JP2001312055A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2001312055A5 JP2001312055A5 JP2001028335A JP2001028335A JP2001312055A5 JP 2001312055 A5 JP2001312055 A5 JP 2001312055A5 JP 2001028335 A JP2001028335 A JP 2001028335A JP 2001028335 A JP2001028335 A JP 2001028335A JP 2001312055 A5 JP2001312055 A5 JP 2001312055A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl group
- hydrogen atom
- same
- different
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 26
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 24
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 14
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 12
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 12
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 10
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 8
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical group C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001028335A JP4187934B2 (ja) | 2000-02-18 | 2001-02-05 | ポジ型レジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000041595 | 2000-02-18 | ||
| JP2000049638 | 2000-02-25 | ||
| JP2000-49638 | 2000-02-25 | ||
| JP2000-41595 | 2000-02-25 | ||
| JP2001028335A JP4187934B2 (ja) | 2000-02-18 | 2001-02-05 | ポジ型レジスト組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001312055A JP2001312055A (ja) | 2001-11-09 |
| JP2001312055A5 true JP2001312055A5 (enExample) | 2006-01-19 |
| JP4187934B2 JP4187934B2 (ja) | 2008-11-26 |
Family
ID=27342419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001028335A Expired - Fee Related JP4187934B2 (ja) | 2000-02-18 | 2001-02-05 | ポジ型レジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4187934B2 (enExample) |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100876047B1 (ko) | 2001-03-29 | 2008-12-26 | 오사까 가스 가부시키가이샤 | 광활성 화합물 및 감광성 수지 조성물 |
| JP4517723B2 (ja) * | 2003-05-22 | 2010-08-04 | 住友ベークライト株式会社 | ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、それを用いたポジ型感光性樹脂組成物、半導体装置及び表示素子 |
| JP4614056B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2011-01-19 | 三菱瓦斯化学株式会社 | レジスト用化合物および感放射線性組成物 |
| US20070059632A1 (en) * | 2003-09-18 | 2007-03-15 | Dai Oguro | Method of manufacturing a semiconductor device |
| KR100881307B1 (ko) * | 2004-02-20 | 2009-02-03 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 패턴 형성 재료용 기재, 포지티브형 레지스트 조성물 및레지스트 패턴 형성 방법 |
| JP3946715B2 (ja) * | 2004-07-28 | 2007-07-18 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4468119B2 (ja) | 2004-09-08 | 2010-05-26 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4837323B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2011-12-14 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 |
| TWI400568B (zh) | 2004-12-24 | 2013-07-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | 感放射線性組成物、非晶質膜及形成光阻圖案的方法 |
| US7981588B2 (en) | 2005-02-02 | 2011-07-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition and method of forming resist pattern |
| TW200641535A (en) * | 2005-02-03 | 2006-12-01 | Mitsubishi Gas Chemical Co | Compound for resist and radiation-sensitive composition |
| JP4395184B2 (ja) | 2005-02-25 | 2010-01-06 | 本州化学工業株式会社 | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 |
| JP4444854B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2010-03-31 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 |
| JP5138157B2 (ja) | 2005-05-17 | 2013-02-06 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| WO2006134811A1 (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2006347892A (ja) * | 2005-06-13 | 2006-12-28 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4823578B2 (ja) * | 2005-06-13 | 2011-11-24 | 東京応化工業株式会社 | 多価フェノール化合物、化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4813103B2 (ja) * | 2005-06-17 | 2011-11-09 | 東京応化工業株式会社 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4732038B2 (ja) * | 2005-07-05 | 2011-07-27 | 東京応化工業株式会社 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4846332B2 (ja) * | 2005-07-25 | 2011-12-28 | 東京応化工業株式会社 | 化合物およびその製造方法、低分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| WO2007034719A1 (ja) * | 2005-09-20 | 2007-03-29 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 化合物およびその製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP5000241B2 (ja) * | 2005-11-04 | 2012-08-15 | 東京応化工業株式会社 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP4879559B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2012-02-22 | 東京応化工業株式会社 | 化合物およびその製造方法 |
| KR101407794B1 (ko) | 2006-06-09 | 2014-06-17 | 혼슈우 카가쿠고교 가부시키가이샤 | 신규한 트리스(포르밀페닐)류 및 그것으로부터 유도되는 신규한 다핵 폴리페놀류 |
| JP5031277B2 (ja) * | 2006-06-20 | 2012-09-19 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2008056597A (ja) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP5128105B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2013-01-23 | 東京応化工業株式会社 | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP5064405B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2012-10-31 | 本州化学工業株式会社 | 新規なビス(ホルミルフェニル)アルカン類及びそれから誘導される新規な多核フェノール類 |
| JP4855293B2 (ja) * | 2007-02-13 | 2012-01-18 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| AU2014240314B2 (en) * | 2007-06-04 | 2016-09-01 | Ben Gurion University Of The Negev Research And Development Authority | Tri-aryl compounds and compositions comprising the same |
| PL2152663T3 (pl) | 2007-06-04 | 2014-09-30 | Ben Gurion Univ Of The Negev Research And Development Authority | Związki triarylowe oraz kompozycje zawierające te związki |
| US8227624B2 (en) * | 2007-08-07 | 2012-07-24 | Adeka Corporation | Aromatic sulfonium salt compound |
| JP5449153B2 (ja) * | 2008-06-20 | 2014-03-19 | 本州化学工業株式会社 | 新規なテトラキス(エーテル置換−ホルミルフェニル)類及びそれから誘導される新規な多核ポリ(フェノール)類 |
| CR20160207A (es) | 2013-11-05 | 2016-08-10 | Ben Gurion Univ Of The Negev Res And Dev Authority | Compuestos para el tratamiento de la diabetes y las complicaciones que surgen de la misma enfermedad |
| EP3587385A4 (en) * | 2017-02-23 | 2021-02-24 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | COMPOUND, RESIN, COMPOSITION, PATTERN FORMING PROCESS AND PURIFICATION PROCESS |
-
2001
- 2001-02-05 JP JP2001028335A patent/JP4187934B2/ja not_active Expired - Fee Related