平座標の矢印方向は、光透過面１２１から離れる方向を表す。垂直座標は、凸状構造１１１の屈折率である。各凸状構造１１１の最大径長が、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少するとき、凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少すると、図４から知得されることができる。従って、反射防止膜１１０は、光透過面１２１に近づく方向に屈折率が徐々に増加する均一な薄膜と見なされうる。

光導波路入光面として利用される光透過面１２１が、光導波路１２０に形成されるとき、斜め入射光に対する光学素子１００の反射率が、この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜１１０を利用することによって低減されるプロセスは、以下のようになる。可視光が斜め入射方式で、反射防止膜１１０が形成されている光導波路１２０に照射されるとき、反射防止膜１１０に含まれる各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とに関する識別は、可視光に対してなされない。加えて、可視光に対する反射防止膜１１０の屈折率は、可視光が光導波路に入るまで、光導波路入光面として利用される光透過面１２１に近づく方向に徐々に増加し、突然の屈折率変化に起因して光導波路の反射率が増加する問題を回避する。

光導波路入光面として利用される光透過面１２１が、光導波路１２０に形成されるとき、斜め入射光に対する光学素子１００の反射率が、この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜１１０を利用することによって低減されるプロセスは、以下のようになる。可視光が光導波路入光面から反射防止膜１１０へと照射されるとき、可視光に対する反射防止膜１１０の屈折率は、可視光が反射防止膜１１０の外に透過されるまで、光導波路入光面として利用される光透過面１２１から離れる方向に最大値から最小値へと徐々に減少し、突然の屈折率変化に起因して光導波路１２０の反射率が増加する問題を回避する。

図３、図５、図７、又は図８に示した光導波路１２０の光透過面１２１に形成される、図２又は図６に示した反射防止膜１１０は、図３、図５、図７、又は図８に示した光学素子１００の一部になりうるし、又は、もちろん、実際の要件に従って、図１５～図１８に示した光学素子の一部になりうると上記から知得されることができる。この場合において、各凸状構造１１１の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率の突然の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。しかし、凸状構造の分布周期Ｗと各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁とが、いずれも可視光波長の最小値より小さいため、各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とに関する識別は、反射防止膜１１０に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子１００の反射率は、反射防止膜１１０を利用することによって低減されることができる。加えて、各凸状構造の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であり、かつ凸状構造の分布周期Ｗが２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子１００の形状についての制限なしに、反射防止膜１１０は、可視光が光学素子１００に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子１００は、可視光に対する極めて低い反射率を有する。

図２又は図６に示した反射防止膜１１０は、比較的シンプルな構造を有すると理解されるべきである。反射防止膜１１０は、各凸状構造１１１に関する構造的な改善をする代わりに、反射防止膜１１０に含まれるパラメータを制御することのみを通して、可視光に対する極めて低い反射率を有しうる。加えて、反射防止膜１１０は、多層反射防止構造を利用する代わりに、複数の凸状構造１１１を含む必要のみがある。従って、反射防止膜１１０は、構造が比較的シンプルであり、かつ処理がシンプルであり、比較的軽くて薄くもあり、光学素子の軽量化及び薄型化を容易にする。

いくつかの可能な実装において、図２に示すように、凸状構造１１１を製造する困難さを低減するために、さらに、図２に示した各凸状構造の高さＨ₁は４５０ｎｍ以下であり、凸状構造の分布周期Ｗは１６０ｎｍ以上であり、各凸状構造１１１の屈折率が、光透過面から離れる方向にゆっくりと変化することが保証されるときに凸状構造１１１の製造を容易にする。

いくつかの可能な実装において、図２又は図６に示すように、各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂は、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁の０倍～０．３倍である。

図６に示すように、各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂が、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁の０倍であり、各凸状構造の上面の面積が０であるとき、この場合において、各凸状構造１１１は、実質的に、光透過面１２１から離れる方向に徐々に細くなる針状の凸状構造である。針状の凸状構造は、図６に示した反射防止膜１１０に含まれる凸状構造１１１である。図６に示した反射防止膜１１０は、平面状の光透過面上に形成されてよく、又は曲面状の光透過面上に形成されてよい。図７は、図６に示した反射防止膜１１０を含む第１の光学素子の模式的構造図である。光学素子１００に含まれる光導波路の光透過面１２１は、平面的な光透過面である。図８は、図７に示した反射防止膜１１０を含む第２の光学素子の模式的構造図である。光学素子１００に含まれる光導波路の光透過面１２１は、曲面状の光透過面である。

針状の凸状構造が、図６に示した反射防止膜１１０に含まれる凸状構造１１１であるとき、可視光に対する各凸状構造１１１の屈折率は、各凸状構造１１１の屈折率が空気の屈折率に等しくなるまで、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。言い換えると、反射防止膜１１０の等価屈折率は、反射防止膜１１０の等価屈折率が空気の屈折率に等しくなるまで、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。このようにして、可視光が空気から光学素子１００に照射されることができるとき、反射防止膜１１０は、より自然な方式で可視光が徐々に屈折できるようにすることができ、より良好に光学素子１００の反射率を調整及び制御し、それにより、光学素子１００は、極めて低い反射率を有する。

図６に示したように、各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂が、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁の０倍であるとき、各凸状構造の上面の面積は０であり、各凸状構造１１１の外形は、テーパ外形であることに留意されるべきである。例えば、各凸状構造１１１の外形がテーパ外形であるとき、各凸状構造１１１は、テーパ凸状構造、例えば、円錐凸状構造、又はピラミッド凸状構造などのテーパ凸状構造である。ピラミッド凸状構造は、正三角形ピラミッド凸状構造、四角形ピラミッド凸状構造、又は六角形ピラミッド凸状構造であってよい。代替的に、ピラミッド凸状構造は、非正則ピラミッド構造であってよい。このことは、本明細書において限定されない。

図２に示すように、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁に対する各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂の比は、０より大きく、かつ０．３以下であるとき、この場合において、図２に示すように、各凸状構造１１１のものであり、かつ光透過面１２１から離れている面の面積は、０より大きく、それにより、反射防止膜１１０は、図３又は図５に示した光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができる。加えて、各凸状構造１１１が製造されるとき、各凸状構造１１１の製造精度を低減し、さらに、反射防止膜１１０を製造することの困難さを低減するために、各凸状構造の上面の面積が０に制限される必要はない。加えて、各凸状構造１１１の最大径長が光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少するため、対応する凸状構造の上面の最大径長Ｄ₁に対する各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁の比が大きくなるほど、各凸状構造の高さＨ₁が大きくなることを示す。より高い凸状構造１１１は、より高い製造困難性を示す。これに基づき、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁に対する各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂の比は、適切な範囲内に各凸状構造の高さＨ₁を制御するように制御される。このようにして、各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少し、凸状構造１１１の屈折率が減少することが保証されるときに各凸状構造１１１を製造する困難性をさらに低減する。

図２に示すように、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁に対する各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂の比が、０より大きく、かつ０．３以下であるとき、各凸状構造１１１の外形は、ガウシアン外形又はパラボラ外形でありうることに留意されるべきである。もちろん、製造困難性を低減するために、凸状構造１１１が実際に製造されるとき、製造された凸状構造１１１は、テーパ凸状構造に類似する円錐台凸状構造であってもよい。円錐台凸状構造は、図２に示した反射防止膜１１０に含まれる凸状構造である。

いくつかの可能な実装において、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁に対する、図２又は図６に示した各凸状構造の高さＨ₁の比は、１以上３までであり、各凸状構造１１１の屈折率が、図３又は図５に示した光透過面１２１から離れる方向に減少する割合を最適化する。従って、可視光が光学素子１００に照射されるとき、凸状構造１１１の屈折率の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題がさらに回避されることができ、光学素子１００の反射率がさらに低減されることを保証する。例えば、凸状構造の高さＨ₁は、３１０ｎｍに等しく、対応する凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁は、２２０ｎｍに等しい。この場合において、対応する凸状構造のものであり、かつ光透過面に近接する面の最大径長に対する凸状構造の高さの比は、１．４である。

いくつかの可能な実装において、図２に示した反射防止膜１１０に含まれる複数の凸状構造１１１が、図３又は図５に示した光透過面１２１を全体的に利用することができることを保証するため、複数の凸状構造１１１の分布方式は、密積層分布方式などのアレイ分布方式である。複数の凸状構造１１１が密積層分布方式を利用するとき、光導波路１２０に含まれる光透過面１２１は、複数の凸状構造１１１が可能な限り多く光透過面１２１上に均等に形成されるように、全体的に利用されうる。このようにして、反射防止膜１１０のために均質的な薄膜が等しく形成され、光学素子１００の反射率をさらに低減する。図６に示した反射防止膜１１０に含まれる複数の凸状構造１１１は、密積層分布方式などのアレイ分布方式を利用してもよいと理解されるべきである。

図２又は図６に示すように、複数の凸状構造１１１の分布方式が、密積層分布方式などのアレイ分布方式であるとき、密積層分布方式は、四辺形密積層分布方式、六角形密積層分布方式などであってよい。このことは、本明細書において限定されない。各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁は、凸状構造の分布周期Ｗに等しい。複数の凸状構造１１１の分布方式は、密積層分布方式であり、複数の凸状構造１１１が可能な限り多く均等に光透過面１２１上に形成されるように、光導波路１２０に含まれる光透過面１２１を全体的に利用する。このようにして、反射防止膜１１０のための均質的な膜層が等しく形成されることができ、光学素子１００の反射率をさらに低減する。例えば、各凸状構造１１１の底面が円であるとき、各凸状構造１１１の底面の最大径長Ｄ₁は、対応する凸状構造１１１の底面の直径である。この場合において、２つの隣接する凸状構造１１１の底面の円の中心の間の距離は、底面の直径に等しい。従って、複数の凸状構造１１１は、光透過面１２１上で密積層分布方式を利用し、光透過面１２１の範囲を全体的に利用する。

