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Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物
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Resist with reduced line edge roughness
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ルネサスエレクトロニクス株式会社 |
レジスト組成物
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Positive photosensitive composition
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2003-10-20 |
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富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法
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富士フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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TERT.-ALCOHOL DERIVATIVE, POLYMER CONNECTION AND PHOTORESISTIC COMPOSITION
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2008-02-22 |
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株式会社クラレ |
新規なアクリル酸エステル誘導体およびその製造方法
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富士通株式会社 |
聚合物、抗蚀剂组合物以及使用该抗蚀剂组合物的半导体的制造方法
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JP5618924B2
(ja)
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2011-06-30 |
2014-11-05 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP5793388B2
(ja)
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2011-09-30 |
2015-10-14 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法
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JP5757851B2
(ja)
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2011-11-25 |
2015-08-05 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
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JP5775804B2
(ja)
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2011-12-06 |
2015-09-09 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP2013130654A
(ja)
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2011-12-20 |
2013-07-04 |
Fujifilm Corp |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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(ja)
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2011-12-27 |
2013-07-11 |
Fujifilm Corp |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
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JP6036545B2
(ja)
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2012-12-21 |
2016-11-30 |
Jsr株式会社 |
フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
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JP6273689B2
(ja)
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2013-03-29 |
2018-02-07 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及びその製造方法
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JP6223807B2
(ja)
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2013-12-12 |
2017-11-01 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス
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JP6492821B2
(ja)
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2015-03-17 |
2019-04-03 |
Jsr株式会社 |
感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
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JP7191981B2
(ja)
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2018-12-21 |
2022-12-19 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
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