JP2013029619A5 - - Google Patents
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- -1 diol compound Chemical class 0.000 claims description 18
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 claims description 5
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 7
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims 6
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical group OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000001476 phosphono group Chemical group [H]OP(*)(=O)O[H] 0.000 claims 4
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims 2
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 claims 2
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 claims 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 claims 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 claims 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 claims 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 claims 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 claims 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims 1
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005332 alkyl sulfoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011164778A JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2011-07-27 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
| EP12817930.6A EP2725422B1 (en) | 2011-07-27 | 2012-07-11 | Photosensitive composition, master plate for planographic printing plate and polyurethane |
| PCT/JP2012/067741 WO2013015121A1 (ja) | 2011-07-27 | 2012-07-11 | 感光性組成物、平版印刷版原版、ポリウレタン及びポリウレタンの製造方法 |
| CN201280036582.8A CN103703417B (zh) | 2011-07-27 | 2012-07-11 | 感光性组合物、平版印刷版原版、聚氨酯及聚氨酯的制造方法 |
| US14/160,579 US8927195B2 (en) | 2011-07-27 | 2014-01-22 | Photosensitive composition, planographic printing plate precursor, polyurethane, and method for producing polyurethane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011164778A JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2011-07-27 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013029619A JP2013029619A (ja) | 2013-02-07 |
| JP2013029619A5 true JP2013029619A5 (enExample) | 2014-03-27 |
| JP5743783B2 JP5743783B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=47600973
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011164778A Expired - Fee Related JP5743783B2 (ja) | 2011-07-27 | 2011-07-27 | 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8927195B2 (enExample) |
| EP (1) | EP2725422B1 (enExample) |
| JP (1) | JP5743783B2 (enExample) |
| CN (1) | CN103703417B (enExample) |
| WO (1) | WO2013015121A1 (enExample) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9201302B2 (en) * | 2013-10-03 | 2015-12-01 | Eastman Kodak Company | Negative-working lithographic printing plate precursor |
| MY178375A (en) * | 2014-11-12 | 2020-10-09 | Visolis Inc | Polymers prepared from mevalonolactone and derivatives |
| TWI558767B (zh) * | 2015-06-30 | 2016-11-21 | 萬能學校財團法人萬能科技大學 | 一種水性聚氨酯分散液及其製備方法 |
| CN110225665B (zh) * | 2015-07-30 | 2021-04-06 | 昭和电工材料株式会社 | 感光性元件 |
| WO2018042833A1 (ja) * | 2016-08-30 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、転写フィルム、タッチパネル用保護膜、タッチパネル及びその製造方法、並びに画像表示装置 |
| CN110268571B (zh) * | 2017-02-16 | 2023-01-10 | 富士胶片株式会社 | 固体电解质组合物、含固体电解质的片材及其制造方法、全固态二次电池及其制造方法、以及聚合物及其非水溶剂分散物 |
| US11022880B2 (en) * | 2017-10-25 | 2021-06-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound |
| JP7037664B2 (ja) * | 2018-09-28 | 2022-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層体、硬化膜の製造方法、半導体デバイス、および熱塩基発生剤 |
| CN112375194B (zh) * | 2020-11-17 | 2022-04-22 | 南京工程学院 | 一种响应反馈型力致变色聚合物材料及其制备方法 |
| CN114437310B (zh) * | 2021-12-22 | 2024-02-23 | 四川东树新材料有限公司 | 改性聚氨酯组合物及其应用 |
Family Cites Families (105)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2993067A (en) | 1959-05-29 | 1961-07-18 | Upjohn Co | Phosphonates, acid derivatives thereof and their salts |
| JPS4841708B1 (enExample) | 1970-01-13 | 1973-12-07 | ||
| DE2064079C2 (de) | 1970-12-28 | 1982-09-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
| DE2361041C3 (de) | 1973-12-07 | 1980-08-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photopolymerisierbares Gemisch |
| US4123279A (en) | 1974-03-25 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light-sensitive o-quinonediazide containing planographic printing plate |
| JPS5311314B2 (enExample) | 1974-09-25 | 1978-04-20 | ||
| GB1539192A (en) | 1975-01-27 | 1979-01-31 | Ici Ltd | Photopolymerisable compositions |
| US4026705A (en) | 1975-05-02 | 1977-05-31 | General Electric Company | Photocurable compositions and methods |
| DE2822190A1 (de) | 1978-05-20 | 1979-11-22 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| DE2822189A1 (de) | 1978-05-20 | 1980-04-17 | Hoechst Ag | Photopolymerisierbares gemisch |
| US4252887A (en) | 1979-08-14 | 1981-02-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Dimers derived from unsymmetrical 2,4,5-triphenylimidazole compounds as photoinitiators |