図２又は図６に示した凸状構造の分布周期Ｗが１６０ｎｍ～２００ｎｍであるとき、２つの隣接する凸状構造１１１の間の距離はさらに低減されてよく、それにより、凸状構造１１１は、可能な限り多く、光透過面１２１上に分布される。加えて、可視光に対する凸状構造１１１に関する識別がなされる確率は、さらに低減されることができ、反射防止膜１１０を利用することによって、より良好に、可視光に対する光学素子１００の反射率を低減する。凸状構造１１１が光透過面上に均等に分布されることができることを保証するために、凸状構造の分布周期Ｗは、可能な限り矛盾なく維持されるべきであると理解されるべきである。

例えば、各凸状構造１１１の底面の形状は円であり、凸状構造１１１の底面の直径は５０ｎｍ～２５０ｎｍである。複数の凸状構造１１１が密積層分布方式を利用するとき、２つの隣接する凸状構造１１１の円の中心の間の距離は、１６０ｎｍ～２００ｎｍであり、各凸状構造１１１の底面の直径は、１６０ｎｍ～２００ｎｍである。

いくつかの可能な実装において、図２又は図６に示すように、光透過面１２１と凸状構造１１１との間の接着を改善するために、反射防止膜１１０は、接着層１１２をさらに含む。接着層１１２は、複数の凸状構造１１１の底面に配置される。反射防止膜１１０が、光導波路１２０上に形成されるとき、まず、接着層１１２が光透過面１２１上に形成され、次いで、複数の凸状構造１１１が、接着層１１２のものであり、かつ図３、図５、図７、又は図８に示した光透過面１２１から離れている面上に形成される。このようにして、接着層１１２は、光透過面１２１と複数の凸状構造１１１との間の接着を改善するために利用されることができ、接着層１１２は、エンボス加工技術などの製造プロセスを利用することによって複数の凸状構造１１１が製造されるときの光透過面１２１に対する圧力又は損傷さえも緩衝するためにさらに利用されることができる。このようにして、接着層１１２は、光透過面１２１に対する保護機能を有する。従って、以下のケース、即ち、エンボス加工技術などの製造プロセスを利用することによって光透過面１２１上に複数の凸状構造１１１が直接製造されるときのプロセス誤差などの問題に起因して光透過面１２１が損傷されること、が回避されることができる。

図２又は図６に示したように、接着層の高さＨ₀（接着層の高さＨ₀の方向は、凸状構造の高さＨ₁の方向と一致する）は、可能な限り、０ｎｍより大きく、かつ１０ｎｍ未満になるように保証されるべきである。このようにして、光透過率に対する接着層１１２の効果は最小化され、光透過面１２１上に形成される接着層１１２は、明らかなしわがない良好な平坦さを有し、それにより、接着層１１２と光透過面１２１とは、互いにしっかりと密着される。

図２に示すように、反射防止膜１１０が接着層１１２を有しないとき、反射防止膜の厚さＴ（反射防止膜の厚さＴの方向は、接着層の高さＨ₀の方向と一致する）は、３１０ｎｍ～４５０ｎｍであり、即ち、反射防止膜の厚さは、実質的に凸状構造の高さＨ₁である。反射防止膜１１０が、高さが１０ｎｍ未満の接着層１１２を含むとき、反射防止膜の厚さＴは、３２０ｎｍより大きく、かつ４６０ｎｍ未満であり、接着層１１２を通過する光のロス割合を低減し、凸状構造１１１が光透過面１２１に安定的に形成されることができることを保証する。

可視光が反射防止膜１１０を通過するときのロスを低減するために、図２に示すように、接着層１１２の総光透過率、及び／又は各凸状構造１１１の総光透過率は、９０％より大きい。

突然の屈折率変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避するために、図２に示すように、接着層１１２に含まれる材料の屈折率と、各凸状構造１１１に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、接着層１１２の屈折率が、凸状構造１１１の屈折率に比較的近いことを保証し、それによって、屈折率変化に起因して光に対する光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。

接着層１１２に含まれる材料、及び凸状構造１１１に含まれる材料は、実際の要件に従って選択されうる。例えば、接着層１１２に含まれる材料は、変性シラン接着剤などのシラン材料である。例えば、変性シラン接着剤は、様々なシラン末端ポリエーテル接着剤であってよい。凸状構造１１１に含まれる材料は、接着層１１２に含まれる材料の屈折率に基づいて選択されうる。

いくつかの可能な実装において、図３、図５、図７、又は図８に示すように、複数の凸状構造１１１は、エンボス加工技術を利用することによって光透過面１２１上に形成され、それにより、複数の凸状構造１１１を製造することが一度に完了されることができ、それによって、反射防止膜１１０を製造する速度を改善する。

複数の凸状構造１１１がエンボス加工技術を利用することによって光透過面１２１上に形成されるとき、凸状構造１１１は、光硬化性接着剤の硬化、又は熱硬化性接着剤の硬化を通して形成された凸状構造である。例えば、凸状構造１１１が、光硬化性接着剤の硬化を通して形成された凸状構造であるとき、透明モールドを利用することによって光硬化性接着剤をエンボス加工するプロセスにおいて、凸状構造１１１をエンボス加工するステップは、光照射を通して完了されうる。この場合において、エンボス加工技術及び光硬化プロセスが連続的に実行されて、連続的に凸状構造１１１を製造する。凸状構造１１１が、熱硬化性接着剤の硬化を通して形成された凸状構造１１１であるとき、モールドを利用することによって熱硬化性接着剤をエンボス加工するプロセスにおいて、エンボス加工における凸状構造１１１が加熱され、それにより、凸状構造１１１は素早く硬化される。接着層１１２が存在するとき、接着層１１２に含まれる材料が、可能な限り、複数の凸状構造１１１に含まれる材料に近いことが保証されるために、接着層１１２に含まれる材料は、光硬化性接着剤又は熱硬化性接着剤が選択されるときに検討されるべきであると理解されるべきである。例えば、接着層１１２に含まれる材料の屈折率と、各凸状構造１１１に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、接着層１１２に含まれる材料は、シラン材料であり、各凸状構造１１１のために選択された材料は、紫外光硬化性接着剤である。この場合において、シラン材料の屈折率と紫外光硬化性接着剤の屈折率は、屈折率の間の差が－０．２～０．２の要件を満たすように、いずれも検討される必要がある。

この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜が、垂直入射光及び斜め入射光についての光学素子の反射率を効果的に低減するために利用されることができることをさらに改善するために、反射防止膜の構造パラメータが設定され、０°（垂直入射）及び４０°（斜め入射）の入射角での入射面に形成される反射防止膜１１０を持つガラスの反射率カーブがシミュレートされている。反射防止膜に含まれる複数の凸状構造１１１は、六角形密積層分布方式でガラスの入光面上に分布される。各凸状構造１１１は、六角形ピラミッドである。入射角が０°に設定されるとき、ガラスの最大反射率Ｒ_maxは、０．５％以下であり、垂直入射におけるガラスの比較的低い反射率を満たす。入射角が４０°に等しいとき、ガラスの最大反射率Ｒ_maxは、１％以下であり、斜め入射におけるガラスの比較的低い反射率を満たす。

表１は、反射防止膜の第１のグループの構造パラメータリストを示す。表１に列挙された反射防止膜の第１のグループは、凸状構造の高さＨ₁を除いて同じ構造パラメータを有する。表１におけるカーブラベルは、図９及び図１０における、反射防止膜の第１のグループが形成されているガラスの反射率カーブラベルを示す。

図９は、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜の第１のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。入射角が０°に等しく、反射防止膜の第１のグループに含まれる凸状構造の高さＨ₁が３００ｎｍに等しいとき、波長が約４２０ｎｍである可視光に対する反射防止膜の最大反射率は、極めて大きく、ほぼ１％に等しいことが図９から見いだされうる。反射防止膜の第１のグループに含まれる凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であるとき、様々な波長を持つ可視光に対する反射防止膜の最大反射率は、全て０．５％以下である。

図１０は、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜の第１のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。入射角が４０°に等しく、反射防止膜の第１のグループに含まれる凸状構造の高さＨ₁が３００ｎｍに等しいとき、波長が７００ｎｍ以内である可視光に対する反射防止膜の最大反射率は、１％より大きいことが図１０から見いだされうる。反射防止膜の第１のグループに含まれる凸状構造の高さが３１０ｎｍ以上であるとき、７００ｎｍ以内の可視光に対する反射防止膜の最大反射率は、０．５％以下である。

反射防止膜の第１のグループに含まれる各凸状構造の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であるとき、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率Ｒ_maxは、入射角が０°に等しいときの垂直入射のケースで０．５％以下であり、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率Ｒ_maxは、入射角が４０°に等しいときの垂直入射のケースで１％以下であると上記から知得されることができる。加えて、凸状構造１１１を製造する困難性を低減するために、凸状構造１１１の最大高さは、４５０ｎｍに設定される。言い換えると、各凸状構造の高さが３１０ｎｍ～４５０ｎｍであるとき、凸状構造１１１は、容易に製造されることができる。加えて、反射防止膜１１０が形成されるガラスが、可視光に対する比較的低い反射率を有し、そして、波長が４２０ｎｍ～７００ｎｍの範囲内にある可視光に対するより一層低い反射率を有することが、２つの入射方式、即ち、垂直入射方式と斜め入射方式とで保証されることができる。

表２は、反射防止膜の第２のグループの構造パラメータリストを示す。表２に列挙された反射防止膜の第２のグループは、凸状構造の分布周期Ｗ及び底面の最大径長Ｄ₁を除いて同じ構造パラメータを有する。

図１１は、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜の第２のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。入射角が０°に等しいときの垂直入射のケースにおいて、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの反射率は僅かに変化し、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率は、全て０．５％未満であることが図１１から見いだされうる。

図１２は、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜の第２のグループが形成されているガラスの反射率カーブである。図１２における矢印の方向は、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜の第２のグループが形成されているガラスの反射率カーブの配置順序を表し、反射防止膜の第２のグループに含まれる凸状構造の分布周期Ｗは、矢印によって示された方向に徐々に増加する。入射角が４０°に等しいときの斜め入射のケースにおいて、凸状構造の分布周期の増加に伴い、共鳴ピークは、凸状構造の分布周期が２２０ｎｍより大きいときに青色光帯域に現れ、以下の要件、即ち、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率Ｒ_maxが、入射角が０°に等しいときの垂直入射のケースにおいて０．５％以下であり、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率Ｒ_maxが、入射角が４０°に等しいときの垂直入射のケースにおいて１％以下であること、が満たされることができないと、図１２から見いだされうる。従って、反射防止膜１１０に含まれる凸状構造の分布周期Ｗは、２２０ｎｍ以下であるべきである。加えて、凸状構造の分布周期Ｗが小さいほど、凸状構造を製造する困難性が高くなることを示す。従って、凸状構造の分布周期Ｗの最小値は、１６０ｎｍに設定される。

この出願のこの実施形態において提供される反射防止膜に含まれる凸状構造の分布周期Ｗは、１６０ｎｍ～２２０ｎｍであることが知得されうる。この場合において、凸状構造は、容易に製造されることができる。加えて、２つの入射方式、即ち、垂直入射方式及び斜め入射方式において、反射防止膜が形成されているガラスが可視光に対する比較的低い反射率、特に、４２０ｎｍと７００ｎｍとの間で可視光に対する、より一層低い反射率を有することが、さらに保証されることができる。

この出願の実施形態は、光学素子１００をさらに提供する。図３又は図７に示すように、光学素子１００は、光導波路１２０と、反射防止膜１１０とを含む。反射防止膜１１０は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１上に配置され、それにより、複数の凸状構造１１１が、光導波路１２０に配置される。複数の凸状構造１１１は、エンボス加工方式などで光透過面１２１上に形成されうる。凸状構造１１１のために流動性を持つ材料が選択される場合、エンボス加工が完了した後、材料の物理化学特性に基づく硬化プロセスが実行されて、光透過面１２１上に複数の凸状構造１１１を形成する必要がある。光透過面１２１は、図３又は図７に示した平面状の光透過面であってよく、又は、図５又は図８に示した曲面状の光透過面であってよいと理解されるべきである。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子１００は、光導波路１２０だけでなく、上述した反射防止膜１１０も含む。反射防止膜１１０は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１上に形成された複数の凸状構造１１１を含む。各凸状構造１１１の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率の突然の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。加えて、凸状構造１１１の分布周期Ｗと、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁とが、いずれも可視光波長の最小値より小さいため、各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とに関する識別は、反射防止膜１１０に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子１００の反射率は、反射防止膜１１０を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であり、凸状構造の分布周期Ｗが２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子１００の形状についての制限なしに、反射防止膜１１０は、可視光が光学素子１００に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子１００は、可視光に対する極めて低い反射率を有することが分析を通して見いだされる。

可能な実装において、図５又は図８に示すように、光学素子１００に含まれる反射防止膜１１０が、図２に示した反射防止膜であるとき、光学素子１００の最大反射率は、入射角が０°に等しいときに０．５％以下であり、光学素子１００の最大反射率は、入射角が４０°以下のときに１％以下である。このようにして、光学素子１００がカメラモジュールに適用されるとき、ゴースト問題及びフレア問題は、光入射角が４０°以下であるときにカメラモジュールによって撮られた写真に生じない。

可能な実装において、図５又は図８に示すように、各凸状構造１１１に含まれる材料の屈折率と、光導波路１２０に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、各凸状構造１１１に含まれる材料の屈折率が光導波路１２０に含まれる材料の屈折率に比較的近いことを保証し、それによって、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率の突然の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。

例えば、図２又は図６に示すように、反射防止膜１１０に含まれる複数の凸状構造１１１は、六角形密積層分布方式でガラスの入光面上に分布している。各凸状構造１１１は、六角形ピラミッドである。凸状構造の分布周期Ｗは１８０ｎｍであり、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁は１８０ｎｍであり、各凸状構造の高さＨ₁は３７５ｎｍであり、接着層の高さＨ₀は０に等しく、各凸状構造の上面の最大径長Ｄ₂は０ｎｍに等しく、ガラスの屈折率ｎ₀は１．５０９９に等しい。

図１３は、入射角が０°に等しいときの、反射防止膜１１０が形成されている、様々な屈折率を持つガラスの反射率カーブである。図１４は、入射角が４０°に等しいときの、反射防止膜１１０が形成されている、様々な屈折率を持つガラスの反射率カーブである。図１３及び図１４において、カーブＡに対応するガラス屈折率は１．３０９９であり、カーブＢに対応するガラス屈折率は１．３４９９であり、カーブＣに対応するガラス屈折率は１．３８９９であり、カーブＤに対応するガラス屈折率は１．４２９９であり、カーブＥに対応するガラス屈折率は１．４６９９であり、カーブＦに対応するガラス屈折率は１．５０９９であり、カーブＧに対応するガラス屈折率は１．５４９９であり、カーブＨに対応するガラス屈折率は１．５８９９であり、カーブＩに対応するガラス屈折率は１．６２９９であり、カーブＪに対応するガラス屈折率は１．６６９９であり、カーブＫに対応するガラス屈折率は１．７０９９である。

入射角が４０°に等しいとき、反射防止膜１１０が形成されている、様々な屈折率を持つガラスの最大屈折率は、全て１％以下の要件を満たすことが、図１３から知得されることができる。入射角が４０°に等しく、反射防止膜の屈折率が１．５８９９より大きいとき、青色光（４００ｎｍの位置）帯域においてガラス面反射率に影響を及ぼす共鳴が生じることが、図１４から知得されることができる。従って、反射防止膜の屈折率は、１．５８９９以下であるべきである。反射防止膜の屈折率がガラスの屈折率より小さいとき、様々な波長を持つ可視光に対するガラスの反射率は、入射角が０°に等しいときに増加する。反射防止膜の屈折率が１．３０９９より小さいとき、入射角が０°に等しいときの様々な波長を持つ可視光に対するガラスの最大反射率Ｒ_maxが０．５％以下であるという要件は満たされない。従って、反射防止膜の屈折率は、１．３０９９以上であるべきである。

反射防止膜の屈折率が１．３０９９～１．５８９９であるとき、反射防止膜が形成されているガラスは、垂直入射及び斜め入射において、可視光に対する比較的低い反射率の要件を満たすことができることが、上記から知得されることができる。具体的な要件については、上記の内容を参照されたい。言い換えると、反射防止膜に含まれる材料の屈折率と、ガラスに含まれる材料の屈折率との間の差が－０．２～０．２であるとき、反射防止膜が形成されているガラスは、反射率要件を満たすことができる。この場合において、反射防止膜に含まれる材料の屈折率と、光導波路に含まれる材料との差が－０．２～０．２であるとき、反射防止膜に含まれる材料の屈折率は、光導波路に含まれる材料の屈折率に近く、反射防止膜は、光導波路の反射率に不利な影響を及ぼさないとみなされうる。反射防止膜に含まれる材料の屈折率と、ガラスに含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２であり、それは、凸状構造に含まれる材料の屈折率と、接着層に含まれる材料の屈折率との間の差にも適用可能であると理解されるべきである。

光透過率を改善し、光ロスを低減するために、図３、図５、図７、及び図８に示すように、光導波路１２０の総光透過率及び／又は反射防止膜１１０の総光透過率は９０％より大きく、光透過率を増加させ、光導波路１２０及び／又は反射防止膜１１０に入る光が外に透過されることができないために引き起こされる光ロス問題を回避する。

いくつかの可能な実装において、図３、図５、図７、及び図８に示された光導波路１２０のために選択される比較的大きい数量のタイプがあってよい。詳細については、上記の説明を参照されたい。光導波路１２０に含まれる材料は、透明材料である。材料は、一般的な無機の透明ガラス材料であってよく、又は有機の透明プラスチックであってよい。これについては、本明細書で限定されない。光導波路１２０についての大きな選択範囲がある。例えば、図２９に示すように、反射防止膜１１０は、カメラモジュールに適用されるとき、反射防止膜１１０は、保護ダイアフラム５００、レンズ４００、又は赤外線カットオフフィルタ６００上に形成されうる。保護ダイアフラム５００は、紫外線融着シリカガラス、赤外線融着シリカガラス、又はカルシウムフッ化物などの任意の光学ガラスである。このことは本明細書において限定されない。レンズ２００は、様々な材料で作られる凸レンズ、又は凹レンズである。赤外線カットオフフィルタ６００は、それに限定されないが、青色ガラスである。赤外線をカットオフするために利用されることができる材料が、利用されることができる。

いくつかの可能な実装において、反射防止膜１１０は、光透過面１２１によって制限されない。従って、複数の凸状構造１１１が形成されている光透過面１２１は、図３又は図７に示した光導波路１２０に含まれる光透過面１２１、又は、図５又は図８に示した光導波路１２０に含まれる光透過面１２１である。図３又は図７に示した光導波路１２０に含まれる光透過面１２１は、平面状の光透過面であり、図５又は図８に示した光導波路１２０に含まれる光透過面１２１は、曲面状の光透過面である。曲面状の光透過面は、蒲鉾形の光透過面又は波形の光透過面であってよく、又は他の特別な形状の光透過面であってよい。例えば、図２９に示すように、レンズ２００は、蒲鉾形の光透過面を有し、赤外線カットオフフィルタ６００及び保護ダイアフラム５００は、平面状の光透過面を有する。