| DE3036694A1 (de) | 1980-09-29 | 1982-06-03 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Gummielastische, ethylenisch ungesaettigte polyurethane und dieselben enthaltendes durch strahlung polymerisierbares gemisch |
| DE3048502A1 (de) | 1980-12-22 | 1982-07-22 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US4410621A (en) | 1981-04-03 | 1983-10-18 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan |
| US4395539A (en) * | 1981-08-06 | 1983-07-26 | Eastman Kodak Company | Amorphous aromatic polyester modified with amine and UV curable composition containing the same |
| JPS5956403A (ja) | 1982-09-27 | 1984-03-31 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合性組成物 |
| JPS59121044A (ja) | 1982-12-27 | 1984-07-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光可溶化組成物 |
| DE3325022A1 (de) | 1983-07-11 | 1985-01-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden |
| JPS6059351A (ja) | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Toray Ind Inc | 湿し水不要平版印刷版の現像方法 |
| DE3517612A1 (de) * | 1985-05-15 | 1987-01-02 | Titmus Eurocon Kontaktlinsen | Modifizierter siliconkautschuk und seine verwendung als material fuer eine optische linse sowie optische linse aus diesem material |
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| JPH083630B2 (ja) | 1986-01-23 | 1996-01-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| JPH0743501B2 (ja) | 1986-04-24 | 1995-05-15 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性平版印刷版 |
| DE3634671A1 (de) | 1986-10-09 | 1988-05-19 | Hans Prof Dr Dr Kroeger | Antirheumatika mit verminderter toxizitaet |
| DE3711264A1 (de) | 1987-04-03 | 1988-10-13 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial |
| JPH0727208B2 (ja) * | 1987-04-20 | 1995-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
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| JP2639741B2 (ja) | 1990-05-02 | 1997-08-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
| JP2988756B2 (ja) | 1991-04-26 | 1999-12-13 | 協和醗酵工業株式会社 | 光重合開始剤およびこれを含有する光重合性組成物 |
| JP2739395B2 (ja) | 1991-08-19 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
| JP2907643B2 (ja) | 1992-07-16 | 1999-06-21 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版およびその処理方法 |
| JPH08238758A (ja) | 1995-02-11 | 1996-09-17 | Heidelberger Druckmas Ag | 輪転印刷機の印刷装置のためのクリーニング装置 |
| US5568768A (en) | 1995-05-04 | 1996-10-29 | Presstek, Inc. | Cleaning apparatus for offset plates |
| JPH09179298A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JPH09179297A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JPH09179296A (ja) | 1995-12-22 | 1997-07-11 | Mitsubishi Chem Corp | 光重合性組成物 |
| JP3645362B2 (ja) | 1996-07-22 | 2005-05-11 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| EP0843218B1 (en) * | 1996-11-14 | 2008-01-16 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition |
| JP3827257B2 (ja) | 1997-03-19 | 2006-09-27 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
| JP3839552B2 (ja) | 1997-06-03 | 2006-11-01 | コダックポリクロームグラフィックス株式会社 | 印刷現像感光性平版印刷版及びその製版方法 |
| JPH11288093A (ja) | 1998-04-06 | 1999-10-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザ用ポジ型感光性組成物 |
| JP3907144B2 (ja) | 1998-04-09 | 2007-04-18 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法、レーザ走査露光用平版印刷版原版、および光重合性組成物 |
| JP2000250211A (ja) | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性組成物 |
| JP4041613B2 (ja) | 1999-03-12 | 2008-01-30 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
| JP2001075279A (ja) | 1999-09-03 | 2001-03-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用原版 |
| JP2001133969A (ja) | 1999-11-01 | 2001-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型平版印刷版原版 |
| JP4092055B2 (ja) | 2000-02-09 | 2008-05-28 | 三菱製紙株式会社 | 感光性組成物および感光性平版印刷版材料 |
| ATE395185T1 (de) * | 2000-03-01 | 2008-05-15 | Fujifilm Corp | Bildaufzeichnungsmaterial |
| JP3449342B2 (ja) | 2000-03-30 | 2003-09-22 | 三菱化学株式会社 | 光硬化性組成物、低複屈折光学部材及びその製造方法 |
| JP2002023360A (ja) | 2000-07-12 | 2002-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
| JP4156784B2 (ja) | 2000-07-25 | 2008-09-24 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料及び画像形成方法 |
| JP4319363B2 (ja) | 2001-01-15 | 2009-08-26 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
| JP2002251008A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像記録材料 |
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| JP2007293221A (ja) | 2006-03-31 | 2007-11-08 | Fujifilm Corp | 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版 |
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-
2011
- 2011-07-27 JP JP2011164778A patent/JP5743783B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-11 WO PCT/JP2012/067741 patent/WO2013015121A1/ja not_active Ceased
- 2012-07-11 EP EP12817930.6A patent/EP2725422B1/en not_active Not-in-force
- 2012-07-11 CN CN201280036582.8A patent/CN103703417B/zh not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-01-22 US US14/160,579 patent/US8927195B2/en not_active Expired - Fee Related
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