反射防止膜１１０が接着層１１２を含むとき、反射防止膜１１０が形成されている光透過面１２１が、図５又は図８に示すように曲面状の光透過面である場合、反射防止膜１１０に含まれる接着層１１２は、曲面状の接着層であり、光透過面１２１の外形に密着され、接着層１１２と光透過面１２１との間の密着性能を増加し、それにより、接着層１１２と光透過面１２１とは互いに密に接する。反射防止膜１１０が形成されている光透過面１２１が、図３又は図７に示すように平面状の光透過面であるとき、反射防止膜１１０に含まれる接着層１１２は、平面状の入射面であり、接着層１１２と光透過面１２１との間の密着性能を増加し、それにより、接着層１１２と光透過面１２１とは互いに密に接する。

いくつかの可能な実装において、図１５又は図１６に示すように、光導波路１２０は、少なくとも、互いに対向配置されている第１の光透過面１２１ａと第２の光透過面１２１ｂとを含む。反射防止膜１１０は、第１の光透過面１２１ａ上に形成されてよく、又は第２の光透過面１２１ｂ上に形成されてよい。もちろん、反射防止膜１１０は、光学素子１００の反射率をさらに低減するために、第１の光透過面１２１ａ及び第２の光透過面１２１ｂの両方に形成されてよい。

例において、図１５は、この出願の実施形態による、図２に示した反射防止コーティング１３０を含む光学素子１００を示し、図１７は、この出願の実施形態による、図３に示した反射防止コーティング１３０を含む光学素子１００を示す。図１５又は図１７に示すように、反射防止膜１１０は、第１の光透過面１２１ａ上に形成され、反射防止コーティング１３０は、第２の光透過面上に形成され、反射防止コーティング１３０を利用することによって、光導波路１２０の反射率をさらに低減する。

反射防止コーティング１３０と第２の光透過面１２１ｂとの間の良好な接着性能を保証するために、反射防止コーティング１３０は、真空蒸着方式で第２の光透過面１２１ｂ上に形成されるか、又は、マグネトロンスパッタリングなどの他の膜形成方式で第２の光透過面１２１ｂ上に形成されうる。

反射防止コーティング１３０は、単層膜構造であってよく、又は多層膜構造であってよい。例えば、図１５に示すように、反射防止コーティング１３０は、第２の光透過面１２１ｂに近づく方向に交互に配置される第１の材料層１３１と第２の材料層１３２とを含む。図１５は、第１の材料層１３１及び第２の材料層１３２の２つのグループを示す。第１の材料層１３１の屈折率と第２の材料層の屈折率とは、いずれも比較的低い。第１の材料層１３１の屈折率は、第２の材料層１３２の屈折率より小さい。従って、反射防止コーティング１３０が形成されている光導波路１２０の反射率は、交互に配置されている第１の材料層１３１及び第２の材料層１３２を利用することによって低減される。

第１の材料層１３１及び第２の材料層１３２のために、比較的広い範囲の材料が選択されることができる。例えば、第１の材料層１３１は、フッ化マグネシウム材料層、又は二酸化ケイ素材料層である。フッ化マグネシウム材料層に含まれるフッ化マグネシウムの屈折率は１．３８であり、様々な作製法による、二酸化ケイ素材料層に含まれる二酸化ケイ素の屈折率は１．４２～１．５２の範囲でありうる。第２の材料層１３２は、二酸化チタン材料層である。二酸化チタン材料層に含まれる二酸化チタンの屈折率は、２．５２である。

他の例において、図１６は、この出願の実施形態による、図２に示した反射防止膜１１０を含む光学素子１００の模式的構造図である。図１８は、この出願の実施形態による、図３に示した反射防止膜１１０を含む光学素子１００の模式的構造図である。図１６又は図１８に示すように、第１の反射防止膜１１０ａは、第１の光透過面１２１ａ上に形成され、第２の反射防止膜１１０ｂは、第２の光透過面１２１ｂ上に形成される。第１の反射防止膜１１０ａ及び第２の反射防止膜１１０ｂは、いずれも、図２、図３、又は図５～図８のいずれか１つに示された反射防止膜であり、光導波路１２０の反射率をより良好に低減する。例えば、第１の反射防止膜１１０ａ及び第２の反射防止膜１１０ｂに含まれる凸状構造は、図１６に示した円錐台凸状構造であってよく、又は、針状凸状構造又は図１８に示したテーパ凸状構造であってよい。

図１５～図１８のいずれか１つに示すように、第１の光透過面１２１ａが光導波路入光面であるとき、第２の光透過面１２１ｂは光導波路出光面であり、第１の光透過面１２１ａが光導波路出光面であるとき、第２の光透過面１２１ｂは光入光面であると理解されるべきである。

図１９に示すように、この出願の実施形態は、光学素子を製造するための方法をさらに提供する。光学素子１００を製造するための方法は、以下のステップを含む。

ステップ１００：光導波路を提供する。

ステップ２００：光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に反射防止薄膜を形成する。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子を製造するための方法を利用することによって製造される光学素子は、光導波路だけでなく、上述した反射防止膜も含む。

図３に示すように、反射防止膜は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１上に形成された複数の凸状構造１１１を含む。各凸状構造１１１の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率の突然の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。加えて、凸状構造の分布周期Ｗと、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁とは、いずれも可視光波長の最小値より小さいため、各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間との識別は、反射防止膜１１０に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子１００の反射率は、反射防止膜１１０を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であり、凸状構造の分布周期Ｗが２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子１００の形状についての制限なしに、反射防止膜１１０は、可視光が光学素子１００に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子１００は、可視光に対する極めて低い反射率を有し、端末によって撮られる写真の鮮明度を改善し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を効果的に回避することが、分析を通して見いだされる。

いくつかの可能な実装において、図２０に示すように、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に反射防止薄膜を形成するステップは、以下のステップを含む。

ステップ２２０：光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に硬化性材料層を形成する。硬化性材料は、光透過面上に硬化性材料層を形成するために、接着剤塗布方式又はコーティング方式などの方法で少なくとも１つの光透過面上に塗布されうる。

ステップ２３０：エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して、複数の凸状構造を得る。

ステップ２４０：複数の凸状構造を硬化する。硬化方法は、硬化性材料層に含まれる硬化性材料に基づいて選択されうる。

例えば、硬化性材料層に含まれる硬化性材料は、熱硬化性材料である。複数の凸状構造を硬化するステップは、熱硬化方式で複数の凸状構造を硬化するステップを含む。複数の凸状構造が熱硬化方式で硬化される前に、エンボスモールドが取り除かれる必要があり、次いで、複数の凸状構造が熱硬化方式で硬化されると理解されるべきである。

他の例について、硬化性材料層に含まれる硬化性材料は、光硬化性材料であり、エンボスモールドは、透明エンボスモールドである。複数の凸状構造を硬化するステップは、光硬化方式で複数の凸状構造を硬化するステップを含む。エンボスモールドが透明エンボスモールドであるため、エンボスモールドは、複数の凸状構造が硬化された後に取り除かれる必要はなく、即ち、複数の凸状構造は、光硬化方式で硬化されうると理解されるべきである。

いくつかの可能な実装において、図２０に示すように、光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に反射防止薄膜が形成される前で、光導波路が提供された後、光学素子を製造するための方法は、以下のステップをさらに含む。

ステップ２１０：光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に接着層を形成し、ここで、接着層は、複数の凸状構造が安定的に光透過面上に形成されることができることを保証し、光透過面上に複数の凸状構造が直接製造されるときに光透過面に引き起こされる損傷を回避するように、光透過面と複数の凸状構造とを接着するように構成される。

例において、光透過面は、曲面状の光透過面である。図２１に示すように、エンボスモールドを利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して、複数の凸状構造を得るステップは、以下のステップを含む。

ステップ２２１Ａ：図２４内のＣに示されたエンボスモールド３００を提供する。エンボスモールド３００は、光導波路ジグ３１０と、弾性モールド層３２０とを含む。光導波路ジグ３１０は、光透過面の外形に一致するモールド形成面３１１を有する。弾性モールド層３２０は、モールド形成面３１１上に形成される。弾性モールド層３２０は、凸状構造を形成するように構成された複数の弾性ダイス３２１を含む。弾性モールド層３２０の厚さは、実際の要件に従って設定されうる。例えば、弾性モールド層３２０の厚さは、２００μｍ未満に設定されうる。弾性ダイス３２１の形状パラメータ及びサイズパラメータは、製造される必要がある凸状構造のサイズパラメータに基づいて設定される。凸状構造の具体的なサイズパラメータについては、上記の説明を参照されたい。

ステップ２２２Ａ：エンボスモールド３００に含まれる複数の弾性ダイス３２１を利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して、複数の凸状構造を得る。エンボスモールド３００に含まれる複数の弾性ダイス３２１を利用することによって硬化性材料層をエンボス加工するための圧力は、光透過面への損傷を回避するために、あまり高くすることができない。圧力は、０．５ＭＰａと０．８ＭＰａとの間に設定されうる。

弾性モールド層３２０は、光導波路ジグ３１０にしっかりと接着され、弾性モールド層３２０と光導波路ジグ３２０との間にギャップ及び空気が存在しないと理解されるべきである。従って、光導波路ジグ３１０に含まれるモールド形成面３１１が光透過面の外形に一致しているとき、同じ形状及び同じサイズを持つ複数の凸状構造は、硬化性材料層をエンボス加工するために複数の弾性ダイス３２１が利用されるときに、光透過面上に形成されることができる。加えて、複数の凸状構造が光透過面にしっかりと接着されることが保証される。しかし、複数の弾性ダイス３２１は弾性的であるため、複数の弾性ダイス３２１は、複数の弾性ダイス３２１が硬化性材料層をエンボス加工するために利用されるときに、光導波路を損傷しない。

理論上は、光導波路ジグ３１０に含まれるモールド形成面３１１の外形が、光透過面の外形に一致するべきである。しかし、特定の誤差が、実際に製造する期間において依然として存在する。光導波路ジグ３１０に含まれるモールド形成面３１１の外形のＰＶ値と、光透過面１２１のＰＶ値とは、モールド形成面３１１の外形が光透過面１２１の外形と制御可能な範囲で合致することを保証するために、１μｍ未満に設定されうる。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子を製造するための方法について、より詳細に説明するために、図２２を参照しながら、以下では、レンズ２００が光導波路として利用されるとき、エンボス加工技術及び硬化プロセスを利用することによってレンズ２００の入光面ａ上に、図６に示した反射防止膜を形成する具体的なプロセスについて説明する。

ステップ３１０：レンズ２００の面上にドライ処理及びプラスマ処理を実行し、レンズ２００の面上の不純物を取り除いて、レンズ２００の面の清潔さを保証する。この場合において、構造としては、図２４内のＡを参照されたい。

ステップ３２０：以下のこと、即ち、レンズの入光面の形状が弧状であるためにレンズの入光面上に複数の凸状構造１１１を直接形成することは困難であること、を考慮して、レンズの入光面上に、図２４内のＢに示した接着層１１２を形成する。接着層１１２は、スピンコーティング（spin-coating）、ディッピング（dipping）、又はディスペンシング（dispensing）などの膜形成プロセスを利用することによって、レンズの入光面上に形成されうる。膜形成プロセスにおけるパラメータは、接着層の高さＨ₀が１０ｎｍ未満であることを保証するように制御されうる。接着層１１２の材料は、変性シラン接着剤などの普通のシラン材料であってよい。レンズ２００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着層１１２に利用される材料の屈折率と、レンズ２００に含まれる材料の屈折率との差は、－０．２～０．２であると理解されるべきである。

ステップ３３０：図２４内のＣに示したエンボスモールド３００を製造する。図２３に示すように、エンボスモールド３００を製造するための方法は、特に、以下のステップを含む。

ステップ３３１：図２４内のＣに示した２００μｍ未満の厚さを持つ弾性モールド層３２０を製造する。弾性モールド層３２０は、凸状構造を形成するように構成された複数の弾性ダイス３２１を含む。複数の弾性ダイス３２１は、モスアイ（moth-eye）構造を形成する。各弾性ダイス３２１のパラメータは、上述した凸状構造１１１のパラメータに関連して設定される。弾性モールド層３２０は、紫外光透過性能を有する。弾性モールド層３２０に含まれる材料は、ポリジメチルシロキサン（polydimethylsiloxane、略してPDMS）、ＳＵ－８フォトレジスト、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタレート（polyethylene terephthalate、略してPET）であってよい。

ステップ３３２：図２４内のＣに示された光導波路ジグ３１０として利用されるレンズジグを製造する。レンズジグは、レンズ２００の入光面の外形に一致するモールド形成面３１１を有する。ＰＶ値は、１μｍ未満である。レンズジグのために選択される材料は、弾性材料であってよく、又は非弾性材料であってよい。

ステップ３３３：弾性モールド層３２０のものであり、かつ弾性ダイス３２１から離れている面を、レンズジグのモールド形成面３１１に密着させ、弾性モールド層３２０とモールド形成面３１１との間に空気が存在しないことを保証する。従って、モールド形成面３１１は、レンズジグにしっかりと密着され、図２４内のＣに示したエンボスモールド３００を得る。

ステップ３４０：接着層１１２のものであり、かつレンズ２００の入光面ａから離れている面上への接着剤塗布を実行する。接着剤の量は、均一な接着剤薄膜４００を形成するように、レンズ２００全体の入光面ａをカバーするように制御される必要がある。接着剤薄膜４００は、図２４内のＤに示されている。レンズ２００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着剤塗布に利用される接着剤の屈折率と、レンズ２００に含まれる材料の屈折率との差が、－０．２～０．２であると理解されるべきである。もちろん、レンズ２００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着剤塗布に利用される接着剤の屈折率と、接着層１１２に含まれる材料の屈折率との差が、－０．２～０．２であることも保証されるべきである。

ステップ３５０：エンボスモールド３００に含まれる弾性モールド層３２０の複数の弾性ダイス３２１を、接着剤薄膜４００に密着させ、エンボスモールド３００に含まれるレンズジグを利用することによって弾性モールド層３２０を押圧し、それにより、複数の弾性ダイス３２１は、接着剤薄膜４００と密に接する。この場合において、接着剤薄膜４００は、複数の凸状構造１１１にエンボス加工される。この場合における状態が図２４内のＥに示されている。エンボス加工プロセスにおいて利用される圧力は、接着剤薄膜４００と複数の弾性ダイス３２１との実際の接触ケースに応じて、例えば、０．５ＭＰａ～０．８ＭＰａに設定されうる。

ステップ３６０：複数の弾性ダイス３２１が接着剤薄膜４００と密に接しているときに、反射防止膜１１０がレンズ２００の入光面ａ上に形成されるように、紫外光照射方式又は加熱方式で複数の凸状構造１１１を硬化し、次いで、エンボスモールド３００を取り除く。この場合における状態が図２４内のＦに示されている。複数の弾性ダイス３２１は、接着剤薄膜４００と密に接している。エンボスモールド３００は、透明である。従って、複数の凸状構造１１１が紫外光照射方式で硬化され、複数の弾性ダイス３２１が接着剤薄膜４００と密に接していることが保証されるとき、紫外光は、エンボスモールド３００を通して、複数の凸状構造１１１にエンボス加工される接着剤薄膜４００に照射されうる。

ステップ３３０がステップ３５０の前に完了されるのであれば、図２４に示すように、ステップ３３０は、必ずしもステップ３２０とステップ３４０との間になくてよいことに留意されるべきである。反射防止膜１１０が、上記の方式でレンズ２００の入光面ａ上に形成された後、反射防止膜１１０は、上記の方式でレンズ２００の出光面ｂにさらに形成されてよい。

他の例において、光透過面は、平面状の光透過面である。図２５に示すように、エンボスモールド３００を利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して、複数の凸状構造を得るステップは、以下のステップを含む。

ステップ２２１Ｂ：図２８内のＣに示したエンボスモールド３００を提供する。エンボスモールド３００は、ローラ及びローダ上に形成された弾性モールド層３２０を含む。弾性モールド層３２０は、凸状構造を形成するように構成された複数の弾性ダイス３２１を含む。

ステップ２２２Ｂ：エンボスモールド３００に含まれる複数の弾性ダイス３２１を利用することによって硬化性材料層をエンボス加工して、複数の凸状構造を得る。

図２８に示すように、平面状の光透過面について、複数の凸状構造１１１は、ステップ３３０で製造された平面状の光透過面をエンボス加工するステップを通して得られてよく、又は、複数の凸状構造１１１は、ローラエンボス加工方式でエンボス加工するステップを通して得られてよいと理解されるべきである。複数の凸状構造１１１が、ローラエンボス加工方式でエンボス加工するステップを通して得られ、かつ光透過面１２１が平面状の光透過面であるとき、特定の圧力下において硬化性材料層の面上でエンボスモールド３００を転がすことが必要になる。このようにして、エンボスモールド３００に含まれるローラの面上の弾性モールド層３２０に含まれる複数の弾性ダイス３２１は、エンボス加工を通して硬化性材料層上の複数の凸状構造１１１を得るために利用されうる。従って、エンボスモールド３００は、凸状構造１１１を製造するために便利に利用されうる。

この出願のこの実施形態において提供される光学素子を製造するための方法について、より詳細に説明するために、図２６を参照しながら、以下では、保護ダイアフラム５００が光導波路として利用されるとき、エンボス加工技術及び硬化プロセスを利用することによって、保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に、図３に示した反射防止膜を形成する具体的なプロセスについて説明する。

ステップ４１０：保護ダイアフラム５００の面上でドライ処理及びプラズマ処理を実行し、保護ダイアフラム５００の面上の不純物を取り除き、保護ダイアフラム５００の面の清潔さを保証する。この場合において、構造については、図２８内のＡを参照されたい。

ステップ４２０：保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に、図２８内のＢに示した接着層１１２を形成する。接着層１１２は、スピンコーティング（spin-coating）、ディッピング（dipping）、又はディスペンシング（dispensing）などの膜形成プロセスを利用することによって、保護ダイアフラム５００の入光面上に形成されうる。膜形成プロセスにおけるパラメータは、接着層の高さＨ₀が、１０ｎｍ未満であることを保証するように制御されうる。接着層１１２の材料は、変性シラン接着剤などの普通のシラン材料であってよい。保護ダイアフラム５００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着層１１２に利用される材料の屈折率と、保護ダイアフラム５００に含まれる材料の屈折率との差は、－０．２～０．２であると理解されるべきである。

ステップ４３０：接着層１１２のものであり、かつ保護ダイアフラム５００から離れている面への接着剤塗布を実行する。接着剤の量は、図２８内のＢに示した均一な接着剤薄膜４００を形成するために、保護ダイアフラム５００全体の入光面ａをカバーするように制御される必要がある。保護ダイアフラム５００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着剤塗布に利用される接着剤の屈折率と、保護ダイアフラム５００に含まれる材料の屈折率との差は、－０．２～０．２であると理解されるべきである。もちろん、保護ダイアフラム５００の反射率に関する、突然の屈折率変化の不利な効果を低減するために、接着剤塗布に利用される接着剤の屈折率と、接着層１１２に含まれる材料の屈折率との差が、－０．２～０．２であることも保証されるべきである。保護ダイアフラム５００は平面的な構造であると理解されるべきである。保護ダイアフラム５００の面は比較的滑らかである。このことは、凸状構造１１１を形成するために便利である。従って、接着剤塗布に利用される材料と、保護ダイアフラムの入光面ａとの間の接着の強さに基づいて、接着層１１２が形成される必要があるかどうかが決定されうる。例えば、接着剤塗布に利用される材料が、保護ダイアフラム５００の入光面ａにうまく付着するとき、ステップ４１０の後、接着剤塗布は、均一な接着剤薄膜４００を形成するために、保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に直接実行される。

ステップ４４０：図２８内のＣに示したエンボスモールド３００を製造する。図２７に示すように、エンボスモールド３００を製造するための方法は、特に、以下のステップを含む。

ステップ４４１：図２８内のＣに示した２００μｍ未満の厚さを持つ弾性モールド層３２０を製造する。弾性モールド層３２０は、凸状構造１１１を形成するように構成された複数の弾性ダイス３２１を含む。複数の弾性ダイス３２１は、モスアイ（moth-eye）構造を形成する。各弾性ダイス３２１のパラメータは、上述した凸状構造１１１のパラメータに関連して設定される。弾性モールド層３２０は、紫外光透過性能を有する。弾性モールド層３２０に含まれる材料は、ポリジメチルシロキサン（polydimethylsiloxane、略してPDMS）、ＳＵ－８フォトレジスト、アクリル樹脂、又はポリエチレンテレフタレート（polyethylene terephthalate、略してPET）であってよい。

ステップ４４２：図２８内のＣに示した光導波路ジグ３１０として利用される円柱ローラを製造する。円柱ローラのために選択される材料は、弾性材料であってよく、又は非弾性材料であってよい。

ステップ４４３：弾性モールド層３２０のものであり、かつ弾性ダイス３２１から離れている面を、円柱ローラの面に密着させ、弾性モールド層３２０と円柱ローラとの間に空気が存在しないことを保証する。従って、モールド形成面３１１は、円柱ローラにしっかりと密着され、エンボスモールド３００を得る。

ステップ４５０：保護ダイアフラム５００の一端でエンボスモールド３００を利用し、押圧を通して、エンボスモールド３００に含まれる弾性モールド層３２０の複数の弾性ダイス３２１が、接着剤薄膜４００と密に接していることを保証し、次いで、エンボスモールド３００に含まれる円柱ローラを制御し、ある方向に接着剤薄膜４００の面上を転がるように弾性モールド層３２０を動かす。円柱ローラが、その方向に接着剤薄膜４００の面上を転がるように弾性モールド層３２０を動かした後、接着剤薄膜４００は、複数の凸状構造１１１にエンボス加工される。エンボス加工プロセスにおいて利用される圧力は、接着剤薄膜４００と複数の弾性ダイス３２１との実際の接触ケースに応じて設定されてよく、例えば、０．５ＭＰａ～０．８ＭＰａである。

円柱ローラは、図２８内のＣに示したエンボスモールド３００の左矢印方向に接着剤薄膜４００の面上を転がるように弾性モールド層３２０を動かすために利用され、ギャップが、円柱ローラと弾性モールド層３２０との間に容易に生じると理解されるべきである。従って、空気が円柱ローラと弾性モールド層３２０との間に入り、エンボス加工を通して得られる凸状構造１１１の精度の逸脱を引き起こす。これに基づき、エンボス加工が完了した後、エンボス加工後に得られる凸状構造１１１の精度が異常であるかどうかを判定するために、空気が円柱ローラと弾性モールド層３２０との間に存在するかどうかがチェックされてよい。

ステップ４６０：紫外光照射方式又は加熱方式で、保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に形成された複数の凸状構造１１１を硬化し、保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に反射防止膜１１０を形成する。

図２６に示すように、ステップ４４０は、ステップ４４０がステップ４５０の前に完了されるのであれば、必ずしもステップ４３０とステップ４５０との間になくてよいことに留意されるべきである。上記の方式で保護ダイアフラム５００の入光面ａ上に反射防止膜が形成された後、反射防止膜が、上記の方式で保護ダイアフラム５００の出光面ｂ上にさらに形成されてよい。

図３又は図７に示すように、光学素子１００に含まれる反射防止膜１１０の厚さは、２００ｎｍ～６００ｎｍであってよい。代替的に、適切な範囲は、光学素子１００が比較的低い反射率を有するように、２００ｎｍ～６００ｎｍの範囲内でさらに選択されてよい。例えば、反射防止膜１１０の厚さは、３１０ｎｍより大きく、かつ４６０ｎｍより小さい。他の例では、反射防止膜の厚さは、３００ｎｍより大きく、かつ４５０ｎｍより小さい。反射防止膜１１０に含まれる接着層１１２の厚さＨ₀は、０ｎｍ～２００ｎｍの範囲内に制御されるべきである。接着層１１２の厚さＨ₀が０ｎｍに等しいとき、反射防止膜１１０は、実質的に接着層１１２を含まない。この場合において、反射防止膜１１０に含まれる凸状構造１１１は、光導波路の面にしっかりと接着される。

図２９に示すように、この出願のこの実施形態は、カメラモジュールを提供する。カメラモジュールは、少なくとも１つの第１のタイプの光学素子Ｉを含む。第１のタイプの光学素子は、図５～図８のいずれか１つに示した光学素子１００である。

この出願のこの実施形態において提供されるカメラモジュールに含まれる第１のタイプの光学素子Ｉは、上述した光学素子である。従って、第１のタイプの光学素子Ｉは、光導波路１２０だけでなく、上述した反射防止膜１１０も含む。反射防止膜１１０は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１上に形成された複数の凸状構造１１１を含む。各凸状構造１１１の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率とが突然変化することに起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。加えて、凸状構造の分布周期Ｗと、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁とが、いずれも可視光波長の最小値より小さいため、各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とに関する識別は、反射防止膜１１０に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子１００の反射率は、反射防止膜１１０を利用することによって低減されることができる。各凸状構造１１１の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であり、かつ凸状構造の分布周期Ｗが２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子１００の形状についての制限なしに、反射防止膜１１０は、可視光が光学素子１００に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子１００は、可視光に対する極めて低い反射率を有することが分析を通して見いだされる。

図２９に示すように、第１のタイプの光学素子Ｉの構造を有する１枚～２枚のレンズが、一般的なモバイルフォンなどの端末上に構成されたレンズグループとして設定されうると理解されるべきである。しかし、超広角レンズについては、第１のタイプの光学素子Ｉの構造を有する少なくとも３枚のレンズが設定される必要がある。

いくつかの可能な実装において、図２９及び図３０に示すように、カメラモジュールは、少なくとも１つの第２のタイプの光学素子ＩＩをさらに含む。第２のタイプの光学素子ＩＩは、光導波路１２０だけでなく、光導波路１２０に含まれる光透過面１２１上に形成された反射防止コーティング１３０も含み、カメラモジュールの集光率を改善する。

いくつかの可能な実装において、図２９に示すように、カメラモジュールは、イメージセンサ７００をさらに含む。第１のタイプの光学素子Ｉ及び第２のタイプの光学素子ＩＩは、可視光が、第１のタイプの光学素子Ｉ及び第２のタイプの光学素子ＩＩを通過した後にイメージセンサ７００によって集められることができるように、イメージセンサ７００のセンサ面が配置される方向に配置される。しかし、第１のタイプの光学素子Ｉが、可視光に対する極めて低い反射率を有するため、イメージセンサ７００は、カメラモジュールによって撮影される景色によって反射された、ほぼ全ての可視光を集めることができ、カメラモジュールによって撮られた景色の鮮明度を改善し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を回避する。

第１のタイプの光学素子Ｉと第２のタイプの光学素子ＩＩとの間の位置関係は、カメラモジュールにおける第１のタイプの光学素子Ｉ及び第２のタイプの光学素子ＩＩの機能に基づいて決定されると理解されるべきである。

図２９は、この出願において提供されるカメラモジュールを示す。カメラモジュールは、保護ダイアフラム５００と、複数のレンズ２００と、赤外線カットオフフィルタ６００と、イメージセンサ７００とを含む。保護ダイアフラム５００、複数のレンズ、及び赤外線カットオフフィルタ６００は、イメージセンサ７００のセンサ面に近づく方向に順に配置される。保護ダイアフラム５００、複数のレンズ２００、及び赤外線カットオフフィルタ６００のうちの少なくとも１つは、上記の第１のタイプの光学素子Ｉの構造を選択してよく、残りのものは、上記の第２のタイプの光学素子ＩＩの構造を選択してよい。上記のレンズ２００の数量は、４、６、又は７であってよいと理解されるべきである。しかし、このことは本明細書において限定されない。数量は、カメラモジュールの実際の要件に従って設定されうる。

例えば、上記のレンズ２００の数量が５であるとき、イメージセンサ７００のセンサ面に近づく方向で、第３のレンズ２３０、第４のレンズ２４０、第５のレンズ２５０、及び赤外線カットオフフィルタ６００が全て、第１のタイプの光学素子Ｉに設定され、第１のレンズ２１０、第２のレンズ２２０、及び保護ダイアフラム５００が全て、図３０に示した第２のタイプの光学素子ＩＩの構造に設定される。保護ダイアフラム５００のために選択された材料は、コーニング社において製造されるゴリラガラスである。赤外線カットオフフィルタ６００は、赤外線を取り除くための青色ガラスである。

図３１に示すように、この出願の実施形態は、端末８００をさらに提供する。端末８００は、カメラモジュール８１０を含む。この出願において提供される端末８００において、カメラモジュール８１０に含まれる第１のタイプの光学素子Ｉは、光導波路１２０だけでなく、反射防止膜も含む。図３に示すように、反射防止膜１１０は、光導波路１２０に含まれる少なくとも１つの光透過面１２１上に形成された複数の凸状構造１１１を含む。各凸状構造１１１の最大径長は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に減少する。各凸状構造１１１の屈折率は、光透過面１２１から離れる方向に徐々に変化し、凸状構造１１１の屈折率と光導波路１２０の屈折率の突然の変化に起因して光学素子１００の反射率が増加する問題を回避する。加えて、凸状構造の分布周期Ｗと、各凸状構造の底面の最大径長Ｄ₁とが、いずれも可視光波長の最小値より小さいため、各凸状構造１１１と、２つの隣接する凸状構造１１１の間の空間とに関する識別は、反射防止膜１１０に照射される可視光に対してなされず、従って、可視光に対する光学素子１００の反射率は、反射防止膜１１０を利用することによって低減されることができる。各凸状構造の高さＨ₁が３１０ｎｍ以上であり、隣接する凸状構造の分布周期Ｗが２２０ｎｍ以下であるとき、光学素子１００の形状についての制限なしに、反射防止膜１１０は、可視光が光学素子１００に垂直入射方式又は斜め入射方式のいずれで照射されるかにかかわらず、可視光に対する光学素子１００の反射率を調整及び制御するために利用されることができ、それにより、光学素子１００は、可視光に対する極めて低い反射率を有し、端末によって撮られる写真の鮮明度を改善し、それによって、ゴースト問題及びフレア問題を回避することが分析を通して見いだされる。

いくつかの可能な実装において、図３１に示すように、端末は、プロセッサ９８０と、メモリ９２０と、ディスプレイ画面９４０とをさらに含む。プロセッサ９８０は、カメラモジュール８１０、メモリ９２０、及びディスプレイ画面９４０に別々に電気的に接続される。

メモリ９２０は、コンピュータ命令を格納するように構成される。コンピュータ命令が実行されるとき、プロセッサは、少なくともカメラモジュールによって伝送されたイメージデータを処理し、また、もちろん端末の内部データも処理又は外部デバイスが端末にアクセスするときに外部デバイスによって伝送されるデータを処理することが可能になる。メモリ９２０は、記憶装置であってよく、又は複数の記憶素子の一般的な名称であってよい。メモリ９２０は、実行可能プログラムコードなどを格納するように構成される。メモリ９２０は、ランダムアクセスメモリ（RAM）を含んでよく、又は磁気ディスクストレージ９２０又はフラッシュメモリ（flash）などの不揮発性メモリ９２０（non-volatile memory）を含んでよい。

プロセッサ９８０は、プロセッサであってよく、又は複数の処理要素の一般的な名称であってよい。例えば、プロセッサは、中央処理ユニット（central processing unit、略してCPU）、又は特定用途向け集積回路（application-specific integrated circuit、略してASIC）であってよく、又は、本発明のこの実施形態を実装する１つ以上の集積回路、例えば、１つ以上のマイクロプロセッサ（digital signal processors、略してDSP）又は１つ以上のフィールドプログラマブルゲートアレイ（field programmable gate array、略してFPGA）として構成されてよい。

ディスプレイ画面９４０は、少なくともカメラモジュールによって集められた写真を表示し、もちろん、端末に格納されているイメージを表示又は外部デバイスが端末にアクセスするときに外部デバイスによって伝送されたイメージを表示するように構成される。ディスプレイ画面９４０は、ディスプレイユニット、例えば、有機エレクトロルミネセンスディスプレイ又は液晶ディスプレイであってよい。

いくつかの可能な実装において、端末８００は、モバイルフォン、タブレットコンピュータ、パーソナルデジタルアシスタント（personal digital assistant, PDA）、ポイントオブセールス（point of sale, POS）、車載コンピュータなどを含んでよい。

図３２に示したモバイルフォン９００は、端末８００の例として利用される。図３２は、この出願の実施形態による端末として利用されるモバイルフォン９００の部分構造のブロック図である。図３２に示すように、モバイルフォン９００は、カメラモジュール、無線周波数（radio frequency, RF）回路９１０、メモリ９２０、他の入力デバイス９３０、ディスプレイ９４０、センサ、オーディオ回路９６０、Ｉ／Ｏサブシステム９７０、プロセッサ９８０、及び電源９９０などのコンポーネントを含む。カメラモジュールは、カメラモジュールである。カメラモジュールは、保護ダイアフラム５００、複数のレンズ２００、及び赤外線カットオフフィルタ６００を含む。類似の屈折率を持つ反射防止膜１１０は、保護ダイアフラム５００、複数のレンズ２００、及び赤外線カットオフフィルタ６００のうちの少なくとも１つの入光面又は出光面上に形成される。反射防止膜１１０は、接着層１１２、及び接着層１１２上に形成された複数の凸状構造１１１を含む。接着層１１２は、複数の凸状構造１１１と、保護ダイアフラム５００、複数のレンズ２００、及び赤外線カットオフフィルタ６００のうちの少なくとも１つの出光面及び／又は入光面とを接着するように構成される。各凸状構造の高さＨ₁は、３１０ｎｍ～４５０ｎｍである。凸状構造の分布周期Ｗは、１６０ｎｍ～２２０ｎｍである。

図３２に示したモバイルフォンの構造は、モバイルフォンに関する限定を構成せず、モバイルフォンは、図に示したものより多くの又はより少ないコンポーネントを含んでよく、又はいくつかのコンポーネントは結合されてよく、又はいくつかのコンポーネントは分割されてよく、又は異なるコンポーネント配置が利用されてよいと当業者は理解しうる。ディスプレイ画面９４０は、ユーザインターフェース（user interface, UI）に属し、モバイルフォンは、図に示したものより多くの又はより少ないユーザインターフェースを含んでよいと当業者は理解しうる。以下では、図３２を参照しながら、モバイルフォン９００の全てのコンポーネントについて詳細に説明する。

ＲＦ回路９１０は、情報を受信及び送信し、又は呼プロセスにおける信号を受信及び送信し、基地局のダウンリンク情報を受信した後、処理用のプロセッサ９８０にダウンリンク情報を送信し、関連するアップリンクデータを基地局に送信するように構成されうる。概して、ＲＦ回路９１０は、限定されないが、アンテナ、少なくとも１つの増幅器、トランシーバ、カプラ、低ノイズ増幅器（low noise amplifier, LNA）、デュプレクサなどを含む。加えて、ＲＦ回路９１０は、無線通信を通して、ネットワーク及び他のデバイスとさらに通信してよい。無線通信は、限定されないが、モバイル通信用グローバルシステム（Global System for Mobile Communications, GSM）、汎用パケット無線サービス（general packet radio service, GPRS）、符号分割多元接続（Code Division Multiple Access, CDMA）、広帯域符号分割多元接続（Wideband Code Division Multiple Access, WCDMA）、ロングタームエボリューション（Long Term Evolution, LTE）、電子メール、ショートメッセージサービス（short message service, SMS）などを含む任意の通信標準又はプロトコルを利用してよい。

メモリ９２０は、ソフトウェアプログラム及びモジュールを格納するように構成されうる。プロセッサ９８０は、メモリ９２０に格納されたソフトウェアプログラム及びモジュールを実行することによって、モバイルフォンの様々な機能的アプリケーションを実行してデータを処理する。メモリ９２０は、主に、プログラム記憶領域とデータ記憶領域とを含むことがある。プログラム記憶領域は、オペレーティングシステム、少なくとも１つの機能（音声再生機能又はイメージ再生機能など）によって必要とされるアプリケーションプログラムなどを格納しうる。データ記憶領域は、モバイルフォンなどの利用に基づいて作られるデータ（音声データ又はアドレスブックなど）を格納しうる。加えて、メモリ９２０は、高速ランダムアクセスメモリを含んでよく、不揮発性メモリ、例えば、少なくとも１つの磁気記憶デバイス、フラッシュストレージデバイス、又は他の揮発性固体記憶デバイスをさらに含んでよい。

他の入力デバイス９３０は、入力桁又は文字情報を受信し、モバイルフォンのユーザ設定及び機能制御に関するキー信号入力を生成するように構成されうる。特に、他の入力デバイス９３０は、限定されないが、物理キーボード、機能キー（ボリューム制御キー又はオン／オフキーなど）、トラックボール、マウス、ジョイスティック、及び光学マウス（光学マウスは、視覚的な出力を表示しないタッチセンサ面、又はタッチスクリーンによって形成されるタッチセンサ面の拡張である）の１つ以上を含んでよい。他の入力デバイス９３０は、Ｉ／Ｏサブシステムの他の入力デバイスコントローラ９７１に接続され、他の入力デバイスコントローラ９７１の制御下で、信号をプロセッサ９８０と交換する。

ディスプレイ画面９４０は、ユーザによって入力された情報又はユーザに提供される情報、及びモバイルフォンの様々なメニューを表示するように構成されてよく、ユーザ入力をさらに受信しうる。特に、ディスプレイ画面９４０は、ディスプレイパネル９４１と、タッチパネル９４２とを含みううる。ディスプレイパネル９４１は、液晶ディスプレイ（liquid crystal display, LCD）、有機発光ダイオード（organic light-emitting diode, OLED）などの形態で構成されうる。タッチパネル９４２は、タッチスクリーン、タッチセンサスクリーンなどとも称され、ユーザによってタッチパネル９４２の上又は近傍で実行されるタッチ又は非タッチ操作（例えば、ユーザによって、指又はスタイラスなどの任意の適切なオブジェクト又はアクセサリを利用することによってタッチパネル９４２の上又は近傍で実行される操作、或いは、動き検知操作であって、操作は、シングルポイント制御操作、マルチポイント制御操作、又は類似のタイプの操作を含むもの。）を集め、事前設定されたプログラムに基づいて、対応する接続装置を駆動しうる。任意選択で、タッチパネル９４２は、２つの部品、即ち、タッチ検出装置及びタッチコントローラを含みうる。タッチ検出装置は、タッチ位置及びユーザのジェスチャを検出し、タッチ操作によってもたらされる信号を検出し、信号をタッチコントローラに伝送する。タッチコントローラは、タッチ検出装置からタッチ情報を受信し、タッチ情報を、プロセッサ９８０によって処理されることができる情報に変換し、次いで、プロセッサ９８０に情報を送信し、そして、プロセッサ９８０によって送信されたコマンドを受信して実行することができる。加えて、タッチパネル９４２は、抵抗タイプ、容量タイプ、赤外線、及び弾性表面波などの複数のタイプを利用することによって実装されてよく、又は、タッチパネル９４２は、将来発展される任意の技術を利用することによって実装されうる。さらに、タッチパネル９４２は、ディスプレイパネル９４１をカバーしうる。ユーザは、ディスプレイパネル９４１に表示された内容（表示内容は、限定されないが、ソフトウェアキーボード、仮想マウス、仮想キー、アイコンなどである）に基づいて、ディスプレイパネル９４１をカバーするタッチパネル９４２の上又は近傍での操作を実行しうる。タッチパネル９４２の上又は近傍での操作を検出した後、タッチパネル９４２は、Ｉ／Ｏサブシステムを利用することによって操作をプロセッサ９８０に伝送して、ユーザ入力を決定する。次いで、プロセッサ９８０は、Ｉ／Ｏサブシステムを利用することによって、ユーザ入力に基づいて、ディスプレイパネル９４１上に、対応する視覚的な出力を提供する。図３２において、タッチパネル９４２及びディスプレイパネル９４１は、入力及びモバイルフォンの入力機能を実装するための２つの独立したコンポーネントとして利用される。しかし、いくつかの実装において、タッチパネル９４２及びディスプレイパネル９４１は、モバイルフォンの入力及び出力機能を実装するために統合されてよい。

モバイルフォンは、光センサ（例えば、図２９に示したイメージセンサ７００）、モーションセンサ、又は他のセンサなどの少なくとも１つのタイプのセンサ９５０をさらに含んでよい。特に、光センサは、外乱光センサ及び近接センサを含みうる。例えば、カメラモジュールに含まれるイメージセンサ７００は、光センサの１つのタイプである。図２９に示したカメラモジュールによって集められたイメージ情報は、プロセッサ９８０に伝送されうる。外乱光センサは、外乱光の輝度に基づいてディスプレイパネル９４１の輝度値を調整してよく、近接光センサは、モバイルフォンが耳に近づくとき、ディスプレイパネル９４１又はバックライトを遮断してよい。モーションセンサのタイプとしての、加速度センサは、各方向（一般に、３つの軸）における加速度の値を検出してよく、静止状態で重力の値及び方向を検出してよく、モバイルフォン姿勢を識別するためにアプリケーション（ランドスケープ及びポートレートモード間での画面遷移、関連するゲーム、又は磁力計姿勢キャリブレーションなど）、振動識別に関する機能（歩数計又はノックなど）などにおいて利用されてよい。モバイルフォン上にさらに配置されうるジャイロスコープ、バロメータ、湿度計、温度計、又は赤外線センサなどの他のセンサについては、本明細書において詳細に説明されない。

オーディオ回路９６０、ラウドスピーカ９６１、及びマイクロフォンは、ユーザとモバイルフォンとの間のオーディオインターフェースを提供しうる。オーディオ回路９６０は、受信されたオーディオデータを信号に変換し、信号をラウドスピーカ９６１に伝送してよく、ラウドスピーカ９６１は、信号を音声信号に変換して音声信号を出力する。加えて、マイクロフォンは、収集された音声信号を信号に変換し、オーディオ回路９６０は、信号を受信し、信号をオーディオデータに変換し、オーディオデータをＲＦ回路９１０に出力して、オーディオデータを、例えば、他のモバイルフォンに送信するか、又は、オーディオデータを、さらなる処理のためにメモリ９２０に出力する。

Ｉ／Ｏサブシステムは、外部入力／出力デバイスを制御するように構成され、他の入力デバイスコントローラ９７１、センサコントローラ９７２、及びディスプレイコントローラ９７３を含んでよい。任意選択で、１つ以上の他の入力制御デバイスコントローラ９７１は、信号を他の入力デバイス９３０から受信し及び／又は信号を他の入力デバイス９３０に送信する。他の入力デバイス９３０は、物理ボタン（押下ボタン又はロックボタンなど）、ダイアルパッド、スライダスイッチ、ジョイスティック、クリックスクロールホイール、及び光学マウス（光学マウスは、視覚的な出力を表示しないタッチセンサ面であるか、又はタッチスクリーンによって形成されるタッチセンサ面の拡張である）を含んでよい。他の入力制御デバイスコントローラ９７１は、上記のデバイスのいずれか１つ以上に接続されてよいことに留意されるべきである。Ｉ／Ｏサブシステムにおけるディスプレイコントローラ９７３は、ディスプレイ９４０から信号を受信し及び／又は信号をディスプレイ９４０に送信する。ディスプレイ画面９４０がユーザ入力を検出した後、ディスプレイコントローラ９７３は、検出されたユーザ入力を、ディスプレイ画面９４０に表示されるユーザインターフェースオブジェクトを持つインタラクションに変換し、ヒューマンマシンインタラクションを実装する。センサコントローラ９７２は、１つ以上のセンサから信号を受信し及び／又は信号を１つ以上のセンサに送信してよい。

モバイルフォンの制御センタとしての、プロセッサ９８０は、様々なインターフェース及び回線を利用することによってモバイルフォン全体の様々な部分と接続し、モバイルフォンの様々な機能を実行し、メモリ９２０に格納されたソフトウェアプログラム及び／又はモジュールを稼働又は実行することによって、そして、メモリ９２０に格納されたデータを呼び出すことによってデータを処理し、モバイルフォン上での総体的なモニタリングを実行する。任意選択で、プロセッサ９８０は、１つ以上の処理ユニットを含んでよい。好ましくは、アプリケーションプロセッサ及びモデムプロセッサは、プロセッサ９８０に統合されうる。アプリケーションプロセッサは、主に、オペレーティングシステム、ユーザインターフェース、アプリケーションプログラムなどを処理する。モデムプロセッサは、主に、無線通信を処理する。モデムプロセッサが、代替的に、プロセッサ９８０に統合されなくてよいと理解されうる。

モバイルフォンは、コンポーネントに電力を供給するための電源９９０（例えば、バッテリ）をさらに含む。好ましくは、電源９９０は、電力管理システムによってプロセッサ９８０に論理的に接続されてよく、電力管理システムを利用することによって充電、放電、及び電力消費管理などの機能を実装する。

図３２には示されていないけれども、モバイルフォンは、Bluetoothモジュールなどをさらに含んでよい。詳細については、本明細書において説明されない。

この明細書の説明において、具体的な特徴、構造、材料、又は特性は、実施形態又は例のいずれか１つ以上における適切な方式で結合されてよい。

最後に、上記の実施形態は、単にこの出願の技術的解決策を説明することが意図されており、この出願を限定するものではないことに留意されるべきである。この出願は、上記の実施形態に関連して詳細に説明されたけれども、当業者は、この出願の実施形態の技術的解決策の意図及び範囲を逸脱することなく、彼らが依然として上記の実施形態において説明された技術的解決策に修正を施してよく、又は、それらのいくつかの技術的特徴に対する等価的な置き換えを施してよいと理解すべきである。

Claims (13)

1. 光導波路の少なくとも１つの光透過面上に形成された複数の凸状構造と、前記少なくとも１つの光透過面上に形成された接着層とを含む反射防止膜であって、
   各凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する面の最大径長は、可視光波長の最小値未満であり、各凸状構造の前記最大径長は、前記光透過面から離れる方向に徐々に減少し、各凸状構造の高さは、３１０ｎｍ以上であり、２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する面の幾何中心の間の距離は、２２０ｎｍ以下であり、
   前記接着層は、平坦さを有し、かつ前記少なくとも１つの光透過面を前記複数の凸状構造に接着するために利用され、前記接着層の厚さは、０ｎｍ超かつ１０ｎｍ未満であり、前記接着層の材料の屈折率と、前記光導波路の材料の屈折率との差は、－０．２～０．２である、
   反射防止膜。
2. さらに、各凸状構造の前記高さは、４５０ｎｍ以下であり、前記２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する前記面の前記幾何中心の間の前記距離は、１６０ｎｍ以上である、
   請求項１に記載の反射防止膜。
3. 各凸状構造のものであり、かつ前記光透過面から離れている面の最大径長は、対応する前記凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する前記面の前記最大径長の０倍～０．３倍である、
   請求項１に記載の反射防止膜。
4. 対応する前記凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する前記面の前記最大径長に対する各凸状構造の前記高さの比は、１以上３までである、
   請求項１に記載の反射防止膜。
5. 前記複数の凸状構造の分布方式は、密積層分布方式である、
   請求項１～４のいずれか１項に記載の反射防止膜。
6. 各凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する前記面の前記最大径長は、前記２つの隣接する凸状構造のものであり、かつ前記光透過面に近接する前記面の前記幾何中心の間の距離に等しい、
   請求項１～５のいずれか１項に記載の反射防止膜。
7. 前記接着層に含まれる材料の屈折率と、各凸状構造に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２である、
   請求項１に記載の反射防止膜。
8. 前記接着層の総光透過率及び／又は各凸状構造の総光透過率は、９０％より大きい、
   請求項７に記載の反射防止膜。
9. 光導波路と、請求項１～８のいずれか１項に記載の前記反射防止膜とを含む、光学素子であって、前記反射防止膜は、前記光導波路に含まれる少なくとも１つの光透過面上に配置される、
   光学素子。
10. 各凸状構造に含まれる材料の屈折率と、前記光導波路に含まれる材料の屈折率との間の差は、－０．２～０．２である、
    請求項９に記載の光学素子。
11. 前記光学素子の最大反射率は、入射角が０°に等しいときに０．５％以下となり、前記光学素子の前記最大反射率は、前記入射角が０°より大きく、かつ４０°以下のときに１％以下となる、
    請求項９又は１０に記載の光学素子。
12. 前記光導波路の総光透過率及び／又は前記反射防止膜の総光透過率は、９０％より大きい、
    請求項９～１１のいずれか１項に記載の光学素子。
13. プロセッサと、カメラモジュールとを含む端末であって、前記カメラモジュールは、請求項９～１２のいずれか１項に記載の光学素子を含む、端末。

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